JP4344936B2 - Method for producing organosilicon compound containing amino groups at both ends - Google Patents

Method for producing organosilicon compound containing amino groups at both ends Download PDF

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Description

本発明は、半導体絶縁膜、液晶配向膜等に使用されるポリイミドの変性剤や、ポリウレタン、ポリアミドの変性剤として有用な、両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an organosilicon compound containing amino groups at both ends, which is useful as a modifier for polyimide used in semiconductor insulating films, liquid crystal alignment films, and the like, and as a modifier for polyurethane and polyamide.

両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物の製造方法としては、アリルアミンと両末端Si−H基含有シラン化合物とを白金触媒存在下ヒドロシリル化反応させて製造する方法が知られている(非特許文献1:Izv.Acad.Nauk SSSR Ser.Khim.,2249(1969))。しかしながら、この方法では反応が非常に遅く、製造に非常に長時間を要してしまうこと、また、多くの副反応を伴うため、収率が低く、かつ高純度の目的物が得られないという問題点がある。   As a method for producing an organosilicon compound containing both terminal amino groups, a method is known in which allylamine and a Si-H group-containing silane compound are hydrosilylated in the presence of a platinum catalyst (Non-patent Document 1: Izv.Acad.Nauk SSSR Ser.Khim., 2249 (1969)). However, in this method, the reaction is very slow, and it takes a very long time for production. Also, since it involves many side reactions, the yield is low and a high-purity target product cannot be obtained. There is a problem.

上記問題点を改善する方法として、N−トリメチルシリルアリルアミンと両末端Si−H基含有シラン化合物とをヒドロシリル化反応させた後、脱保護を行う方法(非特許文献2:J.Org.Chem.,24,119,(1959)、非特許文献3:Dokl.Akad.Nauk SSSR,179,600(1968))、アリルアミンとベンズアルデヒドとの脱水反応により得られるN−ベンジリデンアリルアミンと、両末端Si−H基含有シラン化合物とをヒドロシリル化反応させた後、脱保護を行う方法(特許文献1:特公平7−55953号公報)、N,N−ビストリメチルシリルアリルアミンと両末端Si−H基含有シラン化合物とをヒドロシリル化反応させた後、脱保護を行う方法(特許文献2:特開平11−322766号公報)がある。   As a method for improving the above problems, N-trimethylsilylallylamine and a Si-H group-containing silane compound at both ends are hydrosilylated and then deprotected (Non-Patent Document 2: J. Org. Chem., 24, 119, (1959), Non-Patent Document 3: Dokl. A method of performing deprotection after hydrosilylation reaction of the containing silane compound (Patent Document 1: Japanese Patent Publication No. 7-55953), N, N-bistrimethylsilylallylamine and Si-H group-containing silane compound at both ends A method of deprotecting after hydrosilylation reaction (Patent Document 2: JP-A-11-3227) 6 JP) there is.

しかしながら、N−トリメチルシリルアリルアミンを原料として用いる方法では、ヒドロシリル化反応の際に末端ではなく内部に付加した異性体が多く生成し、純度が低下してしまうという問題点がある。また、両末端Si−H基含有シラン化合物としてテトラメチルジシロキサン等のシロキサン化合物を用いる場合には、水やアルコールで脱保護する際、脱保護により生成したトリメチルアルコキシシラン、トリメチルシラノールと目的とするシロキサンとの間の平衡化反応により、3−アミノプロピルペンタメチルジシロキサンが副生し、収率が低下するという問題点がある。   However, in the method using N-trimethylsilylallylamine as a raw material, there is a problem in that many isomers added inside rather than at the end are formed during the hydrosilylation reaction, and the purity is lowered. In addition, when a siloxane compound such as tetramethyldisiloxane is used as the Si-H group-containing silane compound at both ends, when deprotecting with water or alcohol, trimethylalkoxysilane and trimethylsilanol produced by the deprotection are intended. Due to the equilibration reaction with siloxane, there is a problem that 3-aminopropylpentamethyldisiloxane is by-produced and the yield is reduced.

N−ベンジリデンアリルアミンを用いる方法では、アリル基へのヒドロシリル化以外に、イミノ基へのヒドロシリル化反応も起こり、収率の低下を招くという問題点がある。
また、N,N−ビストリメチルシリルアリルアミンを原料として用いる方法では、原料のN,N−ビストリメチルシリルアリルアミンが、アリルアミンに2つのシリル基を導入しなければならないため製造が困難であり、また非常に高価であるという問題点がある。
In the method using N-benzylideneallylamine, in addition to hydrosilylation to an allyl group, a hydrosilylation reaction to an imino group also occurs, resulting in a decrease in yield.
In addition, in the method using N, N-bistrimethylsilylallylamine as a raw material, since the raw material N, N-bistrimethylsilylallylamine must introduce two silyl groups into allylamine, it is difficult to produce and very expensive. There is a problem that it is.

特公平7−55953号公報Japanese Patent Publication No. 7-55953 特開平11−322766号公報JP-A-11-322766 Izv.Acad.Nauk SSSR Ser.Khim.,2249(1969)Izv. Acad. Nauk SSSR Ser. Khim. , 2249 (1969) J.Org.Chem.,24,119,(1959)J. et al. Org. Chem. , 24, 119, (1959) Dokl.Akad.Nauk SSSR,179,600(1968)Dokl. Akad. Nauk SSSR, 179,600 (1968)

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、異性体が少ない高品質な両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物の工業的に有効な製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an industrially effective production method for a high-quality, both-terminal amino group-containing organosilicon compound with few isomers.

本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、アリルアミンの1つのN−H基を、トリメチルシリル基より嵩高いシリル基で保護したアリルアミンを原料として両末端Si−H基含有有機ケイ素化合物とヒドロシリル化反応を行い、その後脱保護することにより、異性体が少ない高品質な両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物が得られること、また目的とする両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物がシロキサン化合物の場合、脱保護の際生成するアルコキシシラン、シラノール化合物が嵩高いシリル基を有しているため、目的とする両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物との間の平衡化反応が起こらず、収率の低下を招かないことを知見し、本発明を完成するに至ったものである。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor, as a raw material, uses an allylamine obtained by protecting one NH group of allylamine with a silyl group bulky than a trimethylsilyl group as a starting material. By carrying out a hydrosilylation reaction with a silicon compound and then deprotecting it, a high-quality organosilicon compound containing both end amino groups with few isomers can be obtained. In the case of a compound, since the alkoxysilane and silanol compound produced during deprotection have a bulky silyl group, the equilibration reaction between the target both-terminal amino group-containing organosilicon compound does not occur and It has been found that the rate does not decrease, and the present invention has been completed.

従って、本発明は、下記一般式(1)

Figure 0004344936
(式中、R1、R2は炭素数1〜10の1価炭化水素基、R3は炭素数2〜10の1価炭化水素基である。)
で示されるシリル基で保護されたアリルアミンと、下記一般式(2)
Figure 0004344936
[式中、Aは下記一般式(3)
Figure 0004344936
(式中、nは0〜100の整数である。)
で示される結合、又は炭素数1〜10の2価炭化水素基である。]
で示されるSi−H基含有有機ケイ素化合物とを白金触媒存在下で反応させ、下記一般式(4)
Figure 0004344936
(式中、R1、R2、R3、Aは上記と同様である。)
で示される化合物を得、その後脱保護することを特徴とする下記一般式(5)
Figure 0004344936
(式中、Aは上記と同様である。)
で示される両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物の製造方法を提供する。 Accordingly, the present invention provides the following general formula (1)
Figure 0004344936
(In the formula, R 1 and R 2 are monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 is a monovalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms.)
An allylamine protected with a silyl group represented by the following general formula (2):
Figure 0004344936
[In the formula, A represents the following general formula (3)
Figure 0004344936
(In the formula, n is an integer of 0 to 100.)
Or a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. ]
Is reacted with an Si-H group-containing organosilicon compound represented by the following general formula (4):
Figure 0004344936
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and A are the same as above)
A compound represented by the following general formula (5):
Figure 0004344936
(In the formula, A is the same as above.)
The manufacturing method of the both-terminal amino group containing organosilicon compound shown by these is provided.

本発明によれば、アリルアミンの1つのN−H基を、トリメチルシリル基より嵩高いシリル基で保護したアリルアミンを原料として用いることにより、異性体を含まない高純度の両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物を高収率で製造することができる。   According to the present invention, by using allylamine obtained by protecting one NH group of allylamine with a bulky silyl group as compared with a trimethylsilyl group as a raw material, a high-purity amino group-containing organosilicon compound containing no isomers Can be produced in high yield.

本発明の両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物の製造方法は下記の2つの反応工程からなるものである。   The method for producing an organosilicon compound containing amino groups at both ends of the present invention comprises the following two reaction steps.

Figure 0004344936
Figure 0004344936

ここで、R1、R2は炭素数1〜10の1価炭化水素基、好ましくは直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基である。また、R3は炭素数2〜10の1価炭化水素基、好ましくは直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基である。 Here, R 1 and R 2 are monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, preferably linear, branched or cyclic alkyl groups, aryl groups such as phenyl groups, and aralkyl groups such as benzyl groups. . R 3 is a monovalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, preferably a linear, branched or cyclic alkyl group, an aryl group such as a phenyl group, or an aralkyl group such as a benzyl group.

上記R1、R2のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、テキシル基、オクチル基等が例示され、R3のアルキル基としては、メチル基を除いて上記と同様のものが挙げられる。 Examples of the alkyl group for R 1 and R 2 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, cyclopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, texyl group, An octyl group and the like are exemplified, and examples of the alkyl group for R 3 include the same groups as described above except for a methyl group.

また、Aは下記一般式(3)

Figure 0004344936
(式中、nは0〜100、好ましくは0〜10の整数である。)
で示される結合、又は炭素数1〜10の2価炭化水素基である。この場合、2価の炭化水素基としては、直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基、フェニレン基等のアリーレン基、アルキレン基とアリーレン基とが結合した基等が挙げられる。なお、環状アルキレン基は、ノルボルニレン基等の橋かけを有するものであってもよい。 A represents the following general formula (3)
Figure 0004344936
(In the formula, n is an integer of 0 to 100, preferably 0 to 10.)
Or a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. In this case, examples of the divalent hydrocarbon group include a linear, branched or cyclic alkylene group, an arylene group such as a phenylene group, a group in which an alkylene group and an arylene group are bonded, and the like. The cyclic alkylene group may have a bridge such as a norbornylene group.

上記ヒドロシリル化工程は、下記一般式(1)

Figure 0004344936
(式中、R1、R2は炭素数1〜10の1価炭化水素基、R3は炭素数2〜10の1価炭化水素基である。)
で示されるシリル基で保護されたアリルアミンと、下記一般式(2)
Figure 0004344936
[式中、Aは下記一般式(3)
Figure 0004344936
(式中、nは0〜100の整数である。)
で示される結合、又は炭素数1〜10の2価炭化水素基である。]
で示される両末端Si−H基含有有機ケイ素化合物とを白金触媒存在下で反応させ、下記一般式(4)
Figure 0004344936
(式中、R1、R2、R3、Aは上記と同様である。)
で示される化合物とするものである。 The hydrosilylation step is represented by the following general formula (1)
Figure 0004344936
(In the formula, R 1 and R 2 are monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 is a monovalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms.)
An allylamine protected with a silyl group represented by the following general formula (2):
Figure 0004344936
[In the formula, A represents the following general formula (3)
Figure 0004344936
(In the formula, n is an integer of 0 to 100.)
Or a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. ]
Is reacted with an Si-H group-containing organosilicon compound represented by formula (4) in the presence of a platinum catalyst.
Figure 0004344936
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and A are the same as above)
It is set as the compound shown by these.

上記反応で用いられる上記一般式(1)で示されるシリル基で保護されたアリルアミンとしては、具体的にはエチルジメチルシリルアリルアミン、ジエチルメチルシリルアリルアミン、トリエチルシリルアリルアミン、t−ブチルジメチルシリルアリルアミン、テキシルジメチルシリルアリルアミン、トリイソプロピルシリルアリルアミン、トリイソブチルシリルアリルアミン、t−ブチルジフェニルシリルアリルアミン、トリフェニルシリルアリルアミン、シクロヘキシルジメチルシリルアリルアミン、シクロヘキシルジエチルシリルアリルアミン等が例示される。中でも、トリエチルシリルアリルアミン、t−ブチルジメチルシリルアリルアミン、テキシルジメチルシリルアリルアミン、トリイソプロピルシリルアリルアミン、トリイソブチルシリルアリルアミンが好ましい。   Specific examples of the allylamine protected by the silyl group represented by the general formula (1) used in the above reaction include ethyldimethylsilylallylamine, diethylmethylsilylallylamine, triethylsilylallylamine, t-butyldimethylsilylallylamine, Examples include sildimethylsilylallylamine, triisopropylsilylallylamine, triisobutylsilylallylamine, t-butyldiphenylsilylallylamine, triphenylsilylallylamine, cyclohexyldimethylsilylallylamine, cyclohexyldiethylsilylallylamine, and the like. Of these, triethylsilylallylamine, t-butyldimethylsilylallylamine, texyldimethylsilylallylamine, triisopropylsilylallylamine, and triisobutylsilylallylamine are preferable.

上記一般式(1)で示されるシリル基で保護されたアリルアミンは、例えばアリルアミンと下記一般式(6)
123SiCl (6)
(式中、R1、R2、R3は上記と同様である。)
で示されるクロロシラン化合物とを反応させることにより製造できる。
The allylamine protected by the silyl group represented by the general formula (1) is, for example, allylamine and the following general formula (6):
R 1 R 2 R 3 SiCl (6)
(In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are the same as above.)
It can manufacture by making the chlorosilane compound shown by react.

上記一般式(2)で示される両末端Si−H基含有有機ケイ素化合物としては、具体的には1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン、1,1,3,3,5,5,7,7−オクタメチルテトラシロキサン、1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼン、1,4−ビス(ジメチルシリル)シクロヘキサン、2,5−ビス(ジメチルシリル)ノルボルナン等が例示される。   Specific examples of the Si-H group-containing organosilicon compound represented by the general formula (2) include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,1,3,3,5,5. -Hexamethyltrisiloxane, 1,1,3,3,5,5,7,7-octamethyltetrasiloxane, 1,4-bis (dimethylsilyl) benzene, 1,4-bis (dimethylsilyl) cyclohexane, 2 , 5-bis (dimethylsilyl) norbornane and the like.

上記反応で用いられるシリル基で保護されたアリルアミンとSi−H基含有有機ケイ素化合物との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、シリル基で保護されたアリルアミン1モルに対し、Si−H基含有有機ケイ素化合物0.2〜1モル、特に0.3〜0.6モルの範囲が好ましい。   The compounding ratio of the allylamine protected with a silyl group and the Si-H group-containing organosilicon compound used in the above reaction is not particularly limited, but from the viewpoint of reactivity and productivity, 1 mol of allylamine protected with a silyl group is used. On the other hand, the Si—H group-containing organosilicon compound is preferably in the range of 0.2 to 1 mol, particularly 0.3 to 0.6 mol.

また、上記反応で用いられる白金触媒としては、具体的には塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン又はキシレン溶液、テトラキストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビスアセトニトリル白金、ジクロロビスベンゾニトリル白金、ジクロロシクロオクタジエン白金等が例示される。   Specific examples of the platinum catalyst used in the above reaction include chloroplatinic acid, an alcohol solution of chloroplatinic acid, and toluene of platinum-1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex. Alternatively, xylene solution, tetrakistriphenylphosphine platinum, dichlorobistriphenylphosphine platinum, dichlorobisacetonitrile platinum, dichlorobisbenzonitrile platinum, dichlorocyclooctadiene platinum and the like are exemplified.

白金触媒の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、シリル基で保護されたアリルアミン1モルに対し、0.000001〜0.01モル、特に0.00001〜0.001モルの範囲が好ましい。   The amount of platinum catalyst used is not particularly limited, but from the viewpoint of reactivity and productivity, 0.000001 to 0.01 mol, particularly 0.00001 to 0.001 mol, relative to 1 mol of allylamine protected with a silyl group. The range of is preferable.

脱保護工程は、両末端シリル保護アミノ基含有有機ケイ素化合物の窒素原子上のシリル基を脱離させ、両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物とするものである。   In the deprotection step, the silyl group on the nitrogen atom of the both-terminal silyl-protected amino group-containing organosilicon compound is eliminated to obtain a both-terminal amino group-containing organosilicon compound.

脱保護反応は水を用いて加水分解するか、又はアルコールを用いて加アルコール分解するか、あるいは水−アルコール系にて加水分解と加アルコール分解を同時に行うことにより実施できる。加アルコール分解反応に用いられるアルコールとしては、具体的にはメタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、エチレングリコール、グリセリン等が例示される。   The deprotection reaction can be carried out by hydrolysis with water, alcoholysis with alcohol, or simultaneous hydrolysis and alcoholysis in a water-alcohol system. Specific examples of the alcohol used for the alcoholysis decomposition reaction include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, ethylene glycol, and glycerin.

脱保護反応に用いられる水及び/又はアルコールの使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、シリル基で保護されたアリルアミン1モルに対し0.5〜100モル、特に0.8〜10モルの範囲が好ましい。   The amount of water and / or alcohol used in the deprotection reaction is not particularly limited. However, from the viewpoint of reactivity and productivity, 0.5 to 100 mol, particularly 0. A range of 8 to 10 mol is preferred.

脱保護反応は無触媒でも進行するが、塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム等の触媒を添加して行ってもよい。   The deprotection reaction proceeds even without a catalyst, but it may be carried out by adding a catalyst such as hydrochloric acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid, ammonium sulfate, or ammonium chloride.

なお、上記ヒドロシリル化反応、脱保護反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒等が例示される。これらの溶媒は単独で使用してもよく、あるいは2種以上を混合して使用してもよい。   The hydrosilylation reaction and deprotection reaction proceed even without solvent, but a solvent can also be used. Solvents used include hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, isooctane, benzene, toluene and xylene, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, and ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate. And aprotic polar solvents such as acetonitrile and N, N-dimethylformamide, and chlorinated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

また、上記ヒドロシリル化反応、脱保護反応の反応温度は特に限定されないが、0〜150℃、特に10〜120℃が好ましい。反応時間も特に限定されないが、1〜20時間、特に1〜15時間が好ましい。反応雰囲気は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気が好ましい。   The reaction temperature for the hydrosilylation reaction and deprotection reaction is not particularly limited, but is preferably 0 to 150 ° C, particularly preferably 10 to 120 ° C. Although the reaction time is not particularly limited, it is preferably 1 to 20 hours, particularly 1 to 15 hours. The reaction atmosphere is preferably an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon.

以下、合成例、実施例、及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。     EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example, an Example, and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example.

[合成例1] N−トリエチルシリルアリルアミンの合成
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、アリルアミン314.1g(5.5mol)及びトルエン375mlを仕込んだ。トリエチルクロロシラン376.8g(2.5mol)を20〜40℃で2時間で滴下し、その後室温で1時間撹拌を行った。20%水酸化ナトリウム水溶液560gを加え、生じた塩を溶解し、水層を除いた後有機層を蒸留した。N−トリエチルシリルアリルアミンを沸点85〜86℃/3kPaの留分として341.6g得た(収率80%)。
[Synthesis Example 1] Synthesis of N-triethylsilylallylamine 314.1 g (5.5 mol) of allylamine and 375 ml of toluene were charged into a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer. 376.8 g (2.5 mol) of triethylchlorosilane was added dropwise at 20 to 40 ° C. over 2 hours, followed by stirring at room temperature for 1 hour. 560 g of a 20% aqueous sodium hydroxide solution was added to dissolve the resulting salt, the aqueous layer was removed, and the organic layer was distilled. 341.6 g of N-triethylsilylallylamine was obtained as a fraction having a boiling point of 85 to 86 ° C./3 kPa (yield 80%).

[実施例1]
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N−トリエチルシリルアリルアミン34.3g(0.2mol)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液0.02mmol(白金原子換算)を仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン13.4g(0.1mol)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。その後、25℃でメタノール9.6g(0.3mol)を添加し、そのまま25℃で撹拌を行った。1時間後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、トリエチルシリル基はすべて脱保護され、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンとトリエチルメトキシシランに変換されていた。また、シロキサン平衡化反応で生成すると考えられる1−(3−アミノプロピル)−1,1−ジメチル−3,3,3−トリエチルジシロキサンは全く生成していなかった。反応液を蒸留し、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンを沸点81−82℃/0.13kPaの留分として21.9g得た(収率89%)。得られた化合物をガスクロマトグラフィーにて分析した結果、異性体である1−(2−アミノプロピル)−3−(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンは生成していないことが確認された。
[Example 1]
In a flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, 34.3 g (0.2 mol) of N-triethylsilylallylamine, 0.02 mmol of a toluene solution of a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (in terms of platinum atom) ) And heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 13.4 g (0.1 mol) of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane was added dropwise over 2 hours and stirred at that temperature for 1 hour. Thereafter, 9.6 g (0.3 mol) of methanol was added at 25 ° C., and the mixture was stirred at 25 ° C. as it was. After 1 hour, gas chromatographic analysis revealed that all triethylsilyl groups were deprotected and converted to 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and triethylmethoxysilane. It was converted. Further, 1- (3-aminopropyl) -1,1-dimethyl-3,3,3-triethyldisiloxane, which is considered to be produced by a siloxane equilibration reaction, was not produced at all. The reaction solution was distilled to obtain 21.9 g of 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane as a fraction having a boiling point of 81-82 ° C./0.13 kPa ( Yield 89%). As a result of analyzing the obtained compound by gas chromatography, isomer 1- (2-aminopropyl) -3- (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane was produced. It was confirmed that they did not.

[実施例2]
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N−トリエチルシリルアリルアミン17.1g(0.1mol)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液0.01mmol(白金原子換算)を仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン10.4g(0.05mol)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。その後、25℃でメタノール4.8g(0.15mol)を添加しそのまま25℃で撹拌を行った。1時間後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、トリエチルシリル基はすべて脱保護され、1,5−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンとトリエチルメトキシシランに変換されていた。また、シロキサン平衡化反応で生成すると考えられる1−(3−アミノプロピル)−1,1−ジメチル−3,3,3−トリエチルジシロキサン等は全く生成していなかった。反応液を蒸留し、1,5−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンを沸点108−110℃/0.067kPaの留分として13.7g得た(収率85%)。
[Example 2]
In a flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, 17.1 g (0.1 mol) of N-triethylsilylallylamine, 0.01 mmol of a toluene solution of a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (in terms of platinum atom) ) And heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 10.1 g (0.05 mol) of 1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane was added dropwise over 2 hours and stirred at that temperature for 1 hour. Thereafter, 4.8 g (0.15 mol) of methanol was added at 25 ° C., and the mixture was stirred at 25 ° C. as it was. One hour later, when analyzed by gas chromatography, all triethylsilyl groups were deprotected, and 1,5-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane and It was converted to triethylmethoxysilane. Further, 1- (3-aminopropyl) -1,1-dimethyl-3,3,3-triethyldisiloxane and the like, which are considered to be produced by a siloxane equilibration reaction, were not produced at all. 13. The reaction solution is distilled to obtain 1,5-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane as a fraction having a boiling point of 108-110 ° C./0.067 kPa. 7 g was obtained (yield 85%).

[実施例3]
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N−トリエチルシリルアリルアミン51.4g(0.3mol)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液0.03mmol(白金原子換算)を仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼン29.2g(0.15mol)を4時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。その後、25℃でメタノール14.4g(0.45mol)を添加しそのまま25℃で撹拌を行った。1時間後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、トリエチルシリル基はすべて脱保護され、1,4−ビス(3−アミノプロピルジメチルシリル)ベンゼンとトリエチルメトキシシランに変換されていた。反応液を蒸留し、1,4−ビス(3−アミノプロピルジメチルシリル)ベンゼンを沸点150−158℃/0.024kPaの留分として37.0g得た(収率80%)。得られた化合物をガスクロマトグラフィーにて分析した結果、1,4−ビス(3−アミノプロピルジメチルシリル)ベンゼンの異性体は生成していないことが確認された。
[Example 3]
In a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 51.4 g (0.3 mol) of N-triethylsilylallylamine, 0.03 mmol of a toluene solution of a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (in terms of platinum atom) ) And heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 29.2 g (0.15 mol) of 1,4-bis (dimethylsilyl) benzene was added dropwise over 4 hours and stirred at that temperature for 1 hour. Thereafter, 14.4 g (0.45 mol) of methanol was added at 25 ° C., and the mixture was stirred at 25 ° C. as it was. One hour later, when analyzed by gas chromatography, all triethylsilyl groups were deprotected and converted to 1,4-bis (3-aminopropyldimethylsilyl) benzene and triethylmethoxysilane. The reaction solution was distilled to obtain 37.0 g of 1,4-bis (3-aminopropyldimethylsilyl) benzene as a fraction having a boiling point of 150-158 ° C./0.024 kPa (yield 80%). As a result of analyzing the obtained compound by gas chromatography, it was confirmed that an isomer of 1,4-bis (3-aminopropyldimethylsilyl) benzene was not produced.

[合成例2] N−トリイソプロピルシリルアリルアミンの合成
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、アリルアミン376.9g(6.6mol)及びトルエン450mlを仕込んだ。トリイソプロピルクロロシラン578.4g(3.0mol)を20〜40℃で2時間で滴下し、その後70℃で6時間撹拌を行った。室温まで冷却後、20%水酸化ナトリウム水溶液650gを加え、生じた塩を溶解し、水層を除いた後有機層を蒸留した。N−トリイソプロピルシリルアリルアミンを沸点74〜75℃/0.2kPaの留分として557.2g得た(収率87%)。
[Synthesis Example 2] Synthesis of N-triisopropylsilylallylamine 376.9 g (6.6 mol) of allylamine and 450 ml of toluene were charged into a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer. 578.4 g (3.0 mol) of triisopropylchlorosilane was added dropwise at 20 to 40 ° C. over 2 hours, followed by stirring at 70 ° C. for 6 hours. After cooling to room temperature, 650 g of a 20% aqueous sodium hydroxide solution was added, the resulting salt was dissolved, the aqueous layer was removed, and the organic layer was distilled. As a fraction having a boiling point of 74 to 75 ° C./0.2 kPa, 557.2 g of N-triisopropylsilylallylamine was obtained (yield 87%).

[実施例4]
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N−トリイソプロピルシリルアリルアミン42.7g(0.2mol)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液0.02mmol(白金原子換算)を仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン13.4g(0.1mol)を4時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。その後、メタンスルホン酸0.01gを添加し、60℃でメタノール19.2g(0.6mol)を添加しそのまま60℃で撹拌を行った。6時間後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、トリイソプロピルシリル基はすべて脱保護され、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンとトリイソプロピルメトキシシランに変換されていた。また、シロキサン平衡化反応で生成すると考えられる1−(3−アミノプロピル)−1,1−ジメチル−3,3,3−トリイソプロピルジシロキサンは全く生成していなかった。反応液を蒸留し、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンを沸点81−82℃/0.13kPaの留分として22.5g得た(収率91%)。得られた化合物をガスクロマトグラフィーにて分析した結果、異性体である1−(2−アミノプロピル)−3−(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンは生成していないことが確認された。
[Example 4]
In a flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, 42.7 g (0.2 mol) of N-triisopropylsilylallylamine, 0.02 mmol of a toluene solution of a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (platinum atom) Conversion) and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 13.4 g (0.1 mol) of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane was added dropwise over 4 hours and stirred at that temperature for 1 hour. Thereafter, 0.01 g of methanesulfonic acid was added, 19.2 g (0.6 mol) of methanol was added at 60 ° C., and the mixture was stirred at 60 ° C. as it was. After 6 hours, gas chromatography analysis revealed that all triisopropylsilyl groups were deprotected, and 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and triisopropylmethoxy It was converted to silane. Further, 1- (3-aminopropyl) -1,1-dimethyl-3,3,3-triisopropyldisiloxane, which is considered to be produced by a siloxane equilibration reaction, was not produced at all. The reaction solution was distilled to obtain 22.5 g of 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane as a fraction having a boiling point of 81-82 ° C./0.13 kPa ( Yield 91%). As a result of analyzing the obtained compound by gas chromatography, isomer 1- (2-aminopropyl) -3- (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane was produced. It was confirmed that they did not.

[比較例1]
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N−トリメチルシリルアリルアミン25.9g(0.2mol)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液0.02mmol(白金原子換算)を仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン13.4g(0.1mol)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。その後、25℃でメタノール9.6g(0.3mol)を添加し、そのまま25℃で撹拌を行った。1時間後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、トリメチルシリル基はすべて脱保護され、反応は完結したが、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンとトリメチルメトキシシラン以外に、シロキサン平衡化反応による3−アミノプロピルペンタメチルジシロキサンが大量に生成していた。また、異性体である1−(2−アミノプロピル)−3−(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンが、目的とする1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンに対して7%含まれていることが確認された。
[Comparative Example 1]
In a flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, 25.9 g (0.2 mol) of N-trimethylsilylallylamine, 0.02 mmol of a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex toluene solution (in terms of platinum atom) And heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 13.4 g (0.1 mol) of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane was added dropwise over 2 hours and stirred at that temperature for 1 hour. Thereafter, 9.6 g (0.3 mol) of methanol was added at 25 ° C., and the mixture was stirred at 25 ° C. as it was. After 1 hour, analysis by gas chromatography revealed that all trimethylsilyl groups were deprotected and the reaction was complete, but 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane In addition to trimethylmethoxysilane, a large amount of 3-aminopropylpentamethyldisiloxane was produced by a siloxane equilibration reaction. In addition, the isomer 1- (2-aminopropyl) -3- (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane is the target 1,3-bis (3-amino). Propyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane was confirmed to be contained at 7%.

[比較例2]
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N−トリメチルシリルアリルアミン25.9g(0.2mol)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液0.02mmol(白金原子換算)仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼン19.4g(0.1mol)を4時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。その後、25℃でメタノール9.6g(0.3mol)を添加し、そのまま25℃で撹拌を行った。1時間後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、反応は完結したが、異性体である1−(2−アミノプロピルジメチルシリル)−4−(3−アミノプロピルジメチルシリル)ベンゼンが、目的とする1,4−ビス(3−アミノプロピルジメチルシリル)ベンゼンに対して9%含まれていることが確認された。
[Comparative Example 2]
In a flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, 25.9 g (0.2 mol) of N-trimethylsilylallylamine, 0.02 mmol of a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex toluene solution (in terms of platinum atom) Charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 19.4 g (0.1 mol) of 1,4-bis (dimethylsilyl) benzene was added dropwise over 4 hours and stirred at that temperature for 1 hour. Thereafter, 9.6 g (0.3 mol) of methanol was added at 25 ° C., and the mixture was stirred at 25 ° C. as it was. After 1 hour, gas chromatographic analysis revealed that the reaction was complete, but the isomer 1- (2-aminopropyldimethylsilyl) -4- (3-aminopropyldimethylsilyl) benzene was the target 1 , 4-bis (3-aminopropyldimethylsilyl) benzene was confirmed to be contained at 9%.

Claims (2)

下記一般式(1)
Figure 0004344936
(式中、R1、R2は炭素数1〜10の1価炭化水素基、R3は炭素数2〜10の1価炭化水素基である。)
で示されるシリル基で保護されたアリルアミンと、下記一般式(2)
Figure 0004344936
[式中、Aは下記一般式(3)
Figure 0004344936
(式中、nは0〜100の整数である。)
で示される結合、又は炭素数1〜10の2価炭化水素基である。]
で示されるSi−H基含有有機ケイ素化合物とを白金触媒存在下で反応させ、下記一般式(4)
Figure 0004344936
(式中、R1、R2、R3、Aは上記と同様である。)
で示される化合物を得、その後脱保護することを特徴とする下記一般式(5)
Figure 0004344936
(式中、Aは上記と同様である。)
で示される両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物の製造方法。
The following general formula (1)
Figure 0004344936
(In the formula, R 1 and R 2 are monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 is a monovalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms.)
An allylamine protected with a silyl group represented by the following general formula (2):
Figure 0004344936
[In the formula, A represents the following general formula (3)
Figure 0004344936
(In the formula, n is an integer of 0 to 100.)
Or a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. ]
Is reacted with an Si-H group-containing organosilicon compound represented by the following general formula (4):
Figure 0004344936
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and A are the same as above)
A compound represented by the following general formula (5):
Figure 0004344936
(In the formula, A is the same as above.)
The manufacturing method of the both-terminal amino group containing organosilicon compound shown by these.
シリル基で保護されたアリルアミンが、トリエチルシリルアリルアミン、t−ブチルジメチルシリルアリルアミン、テキシルジメチルシリルアリルアミン、トリイソプロピルシリルアリルアミン又はトリイソブチルシリルアリルアミンである請求項1記載の両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物の製造方法。
The bifunctional amino group-containing organosilicon compound according to claim 1, wherein the allylamine protected with a silyl group is triethylsilylallylamine, t-butyldimethylsilylallylamine, texyldimethylsilylallylamine, triisopropylsilylallylamine or triisobutylsilylallylamine. Manufacturing method.
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