JP4451540B2 - 冷却機能付き光照射式静電気除去装置 - Google Patents
冷却機能付き光照射式静電気除去装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4451540B2 JP4451540B2 JP2000132600A JP2000132600A JP4451540B2 JP 4451540 B2 JP4451540 B2 JP 4451540B2 JP 2000132600 A JP2000132600 A JP 2000132600A JP 2000132600 A JP2000132600 A JP 2000132600A JP 4451540 B2 JP4451540 B2 JP 4451540B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- ray generator
- generator
- static electricity
- box
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003068 static effect Effects 0.000 title claims description 44
- 238000001816 cooling Methods 0.000 title claims description 19
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 22
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 21
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 23
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 3
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、箱体内に収容された液晶用ガラス基板等の被処理物に生じた静電気をＸ線照射により除去する静電気除去装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶素子や半導体素子を製造する工程においては、液晶基板や半導体基板の搬送時などに基板に静電気が生じるため、静電気除去装置により静電気の除去（除電ともいう）を行うことがある。このような静電気除去装置としては、コロナ放電式イオナイザや光（Ｘ線）照射式イオナイザが知られている。特にＸ線照射式イオナイザは、密閉環境下でも窓越しにＸ線を照射してイオンを供給することができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、高温炉等のように、環境温度が通常の電気機器や樹脂の耐熱温度を超えるような環境のもとで、Ｘ線照射式イオナイザにより除電を行う場合には、高温炉内の熱によってＸ線発生器が破壊しないように、液晶基板等が収容された高温炉から離してＸ線発生器を配置する必要があり、この場合には液晶基板等の除電効率が低下する。
【０００４】
本発明の目的は、Ｘ線発生器にとってきびしい環境下であっても、被処理物の静電気除去を効果的に行うことができる静電気除去装置を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明は、Ｘ線発生器よりＸ線を照射することによって箱体内に収容された被処理物に生じた静電気を除去する静電気除去装置において、箱体の外面に固定されると共に、Ｘ線発生器を収容した筐体と、箱体に設けられ、Ｘ線発生器から照射されたＸ線を透過させるＸ線透過部材と、Ｘ線発生器とＸ線透過部材との間に気体を流す気体流通手段とを備えたことを特徴とするものである。
【０００６】
このような本発明においては、例えば箱体が高温炉で構成されている場合に、Ｘ線発生器を箱体に隣接させて配置しても、Ｘ線発生器とＸ線透過部材との間に気体として冷却用空気を流すことにより、高温炉内の熱のＸ線発生器への伝達がある程度抑えられるため、Ｘ線発生器が高温炉内の熱によって破壊されることを防止できる。従って、Ｘ線発生器を箱体に隣接させた状態で使用することが可能となり、これにより被処理物の静電気を効果的に除去できる。
【０００７】
好ましくは、Ｘ線透過部材は１対からなり、これらのＸ線透過部材はＸ線の照射方向に対向配置されており、気体流通手段は、１対のＸ線透過部材間に気体を流すように構成されている。上述したように箱体が高温炉で構成されている場合に、１対のＸ線透過部材間に冷却用空気を流すことで、冷却用空気による断熱が効果的に行える。
【０００８】
また、上記の目的を達成するため、本発明は、Ｘ線発生器よりＸ線を照射することによって箱体内に収容された被処理物に生じた静電気を除去する静電気除去装置において、箱体内に配置されると共に、Ｘ線発生器を収容した筐体と、筐体に設けられ、Ｘ線発生器から照射されたＸ線を透過させるＸ線透過部材と、Ｘ線発生器とＸ線透過部材との間に気体を流す気体流通手段とを備えたことを特徴とするものである。
【０００９】
このような本発明においては、例えば箱体が高温炉で構成されている場合に、Ｘ線発生器が収容された筐体を箱体内に配置しても、Ｘ線発生器とＸ線透過部材との間に気体として冷却用空気を流すことにより、高温炉内の熱のＸ線発生器への伝達がある程度抑えられるため、Ｘ線発生器が高温炉内の熱によって破壊されることを防止できる。従って、Ｘ線発生器を箱体内に収容した状態で使用することが可能となり、これにより被処理物の静電気を効果的に除去できる。
【００１０】
好ましくは、Ｘ線発生器は、そのＸ線照射部がＸ線透過部材を挟んで被処理物に対向するように配置されている。この場合には、Ｘ線発生器からのＸ線は直接被処理物に向けて照射されるため、Ｘ線の照射により空気中に生成されたイオンを被処理物に向かわせるための送風機等が不要となる。これにより、構造が簡易になり、コスト削減が図れる。
【００１１】
また、好ましくは、気体流通手段は、Ｘ線発生器とＸ線透過部材との間に冷却用空気を供給する空気供給系と、冷却用空気を外部に排出する空気排出系とを有する。これにより、上述したような高温環境下において、Ｘ線発生器を箱体に隣接させたり箱体内に収容した状態で使用できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る静電気除去装置の好適な実施形態について図面を参照して説明する。
【００１３】
図１は、本発明の第１の実施形態による静電気除去装置を示す構成図である。同図において、本実施形態の静電気除去装置１は、液晶用ガラス基板２に生じた静電気を除去する装置であり、この液晶用ガラス基板２は、断熱材で形成された箱体である高温炉３内に収容されている。なお、液晶用ガラス基板２は、ラック４内に複数枚収容した状態で、開閉ドア５より高温炉３内に出し入れされる。また、高温炉３には、開閉ドア５側に向けて風を送る送風機６が設けられている。
【００１４】
静電気除去装置１は、高温炉３の一側外面に固定された筐体７を有し、この筐体７内には、Ｘ線を発生させるＸ線発生器８が収容されている。このＸ線発生器８の具体的構成を図２に示す。
【００１５】
同図において、Ｘ線発生器８は、コバールガラス製の円筒状バルブ９を有し、このバルブ９の末端にはステム１０が形成されている。バルブ９の開放端には、コバール金属製の円筒状の出力窓保持部１１が設けられている。この出力窓保持部１１には出力窓１２が固定され、この出力窓１２の内面側には、電子ビームの衝突によりＸ線を発生させるターゲット１３が蒸着されている。また、ステム１０には２本のステムピン１４が固定され、これらステムピン１４は、電源ライン１５を介して電源部（図示せず）と接続されている。また、ステムピン１４には、所定の電圧で電子ビームを放出するカソードとしてのフィラメント１６が設けられている。このようなＸ線発生器８において、ステムピン１４に、電源部（図示せず）から高電位（例えば−９．５ｋＶ）を供給し、フィラメント１６から接地電位のターゲット１３に向けて電子ビームを照射する。このとき、電子ビームの衝突によりターゲット１３からＸ線が放射され、このＸ線が出力窓１２から放出される。
【００１６】
図１に戻り、高温炉３の一側に形成された開口部３ａには、Ｘ線発生器８のＸ線照射部８ａから照射されたＸ線を透過させる１対のＸ線透過板１７Ａ，１７Ｂが、Ｘ線の照射方向に対向して設けられている。これらＸ線透過板１７Ａ，１７Ｂは、高温炉３内の加熱空気を遮断すると共に、断熱作用をもった断熱層を形成する。なお、Ｘ線透過板１７Ａ，１７Ｂの材質としては、例えばベリリウムやカーボン等が使用される。
【００１７】
筐体７には、Ｘ線発生器８を冷却するための冷却用ファン１８が設けられている。また、Ｘ線透過板１７Ａ，１７Ｂ間の空間には、空気供給路１９及び空気排出路２０が接続されており、ブロア等の空気源（図示せず）からの冷却用空気を空気供給路１９を介してＸ線透過板１７Ａ，１７Ｂ間の空間に供給すると共に、空気排出路２０を介して冷却用空気を外部に排気する。このようにＸ線透過板１７Ａ，１７Ｂ間に冷却用空気を導入するので、Ｘ線透過板１７Ａ，１７Ｂによる断熱効果が更に促進され、高温炉３内からＸ線発生器８への熱伝達がある程度抑えられる。このため、Ｘ線発生器８を高温炉３に隣接させて配置しても、Ｘ線発生器８が高温炉３内の熱によって破壊されることが回避される。つまり、高温環境下であっても、Ｘ線発生器８を高温炉３に隣接させた状態で使用可能である。
【００１８】
このような静電気除去装置１において、Ｘ線発生器８からのＸ線がＸ線透過板１７Ａ，１７Ｂを通して高温炉３内に照射され、送風機６によって高温炉３内のＸ線照射領域Ｒを流れる加熱空気中に＋イオン、−イオンが生成される。そして、これらのイオンが液晶用ガラス基板２に吸着して帯電電荷を中和することで、液晶用ガラス基板２に生じた静電気が除去される。このとき、Ｘ線発生器８は、上述したように高温炉３に隣接して配置されているため、液晶用ガラス基板２の除電効率を低下させることは無い。
【００１９】
なお、本実施形態では、高温炉３の開口部３ａに２枚のＸ線透過板１７Ａ，１７Ｂを設ける構成としたが、Ｘ線透過板は１枚のみとし、このＸ線透過板とＸ線発生器８のＸ線照射部８ａとの間に冷却用空気を流すようにしてもよい。
【００２０】
図３は、本発明の第２の実施形態による静電気除去装置を示す構成図である。図中、第１の実施形態と同一または同等の部材には同じ符号を付し、その説明を省略する。
【００２１】
同図において、本実施形態の静電気除去装置３１は、高温炉３２内に収容された液晶用ガラス基板２を除電する装置である。高温炉３２内には、上述したＸ線発生器８を収容した筐体３３が配置されている。Ｘ線発生器８は、そのＸ線射出部８ａが複数の液晶用ガラス基板２の側面に対向するように配置されている。そして、筐体３３におけるＸ線射出部８ａとの対向面には、Ｘ線を透過させるＸ線透過板３４が設けられている。この場合には、Ｘ線発生器８からのＸ線が直接液晶用ガラス基板２に向けて照射されるため、複数の液晶用ガラス基板２に対してほぼ均等に除電を行うことが可能となる。また、第１の実施形態のような送風機が不要となるので、構造が簡易になる。
【００２２】
筐体３３の背面（Ｘ線透過板３４と反対側の面）側には、高温炉３２を貫通して延びるパイプ３５が接続され、このパイプ３５内にはＸ線発生器８の電源ライン１５が挿入されている。
【００２３】
また、筐体３３の背面側には、高温炉３２を貫通して延びる空気供給路３６及び空気排出路３７が接続されている。空気供給路３６により筐体３３内に導入された冷却用空気は、Ｘ線発生器８の側面側を通って、Ｘ線発生器８のＸ線射出部８ａとＸ線透過板３４との間を流れ、空気排出路３７により外部に排気される。この冷却用空気により、高温炉３２内の熱のＸ線発生器８への伝達がある程度抑えられるため、Ｘ線発生器８を高温炉３２内に配置しても、Ｘ線発生器８が高温炉３２内の熱によって破壊されることが回避される。つまり、高温環境下であっても、Ｘ線発生器８を高温炉３３内に収容したまま使用可能であるため、液晶用ガラス基板２の除電効率を低下させることは無い。
【００２４】
また、冷却用空気がＸ線発生器８の側面側を流れるように構成することで、Ｘ線発生器８自体も冷却される。このため、第１の実施形態のような冷却用ファンを設けなくて済み、この点でも構造が簡易になり、コスト削減が図れる。
【００２５】
なお、本発明に係る静電気除去装置は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態は、液晶用ガラス基板に生じた静電気を除去するものであるが、本発明は、他の液晶基板や半導体基板の静電気除去にも適用可能である。
【００２６】
また、上記実施形態は、高温環境である高温炉内に被処理基板を収容するものであるが、本発明は、例えば湿式エッチング装置等のような腐食性ガスの濃度が高く、Ｘ線発生器自体が腐食する可能性がある環境下においても適用可能である。この場合には、Ｘ線発生器とＸ線透過板との間に腐食防止用の気体を流すことで、Ｘ線発生器の腐食を低減することが可能となる。さらには、フォトプロセス処理装置のような昇華ガスが発生し、昇華物がＸ線発生器内部の電気回路に損傷を与える可能性がある環境下においても適用可能である。この場合にも、Ｘ線発生器とＸ線透過板との間に適当なパージ用気体を流すことで、Ｘ線発生器の損傷を低減することが可能となる。
【００２７】
【発明の効果】
本発明によれば、Ｘ線発生器とＸ線透過部材との間に気体を流すようにしたので、高温環境等のようなＸ線発生器にとってきびしい環境下であっても、被処理物の静電気除去を効果的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態による静電気除去装置を示す構成図である。
【図２】図１に示すＸ線発生器の詳細を示す構成図である。
【図３】本発明の第２の実施形態による静電気除去装置を示す構成図である。
【符号の説明】
１…静電気除去装置、２…液晶用ガラス基板（被処理物）、３…高温炉（箱体）、７…筐体、８…Ｘ線発生器、８ａ…Ｘ線照射部、１７Ａ，１７Ｂ…Ｘ線透過板（Ｘ線透過部材）、１９…空気供給路（気体流通手段）、２０…空気排出路（気体流通手段）、３１…静電気除去装置、３２…高温炉（箱体）、３３…筐体、３４…Ｘ線透過板（Ｘ線透過部材）、３６…空気供給路（気体流通手段）、３７…空気排出路（気体流通手段）。
【発明の属する技術分野】
本発明は、箱体内に収容された液晶用ガラス基板等の被処理物に生じた静電気をＸ線照射により除去する静電気除去装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶素子や半導体素子を製造する工程においては、液晶基板や半導体基板の搬送時などに基板に静電気が生じるため、静電気除去装置により静電気の除去（除電ともいう）を行うことがある。このような静電気除去装置としては、コロナ放電式イオナイザや光（Ｘ線）照射式イオナイザが知られている。特にＸ線照射式イオナイザは、密閉環境下でも窓越しにＸ線を照射してイオンを供給することができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、高温炉等のように、環境温度が通常の電気機器や樹脂の耐熱温度を超えるような環境のもとで、Ｘ線照射式イオナイザにより除電を行う場合には、高温炉内の熱によってＸ線発生器が破壊しないように、液晶基板等が収容された高温炉から離してＸ線発生器を配置する必要があり、この場合には液晶基板等の除電効率が低下する。
【０００４】
本発明の目的は、Ｘ線発生器にとってきびしい環境下であっても、被処理物の静電気除去を効果的に行うことができる静電気除去装置を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明は、Ｘ線発生器よりＸ線を照射することによって箱体内に収容された被処理物に生じた静電気を除去する静電気除去装置において、箱体の外面に固定されると共に、Ｘ線発生器を収容した筐体と、箱体に設けられ、Ｘ線発生器から照射されたＸ線を透過させるＸ線透過部材と、Ｘ線発生器とＸ線透過部材との間に気体を流す気体流通手段とを備えたことを特徴とするものである。
【０００６】
このような本発明においては、例えば箱体が高温炉で構成されている場合に、Ｘ線発生器を箱体に隣接させて配置しても、Ｘ線発生器とＸ線透過部材との間に気体として冷却用空気を流すことにより、高温炉内の熱のＸ線発生器への伝達がある程度抑えられるため、Ｘ線発生器が高温炉内の熱によって破壊されることを防止できる。従って、Ｘ線発生器を箱体に隣接させた状態で使用することが可能となり、これにより被処理物の静電気を効果的に除去できる。
【０００７】
好ましくは、Ｘ線透過部材は１対からなり、これらのＸ線透過部材はＸ線の照射方向に対向配置されており、気体流通手段は、１対のＸ線透過部材間に気体を流すように構成されている。上述したように箱体が高温炉で構成されている場合に、１対のＸ線透過部材間に冷却用空気を流すことで、冷却用空気による断熱が効果的に行える。
【０００８】
また、上記の目的を達成するため、本発明は、Ｘ線発生器よりＸ線を照射することによって箱体内に収容された被処理物に生じた静電気を除去する静電気除去装置において、箱体内に配置されると共に、Ｘ線発生器を収容した筐体と、筐体に設けられ、Ｘ線発生器から照射されたＸ線を透過させるＸ線透過部材と、Ｘ線発生器とＸ線透過部材との間に気体を流す気体流通手段とを備えたことを特徴とするものである。
【０００９】
このような本発明においては、例えば箱体が高温炉で構成されている場合に、Ｘ線発生器が収容された筐体を箱体内に配置しても、Ｘ線発生器とＸ線透過部材との間に気体として冷却用空気を流すことにより、高温炉内の熱のＸ線発生器への伝達がある程度抑えられるため、Ｘ線発生器が高温炉内の熱によって破壊されることを防止できる。従って、Ｘ線発生器を箱体内に収容した状態で使用することが可能となり、これにより被処理物の静電気を効果的に除去できる。
【００１０】
好ましくは、Ｘ線発生器は、そのＸ線照射部がＸ線透過部材を挟んで被処理物に対向するように配置されている。この場合には、Ｘ線発生器からのＸ線は直接被処理物に向けて照射されるため、Ｘ線の照射により空気中に生成されたイオンを被処理物に向かわせるための送風機等が不要となる。これにより、構造が簡易になり、コスト削減が図れる。
【００１１】
また、好ましくは、気体流通手段は、Ｘ線発生器とＸ線透過部材との間に冷却用空気を供給する空気供給系と、冷却用空気を外部に排出する空気排出系とを有する。これにより、上述したような高温環境下において、Ｘ線発生器を箱体に隣接させたり箱体内に収容した状態で使用できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る静電気除去装置の好適な実施形態について図面を参照して説明する。
【００１３】
図１は、本発明の第１の実施形態による静電気除去装置を示す構成図である。同図において、本実施形態の静電気除去装置１は、液晶用ガラス基板２に生じた静電気を除去する装置であり、この液晶用ガラス基板２は、断熱材で形成された箱体である高温炉３内に収容されている。なお、液晶用ガラス基板２は、ラック４内に複数枚収容した状態で、開閉ドア５より高温炉３内に出し入れされる。また、高温炉３には、開閉ドア５側に向けて風を送る送風機６が設けられている。
【００１４】
静電気除去装置１は、高温炉３の一側外面に固定された筐体７を有し、この筐体７内には、Ｘ線を発生させるＸ線発生器８が収容されている。このＸ線発生器８の具体的構成を図２に示す。
【００１５】
同図において、Ｘ線発生器８は、コバールガラス製の円筒状バルブ９を有し、このバルブ９の末端にはステム１０が形成されている。バルブ９の開放端には、コバール金属製の円筒状の出力窓保持部１１が設けられている。この出力窓保持部１１には出力窓１２が固定され、この出力窓１２の内面側には、電子ビームの衝突によりＸ線を発生させるターゲット１３が蒸着されている。また、ステム１０には２本のステムピン１４が固定され、これらステムピン１４は、電源ライン１５を介して電源部（図示せず）と接続されている。また、ステムピン１４には、所定の電圧で電子ビームを放出するカソードとしてのフィラメント１６が設けられている。このようなＸ線発生器８において、ステムピン１４に、電源部（図示せず）から高電位（例えば−９．５ｋＶ）を供給し、フィラメント１６から接地電位のターゲット１３に向けて電子ビームを照射する。このとき、電子ビームの衝突によりターゲット１３からＸ線が放射され、このＸ線が出力窓１２から放出される。
【００１６】
図１に戻り、高温炉３の一側に形成された開口部３ａには、Ｘ線発生器８のＸ線照射部８ａから照射されたＸ線を透過させる１対のＸ線透過板１７Ａ，１７Ｂが、Ｘ線の照射方向に対向して設けられている。これらＸ線透過板１７Ａ，１７Ｂは、高温炉３内の加熱空気を遮断すると共に、断熱作用をもった断熱層を形成する。なお、Ｘ線透過板１７Ａ，１７Ｂの材質としては、例えばベリリウムやカーボン等が使用される。
【００１７】
筐体７には、Ｘ線発生器８を冷却するための冷却用ファン１８が設けられている。また、Ｘ線透過板１７Ａ，１７Ｂ間の空間には、空気供給路１９及び空気排出路２０が接続されており、ブロア等の空気源（図示せず）からの冷却用空気を空気供給路１９を介してＸ線透過板１７Ａ，１７Ｂ間の空間に供給すると共に、空気排出路２０を介して冷却用空気を外部に排気する。このようにＸ線透過板１７Ａ，１７Ｂ間に冷却用空気を導入するので、Ｘ線透過板１７Ａ，１７Ｂによる断熱効果が更に促進され、高温炉３内からＸ線発生器８への熱伝達がある程度抑えられる。このため、Ｘ線発生器８を高温炉３に隣接させて配置しても、Ｘ線発生器８が高温炉３内の熱によって破壊されることが回避される。つまり、高温環境下であっても、Ｘ線発生器８を高温炉３に隣接させた状態で使用可能である。
【００１８】
このような静電気除去装置１において、Ｘ線発生器８からのＸ線がＸ線透過板１７Ａ，１７Ｂを通して高温炉３内に照射され、送風機６によって高温炉３内のＸ線照射領域Ｒを流れる加熱空気中に＋イオン、−イオンが生成される。そして、これらのイオンが液晶用ガラス基板２に吸着して帯電電荷を中和することで、液晶用ガラス基板２に生じた静電気が除去される。このとき、Ｘ線発生器８は、上述したように高温炉３に隣接して配置されているため、液晶用ガラス基板２の除電効率を低下させることは無い。
【００１９】
なお、本実施形態では、高温炉３の開口部３ａに２枚のＸ線透過板１７Ａ，１７Ｂを設ける構成としたが、Ｘ線透過板は１枚のみとし、このＸ線透過板とＸ線発生器８のＸ線照射部８ａとの間に冷却用空気を流すようにしてもよい。
【００２０】
図３は、本発明の第２の実施形態による静電気除去装置を示す構成図である。図中、第１の実施形態と同一または同等の部材には同じ符号を付し、その説明を省略する。
【００２１】
同図において、本実施形態の静電気除去装置３１は、高温炉３２内に収容された液晶用ガラス基板２を除電する装置である。高温炉３２内には、上述したＸ線発生器８を収容した筐体３３が配置されている。Ｘ線発生器８は、そのＸ線射出部８ａが複数の液晶用ガラス基板２の側面に対向するように配置されている。そして、筐体３３におけるＸ線射出部８ａとの対向面には、Ｘ線を透過させるＸ線透過板３４が設けられている。この場合には、Ｘ線発生器８からのＸ線が直接液晶用ガラス基板２に向けて照射されるため、複数の液晶用ガラス基板２に対してほぼ均等に除電を行うことが可能となる。また、第１の実施形態のような送風機が不要となるので、構造が簡易になる。
【００２２】
筐体３３の背面（Ｘ線透過板３４と反対側の面）側には、高温炉３２を貫通して延びるパイプ３５が接続され、このパイプ３５内にはＸ線発生器８の電源ライン１５が挿入されている。
【００２３】
また、筐体３３の背面側には、高温炉３２を貫通して延びる空気供給路３６及び空気排出路３７が接続されている。空気供給路３６により筐体３３内に導入された冷却用空気は、Ｘ線発生器８の側面側を通って、Ｘ線発生器８のＸ線射出部８ａとＸ線透過板３４との間を流れ、空気排出路３７により外部に排気される。この冷却用空気により、高温炉３２内の熱のＸ線発生器８への伝達がある程度抑えられるため、Ｘ線発生器８を高温炉３２内に配置しても、Ｘ線発生器８が高温炉３２内の熱によって破壊されることが回避される。つまり、高温環境下であっても、Ｘ線発生器８を高温炉３３内に収容したまま使用可能であるため、液晶用ガラス基板２の除電効率を低下させることは無い。
【００２４】
また、冷却用空気がＸ線発生器８の側面側を流れるように構成することで、Ｘ線発生器８自体も冷却される。このため、第１の実施形態のような冷却用ファンを設けなくて済み、この点でも構造が簡易になり、コスト削減が図れる。
【００２５】
なお、本発明に係る静電気除去装置は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態は、液晶用ガラス基板に生じた静電気を除去するものであるが、本発明は、他の液晶基板や半導体基板の静電気除去にも適用可能である。
【００２６】
また、上記実施形態は、高温環境である高温炉内に被処理基板を収容するものであるが、本発明は、例えば湿式エッチング装置等のような腐食性ガスの濃度が高く、Ｘ線発生器自体が腐食する可能性がある環境下においても適用可能である。この場合には、Ｘ線発生器とＸ線透過板との間に腐食防止用の気体を流すことで、Ｘ線発生器の腐食を低減することが可能となる。さらには、フォトプロセス処理装置のような昇華ガスが発生し、昇華物がＸ線発生器内部の電気回路に損傷を与える可能性がある環境下においても適用可能である。この場合にも、Ｘ線発生器とＸ線透過板との間に適当なパージ用気体を流すことで、Ｘ線発生器の損傷を低減することが可能となる。
【００２７】
【発明の効果】
本発明によれば、Ｘ線発生器とＸ線透過部材との間に気体を流すようにしたので、高温環境等のようなＸ線発生器にとってきびしい環境下であっても、被処理物の静電気除去を効果的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態による静電気除去装置を示す構成図である。
【図２】図１に示すＸ線発生器の詳細を示す構成図である。
【図３】本発明の第２の実施形態による静電気除去装置を示す構成図である。
【符号の説明】
１…静電気除去装置、２…液晶用ガラス基板（被処理物）、３…高温炉（箱体）、７…筐体、８…Ｘ線発生器、８ａ…Ｘ線照射部、１７Ａ，１７Ｂ…Ｘ線透過板（Ｘ線透過部材）、１９…空気供給路（気体流通手段）、２０…空気排出路（気体流通手段）、３１…静電気除去装置、３２…高温炉（箱体）、３３…筐体、３４…Ｘ線透過板（Ｘ線透過部材）、３６…空気供給路（気体流通手段）、３７…空気排出路（気体流通手段）。
Claims (5)
- Ｘ線発生器よりＸ線を照射することによって箱体内に収容された被処理物に生じた静電気を除去する静電気除去装置において、
前記箱体の外面に固定されると共に、前記Ｘ線発生器を収容した筐体と、
前記箱体に設けられ、前記Ｘ線発生器から照射されたＸ線を透過させるＸ線透過部材と、
前記Ｘ線発生器と前記Ｘ線透過部材との間に気体を流す気体流通手段とを備えたことを特徴とする静電気除去装置。 - 前記Ｘ線透過部材は１対からなり、これらのＸ線透過部材は前記Ｘ線の照射方向に対向配置されており、
前記気体流通手段は、前記１対のＸ線透過部材間に気体を流すように構成されていることを特徴とする請求項１記載の静電気除去装置。 - Ｘ線発生器よりＸ線を照射することによって箱体内に収容された被処理物に生じた静電気を除去する静電気除去装置において、
前記箱体内に配置されると共に、前記Ｘ線発生器を収容した筐体と、
前記筐体に設けられ、前記Ｘ線発生器から照射されたＸ線を透過させるＸ線透過部材と、
前記Ｘ線発生器と前記Ｘ線透過部材との間に気体を流す気体流通手段とを備えたことを特徴とする静電気除去装置。 - 前記Ｘ線発生器は、そのＸ線照射部が前記Ｘ線透過部材を挟んで前記被処理物に対向するように配置されていることを特徴とする請求項３記載の静電気除去装置。
- 前記気体流通手段は、前記Ｘ線発生器と前記Ｘ線透過部材との間に冷却用空気を供給する空気供給系と、前記冷却用空気を外部に排出する空気排出系とを有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項記載の静電気除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000132600A JP4451540B2 (ja) | 2000-05-01 | 2000-05-01 | 冷却機能付き光照射式静電気除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000132600A JP4451540B2 (ja) | 2000-05-01 | 2000-05-01 | 冷却機能付き光照射式静電気除去装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001313197A JP2001313197A (ja) | 2001-11-09 |
| JP4451540B2 true JP4451540B2 (ja) | 2010-04-14 |
Family
ID=18641268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000132600A Expired - Fee Related JP4451540B2 (ja) | 2000-05-01 | 2000-05-01 | 冷却機能付き光照射式静電気除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4451540B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105851099A (zh) * | 2016-04-25 | 2016-08-17 | 昆山瑞鸿诚自动化设备科技有限公司 | 一种lcd高温烤箱 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005005172A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Genesis Technology Inc | 軟ｘ線照射装置及び半導体の組立装置並びに検査装置 |
| JP4633524B2 (ja) * | 2005-04-11 | 2011-02-16 | 高砂熱学工業株式会社 | 軟ｘ線除電装置 |
| CN112449471A (zh) * | 2020-11-13 | 2021-03-05 | 阔创实业(上海)有限公司 | 一种可自动控制的静电消除装置 |
-
2000
- 2000-05-01 JP JP2000132600A patent/JP4451540B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105851099A (zh) * | 2016-04-25 | 2016-08-17 | 昆山瑞鸿诚自动化设备科技有限公司 | 一种lcd高温烤箱 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001313197A (ja) | 2001-11-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0833365B1 (en) | X-ray generator and electrostatic remover | |
| JP2977098B2 (ja) | 帯電物の中和装置 | |
| JP2004079304A (ja) | Ｘ線管 | |
| US6888297B2 (en) | Method and apparatus for debris mitigation for an electrical discharge source | |
| KR101221939B1 (ko) | 고효율 광조사식 제전 시스템 | |
| JP4451540B2 (ja) | 冷却機能付き光照射式静電気除去装置 | |
| JP5212917B2 (ja) | プラズマ光源 | |
| TWI409848B (zh) | Ultraviolet radiation device | |
| TWI659493B (zh) | 基板處理裝置、基板處理系統以及基板處理方法 | |
| JP4839475B2 (ja) | Ｘ線照射型イオナイザ | |
| KR101178783B1 (ko) | 연 엑스선을 이용한 광조사식 제전기 | |
| JP2000011853A (ja) | 電子銃、その長寿命化方法、電子機器 | |
| KR20070058385A (ko) | Ｅｕｖ 발생장치 | |
| CN101065999B (zh) | 用于产生波长范围从大约1nm至大约30nm的辐射并在光刻装置或计量学中使用的方法和设备 | |
| KR100578466B1 (ko) | 히트파이프를 이용한 오존방전장치 | |
| KR20150084322A (ko) | 차폐막 및 저전압 x선관을 구비한 이온 블로워 | |
| JP2009111313A (ja) | 放電励起ガスレーザ装置における予備電離機構の冷却機構 | |
| US4930137A (en) | Inorganic triple point screen | |
| JP6303894B2 (ja) | プラズマ光源システム | |
| JPH117913A (ja) | 電子線発生装置およびその冷却方法 | |
| WO2004112445A1 (ja) | 軟ｘ線照射装置及び半導体の組立装置並びに検査装置 | |
| KR100518529B1 (ko) | 이온 빔 주입 설비의 아크 챔버 | |
| JP2008288158A (ja) | 静電気除去装置 | |
| JPH0275139A (ja) | イオン注入装置 | |
| JPS60202935A (ja) | Ｘ線露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070424 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20070607 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20070607 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091224 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100112 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100128 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |