JP4451540B2 - Light irradiation type static eliminator with cooling function - Google Patents

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  • Elimination Of Static Electricity (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、箱体内に収容された液晶用ガラス基板等の被処理物に生じた静電気をX線照射により除去する静電気除去装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
液晶素子や半導体素子を製造する工程においては、液晶基板や半導体基板の搬送時などに基板に静電気が生じるため、静電気除去装置により静電気の除去(除電ともいう)を行うことがある。このような静電気除去装置としては、コロナ放電式イオナイザや光(X線)照射式イオナイザが知られている。特にX線照射式イオナイザは、密閉環境下でも窓越しにX線を照射してイオンを供給することができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、高温炉等のように、環境温度が通常の電気機器や樹脂の耐熱温度を超えるような環境のもとで、X線照射式イオナイザにより除電を行う場合には、高温炉内の熱によってX線発生器が破壊しないように、液晶基板等が収容された高温炉から離してX線発生器を配置する必要があり、この場合には液晶基板等の除電効率が低下する。
【0004】
本発明の目的は、X線発生器にとってきびしい環境下であっても、被処理物の静電気除去を効果的に行うことができる静電気除去装置を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明は、X線発生器よりX線を照射することによって箱体内に収容された被処理物に生じた静電気を除去する静電気除去装置において、箱体の外面に固定されると共に、X線発生器を収容した筐体と、箱体に設けられ、X線発生器から照射されたX線を透過させるX線透過部材と、X線発生器とX線透過部材との間に気体を流す気体流通手段とを備えたことを特徴とするものである。
【0006】
このような本発明においては、例えば箱体が高温炉で構成されている場合に、X線発生器を箱体に隣接させて配置しても、X線発生器とX線透過部材との間に気体として冷却用空気を流すことにより、高温炉内の熱のX線発生器への伝達がある程度抑えられるため、X線発生器が高温炉内の熱によって破壊されることを防止できる。従って、X線発生器を箱体に隣接させた状態で使用することが可能となり、これにより被処理物の静電気を効果的に除去できる。
【0007】
好ましくは、X線透過部材は1対からなり、これらのX線透過部材はX線の照射方向に対向配置されており、気体流通手段は、1対のX線透過部材間に気体を流すように構成されている。上述したように箱体が高温炉で構成されている場合に、1対のX線透過部材間に冷却用空気を流すことで、冷却用空気による断熱が効果的に行える。
【0008】
また、上記の目的を達成するため、本発明は、X線発生器よりX線を照射することによって箱体内に収容された被処理物に生じた静電気を除去する静電気除去装置において、箱体内に配置されると共に、X線発生器を収容した筐体と、筐体に設けられ、X線発生器から照射されたX線を透過させるX線透過部材と、X線発生器とX線透過部材との間に気体を流す気体流通手段とを備えたことを特徴とするものである。
【0009】
このような本発明においては、例えば箱体が高温炉で構成されている場合に、X線発生器が収容された筐体を箱体内に配置しても、X線発生器とX線透過部材との間に気体として冷却用空気を流すことにより、高温炉内の熱のX線発生器への伝達がある程度抑えられるため、X線発生器が高温炉内の熱によって破壊されることを防止できる。従って、X線発生器を箱体内に収容した状態で使用することが可能となり、これにより被処理物の静電気を効果的に除去できる。
【0010】
好ましくは、X線発生器は、そのX線照射部がX線透過部材を挟んで被処理物に対向するように配置されている。この場合には、X線発生器からのX線は直接被処理物に向けて照射されるため、X線の照射により空気中に生成されたイオンを被処理物に向かわせるための送風機等が不要となる。これにより、構造が簡易になり、コスト削減が図れる。
【0011】
また、好ましくは、気体流通手段は、X線発生器とX線透過部材との間に冷却用空気を供給する空気供給系と、冷却用空気を外部に排出する空気排出系とを有する。これにより、上述したような高温環境下において、X線発生器を箱体に隣接させたり箱体内に収容した状態で使用できる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る静電気除去装置の好適な実施形態について図面を参照して説明する。
【0013】
図1は、本発明の第1の実施形態による静電気除去装置を示す構成図である。同図において、本実施形態の静電気除去装置1は、液晶用ガラス基板2に生じた静電気を除去する装置であり、この液晶用ガラス基板2は、断熱材で形成された箱体である高温炉3内に収容されている。なお、液晶用ガラス基板2は、ラック4内に複数枚収容した状態で、開閉ドア5より高温炉3内に出し入れされる。また、高温炉3には、開閉ドア5側に向けて風を送る送風機6が設けられている。
【0014】
静電気除去装置1は、高温炉3の一側外面に固定された筐体7を有し、この筐体7内には、X線を発生させるX線発生器8が収容されている。このX線発生器8の具体的構成を図2に示す。
【0015】
同図において、X線発生器8は、コバールガラス製の円筒状バルブ9を有し、このバルブ9の末端にはステム10が形成されている。バルブ9の開放端には、コバール金属製の円筒状の出力窓保持部11が設けられている。この出力窓保持部11には出力窓12が固定され、この出力窓12の内面側には、電子ビームの衝突によりX線を発生させるターゲット13が蒸着されている。また、ステム10には2本のステムピン14が固定され、これらステムピン14は、電源ライン15を介して電源部(図示せず)と接続されている。また、ステムピン14には、所定の電圧で電子ビームを放出するカソードとしてのフィラメント16が設けられている。このようなX線発生器8において、ステムピン14に、電源部(図示せず)から高電位(例えば−9.5kV)を供給し、フィラメント16から接地電位のターゲット13に向けて電子ビームを照射する。このとき、電子ビームの衝突によりターゲット13からX線が放射され、このX線が出力窓12から放出される。
【0016】
図1に戻り、高温炉3の一側に形成された開口部3aには、X線発生器8のX線照射部8aから照射されたX線を透過させる1対のX線透過板17A,17Bが、X線の照射方向に対向して設けられている。これらX線透過板17A,17Bは、高温炉3内の加熱空気を遮断すると共に、断熱作用をもった断熱層を形成する。なお、X線透過板17A,17Bの材質としては、例えばベリリウムやカーボン等が使用される。
【0017】
筐体7には、X線発生器8を冷却するための冷却用ファン18が設けられている。また、X線透過板17A,17B間の空間には、空気供給路19及び空気排出路20が接続されており、ブロア等の空気源(図示せず)からの冷却用空気を空気供給路19を介してX線透過板17A,17B間の空間に供給すると共に、空気排出路20を介して冷却用空気を外部に排気する。このようにX線透過板17A,17B間に冷却用空気を導入するので、X線透過板17A,17Bによる断熱効果が更に促進され、高温炉3内からX線発生器8への熱伝達がある程度抑えられる。このため、X線発生器8を高温炉3に隣接させて配置しても、X線発生器8が高温炉3内の熱によって破壊されることが回避される。つまり、高温環境下であっても、X線発生器8を高温炉3に隣接させた状態で使用可能である。
【0018】
このような静電気除去装置1において、X線発生器8からのX線がX線透過板17A,17Bを通して高温炉3内に照射され、送風機6によって高温炉3内のX線照射領域Rを流れる加熱空気中に+イオン、−イオンが生成される。そして、これらのイオンが液晶用ガラス基板2に吸着して帯電電荷を中和することで、液晶用ガラス基板2に生じた静電気が除去される。このとき、X線発生器8は、上述したように高温炉3に隣接して配置されているため、液晶用ガラス基板2の除電効率を低下させることは無い。
【0019】
なお、本実施形態では、高温炉3の開口部3aに2枚のX線透過板17A,17Bを設ける構成としたが、X線透過板は1枚のみとし、このX線透過板とX線発生器8のX線照射部8aとの間に冷却用空気を流すようにしてもよい。
【0020】
図3は、本発明の第2の実施形態による静電気除去装置を示す構成図である。図中、第1の実施形態と同一または同等の部材には同じ符号を付し、その説明を省略する。
【0021】
同図において、本実施形態の静電気除去装置31は、高温炉32内に収容された液晶用ガラス基板2を除電する装置である。高温炉32内には、上述したX線発生器8を収容した筐体33が配置されている。X線発生器8は、そのX線射出部8aが複数の液晶用ガラス基板2の側面に対向するように配置されている。そして、筐体33におけるX線射出部8aとの対向面には、X線を透過させるX線透過板34が設けられている。この場合には、X線発生器8からのX線が直接液晶用ガラス基板2に向けて照射されるため、複数の液晶用ガラス基板2に対してほぼ均等に除電を行うことが可能となる。また、第1の実施形態のような送風機が不要となるので、構造が簡易になる。
【0022】
筐体33の背面(X線透過板34と反対側の面)側には、高温炉32を貫通して延びるパイプ35が接続され、このパイプ35内にはX線発生器8の電源ライン15が挿入されている。
【0023】
また、筐体33の背面側には、高温炉32を貫通して延びる空気供給路36及び空気排出路37が接続されている。空気供給路36により筐体33内に導入された冷却用空気は、X線発生器8の側面側を通って、X線発生器8のX線射出部8aとX線透過板34との間を流れ、空気排出路37により外部に排気される。この冷却用空気により、高温炉32内の熱のX線発生器8への伝達がある程度抑えられるため、X線発生器8を高温炉32内に配置しても、X線発生器8が高温炉32内の熱によって破壊されることが回避される。つまり、高温環境下であっても、X線発生器8を高温炉33内に収容したまま使用可能であるため、液晶用ガラス基板2の除電効率を低下させることは無い。
【0024】
また、冷却用空気がX線発生器8の側面側を流れるように構成することで、X線発生器8自体も冷却される。このため、第1の実施形態のような冷却用ファンを設けなくて済み、この点でも構造が簡易になり、コスト削減が図れる。
【0025】
なお、本発明に係る静電気除去装置は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態は、液晶用ガラス基板に生じた静電気を除去するものであるが、本発明は、他の液晶基板や半導体基板の静電気除去にも適用可能である。
【0026】
また、上記実施形態は、高温環境である高温炉内に被処理基板を収容するものであるが、本発明は、例えば湿式エッチング装置等のような腐食性ガスの濃度が高く、X線発生器自体が腐食する可能性がある環境下においても適用可能である。この場合には、X線発生器とX線透過板との間に腐食防止用の気体を流すことで、X線発生器の腐食を低減することが可能となる。さらには、フォトプロセス処理装置のような昇華ガスが発生し、昇華物がX線発生器内部の電気回路に損傷を与える可能性がある環境下においても適用可能である。この場合にも、X線発生器とX線透過板との間に適当なパージ用気体を流すことで、X線発生器の損傷を低減することが可能となる。
【0027】
【発明の効果】
本発明によれば、X線発生器とX線透過部材との間に気体を流すようにしたので、高温環境等のようなX線発生器にとってきびしい環境下であっても、被処理物の静電気除去を効果的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態による静電気除去装置を示す構成図である。
【図2】図1に示すX線発生器の詳細を示す構成図である。
【図3】本発明の第2の実施形態による静電気除去装置を示す構成図である。
【符号の説明】
1…静電気除去装置、2…液晶用ガラス基板(被処理物)、3…高温炉(箱体)、7…筐体、8…X線発生器、8a…X線照射部、17A,17B…X線透過板(X線透過部材)、19…空気供給路(気体流通手段)、20…空気排出路(気体流通手段)、31…静電気除去装置、32…高温炉(箱体)、33…筐体、34…X線透過板(X線透過部材)、36…空気供給路(気体流通手段)、37…空気排出路(気体流通手段)。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a static eliminator that removes static electricity generated in an object to be processed such as a glass substrate for liquid crystal contained in a box by X-ray irradiation.
[0002]
[Prior art]
In a process of manufacturing a liquid crystal element or a semiconductor element, static electricity is generated on the substrate when the liquid crystal substrate or the semiconductor substrate is transported, and thus static electricity may be removed (also referred to as static elimination) by a static electricity removing device. As such a static eliminator, a corona discharge ionizer and a light (X-ray) irradiation ionizer are known. In particular, an X-ray irradiation ionizer can supply ions by irradiating X-rays through a window even in a sealed environment.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, when removing electricity with an X-ray irradiation ionizer in an environment where the environmental temperature exceeds the heat resistance temperature of ordinary electrical equipment or resin, such as a high temperature furnace, the heat in the high temperature furnace In order to prevent the X-ray generator from being destroyed, it is necessary to dispose the X-ray generator away from the high temperature furnace in which the liquid crystal substrate or the like is accommodated. In this case, the charge removal efficiency of the liquid crystal substrate or the like is lowered.
[0004]
An object of the present invention is to provide a static eliminator capable of effectively removing static electricity from an object to be processed even in a severe environment for an X-ray generator.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention provides a static eliminator that removes static electricity generated in an object accommodated in a box by irradiating X-rays from an X-ray generator. An X-ray transmission member that is fixed and contains an X-ray generator, an X-ray transmission member that is provided in the box and transmits X-rays emitted from the X-ray generator, and an X-ray generator and an X-ray transmission member And a gas flow means for flowing gas between them.
[0006]
In the present invention, for example, when the box is composed of a high-temperature furnace, the X-ray generator is disposed between the X-ray generator and the X-ray transmitting member even if the X-ray generator is disposed adjacent to the box. By flowing cooling air as a gas, the transfer of heat in the high-temperature furnace to the X-ray generator is suppressed to some extent, so that the X-ray generator can be prevented from being destroyed by the heat in the high-temperature furnace. Therefore, it is possible to use the X-ray generator in a state where it is adjacent to the box, and thereby the static electricity of the workpiece can be effectively removed.
[0007]
Preferably, the X-ray transmissive members are made of a pair, these X-ray transmissive members are arranged opposite to each other in the X-ray irradiation direction, and the gas flow means flows gas between the pair of X-ray transmissive members. It is configured. As described above, when the box is constituted by a high-temperature furnace, the cooling air can be effectively insulated by flowing the cooling air between the pair of X-ray transmitting members.
[0008]
In order to achieve the above object, the present invention provides a static eliminator for removing static electricity generated in an object accommodated in a box by irradiating X-rays from an X-ray generator. A housing that contains the X-ray generator, an X-ray transmitting member that is provided in the housing and transmits X-rays emitted from the X-ray generator, and an X-ray generator and an X-ray transmitting member And a gas flow means for flowing gas between them.
[0009]
In the present invention, for example, when the box is composed of a high-temperature furnace, the X-ray generator and the X-ray transmitting member are disposed even if the casing containing the X-ray generator is arranged in the box. By flowing cooling air as a gas between the heat transfer to the X-ray generator to a certain extent, the X-ray generator is prevented from being destroyed by the heat in the high-temperature furnace. it can. Therefore, the X-ray generator can be used in a state of being accommodated in the box, and thereby the static electricity of the workpiece can be effectively removed.
[0010]
Preferably, the X-ray generator is arranged so that the X-ray irradiation part faces the object to be processed with the X-ray transmission member interposed therebetween. In this case, since the X-ray from the X-ray generator is directly irradiated toward the object to be processed, a blower or the like for directing ions generated in the air to the object to be processed by the X-ray irradiation. It becomes unnecessary. As a result, the structure is simplified and the cost can be reduced.
[0011]
Preferably, the gas flow means includes an air supply system that supplies cooling air between the X-ray generator and the X-ray transmission member, and an air discharge system that discharges the cooling air to the outside. Accordingly, the X-ray generator can be used in a state where the X-ray generator is adjacent to the box or accommodated in the box under the high temperature environment as described above.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, a preferred embodiment of a static eliminator according to the invention will be described with reference to the drawings.
[0013]
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a static eliminator according to a first embodiment of the present invention. In the figure, a static eliminating device 1 of the present embodiment is a device for removing static electricity generated on a glass substrate 2 for liquid crystal, and this glass substrate 2 for liquid crystal is a high-temperature furnace which is a box formed of a heat insulating material. 3 is accommodated. The liquid crystal glass substrate 2 is put into and out of the high temperature furnace 3 from the opening / closing door 5 in a state where a plurality of glass substrates 2 are accommodated in the rack 4. The high-temperature furnace 3 is provided with a blower 6 that sends air toward the opening / closing door 5 side.
[0014]
The static eliminator 1 has a casing 7 fixed to one outer surface of the high-temperature furnace 3, and an X-ray generator 8 that generates X-rays is accommodated in the casing 7. A specific configuration of the X-ray generator 8 is shown in FIG.
[0015]
In the figure, an X-ray generator 8 has a Koval glass cylindrical bulb 9, and a stem 10 is formed at the end of the bulb 9. A cylindrical output window holder 11 made of Kovar metal is provided at the open end of the valve 9. An output window 12 is fixed to the output window holding portion 11, and a target 13 for generating X-rays by electron beam collision is deposited on the inner surface side of the output window 12. Further, two stem pins 14 are fixed to the stem 10, and these stem pins 14 are connected to a power supply unit (not shown) via a power supply line 15. The stem pin 14 is provided with a filament 16 as a cathode that emits an electron beam at a predetermined voltage. In such an X-ray generator 8, a high potential (for example, −9.5 kV) is supplied to the stem pin 14 from a power supply unit (not shown), and an electron beam is irradiated from the filament 16 toward the ground potential target 13. To do. At this time, X-rays are emitted from the target 13 due to the collision of the electron beam, and the X-rays are emitted from the output window 12.
[0016]
Returning to FIG. 1, a pair of X-ray transmission plates 17 </ b> A that transmit the X-rays irradiated from the X-ray irradiation unit 8 a of the X-ray generator 8 to the opening 3 a formed on one side of the high-temperature furnace 3. 17B is provided facing the X-ray irradiation direction. These X-ray transmissive plates 17A and 17B block the heated air in the high temperature furnace 3 and form a heat insulating layer having a heat insulating action. For example, beryllium or carbon is used as the material of the X-ray transmission plates 17A and 17B.
[0017]
The housing 7 is provided with a cooling fan 18 for cooling the X-ray generator 8. An air supply path 19 and an air discharge path 20 are connected to the space between the X-ray transmission plates 17A and 17B, and cooling air from an air source (not shown) such as a blower is supplied to the air supply path 19. Is supplied to the space between the X-ray transmissive plates 17A and 17B via the air and the cooling air is exhausted to the outside via the air discharge path 20. Thus, since the cooling air is introduced between the X-ray transmission plates 17A and 17B, the heat insulation effect by the X-ray transmission plates 17A and 17B is further promoted, and heat transfer from the high temperature furnace 3 to the X-ray generator 8 is achieved. It can be suppressed to some extent. For this reason, even if the X-ray generator 8 is disposed adjacent to the high-temperature furnace 3, it is avoided that the X-ray generator 8 is destroyed by the heat in the high-temperature furnace 3. That is, even in a high temperature environment, the X-ray generator 8 can be used in a state of being adjacent to the high temperature furnace 3.
[0018]
In such a static eliminator 1, X-rays from the X-ray generator 8 are irradiated into the high-temperature furnace 3 through the X-ray transmission plates 17 </ b> A and 17 </ b> B and flow through the X-ray irradiation region R in the high-temperature furnace 3 by the blower 6. + Ions and-ions are generated in the heated air. These ions are adsorbed on the liquid crystal glass substrate 2 to neutralize the charged charges, whereby static electricity generated on the liquid crystal glass substrate 2 is removed. At this time, since the X-ray generator 8 is disposed adjacent to the high-temperature furnace 3 as described above, the static elimination efficiency of the glass substrate 2 for liquid crystal is not reduced.
[0019]
In the present embodiment, two X-ray transmission plates 17A and 17B are provided in the opening 3a of the high-temperature furnace 3, but only one X-ray transmission plate is used. You may make it flow cooling air between the X-ray irradiation parts 8a of the generator 8. FIG.
[0020]
FIG. 3 is a configuration diagram illustrating a static eliminator according to a second embodiment of the present invention. In the figure, the same or equivalent members as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
[0021]
In the figure, a static eliminating device 31 according to the present embodiment is a device for removing electricity from the liquid crystal glass substrate 2 accommodated in a high temperature furnace 32. In the high temperature furnace 32, a housing 33 that houses the X-ray generator 8 described above is disposed. The X-ray generator 8 is arranged so that the X-ray emission part 8 a faces the side surfaces of the plurality of glass substrates for liquid crystal 2. An X-ray transmitting plate 34 that transmits X-rays is provided on the surface of the housing 33 that faces the X-ray emitting portion 8a. In this case, since the X-rays from the X-ray generator 8 are directly irradiated toward the liquid crystal glass substrate 2, it is possible to perform charge removal on the plurality of liquid crystal glass substrates 2 almost evenly. . Further, since the blower as in the first embodiment is not necessary, the structure is simplified.
[0022]
A pipe 35 extending through the high temperature furnace 32 is connected to the rear surface (surface opposite to the X-ray transmission plate 34) of the housing 33, and the power line 15 of the X-ray generator 8 is connected to the pipe 35. Has been inserted.
[0023]
In addition, an air supply path 36 and an air discharge path 37 extending through the high temperature furnace 32 are connected to the rear side of the housing 33. The cooling air introduced into the housing 33 by the air supply path 36 passes through the side surface side of the X-ray generator 8 and passes between the X-ray emission part 8 a of the X-ray generator 8 and the X-ray transmission plate 34. And is exhausted to the outside by the air discharge passage 37. Since this cooling air suppresses the heat in the high temperature furnace 32 to the X-ray generator 8 to some extent, even if the X-ray generator 8 is arranged in the high temperature furnace 32, the X-ray generator 8 is kept at a high temperature. The destruction in the furnace 32 by heat is avoided. That is, even in a high-temperature environment, the X-ray generator 8 can be used while being housed in the high-temperature furnace 33, and therefore, the static elimination efficiency of the liquid crystal glass substrate 2 is not lowered.
[0024]
In addition, the X-ray generator 8 itself is cooled by configuring the cooling air to flow on the side surface side of the X-ray generator 8. For this reason, it is not necessary to provide a cooling fan as in the first embodiment. In this respect as well, the structure is simplified and the cost can be reduced.
[0025]
The static eliminator according to the present invention is not limited to the embodiment described above. For example, the above embodiment is for removing static electricity generated in a glass substrate for liquid crystal, but the present invention is also applicable to removing static electricity from other liquid crystal substrates and semiconductor substrates.
[0026]
Moreover, although the said embodiment accommodates a to-be-processed substrate in the high temperature furnace which is a high temperature environment, this invention has high density | concentration of corrosive gas like a wet etching apparatus etc., for example, and X-ray generator The present invention can also be applied in an environment where it may corrode itself. In this case, corrosion of the X-ray generator can be reduced by flowing a corrosion-preventing gas between the X-ray generator and the X-ray transmission plate. Furthermore, the present invention can be applied in an environment where sublimation gas such as a photo process processing device is generated and the sublimate may damage the electric circuit inside the X-ray generator. In this case as well, damage to the X-ray generator can be reduced by flowing an appropriate purge gas between the X-ray generator and the X-ray transmission plate.
[0027]
【The invention's effect】
According to the present invention, since the gas is allowed to flow between the X-ray generator and the X-ray transmitting member, the object to be processed can be obtained even in a severe environment for the X-ray generator such as a high temperature environment. Static electricity can be effectively removed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a static eliminator according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a configuration diagram showing details of the X-ray generator shown in FIG. 1;
FIG. 3 is a configuration diagram illustrating a static eliminator according to a second embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Static electricity removal apparatus, 2 ... Glass substrate for liquid crystal (to-be-processed object), 3 ... High temperature furnace (box body), 7 ... Case, 8 ... X-ray generator, 8a ... X-ray irradiation part, 17A, 17B ... X-ray transmissive plate (X-ray transmissive member), 19 ... Air supply path (gas flow means), 20 ... Air discharge path (gas flow means), 31 ... Static eliminator, 32 ... High temperature furnace (box body), 33 ... A casing, 34 ... an X-ray transmission plate (X-ray transmission member), 36 ... an air supply path (gas flow means), 37 ... an air discharge path (gas flow means).

Claims (5)

X線発生器よりX線を照射することによって箱体内に収容された被処理物に生じた静電気を除去する静電気除去装置において、
前記箱体の外面に固定されると共に、前記X線発生器を収容した筐体と、
前記箱体に設けられ、前記X線発生器から照射されたX線を透過させるX線透過部材と、
前記X線発生器と前記X線透過部材との間に気体を流す気体流通手段とを備えたことを特徴とする静電気除去装置。
In the static eliminator which removes the static electricity which arose in the to-be-processed object accommodated in the box body by irradiating X-rays from an X-ray generator,
A housing that is fixed to the outer surface of the box and contains the X-ray generator;
An X-ray transmitting member provided in the box and transmitting X-rays irradiated from the X-ray generator;
A static electricity removing apparatus comprising gas flow means for flowing gas between the X-ray generator and the X-ray transmitting member.
前記X線透過部材は1対からなり、これらのX線透過部材は前記X線の照射方向に対向配置されており、
前記気体流通手段は、前記1対のX線透過部材間に気体を流すように構成されていることを特徴とする請求項1記載の静電気除去装置。
The X-ray transmissive member consists of a pair, and these X-ray transmissive members are arranged to face each other in the X-ray irradiation direction,
The static electricity removing apparatus according to claim 1, wherein the gas flow means is configured to flow a gas between the pair of X-ray transmitting members.
X線発生器よりX線を照射することによって箱体内に収容された被処理物に生じた静電気を除去する静電気除去装置において、
前記箱体内に配置されると共に、前記X線発生器を収容した筐体と、
前記筐体に設けられ、前記X線発生器から照射されたX線を透過させるX線透過部材と、
前記X線発生器と前記X線透過部材との間に気体を流す気体流通手段とを備えたことを特徴とする静電気除去装置。
In the static eliminator which removes the static electricity which arose in the to-be-processed object accommodated in the box body by irradiating X-rays from an X-ray generator,
A housing disposed within the box and containing the X-ray generator;
An X-ray transmitting member that is provided in the housing and transmits X-rays emitted from the X-ray generator;
A static electricity removing apparatus comprising gas flow means for flowing gas between the X-ray generator and the X-ray transmitting member.
前記X線発生器は、そのX線照射部が前記X線透過部材を挟んで前記被処理物に対向するように配置されていることを特徴とする請求項3記載の静電気除去装置。4. The static eliminator according to claim 3, wherein the X-ray generator is disposed such that an X-ray irradiation part faces the object to be processed with the X-ray transmission member interposed therebetween. 前記気体流通手段は、前記X線発生器と前記X線透過部材との間に冷却用空気を供給する空気供給系と、前記冷却用空気を外部に排出する空気排出系とを有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載の静電気除去装置。The gas flow means has an air supply system that supplies cooling air between the X-ray generator and the X-ray transmission member, and an air discharge system that discharges the cooling air to the outside. The static eliminating device according to any one of claims 1 to 4.
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