JP4435158B2 - 一体型インラインバンプ及び露光システム - Google Patents
一体型インラインバンプ及び露光システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP4435158B2 JP4435158B2 JP2006514999A JP2006514999A JP4435158B2 JP 4435158 B2 JP4435158 B2 JP 4435158B2 JP 2006514999 A JP2006514999 A JP 2006514999A JP 2006514999 A JP2006514999 A JP 2006514999A JP 4435158 B2 JP4435158 B2 JP 4435158B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- bump
- illumination
- band
- photosensitive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
- G03F7/2055—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser for the production of printing plates; Exposure of liquid photohardening compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
Claims (12)
- 感光層を有するレリーフ像印刷版のための統合された直列式のバンプ及び露光システムであって、
感光層内のいかなる溶存酸素も消費するように照明のバンドで感光層をバンプするための線形照明源、
バンプする照明のバンドのすぐ下流に置かれた電磁放射で感光層を露光するための、ラスター走査組立体を有する露光モジュール、及び
版の一部分を連続的にバンプし更に版の別の部分がバンプされている間に版のバンプされた部分を画像化するために、版及び照明のバンドと電磁放射との両者間の相対運動を提供するように構成された輸送機構、
を備えたシステム。 - 照明源が、凹面反射器の焦点にある紫外線、可視光、又は赤外線を放射するランプ又はランプのアレイを備える請求項1のシステム。
- ランプの出力を選択的に遮断するためのシャッター組立体を更に備える請求項1のシステム。
- 照明源がLEDアレイを備える請求項1のシステム。
- 照明源が拡散機構を備え、該拡散機構が、アレイのフルーエンスを空間的に統合するためのレンチキュラーレンズである請求項1のシステム。
- 感光層を有するレリーフ像印刷版の露光を強化する方法であって、
感光層内のいかなる溶存酸素も消費するに十分なバンプする照明のバンドを提供し、
感光層を画像化するためにバンプする照明のバンドのすぐ下流で、ラスター走査組立体を有する電磁放射を提供し、
感光層及びバンプする照明のバンドと電磁放射の両者間の相対運動を提供し、更に
バンプする照明のバンドにより版の一部分をバンプしそして版の別の部分をバンプする照明のバンドでバンドしている間にバンドされた部分を電磁放射で画像化する、
ことよりなる方法。 - ランプの出力を選択的に遮断するためのシャッター組立体を更に備える請求項6の方法。
- 照明のバンドがLEDアレイから生ずる請求項6の方法。
- レリーフ像印刷版上の感光層の露光を強化する方法であって、
感光層内のいかなる溶存酸素も消費するに十分なバンプ用照明のバンドで版の一部分をバンプし、
バンプされた部分をラスター走査組立体により画像化し、更に
版の別の部分が画像化される間に版の一部分のバンプが同時に生ずるように、連続過程で版の別の部分をバンプ用照明のバンドでバンプする、
ことよりなる方法。 - 感光層を有する印刷版のための統合された直列式のバンプ及び露光システムであって、
感光層内のいかなる溶存酸素も消費するように感光層を照明のバンドでバンプするために、200nmから1100nmの間の波長を有する紫外線、可視光、又は赤外線の放射を作る線形ランプを有する線形照明源、
バンプ用照明のバンドのすぐ下流に置かれたラスター化ビーム又は電磁放射の空間変調されたアレイにより感光層を露光させるための露光モジュールに基づくラスター走査光学組立体又は空間光変調器、及び
版の一部分を連続的にバンプし更に版の別の部分がバンプされている間に同時に版のバンプされた部分を画像化するために、版及び照明のバンドとラスター化ビーム又は電磁放射の空間的に変調されたアレイとの両者間の相対運動を提供するように構成された輸送機構、
を備えるシステム。 - 感光層を有する印刷版のための統合された直列式のバンプ及び露光システムであって、
感光層内のいかなる溶存酸素も消費するように感光層を照明のバンドでバンプするために、互い違いにされたLEDの列及び拡散機構を有するLEDアレイ、
バンプ用照明のバンドのすぐ下流に置かれたラスター化ビーム又は電磁放射の空間変調されたアレイにより感光層を露光するための露光モジュールに基づくラスター走査光学組立体又は空間光変調器、及び
版の一部分を連続的にバンプし更に版の別の部分がバンプされている間に同時に版のバンプされた部分を画像化するために、版及び照明のバンドとラスター化ビーム又は電磁放射の空間変調されたアレイとの両者間の相対運動を提供するように構成された輸送機構、
を備えるシステム。 - 感光層を有する印刷版のための統合された直列式のバンプ及び露光システムであって、
感光層内のいかなる溶存酸素も消費するように感光層を照明のバンドでバンプするための線形照明源、
バンプ用照明のバンドのすぐ下流のラスター化ビーム又は電磁放射の空間変調されたアレイにより感光材料を露光させるための露光モジュールに基づくラスター走査光学組立体又は空間光変調器、及び
ある連続速度で作動し、そして版の一部分を連続的にバンプし更に版の別の部分がバンプされている間に同時に版のバンプされた部分を画像化するために、版及び照明のバンドとラスター化ビーム又は電磁放射の空間変調されたアレイとの両者間の相対連続運動を提供するように構成された輸送機構、
を備えるシステム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US47418503P | 2003-05-29 | 2003-05-29 | |
US10/853,539 US6903809B2 (en) | 2003-05-29 | 2004-05-25 | Integrated, in-line bumping and exposure system |
PCT/US2004/016840 WO2004111725A2 (en) | 2003-05-29 | 2004-05-28 | An intergrated, in-line bumping and exposure system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007525695A JP2007525695A (ja) | 2007-09-06 |
JP4435158B2 true JP4435158B2 (ja) | 2010-03-17 |
Family
ID=34068055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006514999A Expired - Fee Related JP4435158B2 (ja) | 2003-05-29 | 2004-05-28 | 一体型インラインバンプ及び露光システム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6903809B2 (ja) |
EP (1) | EP1627256B1 (ja) |
JP (1) | JP4435158B2 (ja) |
ES (1) | ES2625104T3 (ja) |
WO (1) | WO2004111725A2 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4279738B2 (ja) * | 2004-07-22 | 2009-06-17 | リンテック株式会社 | 紫外線照射装置 |
US8194640B2 (en) | 2004-12-31 | 2012-06-05 | Genband Us Llc | Voice over IP (VoIP) network infrastructure components and method |
US20060164614A1 (en) * | 2005-01-21 | 2006-07-27 | Hua-Kuo Chen | Exposing machine for a printed circuit board |
DE102005031057A1 (de) * | 2005-07-02 | 2007-01-04 | Punch Graphix Prepress Germany Gmbh | Verfahren zur Belichtung von Flexodruckplatten |
JP5117709B2 (ja) * | 2006-12-04 | 2013-01-16 | リンテック株式会社 | 紫外線照射装置及び紫外線照射方法 |
US8516961B2 (en) * | 2007-05-08 | 2013-08-27 | Esko-Graphics Imaging Gmbh | Method and apparatus for loading and unloading flexographic plates for computer-to-plate imaging including separate loading and unloading areas |
US8389203B2 (en) | 2007-05-08 | 2013-03-05 | Esko-Graphics Imaging Gmbh | Exposing printing plates using light emitting diodes |
DE102007028859B4 (de) * | 2007-06-22 | 2010-09-30 | Josef Lindthaler | Vorrichtung zur Kontaktbelichtung einer Druckform |
US7767383B2 (en) * | 2007-08-08 | 2010-08-03 | Roberts David H | Method of pre-exposing relief image printing plate |
US8227769B2 (en) * | 2008-05-27 | 2012-07-24 | Esko-Graphics Imaging Gmbh | Curing of photo-curable printing plates with flat tops or round tops |
US8096671B1 (en) | 2009-04-06 | 2012-01-17 | Nmera, Llc | Light emitting diode illumination system |
DE102010031527A1 (de) * | 2010-07-19 | 2012-01-19 | Flint Group Germany Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen umfassend die Bestrahlung mit UV-LEDs |
US8492074B2 (en) | 2011-01-05 | 2013-07-23 | Laurie A. Bryant | Method of improving print performance in flexographic printing plates |
KR101432885B1 (ko) * | 2012-05-10 | 2014-08-21 | 성낙훈 | 렌티큐라 노광기 |
EP3052988B1 (de) | 2013-09-30 | 2017-08-30 | Flint Group Germany GmbH | Vorrichtung und verfahren zur in-line herstellung von flexodruckplatten |
US10180248B2 (en) | 2015-09-02 | 2019-01-15 | ProPhotonix Limited | LED lamp with sensing capabilities |
US10732507B2 (en) | 2015-10-26 | 2020-08-04 | Esko-Graphics Imaging Gmbh | Process and apparatus for controlled exposure of flexographic printing plates and adjusting the floor thereof |
WO2017087195A1 (en) * | 2015-11-18 | 2017-05-26 | Shockwave Medical, Inc. | Shock wave electrodes |
DK3583470T3 (da) * | 2017-03-20 | 2022-10-03 | Esko Graphics Imaging Gmbh | Fremgangsmåde og indretning til at justere gulvet af en flexografisk trykplade i et system eller en proces med kontrolleret belysning |
JP6825956B2 (ja) * | 2017-03-28 | 2021-02-03 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置、基板処理方法および紫外線照射手段の選択方法 |
CN112686808B (zh) * | 2020-12-22 | 2023-07-28 | 江苏迪盛智能科技有限公司 | 一种光处理图像螺旋线矫正方法及装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE611541A (ja) * | 1961-01-13 | |||
US4716097A (en) * | 1986-02-03 | 1987-12-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Increased photopolymer photospeed employing yellow light preexposure |
KR930008139B1 (en) * | 1990-08-30 | 1993-08-26 | Samsung Electronics Co Ltd | Method for preparation of pattern |
DE4225829A1 (de) * | 1992-08-05 | 1994-02-10 | Hoechst Ag | Vorbehandlungseinrichtung für bildmäßig zu belichtende Druckformen |
US5386268A (en) * | 1993-07-26 | 1995-01-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Exposure unit and method for exposing photosensitive materials |
US5892574A (en) * | 1995-06-05 | 1999-04-06 | Western Litho Plate & Supply Co. | Plate exposing apparatus and method |
US6262825B1 (en) * | 1999-08-24 | 2001-07-17 | Napp Systems, Inc. | Apparatus and method for the enhanced imagewise exposure of a photosensitive material |
-
2004
- 2004-05-25 US US10/853,539 patent/US6903809B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-05-28 ES ES04753638.8T patent/ES2625104T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2004-05-28 WO PCT/US2004/016840 patent/WO2004111725A2/en active Application Filing
- 2004-05-28 EP EP04753638.8A patent/EP1627256B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-05-28 JP JP2006514999A patent/JP4435158B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007525695A (ja) | 2007-09-06 |
ES2625104T3 (es) | 2017-07-18 |
EP1627256A4 (en) | 2014-06-11 |
WO2004111725A3 (en) | 2005-11-24 |
EP1627256A2 (en) | 2006-02-22 |
US20050011382A1 (en) | 2005-01-20 |
US6903809B2 (en) | 2005-06-07 |
EP1627256B1 (en) | 2017-04-05 |
WO2004111725A2 (en) | 2004-12-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4435158B2 (ja) | 一体型インラインバンプ及び露光システム | |
EP3742231B1 (en) | Curing of photo-curable printing plates | |
EP0957384A3 (en) | Optical image forming method and device, image forming apparatus and aligner for lithography | |
CN107430346B (zh) | 用于弹性印刷板的受控曝光的系统和方法 | |
US7839484B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method, and method of manufacturing electrical wiring board | |
WO2004019079A3 (en) | Continuous direct-write optical lithography | |
WO2005040927A3 (en) | Device and method for illumination dose adjustments in microlithography | |
JP2006301591A (ja) | 露光装置及び露光方法並びに配線基板の製造方法 | |
JP2004157219A (ja) | 露光ヘッドおよび露光装置 | |
TW200632570A (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
CN110622070B (zh) | 用于在受控制的曝光系统或过程中调整柔性版印刷板的底板的过程和装置 | |
JP2007140166A (ja) | 直接露光装置および照度調整方法 | |
US20120050705A1 (en) | Photolithography system | |
US6753898B2 (en) | Method and apparatus for high speed digitized exposure | |
JP4472560B2 (ja) | マスクレス露光装置及びその露光方法並びに配線基板の製造方法 | |
WO2007029561A1 (ja) | 露光装置 | |
US20050183597A1 (en) | Combined ablation and exposure system and method | |
JP2010161246A (ja) | 伝送光学系、照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
JP2003337428A (ja) | 露光装置 | |
TWI649632B (zh) | Exposure device and exposure method | |
TWI640837B (zh) | 使用光學投影之基板調整系統及方法 | |
JP7471175B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
CN1823301B (zh) | 集成的内嵌式撞击和曝光的系统 | |
WO2015001736A1 (ja) | 露光装置および照明ユニット | |
JP3255036B2 (ja) | 搬送型露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081007 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20080929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081216 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090316 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090324 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090416 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090423 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090515 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090707 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091006 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091215 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091222 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4435158 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130108 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130108 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |