JP4430112B2 - 熱伝導膜、熱伝導膜を備える半導体デバイスおよび電子機器 - Google Patents
熱伝導膜、熱伝導膜を備える半導体デバイスおよび電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4430112B2 JP4430112B2 JP2008015463A JP2008015463A JP4430112B2 JP 4430112 B2 JP4430112 B2 JP 4430112B2 JP 2008015463 A JP2008015463 A JP 2008015463A JP 2008015463 A JP2008015463 A JP 2008015463A JP 4430112 B2 JP4430112 B2 JP 4430112B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat
- layer
- film
- conductive film
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/373—Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/26—Bombardment with radiation
- H01L21/263—Bombardment with radiation with high-energy radiation
- H01L21/268—Bombardment with radiation with high-energy radiation using electromagnetic radiation, e.g. laser radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/373—Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
- H01L23/3735—Laminates or multilayers, e.g. direct bond copper ceramic substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
- H01L21/84—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being other than a semiconductor body, e.g. being an insulating body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/64—Heat extraction or cooling elements
- H01L33/641—Heat extraction or cooling elements characterized by the materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/30—Self-sustaining carbon mass or layer with impregnant or other layer
Description
・伝熱過程での熱の放出、拡散が少なく、面内方向に十分な熱輸送量を得ることができるので、伝熱過程での熱の放出、拡散などにより機器へ与える悪影響が小さい。
この態様によれば、熱伝導層とひずみ緩和層の積層数を適宜設定することで、膜内方向の熱伝導率(膜内熱伝導率)を向上させることができると共に、面内方向における十分な熱輸送量を得ることができる。特に、熱伝導層とひずみ緩和層を複数回交互に繰り返して積層して、熱伝導膜を多層膜構成にすることで、熱伝導層がひずみ緩和層の間に挟み込まれた構成になる。これにより、熱伝導層の膜内熱伝導率をさらに向上させることができる。
本発明の他の態様に係る熱伝導膜は、前記熱伝導層と前記ひずみ緩和層を、複数回交互に繰り返して積層し、前記ひずみ緩和層が前記熱伝導層の間に挟み込まれた構成になっていることを特徴とする。
ここで、(d / (d+t)=熱伝導層の膜厚 /熱伝導層とひずみ緩和層の合計膜厚=第1の構成材料の膜厚 / 第1の構成材料と第2の構成材料の合計膜厚)である。つまり、d / (d+t)は、熱伝導層とひずみ緩和層を1回積層した1周期の膜厚(d+t)に対する、熱伝導層の膜厚(グラファイトを選定した第1の構成材料の膜厚)dの割合である。この割合(d / (d+t))が0.4より小さいと、つまり、第1の構成材料の割合が少なすぎると、熱を伝える材料が少なくなるだけでなく、熱伝導層の歪みが緩和しきらず第1の構成材料の結晶性の向上が期待できないため、熱伝導層の膜内熱伝導率が向上しない。一方、その割合が0.8より大きいと、つまり、第1の構成材料の割合が多すぎると、第1の構成材料の結晶性が悪くなり、熱伝導層の膜内熱伝導率が向上しない。
このような態様とすれば、活性層近傍の熱を熱伝導膜により優先的に側面に移送できるため、トータルとしての放熱量が増加し、半導体デバイス温度を低減することができる。
このような態様とすれば、活性層近傍の熱を熱伝導膜により優先的に側面に移送できるため、トータルとしての放熱量が増加し、半導体デバイス温度を低減することができる。
このような態様とすれば、複数の半導体レーザダイオードの活性層からの熱を、各半導体レーザダイオードを挟むように配置された複数の熱伝導膜により優先的に側面に移送できるため、トータルとしての放熱量が増加し、半導体デバイス温度を低減することができる。また、多層化された複数の半導体レーザダイオードの活性層からの熱を有効に排出することができる。
このような態様とすれば、半導体素子で発生した熱を熱伝導膜により端部へ移送して逃がすので、半導体素子の温度を下げることができる。
このような態様とすれば、複数の半導体素子で発生した熱は、複数の半導体素子の各上面或いは各下面にそれぞれ形成され熱伝導膜を介して端部へ逃げるので、全層の半導体素子の温度を下げることができる。
(第1実施態様)
<熱伝導膜>
本発明の第1実施態様に係る熱伝導膜を図1乃至図4に基づいて説明する。図1は第1実施態様に係る熱伝導膜を示す断面図、図2は膜厚比と膜内方向の熱伝導率の関係を示すグラフ、図3は図2の一部拡大図、図4(A)乃至(D)は膜厚構成の最適化による高熱伝導化のメカニズムを示す説明図である。
(1)膜内方向(図1で紙面内左右方向)の熱伝導特性を向上させるような、熱伝導材料(第1の構成材料)とそのひずみを緩和させるような材料(第2の構成材料)の最適な組み合わせを選ぶこと。
(2)多層膜にした際の、膜厚構成の最適化を行うこと。
・ 第1の構成材料(グラファイト)の割合が少なすぎると、熱を伝える材料が少なくなるだけでなく、歪みが緩和しきらず結晶性の向上が期待できないため、熱伝導層2の膜内方向の熱伝導率が向上しない。
・ 第1の構成材料(グラファイト)の割合が多すぎると、グラファイトの結晶性が悪くなり、熱伝導層2の膜内方向の熱伝導率が向上しない。
好ましくは、熱伝導層2の膜厚 d と、ひずみ緩和層3の膜厚t の関係が、以下の式(2)を満たすように、熱伝導層2の膜厚 dの割合を設定する。
上記式(1)で設定される範囲が、図2の範囲Xである。また、上記式(2)で設定される範囲が、図2の範囲Yである。
次に、上記第1実施形態に係る熱伝導膜1の具体的な実施例を、以下の表1および図2に基づいて説明する。
各実施例1〜6の熱伝導膜1の製造方法は、次の通りである。
このようにして作製した各実施例1〜6の熱伝導特性を測定した。
○また、熱伝導膜1は、熱伝導性に異方性があるため、熱電素子そのものとしても利用可能である。
(応用例)
以下に、上記第1実施態様に係る熱伝導膜1を適用した応用例について説明する。
<半導体デバイス1>
図5は本発明の第2実施態様に係る半導体デバイスの概略構成を示す断面図であり、図6は比較例として示した従来の半導体デバイスの概略構成を示す断面図である。なお、図5および図6において、同様の部位には同一の符号を付して重複した説明を省略する。
<半導体デバイス2>
図7は本発明の第3実施態様に係る半導体デバイスの概略構成を示す断面図であり、図8は比較例として示した従来の半導体デバイスの概略構成を示す断面図である。なお、図7および図8において、同様の部位には同一の符号を付して重複した説明を省略する。
<半導体デバイス3>
図9は本発明の第4実施態様に係る半導体デバイスの概略構成を示す断面図であり、図10は比較例として示した従来の半導体デバイスの概略構成を示す断面図である。なお、図9および図10において、同様の部位には同一の符号を付して重複した説明を省略する。
<半導体デバイス4>
図11は本発明の第5実施態様に係る半導体デバイスの概略構成を示す断面図、図12は同半導体デバイスのZ部を拡大して示した部分断面図である。図13は比較例として示した従来の半導体デバイスの概略構成を示す断面図、図14は同半導体デバイスのZ部を拡大して示した部分断面図である。なお、図11乃至図14において、同様の部位には同一の符号を付して重複した説明を省略する。
<半導体デバイス5>
図15は本発明の第6実施態様に係る半導体デバイスに組み込まれる半導体素子のトランジスタ層部分の概略構成を示す断面図である。
<半導体デバイス6>
図16は本発明の第7実施態様に係る半導体デバイスに組み込まれる半導体素子のトランジスタ層部分の概略構成を示す断面図である。
<半導体デバイス7>
図17は本発明の第8実施態様に係る半導体デバイスに組み込まれる半導体素子のトランジスタ層部分の概略構成を示す断面図である。
<半導体デバイス8>
図18は本発明の第9実施態様に係る半導体デバイスに組み込まれる半導体素子のトランジスタ層部分の概略構成を示す断面図である。
2…熱伝導層
3…ひずみ緩和層
4…シリコン(Si)基板
20…LED(発光ダイオード)チップ
21,31…活性層
22…光透過部
30,40…半導体レーザダイオード
43…ペルチェ素子
50…シリコンチップ(Siチップ)
51…パッケージ
80,80A,80B,80C…半導体デバイス
81…チャネル層
82…シリコン(Si)基板
83…シリコン酸化膜(SiO2)
88…シリコン酸化膜
89…シリコン(Si)層
90…トランジスタ層
91…シリコン(Si)膜
91a…チャネル
92…シリコン(Si)基板
93…シリコン酸化膜(SiO2)
98…トランジスタ層
99…シリコン(Si)層
Claims (7)
- 熱を膜内及び膜厚方向に伝導する第1の構成材料からなる熱伝導層と、前記熱伝導層のひずみを緩和する第2の構成材料からなるひずみ緩和層とを積層してなり、前記第1の構成材料として、グラファイトを選定し、かつ前記第2の構成材料として、アモルファスSi、アモルファスGe、アモルファスSiGe、アモルファスSiO 2 、アモルファスSiOx、アモルファスTiO 2 のいずれかを選定したことを特徴とする熱伝導膜。
- 前記熱伝導層と前記ひずみ緩和層を、複数回交互に繰り返して積層し、前記熱伝導層が前記ひずみ緩和層の間に挟み込まれた構成になっていることを特徴とする請求項1に記載の熱伝導膜。
- 前記熱伝導層と前記ひずみ緩和層を、複数回交互に繰り返して積層し、前記ひずみ緩和層が前記熱伝導層の間に挟み込まれた構成になっていることを特徴とする請求項1に記載の熱伝導膜。
- 前記熱伝導層の膜厚 d と、前記ひずみ緩和層の膜厚 tが、以下の関係を満たすことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一つに記載の熱伝導膜。
0.4≦d / (d+t) ≦0.8 - 前記熱伝導膜の膜厚 d と前記ひずみ緩和層の膜厚 t がそれぞれ、1nm 以上、かつ20nm以下の範囲内にあることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一つに記載の熱伝導膜。
- 請求項1乃至5のいずれか一つに記載の前記熱伝導膜を半導体素子上に或いは半導体素子内部に形成したことを特徴とする半導体デバイス。
- 請求項1乃至5のいずれか一つに記載の熱伝導膜を備え、該熱伝導膜を電子部品上に或いはその内部に形成したことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008015463A JP4430112B2 (ja) | 2007-03-28 | 2008-01-25 | 熱伝導膜、熱伝導膜を備える半導体デバイスおよび電子機器 |
US12/232,470 US8475923B2 (en) | 2007-03-28 | 2008-09-17 | Heat transfer film, semiconductor device, and electronic apparatus |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007085000 | 2007-03-28 | ||
JP2008015463A JP4430112B2 (ja) | 2007-03-28 | 2008-01-25 | 熱伝導膜、熱伝導膜を備える半導体デバイスおよび電子機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008270724A JP2008270724A (ja) | 2008-11-06 |
JP4430112B2 true JP4430112B2 (ja) | 2010-03-10 |
Family
ID=40049787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008015463A Active JP4430112B2 (ja) | 2007-03-28 | 2008-01-25 | 熱伝導膜、熱伝導膜を備える半導体デバイスおよび電子機器 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8475923B2 (ja) |
JP (1) | JP4430112B2 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9217542B2 (en) | 2009-10-20 | 2015-12-22 | Cree, Inc. | Heat sinks and lamp incorporating same |
US9030120B2 (en) * | 2009-10-20 | 2015-05-12 | Cree, Inc. | Heat sinks and lamp incorporating same |
US9243758B2 (en) * | 2009-10-20 | 2016-01-26 | Cree, Inc. | Compact heat sinks and solid state lamp incorporating same |
KR20110085481A (ko) * | 2010-01-20 | 2011-07-27 | 삼성전자주식회사 | 적층 반도체 패키지 |
KR101920445B1 (ko) * | 2010-05-25 | 2018-11-20 | 삼성전자주식회사 | 발광 장치 |
CN102345329B (zh) * | 2010-07-28 | 2015-04-08 | 四国化研(上海)有限公司 | 层叠体 |
WO2012040148A1 (en) * | 2010-09-21 | 2012-03-29 | Graftech International Holdings Inc. | Composite heat spreader |
JP5943369B2 (ja) * | 2011-02-09 | 2016-07-05 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 熱伝導積層膜部材及びその製造方法、これを用いた放熱部品及び放熱デバイス |
US10030863B2 (en) | 2011-04-19 | 2018-07-24 | Cree, Inc. | Heat sink structures, lighting elements and lamps incorporating same, and methods of making same |
AT511605B1 (de) * | 2011-12-12 | 2013-01-15 | High Tech Coatings Gmbh | Kohlenstoffbasierende beschichtung |
US10378749B2 (en) | 2012-02-10 | 2019-08-13 | Ideal Industries Lighting Llc | Lighting device comprising shield element, and shield element |
JP6008117B2 (ja) | 2012-02-15 | 2016-10-19 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | グラファイト構造体およびそれを用いた電子デバイス |
CN103547121A (zh) * | 2012-07-09 | 2014-01-29 | 华宏新技股份有限公司 | 散热复合物及其使用 |
TWI478405B (zh) * | 2012-12-13 | 2015-03-21 | Ind Tech Res Inst | 熱電薄膜結構 |
US20140313203A1 (en) * | 2013-04-19 | 2014-10-23 | KTS Solutions, LLC | Virtual Structural Staging System and Method of Use |
WO2015102415A1 (ko) * | 2013-12-31 | 2015-07-09 | 주식회사 아모그린텍 | 복합 시트 및 그를 구비한 휴대용 단말 |
US10028418B2 (en) | 2015-01-20 | 2018-07-17 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Metal encased graphite layer heat pipe |
US9791704B2 (en) | 2015-01-20 | 2017-10-17 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Bonded multi-layer graphite heat pipe |
US10444515B2 (en) | 2015-01-20 | 2019-10-15 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Convective optical mount structure |
US10108017B2 (en) | 2015-01-20 | 2018-10-23 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Carbon nanoparticle infused optical mount |
CN105984867B (zh) * | 2015-02-13 | 2018-03-30 | 柯品聿 | 人工石墨片及其制造方法、含人工石墨片的石墨基板堆栈结构 |
US9674986B2 (en) * | 2015-08-03 | 2017-06-06 | Apple Inc. | Parallel heat spreader |
US10312174B2 (en) * | 2016-08-29 | 2019-06-04 | Apple Inc. | Thermal management system |
US10903618B2 (en) * | 2019-03-20 | 2021-01-26 | Chroma Ate Inc. | Fixture assembly for testing edge-emitting laser diodes and testing apparatus having the same |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2726141B2 (ja) * | 1990-06-05 | 1998-03-11 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US5296310A (en) * | 1992-02-14 | 1994-03-22 | Materials Science Corporation | High conductivity hydrid material for thermal management |
US5241131A (en) * | 1992-04-14 | 1993-08-31 | International Business Machines Corporation | Erosion/corrosion resistant diaphragm |
US5672054A (en) * | 1995-12-07 | 1997-09-30 | Carrier Corporation | Rotary compressor with reduced lubrication sensitivity |
JPH10247708A (ja) | 1997-03-04 | 1998-09-14 | Akutoronikusu Kk | 面間伝熱プレート |
DE10005614A1 (de) * | 2000-02-09 | 2001-08-16 | Hauzer Techno Coating Europ B | Verfahren zur Herstellung von Beschichtungen sowie Gegenstand |
JP2001315246A (ja) | 2000-05-10 | 2001-11-13 | Toyo Tanso Kk | 積層体 |
JP3995900B2 (ja) | 2001-04-25 | 2007-10-24 | 株式会社神戸製鋼所 | ダイヤモンドライクカーボン多層膜 |
JP2003168882A (ja) | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Sony Corp | 熱伝導性シート |
US6770321B2 (en) * | 2002-01-25 | 2004-08-03 | Afg Industries, Inc. | Method of making transparent articles utilizing protective layers for optical coatings |
JP4550613B2 (ja) * | 2005-02-21 | 2010-09-22 | 古河電気工業株式会社 | 異方熱伝導材料 |
-
2008
- 2008-01-25 JP JP2008015463A patent/JP4430112B2/ja active Active
- 2008-09-17 US US12/232,470 patent/US8475923B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090190312A1 (en) | 2009-07-30 |
US8475923B2 (en) | 2013-07-02 |
JP2008270724A (ja) | 2008-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4430112B2 (ja) | 熱伝導膜、熱伝導膜を備える半導体デバイスおよび電子機器 | |
Bar-Cohen et al. | Near-junction thermal management for wide bandgap devices | |
US10149413B1 (en) | Integrated thermal management assembly for gate drivers and power components | |
US7813135B2 (en) | Semiconductor device | |
US20100187680A1 (en) | Heat radiator | |
US20100085713A1 (en) | Lateral graphene heat spreaders for electronic and optoelectronic devices and circuits | |
US8294272B2 (en) | Power module | |
US20090008770A1 (en) | Heat dissipation plate and semiconductor device | |
Choi et al. | A perspective on the electro-thermal co-design of ultra-wide bandgap lateral devices | |
JP5534067B1 (ja) | 電子部品、および電子部品冷却方法 | |
CN107112300A (zh) | 冷却组件 | |
TW415053B (en) | Semiconductor device and method for manufacturing same | |
JP5904006B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2008028163A (ja) | パワーモジュール装置 | |
JP6590952B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP4833827B2 (ja) | 異方性冷却素子およびこれを備えたペルチェモジュール、発光ダイオード素子、半導体レーザ素子 | |
JPWO2020105075A1 (ja) | 半導体装置 | |
JP2010245158A (ja) | 冷却器 | |
Jeon et al. | Suppression of self-heating in nanoscale interfaces using h-BN based anisotropic heat diffuser | |
JP4550613B2 (ja) | 異方熱伝導材料 | |
JP2008262974A (ja) | 半導体装置 | |
JP7261602B2 (ja) | 半導体装置及び電力変換装置 | |
US10777484B2 (en) | Heat sink plate | |
JP2009218416A (ja) | 半導体回路 | |
JP5320354B2 (ja) | 放熱装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090302 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090608 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090612 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090811 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090904 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091030 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091120 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091216 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121225 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4430112 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121225 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131225 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |