JP4416498B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
VHF高周波電力を高周波電極に供給してプラズマを生起するプラズマ処理装置において、
前記VHF高周波電力を供給する高周波電源と前記高周波電極との間に電気的に接続されるマッチングボックスを配し、
前記高周波電極の反応空間に接する面以外の電極面と接地電位の導体との間に、前記高周波電極の容量と並列共振回路を形成し、かつ前記高周波電極の中心に対して対称となるように、容量素子と誘導素子とを直列接続したインピーダンス整合器を配することを特徴とする。
図1は、実施例1のプラズマ処理装置を示す模式図である。
図3は、実施例2のプラズマ処理装置を示す模式図である。
本実施例は、図5(b)に示したような構造を有する基板支持部材を接地電極として使用する以外は、実施例1に記述したものと本質的に同じ構造を有するプラズマ処理装置を使用して、前記基板支持部材により支持した7059ガラス基板からなる基板上に、アモルファスシリコン薄膜を形成し、その薄膜の膜厚から堆積速度及び堆積速度分布を調べた。
比較例1は、図2に例示したプラズマ処理装置を用いて、インピーダンス整合器7の一方を外し、他の条件は実施例3と同じ条件として、さらに堆積速度分布についても実施例3同様に高周波電極の反応空間12に面した前記7059ガラス基板に堆積した膜厚を高周波電極3の位置に対する21点について、測定し、その堆積速度及び分布を算出した。
2 接地電極(基板ホルダー)
3 高周波電極
4 基板加熱ヒーター
5 導電体プレート
6 誘導素子
7 インピーダンス整合器
8 排気手段
9 シールドケース
10 マッチングボックス
11 高周波電源
12 反応空間
13 ガス噴出し穴
14 固定金具
15 絶縁体
16 シールド管
17 絶縁体
18 ガス供給手段
Claims (4)
- VHF高周波電力を高周波電極に供給してプラズマを生起するプラズマ処理装置において、
前記VHF高周波電力を供給する高周波電源と前記高周波電極との間に電気的に接続されるマッチングボックスを配し、
前記高周波電極の反応空間に接する面以外の電極面と接地電位の導体との間に、前記高周波電極の容量と並列共振回路を形成し、かつ前記高周波電極の中心に対して対称となるように、容量素子と誘導素子とを直列接続したインピーダンス整合器を配することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記高周波電極の反応空間に接する面と反対側の面が大気圧であって、該反対側の面と前記接地電位の導体との間に、前記インピーダンス整合器を配設したことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記インピーダンス整合器が、前記高周波電極に対して平行に可動することを特徴とする請求項1乃至2のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記インピーダンス整合器を、複数個有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
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