JP4415812B2 - 電子写真式画像形成装置、およびプロセスカートリッジ - Google Patents
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Description
前記電子写真感光体が少なくとも、表面が導電性である基体と、該基体上に、分光吸収スペクトルの600〜900nmの範囲において810〜839nmに吸収の最大ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を少なくとも含有する感光層と、を有し、
前記ヒドロキシガリウムフタロシアニンを含有する層の分光吸収スペクトルにおいて、600〜700nmの範囲における最大ピークの吸光度が、810〜839nmの範囲における最大ピークの吸光度よりも大きく、
前記感光層に、帯電時に3.5×105〜9.0×105V/cmの範囲の電界強度が印加されることを特徴とする電子写真式画像形成装置。
一連の電子写真プロセスにおいては、像露光により、感光層に含有される電荷発生材料で電荷が発生し、電子写真感光体表面、および基体に向かって、それぞれ電荷が移動し、表面電位を打ち消す。しかし、感光層内には、トラップと呼ばれる、電荷を捕獲し移動を阻害するサイトが多数存在する。発生した電荷の一部は、電子写真感光体表面や基体にまで到達することができずに、トラップに捕獲されて、感光層内に蓄積される。その結果、長期間に渡って使用された場合、この蓄積された電荷が、感光層内の電界を乱すことで、カブリが発生したり、露光後の表面電位が使用サイクルに合わせて変動する、サイクル変動と呼ばれる現象を引き起こしたりする。しかるに、本発明の電子写真式画像形成装置においては、帯電時に感光層に印加される電界強度が大きく、電荷を移動させる力が大きいため、トラップに捕獲される電荷量を少なく抑えられていると推察される。結果、長期間に渡って使用された場合であっても、良好な出力画像を安定的に得ることが可能であると考えられる。
また、さらには、本発明の電子写真感光体に使用されるヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、少なくともCuKα特性X線に対するブラッグ角度(2θ±0.2°)の7.5°及び28.3°に回折ピークを有するものである。
図1〜4はそれぞれ本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図であり、電子写真感光体1を基体2及び感光層3の積層方向に対して垂直な平面で切断したものである。図1〜4に示した電子写真感光体1はいずれも機能分離型感光体であり、各感光体が備える感光層3には電荷発生層5と電荷輸送層6とが別個に設けられている。
導電性基体2としては、アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニッケル等の金属製;シート、紙、プラスチック、ガラス等の基体上にアルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス鋼、銅−インジウム等の金属を蒸着したもの;酸化インジウム、酸化スズ等の導電性金属化合物を上記基体に蒸着したもの;金属箔を上記基体にラミネートしたもの;カーボンブラック、酸化インジウム、酸化スズ−酸化アンチモン粉、金属粉、ヨウ化銅等を結着樹脂に分散し、上記基体に塗布することによって導電処理したもの等が挙げられる。また、導電性基体2の形状は、ドラム状、シート状、プレート状のいずれであってもよい。
また、導電性基体2として金属製パイプ基体を用いる場合、当該パイプ基体の表面は素管のままのものであってもよいが、予め表面処理により基体表面を粗面化しておくことも可能である。かかる粗面化により、露光光光源としてレーザービーム等の可干渉光源を用いた場合に、感光体内部で発生し得る干渉光による木目状の濃度斑を防止することができる。表面処理としては、鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニング等が挙げられる。
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、所定の結着樹脂中に分散保持されて電荷発生層5を構成する。かかる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂や、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアセタール樹脂及び塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が好ましく用いられる。これらの結着樹脂は1種を単独あるいは2種以上を混合して用いることができる。電荷発生物質と結着樹脂との配合比(重量比)は、10:1〜1:10の範囲が好ましく、さらには、8:2〜3:7の範囲がより好ましい。
図10に、本発明にかかるヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の分光吸収スペクトルを例示する。
図9に、本発明にかかるヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料のCuKα特性X線におけるブラッグ角度(2θ±0.2°)に対する回折ピークを例示する。
ここで、上記湿式粉砕処理は、外径0.1〜3.0mmの球形状メディアを使用した粉砕装置を用いて行われるが、好ましくは外径0.2〜2.5mmの球形状メディアを用いて行われる。メディアの外形が3.0mmより大きい場合、粉砕効率が低下するため粒子径が小さくならずに凝集体が生成し易い傾向にある。また、メディアの外径が0.1mmより小さい場合、メディアとヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とを分離し難くなる傾向にある。更に、メディアが球形状でなく、円柱状や不定形状等、他の形状の場合、粉砕効率が低下するとともに、粉砕によってメディアが磨耗し易く、磨耗粉が不純物となりヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の特性を劣化させ易くなる傾向がある。
上記メディアの材質は特に制限されないが、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料中に混入した場合にも画質欠陥を発生し難いものが好ましく、ガラス、ジルコニア、アルミナ、メノー等が好ましい。
上記メディアの使用量は、使用する装置によっても異なるが、I型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料1重量部に対して50重量部以上であり、好ましくは55〜100重量部である。また、メディアの外径が小さくなると、同じ重量(使用量)でも装置内に占めるメディア密度が高まり、混合溶液の粘度が上昇して粉砕効率が変化するため、メディア外径を小さくするに従い、適宜メディア使用量と溶剤使用量とをコントロールすることによって最適な混合比で湿式処理を行うことが望ましい。
また、湿式粉砕処理の温度は、好ましくは0〜100℃であり、より好ましくは5〜80℃であり、特に好ましくは10〜50℃である。温度が低い場合には、結晶転移の速度が遅くなる傾向にあり、また、温度が高すぎる場合には、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の溶解性が高くなり結晶成長しやすく微粒化が困難となる傾向にある。
湿式粉砕処理に用いられる装置としては、振動ミル、自動乳鉢、サンドミル、ダイノーミル、コボールミル、アトライター、遊星ボールミル、ボールミルなどのメデイアを分散媒体として使用する装置を用いることができる。
湿式粉砕過程におけるフタロシアニン顔料の微粒化及び結晶変換の進行速度は、湿式粉砕のスケール、攪拌スピード、メディア材質などによって大きく影響されるが、本発明の製造方法においては、以下に述べるような方法により湿式粉砕時間を決定する。
分散処理の方法は、上記感光層において、600〜700nmの範囲における最大吸収ピークと810〜839nmにおける最大吸収ピークの関係を維持しうるものであれば、いかなる公知の方法も用いることが可能である。
添加物としては、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3’,5,5’−テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等を用いることができる。
ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
チタニウムキレート化合物の例としてはテトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
アルミニウムキレート化合物の例としてはアルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。
これらの化合物は、1種を単独で用いてもよく、また、2種以上の化合物の混合物もしくは重縮合物として用いてもよい。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。
有機燐系酸化防止剤としては、トリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−フォスフィート等が挙げられる。
有機硫黄系及び有機燐系酸化防止剤は、2次酸化防止剤と呼ばれ、フェノール系又はアミン系などの1次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。
光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。
ベンゾトリアゾール系光安定剤としては、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−3’−(3’’,4’’,5’,6’’−テトラヒドロフタルイミド−メチル)−5’−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’,−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’,−ジ−t−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも1種の電子受容性物質を含有せしめることができる。電子受容性物質としては、例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、クロラニルキノン、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。これらの中でも、フルオレノン系、キノン系や、Cl−、CN−、NO2−等の電子求引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
また、塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加することもできる。
Fで表される有機基の好ましい例としては、下記一般式(II)で表される基が挙げられる。Fが一般式(II)で表される基であると、特に優れた光電特性と機械特性を示す。
上記一般式(II)中のAr1〜Ar4としては、下記式(II−1)〜(I−7)のうちのいずれかであることが好ましい。
ここで、式(II−7)中のArとしては、下記式(II−8)又は(II−9)で表されるものが好ましい。
−(CH2)q− (II−10)
−(CH2CH2O)r− (II−11)
−CH2− (II−18)
−C(CH3)2− (II−19)
−O− (II−20)
−S− (II−21)
−C(CF3)2− (II−22)
−Si(CH3)2− (II−23)
一般式(I)で表される化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
市販のハードコート剤としては、KP−85、CR−39、X−12−2208、X−40−9740、X−41−1007、KNS−5300、X−40−2239(以上、信越化学工業社製)、AY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等が挙げられる。
フッ素含有化合物としては、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素原子含有ポリマーをそのまま添加するか、あるいはそれらポリマーの微粒子を添加することができる。また、一般式(I)で表される化合物により形成される硬化膜の場合、フッ素含有化合物としては、アルコキシシランと反応できるものを添加し、架橋膜の一部として構成するのが望ましい。そのようなフッ素含有化合物の例として、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
フッ素含有化合物の含有量は、保護層7全量を基準として20質量%以下とすることが好ましい。フッ素含有化合物の含有量が20質量%を超えると、架橋硬化膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナマイド、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−o−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,5−ジ−t−アミルヒドロキノン、2−t−ブチル−6−(3−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)等が挙げられる。
保護層7は、上記化合物を含有する塗布液を電荷輸送層6上に塗布し、加熱処理することで形成される。これにより、一般式(I)で表される化合物等が3次元的に架橋硬化反応を起こし、強固な硬化膜が形成される。加熱処理の温度は、下層に影響しなければ特に制限はないが、好ましくは室温〜200℃、より好ましくは100〜160℃である。
架橋硬化反応は、無触媒で行なってもよく、また、適切な触媒を用いてもよい。触媒としては、塩酸、硫酸、燐酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、等の酸触媒、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクトエート、オクエ酸第一スズ等の有機スズ化合物、テトラ−n−ブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、有機カルボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウム塩、アルミニウムキレート化合物等が挙げられる。
また、塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。
このようにして形成される保護層7の膜厚は、好ましくは0.5〜20μm、より好ましくは2〜10μmである。
接触型帯電部材としては、芯材の外周面に弾性層、抵抗層、保護層等を設けたものが好適に用いられる。導電性部材の形状は、ブラシ状、ブレード状、ピン電極状、あるいはローラー状等何れでもよい。
芯材の材質としては、導電性を有するもの、例えば、鉄、銅、真鍮、ステンレス、アルミニウム、ニッケル等が用いられる。また、導電性粒子等を分散した樹脂成形品等を用いることができる。
弾性層の材質としては、導電性あるいは半導電性を有するもの、例えば、ゴム材に導電性粒子あるいは半導電性粒子を分散したものが使用可能である。ゴム材としてはEPDM、ポリブタジエン、天然ゴム、ポリイソブチレン、SBR、CR、NBR、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エピクロルヒドリンゴム、SBS、熱可塑性エラストマー、ノルボーネンゴム、フロロシリコーンゴム、エチレンオキシドゴム、クロロプレンゴム、イソプレンゴム、エポキシゴム等が用いられる。導電性粒子あるいは半導電性粒子としてはカーボンブラック、亜鉛、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、クロム、チタニウム等の金属、ZnO−Al2O3、SnO2−Sb2O3、In2O3−SnO2、ZnO−TiO2、MgO−Al2O3、FeO−TiO2、TiO2、SnO2、Sb2O3、In2O3、ZnO、MgO等の金属酸化物が用いることができる。これらの材料は1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
接触型帯電部材の形状としては、ローラー、ブレード、ベルト等のいずれの形状であってもよく、画像形成装置の仕様や形態に合わせて、任意に選択することができる。
本発明の電子写真感光体に用いられる帯電方式には、特に制限はない。しかし、近年は、オゾンの発生量が少なく、環境負荷性の小さい接触帯電方式が好ましく用いられる傾向にある。一般に、接触帯電方式は、スコロトロンやコロトロンなどの非接触式帯電方式と比較して帯電能力が弱く、特に高速応答が必要な画像形成装置においては問題となりやすい。帯電能力が弱い場合、電子写真感光体の感光層中に残留している電荷が、カブリなどの画質欠陥を引き起こす原因となる。しかし、本発明にかかる電子写真感光体によれば、電荷発生層中に存在する、電荷を残留させる要因となる結晶型の崩れたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料粒子が少ないため、前記のような画質欠陥が生じにくく、接触式帯電方式との組み合わせで、好適に使用することができる。
現像装置211に使用されるトナーの形状については、特に制限はなく、不定形、球形あるいは他の特定の形状のものであっても、使用することができる。しかし、高画質化、エコロジーの観点から球形トナーが好ましく用いられる。球形トナーとは、高転写効率を達成するために、平均形状係数(ML2/A)100〜145、好ましくは100〜140の範囲で表される球形状を有するトナーである。この平均形状係数(ML2/A)が145より大きくなると転写効率が低下してしまい、プリントサンプルの画質の低下が目視で確認できてしまう。
球形トナーは、少なくとも結着樹脂と着色剤を含有してなる。この球形トナーは、好ましくは体積平均粒子径で2〜12μmの粒子、より好ましくは3〜9μmの粒子を用いることができる。
離型剤としては低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロプシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして挙げられる。
帯電制御剤としては、公知のものを使用することができるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプ等の帯電制御剤を用いることができる。
他の無機微粒子としては、粉体流動性、帯電制御等の目的で、平均1次粒径が40nm以下の小径無機微粒子を用い、更に必要に応じて、付着力低減の為、それより大径の無機あるいは有機微粒子を併用してもよい。これらの他の無機微粒子は公知のものを使用できる。
また、本発明の画像形成装置は、図5に示したように、イレース光照射装置214をさらに備えていてもよい。これにより、電子写真感光体が繰り返し使用される場合に、電子写真感光体の残留電位が次のサイクルに持ち込まれる現象が防止されるので、画像品質をより高めることができる。
ここで、画像形成装置220に搭載されている電子写真感光体401a〜401dは、それぞれ本発明の電子写真感光体である。
中間転写ベルト409は駆動ロール406、バックアップロール408及びテンションロール407により所定の張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、2次転写ロール413は、中間転写ベルト409を介してバックアップロール408と当接するように配置されている。バックアップロール408と2次転写ロール413との間を通った中間転写ベルト409は、例えば駆動ロール406の近傍に配置されたクリーニングブレード416により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
例えば、導電剤を分散させたポリイミド樹脂からなるベルトは、特開昭63−311263号公報に記載されているように、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸の溶液中に導電剤として5〜20質量%のカーボンブラックを分散させ、分散液を金属ドラム上に流延して乾燥した後、ドラムから剥離したフィルムを高温下に延伸してポリイミドフィルムを形成し、さらに適当な大きさに切り出してエンドレスベルトとすることにより製造することができる。
なお、本特許に記載する被転写体とは、電子写真感光体上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体から直接、紙等の被転写媒体に転写する場合は、被転写媒体を指し、また、中間転写体を用いる場合には、中間転写体を指す。
そして、このプロセスカートリッジ300は、転写装置212と、定着装置215と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
[ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の分光吸収スペクトルの測定]
下記の調製で得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1〜4のいずれかの少量を、室温下で、n−酢酸ブチル8mLに超音波にて分散し、測定液を調整した。得られた測定液の分光吸収スペクトルを、分光光度計(日立製作所社製:U−2000)を用いて測定した。
下記の調製で得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1〜4のいずれかを含有する層塗布液を、ガラスプレート上に浸漬塗布し、塗膜の分光吸収スペクトル測定用の試料を作製した。塗布液の固形分比は4.0〜5.0質量%とし、引き上げ速度を50〜200mm/minの範囲で適宜調整した。得られた試料について、分光光度計(日立製作所社製:U−2000)を用いて、分光吸収スペクトルを測定した。表2に示す値は、810〜839nmの範囲における最大ピークにおける吸光度に対する600〜700nmの範囲における最大ピークの吸光度の比率((600〜700nmの範囲における最大吸収ピークの吸光度)/(810〜839nmの範囲における最大吸収ピークの吸光度))を示す。
下記の調製で得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1〜4のいずれかを、透過型電子顕微鏡で観察して、30μm2の領域当たりの、粒径が0.3μm以上の粒子の数を調べた。
[ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1の調製]
分光吸収スペクトルの600〜900nmの範囲における最大ピーク波長(λmax)が827nmに存在するヒドロキシガリウムフタロシアニンを用意した。以下に、具体的な調製方法を示す。
1,3−ジイミノイソインドリン30重量部及び三塩化ガリウム9.1重量部をジメチルスルホキシド230重量部に加え、160℃で6時間攪拌しながら反応させて赤紫色結晶を得た。得られた結晶をジメチルスルホキシドで洗浄した後、イオン交換水で洗浄し、乾燥してI型クロロガリウムフタロシアニンの粗結晶28重量部を得た。
次に、得られたI型クロロガリウムフタロシアニンの粗結晶10重量部を60℃に加熱した硫酸(濃度97%)300部に十分に溶解させた溶液を、25%アンモニア水600重量部とイオン交換水200重量部との混合溶液中に滴下してヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を析出させた。この結晶を濾過により採取し、イオン交換水で洗浄した後、乾燥してI型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料8重量部を得た。
得られたI型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料6重量部を、N,N−ジメチルホルムアミド90重量部及び外径0.9mmのガラス製球形状メディア350重量部とともに、ガラス製ボールミルを使用して25℃で48時間湿式粉砕処理した。このとき、結晶変換の進行度合いを湿式粉砕処理液の吸収波長測定によりモニターし、湿式粉砕処理後のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の600〜900nmの波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長(λMAX)が827nmであることを確認した。
このヒドロキシガリウムフタロシアニンについてCuKα特性X線を用いたX線回折スペクトルを測定したところ、ブラッグ角度(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°、及び28.3°に回折ピークを示した。
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1の調製において、湿式粉砕処理時間を48時間から192時間に代えた以外は同様にして、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−2を調製した。
得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−2は、分光吸収スペクトルの600〜900nmの範囲における最大ピーク波長(λmax)が、819nmであった。
また、このヒドロキシガリウムフタロシアニンについてCuKα特性X線を用いたX線回折スペクトルを測定したところ、ブラッグ角度(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°、及び28.3°に回折ピークを示した。
[ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1の調製]で得られたI型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料5重量部を、N,N−ジメチルホルムアミド80重量部とともに、撹拌装置を有するガラス製撹拌槽を使用して25℃で48時間撹拌して結晶を得た。次いで、得られた結晶を、アセトンを用いて洗浄し、光を遮断した乾燥機を用いて80℃で24時間加熱乾燥して、5.5重量部のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−3を得た。
得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−3は、分光吸収スペクトルの600〜900nmの範囲における最大ピーク波長(λmax)が、854nmであった。
また、このヒドロキシガリウムフタロシアニンについてCuKα特性X線を用いたX線回折スペクトルを測定したところ、ブラッグ角度(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°、及び28.3°に回折ピークを示した。
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1の調製において、外径0.9mmのガラス製球形状メディア350重量部に代えて外径5.0mmのガラス製球形状メディア350重量部を用いた以外はヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1と同様にして、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−4を調製した。
得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−4は、分光吸収スペクトルの600〜900nmの範囲における最大ピーク波長(λmax)が、845nmであった。
また、このヒドロキシガリウムフタロシアニンについてCuKα特性X線を用いたX線回折スペクトルを測定したところ、ブラッグ角度(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°、及び28.3°に回折ピークを示した。
シランカップリング剤(KBM603:信越化学工業社製)で表面処理を行った酸化亜鉛(テイカ社製試作品:比表面積値16m2/g、平均粒径70nm)60重量部と硬化剤 ブロック化イソシアネート スミジュール3175)(住友バイエルンウレタン社製):15重量部とブチラール樹脂 BM−1 (積水化学社製) 15重量部をメチルエチルケトン85重量部に溶解した溶液38重量部とメチルエチルケトン:25重量部とを混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート:0.005重量部を添加し、下引き層用塗布液を得た。得られた塗布液を浸漬塗布法にて直径30mm、長さ340mm、肉厚1mmのアルミニウム基体上に塗布し、160℃、100分の乾燥硬化を行い厚さ20μmの下引き層を得た。
実施例1において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1を用いたところを、表2に示すヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1〜4のいずれかとし、更に、表2に示す電荷輸送層の膜厚とした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
シランカップリング剤(KBM603:信越化学社製)で表面処理を行った酸化亜鉛(テイカ社製試作品:比表面積値16m2/g、平均粒径70nm)60重量部と硬化剤 ブロック化イソシアネート スミジュール3175)(住友バイエルンウレタン社製) :15重量部とブチラール樹脂 BM−1 (積水化学社製) 15重量部をメチルエチルケトン85重量部に溶解した溶液38重量部とメチルエチルケトン :25重量部とを混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて1.5時間の分散を行い分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート:0.005重量部を添加し、下引き層用塗布液を得た。得られた塗布液を浸漬塗布法にて直径30mm、長さ340mm、肉厚1mmのアルミニウム基体上に塗布し、160℃、100分の乾燥硬化を行い厚さ18μmの下引き層を得た。
実施例4において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1を用いたところを、表2に示すヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−2に変更し、更に、表2に示す電荷輸送層の膜厚とした以外は、実施例4と同様に電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
実施例4において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1を用いたところを、表2に示すヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−2に変更し、電荷輸送層用結着樹脂として、前記構造式(A1)で示される繰り返し構造単位を有するビスフェノールZポリカーボネート樹脂(粘度平均分子量4万)の代わりに、下記構造式(B1)で示される繰り返し構造単位を有する、ビスフェノールCポリアリレート樹脂(粘度平均分子量4万)6重量部とをテトラヒドロフラン60重量部を加えて溶解した塗布液を電荷発生層上に形成し、130℃、40分の乾燥を行うことにより膜厚16μmの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製した。
実施例4において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1を用いたところを、表2に示すヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料−1,3,4のいずれかに変更し、更に、表2に示す電荷輸送層の膜厚とした以外は、実施例4と同様に電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
413…2次転写ロール、414…定着ロール、415a〜415d…クリーニングブレード、416…クリーニングブレード、500・・・被転写媒体
Claims (4)
- 少なくとも電子写真感光体と、電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、帯電した電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、トナー像を被転写体に転写する転写装置と、を備える電子写真式画像形成装置であって、
前記電子写真感光体が少なくとも、表面が導電性である基体と、該基体上に分光吸収スペクトルの600〜900nmの範囲において810〜839nmに吸収の最大ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を少なくとも含有する感光層と、を有し、
前記ヒドロキシガリウムフタロシアニンを含有する層の分光吸収スペクトルにおいて、600〜700nmの範囲における最大ピークの吸光度が、810〜839nmの範囲における最大ピークの吸光度よりも大きく、
前記感光層に、帯電時に3.5×105〜9.0×105V/cmの範囲の電界強度が印加されることを特徴とする電子写真式画像形成装置。 - 前記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料における0.3μm以上の粒径の粒子が、透過型電子顕微鏡観察画像上30μm2当たり1個以下であることを特徴とする請求項1に記載の電子写真式画像形成装置。
- 前記電子写真感光体上に形成されたトナー像を、少なくとも1度、中間転写体に転写した後に、画像出力媒体に転写する工程を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の電子写真式画像形成装置。
- 表面が導電性である基体と、該基体上に分光吸収スペクトルの600〜900nmの範囲において810〜839nmに吸収の最大ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を少なくとも含有する感光層とを有し、前記ヒドロキシガリウムフタロシアニンを含有する層の分光吸収スペクトルにおいて、600〜700nmの範囲における最大ピークの吸光度が、810〜839nmの範囲における最大ピークの吸光度よりも大きい電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電時に3.5×10 5 〜9.0×10 5 V/cmの範囲の電界強度が印加されるよう帯電させる帯電装置、帯電した前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置、前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置、及び前記電子写真感光体をクリーニングするクリーニング装置から選ばれる少なくとも1種と、を備えることを特徴とする、電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
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