JP4407822B2 - トリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法 - Google Patents
トリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4407822B2 JP4407822B2 JP2005031317A JP2005031317A JP4407822B2 JP 4407822 B2 JP4407822 B2 JP 4407822B2 JP 2005031317 A JP2005031317 A JP 2005031317A JP 2005031317 A JP2005031317 A JP 2005031317A JP 4407822 B2 JP4407822 B2 JP 4407822B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- secondary alkyl
- grignard reagent
- formula
- tri
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
R1MgX (1)
(式中、R1は炭素数3〜10の第2級アルキル基、Xはハロゲン原子である。)
で示されるグリニャール試薬とトリクロロシランとを反応させるに際し、反応系中に水酸基を有する化合物を添加することにより、反応性が著しく向上し、収率よく下記一般式(2)
HSiR1 3 (2)
(式中、R1は上記と同様である。)
で示されるトリ(第2級アルキル)シラン化合物を製造できることを知見し、本発明を完成するに至ったものである。
[1]下記一般式(1)
R1MgX (1)
(式中、R1は炭素数3〜10の第2級アルキル基、Xはハロゲン原子である。)
で示されるグリニャール試薬とトリクロロシランとを反応させてトリ(第2級アルキル)シラン化合物を製造するに際し、反応系中に下記一般式(3)
R 2 OH (3)
(式中、R 2 は炭素数1〜20の置換又は非置換の1価炭化水素基である。)
で示される水酸基を有する化合物を添加することを特徴とする下記一般式(2)
HSiR1 3 (2)
(式中、R1は上記と同様である。)
で示されるトリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法、
[2]式(1)のグリニャール試薬に水酸基を有する化合物を添加した後、これにトリクロロシランを混合することを特徴とする[1]記載のトリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法、
[3]式(1)のグリニャール試薬とトリクロロシランとを混合した後、これに水酸基を有する化合物を添加することを特徴とする[1]記載のトリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法、
[4]水酸基を有する化合物をあらかじめトリクロロシランに添加した後、これに式(1)のグリニャール試薬を混合することを特徴とする[1]記載のトリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法
を提供する。
R1MgX (1)
(式中、R1は炭素数3〜10の第2級アルキル基、Xはハロゲン原子である。)
で示されるものである。
R2OH (3)
で示される化合物が好ましい。R2は炭素数1〜20、特に炭素数1〜10の置換又は非置換の1価炭化水素基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基等の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、デセニル基等の直鎖状、分岐状、環状のアルケニル基、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基等のアルキニル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基等や、これらの基の水素原子の一部又は全部が塩素、フッ素、臭素等のハロゲン原子、水酸基、シアノ基、シリル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基等のオルガノオキシ基で置換された基等が挙げられる。また、上記置換基R2の水素原子の一部又は全部が水酸基で置換されたジオール、トリオール等であってもよい。
HSiR1 3 (2)
(式中R1は炭素数3〜10の第2級アルキル基である。)
で示されるトリ(第2級アルキル)シラン化合物を高収率で得ることができる。
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、金属マグネシウム15.3g(0.63モル)、テトラヒドロフラン200mlを仕込み、窒素ガス雰囲気下でイソプロピルクロライド51.9g(0.66モル)を内温40〜50℃で1時間かけて滴下し、更に60℃で1時間撹拌した。グリニャール試薬としてのイソプロピルマグネシウムクロライド液が得られた。
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、金属マグネシウム12.2g(0.50モル)、テトラヒドロフラン150mlを仕込み、窒素ガス雰囲気下でイソプロピルクロライド41.4g(0.53モル)を内温40〜50℃で1時間かけて滴下し、更に60℃で1時間撹拌した。グリニャール試薬としてのイソプロピルマグネシウムクロライド液が得られた。
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、金属マグネシウム11.5g(0.47モル)、テトラヒドロフラン200mlを仕込み、窒素ガス雰囲気下でイソプロピルクロライド38.9g(0.50モル)を内温40〜50℃で1時間かけて滴下し、更に60℃で1時間撹拌した。グリニャール試薬としてのイソプロピルマグネシウムクロライド液が得られた。
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、金属マグネシウム40.8g(1.68モル)、テトラヒドロフラン500mlを仕込み、窒素ガス雰囲気下でsec−ブチルクロライド163.3g(1.76モル)を内温40〜50℃で1時間かけて滴下し、更に60℃で2時間撹拌した。グリニャール試薬としてのsec−ブチルマグネシウムクロライド液が得られた。
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、金属マグネシウム16.0g(0.66モル)、テトラヒドロフラン200mlを仕込み、窒素ガス雰囲気下でsec−ブチルクロライド61.1g(0.66モル)を内温40〜50℃で1時間かけて滴下し、更に60℃で1時間撹拌した。グリニャール試薬としてのsec−ブチルマグネシウムクロライド液が得られた。
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、金属マグネシウム30.6g(1.26モル)、テトラヒドロフラン380mlを仕込み、窒素ガス雰囲気下でシクロヘキシルクロライド156.9g(1.32モル)を内温50〜60℃で1時間かけて滴下し、更に60℃で2時間撹拌した。グリニャール試薬としてのシクロヘキシルマグネシウムクロライド液が得られた。
Claims (4)
- 下記一般式(1)
R1MgX (1)
(式中、R1は炭素数3〜10の第2級アルキル基、Xはハロゲン原子である。)
で示されるグリニャール試薬とトリクロロシランとを反応させてトリ(第2級アルキル)シラン化合物を製造するに際し、反応系中に下記一般式(3)
R 2 OH (3)
(式中、R 2 は炭素数1〜20の置換又は非置換の1価炭化水素基である。)
で示される水酸基を有する化合物を添加することを特徴とする下記一般式(2)
HSiR1 3 (2)
(式中、R1は上記と同様である。)
で示されるトリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法。 - 式(1)のグリニャール試薬に水酸基を有する化合物を添加した後、これにトリクロロシランを混合することを特徴とする請求項1記載のトリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法。
- 式(1)のグリニャール試薬とトリクロロシランとを混合した後、これに水酸基を有する化合物を添加することを特徴とする請求項1記載のトリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法。
- 水酸基を有する化合物をあらかじめトリクロロシランに添加した後、これに式(1)のグリニャール試薬を混合することを特徴とする請求項1記載のトリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005031317A JP4407822B2 (ja) | 2005-02-08 | 2005-02-08 | トリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005031317A JP4407822B2 (ja) | 2005-02-08 | 2005-02-08 | トリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006219377A JP2006219377A (ja) | 2006-08-24 |
JP4407822B2 true JP4407822B2 (ja) | 2010-02-03 |
Family
ID=36981922
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005031317A Active JP4407822B2 (ja) | 2005-02-08 | 2005-02-08 | トリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4407822B2 (ja) |
-
2005
- 2005-02-08 JP JP2005031317A patent/JP4407822B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006219377A (ja) | 2006-08-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9181283B2 (en) | Methods of preparing low molecular weight carbosilanes and precursors thereof | |
JP5115729B2 (ja) | トリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
CN107868098B (zh) | 含不饱和键的硅烷化合物的精制方法和制造方法 | |
KR102044434B1 (ko) | 불포화 결합 함유 실란 화합물의 정제 방법 및 제조 방법 | |
JP4407822B2 (ja) | トリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法 | |
JP5294537B2 (ja) | トリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法 | |
US6156918A (en) | Process for the preparation of silanes, with a tertiary hydrocarbon group in the a-position relative to the silicon atom | |
JPH0631272B2 (ja) | シリルケテンアセタールの製法 | |
EP1437357B1 (en) | Process for production of alkoxysilane-based compound | |
US9278864B2 (en) | Method for preparing monosilane using trialkoxysilane | |
JP4884982B2 (ja) | ビニルシランの製造方法 | |
JP6665437B2 (ja) | 第3級アルキルシラン及び第3級アルキルアルコキシシランの製造方法 | |
JP2019182793A (ja) | 第三級炭化水素基を有するハロシラン化合物の製造方法 | |
JP7126389B2 (ja) | 第三級アルキルシランの製造方法及び第三級アルキルアルコキシシランの製造方法 | |
JP4081572B2 (ja) | 水酸基を有する化合物のシリル化方法 | |
JP2864985B2 (ja) | トリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法 | |
JP2538447B2 (ja) | N−tert−ブチルジアルキルシリルマレイミドの製造方法 | |
US9139603B2 (en) | [3-(2-norbornyl)-2-norbornyl]silane compound and making method | |
JP2989109B2 (ja) | ジアルキルジアルコキシシラン化合物の製造方法 | |
JPS6145634B2 (ja) | ||
TW201927795A (zh) | 烴氧基二矽烷 | |
US6337416B2 (en) | Preparation of (polycyclic secondary-amino)dialkoxysilane | |
CN117186143A (zh) | 一种含吸电子官能团的硅氧烷的制备方法 | |
JP3091992B2 (ja) | (第三級アルキル)アルキルジアルコキシシラン化合物の製造方法 | |
JP2009108045A (ja) | β位がアルキル化されたピロール類の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090805 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090917 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091021 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091103 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4407822 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121120 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121120 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151120 Year of fee payment: 6 |