JP4407164B2 - Chamber apparatus and work processing facility equipped with the same - Google Patents

Chamber apparatus and work processing facility equipped with the same Download PDF

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【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ワーク処理をドライエアーの雰囲気中で行うことを要するワーク処理装置を、チャンバルーム内に収容するチャンバ装置およびこれを備えたワーク処理設備に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ワークである有機ＥＬ装置の最終製造工程において、これを不活性ガスの雰囲気中で封止するチャンバ装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。このチャンバ装置では、真空吸引（真空引き）と不活性ガスの注入とを繰り返すことで、チャンバルーム内を不活性ガスの雰囲気にパージするようにしている。また、不活性ガスをパージした後は、乾燥装置を通過させるようにして不活性ガスを循環させて、所定の水分濃度を維持するようにしている。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１０−２４１８５８号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このような、従来のチャンバ装置では、チャンバルーム内の雰囲気の水分濃度を維持するために、乾燥装置を設ける必要があり、装置構造および制御運転が複雑になる問題がある。また、ワーク処理に溶剤等を用いる場合には、雰囲気中の溶剤濃度が上がり装置自体に悪影響を及ぼす問題も想定される。
【０００５】
本発明は、単純な構造で、チャンバルーム内を安定且つ新鮮なドライエアーの雰囲気に維持することができるチャンバ装置およびこれを備えたワーク処理設備を提供することを課題としている。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明のチャンバ装置は、ワーク処理をドライエアーの雰囲気中で行うことを要するワーク処理装置を収容するチャンバ装置であって、ワーク処理装置を収容するチャンバルームと、ドライエアー供給設備に連なると共にチャンバルーム内にドライエアーを給気する給気流路と、給気流路に介設した給気量調整手段と、チャンバルーム内のドライエアーを排気する排気流路と、排気流路に介設した排気量調整手段と、チャンバルーム内の水分濃度を検出する水分濃度検出手段と、水分濃度検出手段の検出結果に基づいて、チャンバルーム内の水分濃度が一定になるように給気量調整手段および排気量調整手段を制御する給排気制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、チャンバルームに対し、ドライエアーはドライエアー供給設備から給気流路を介して給気され、またチャンバルーム内の雰囲気は、排気流路を介してルーム外に排気される。その際、水分濃度検出手段によりチャンバルーム内の水分濃度を検出し、この検出結果に基づいて、チャンバルーム内の水分濃度が一定になるように給気量調整手段および排気量調整手段を制御するようにしているため、チャンバルーム内を常に所定の水分濃度となる新鮮なドライエアーで満たすことができる。また、給気と共に排気を行うことで、例えばワーク処理に伴う溶剤等（気化したもの）による雰囲気の汚染を防止することができる。なお、水分濃度検出手段として、いわゆる露点センサーを用いることが好ましい。また、給気流路および排気流路は、給排気量が多い場合にはダクトを、少ない場合にはパイプを用いることが好ましい。また、給気量調整手段および排気量調整手段は、給排気流路がダクトの場合にはダンパーを、パイプの場合にはバルブを用いることが好ましい。
【００１８】
この場合、給気流路には、ドライエアーをチャンバルーム内に給気する給気ファンが介設されていることが、好ましい。同様に、排気流路には、チャンバルーム内のドライエアーを排気する排気ファンが介設されていることが、好ましい。
【００１９】
これらの構成によれば、チャンバルーム内への給排気を強制的且つ安定的に行うことができる。また、給気ファンおよび排気ファンにより、給気流路および排気流路等による圧力損失を補うことができる。
【００２０】
この場合、チャンバルーム内の圧力を検出する圧力検出手段と、圧力検出手段の検出結果に基づいて、チャンバルーム内の圧力が正圧を維持するように排気ファンを制御するファン制御手段と、を更に備えることが好ましい。
【００２１】
この構成によれば、チャンバルーム内の雰囲気を構成するドライエアーが、シール（エアータイト）部分から外部に漏れることがあっても、外部のエアーがチャンバルーム内に侵入するのを確実に防止することができる。
【００２２】
これらの場合、給気流路に介設した圧力逃がし弁と、チャンバルーム内の圧力を検出する圧力検出手段と、圧力検出手段の検出結果に基づいて、チャンバルーム内の圧力が一定値以上になったときに圧力逃がし弁を開弁する逃がし弁制御手段と、を更に備えることが好ましい。
【００２３】
この構成によれば、ドライエアー供給設備の異常運転や、給気量調整手段および排気量調整手段の故障および誤作動等により、チャンバルーム内の雰囲気圧力が一定値以上になっても、これを逃がすことができる。これにより、チャンバルームの変形や破損を有効に防止することができる。
【００２４】
これらの場合、給気流路と排気流路とを連通すると共に、排気の一部を給気側に戻すリターン流路を、更に備えることが、好ましい。
【００２５】
この構成によれば、排気の一部を、リターン流路を介して給気側に戻すことができるため、ドライエアーの無駄な消費を防止することができる。もっとも、上記した溶剤等による雰囲気の汚染を考慮した上で、排気の戻し量を決定することが好ましい。
【００２６】
これらの場合、給気流路に介設されドライエアーの温度を調整する温度調整装置と、チャンバルーム内の温度を検出する温度検出手段と、温度検出手段の検出結果に基づいて、チャンバルーム内の温度が一定になるように温度調整装置を制御する温度制御手段と、を更に備えることが好ましい。
【００２７】
この構成によれば、ドライエアーの給気を介して、チャンバルーム内の温度を一定に維持することができる。このため、ワーク処理を常に同一の温度条件下で行うことができ、ワーク処理を安定に行うことができる。なお、ワーク処理を考慮したチャンバルーム内の温度は、２０℃から２３℃が好ましい。
【００２８】
この場合、温度調整装置は、上流側に位置するクーラーと下流側に位置すると共に温度制御手段により制御されるヒーターとを有し、ヒーターは、クーラーによりいったん冷却されたドライエアーを昇温することが、好ましい。
【００２９】
この構成によれば、ドライエアーを、クーラーによりいったん冷却した後、ヒーターにより昇温するようにしているため、ヒーターを安定に制御運転（断続運転とならない）することができ、ドライエアーの温度制御を精度良く行うことができる。
【００３０】
これらの場合、給気流路に連なると共に前記チャンバルームに開口した給気口と、排気流路に連なると共にチャンバルームに開口した排気口と、を更に備え、給気口はチャンバルームの上部に開口し、排気口はチャンバルームの下部に開口していることが、好ましい。
【００３１】
この構成によれば、ドライエアーの給気および排気により生ずる気流を、チャンバルームの上部から下部に流すことができる。これにより、チャンバルーム内に、いわゆるエアー溜りが生じ難く、ワーク処理部分に常に新鮮なドライエアーを円滑且つ連続的に供給することができる。
【００３２】
この場合、チャンバルームの天井部には、給気口に連なると共に下面を開放したフィルタチャンバと、フィルタチャンバの下面開放部に装着したフィルタと、が設けられていることが、好ましい。
【００３３】
この構成によれば、大きなフィルタ面積のフィルタを設けることができ、フィルタによる圧力損失を極力少なくすることができる。また、給気口から排気口に向かって流れるドライエアーの気流を、ダウンフローで且つ均一な流速で流すことができる。なお、フィルタとして、ＨＥＰＡフィルタを用いることが好ましい。
【００３４】
この場合、チャンバルームを貫通して、ワーク処理装置で発生する塵埃を排気する塵埃排気流路を、更に備え、塵埃排気流路の下流端は、給気流路に接続されていることが、好ましい。
【００３５】
この構成によれば、塵埃によるチャンバルーム内の汚染を防止することができると共に、上記のフィルタを活用して、集塵した塵埃を取り除くことができ、外部に塵埃処理装置を設ける必要がなくなる。
【００３６】
この場合、塵埃排気流路には、塵埃排気ファンが介設されていることが、好ましい。
【００３７】
この構成によれば、塵埃を含むエアーを、給気流路に適切に送り込むことができる。
【００３８】
本発明のワーク処理設備は、上記したチャンバ装置と、チャンバ装置に収容したワーク処理装置と、を備えたことを特徴とする。
そして、ワーク処理装置が、有機ＥＬ装置の製造装置であることが、好ましい。
【００３９】
この構成によれば、新鮮なドライエアーの雰囲気中でワーク処理を行うことができ、ワーク処理（有機ＥＬ装置の製造）における信頼性および品質を高レベルに維持することができる。
【００４０】
この場合、有機ＥＬ装置の製造装置が、ワークである基板に対し、発光機能材料を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に走査し、発光機能材料を選択的に吐出して基板上の多数の画素領域に有機ＥＬ機能層を形成する液滴吐出装置を有していることが、好ましい。
【００４１】
この構成によれば、有機ＥＬにおける発光機能材料は、大気（水分）との接触により変質や損傷が生じやすい。この構成によれば、発光機能材料を吐出して有機ＥＬ機能層を形成する工程を、水分濃度を管理された新鮮なドライエアーの雰囲気中で行うことができるため、発光機能材料の変質や損傷を有効に防止することができる。また、発光機能材料から気化した溶剤等を速やかに排気することができる。
【００４４】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照して、本発明の一実施形態に係るチャンバ装置を適用したワーク処理設備について説明する。本実施形態のワーク処理設備は、例えば有機ＥＬ装置等の、いわゆるフラットパネルディスプレイの製造装置に適用され、ドライエアーの雰囲気中において、機能液滴吐出ヘッドから発光材料等の機能液を吐出して（インクジェット方式）、有機ＥＬ装置の発光機能を為す各画素のＥＬ発光層および正孔注入層を形成するものである。
【００４５】
そこで、本実施形態では、有機ＥＬ装置の製造装置に適用したワーク処理設備について説明すると共に、これにより製造される有機ＥＬ装置の構造および製造方法（製造プロセス）について説明する。
【００４６】
図１ないし図３に示すように、実施形態のワーク処理設備１は、ワーク処理装置である液滴吐出装置２と液滴吐出装置２を収容するチャンバ装置３とから成り、液滴吐出装置２に搭載した機能液滴吐出ヘッド４により、基板（ワーク）Ｗ上に、発光材料（機能液）を吐出して有機ＥＬ装置のＥＬ発光層および正孔注入層を形成する一方、この機能液滴吐出ヘッド４の吐出動作を含む一連の製造工程を、チャンバ装置３で構成するドライエアーの雰囲気中で行うようにしている。
【００４７】
液滴吐出装置２は、機能液滴吐出ヘッド４を搭載した描画装置６と、機能液滴吐出ヘッド４の保守等に用いる各種の装置から成るメンテナンス装置７とを備えている。一方、チャンバ装置３は、チャンバルーム８に電気・機械室９を併設して、構成されている。チャンバルーム８には、工場設備で製造したドライエアーが導入され、これに収容した上記の描画装置６およびメンテナンス装置７は、全体としてドライエアーの雰囲気に曝され、ドライエアーの雰囲気中で稼動する。
【００４８】
描画装置６は、床上に設置した架台１１と、架台１１上に設置した石定盤１２と、石定盤１２上に設置したＸ軸テーブル１３およびこれに直交するＹ軸テーブル１４と、Ｙ軸テーブル１４に吊設するように設けたメインキャリッジ１５と、メインキャリッジ１５に搭載したヘッドユニット１６とを備えている。描画装置６には、この他にも、ヘッドユニット（機能液滴吐出ヘッド４）１６の位置認識を行うヘッド認識カメラ１８や、ワークＷの位置認識を行うためのワーク認識カメラ１９、ワーク（基板）Ｗに吐出した機能液滴の描画結果を観察するための描画観察カメラ２０、後述する真空ポンプ２４を駆動させるための吸引用スイッチユニット２１等の各種の装置が備えられている。
【００４９】
また、描画装置６は、チャンバ装置３の外部に別置きとして、描画装置６に機能液を供給する機能液供給装置２３、および後述する吸着テーブル３１に連なるワークＷ吸着用の真空ポンプ２４を備えている。そして、液滴吐出装置２には、制御装置が接続されており（図示省略）、制御装置により、描画装置６およびメンテナンス装置７の統括制御が行われている。
【００５０】
機能液供給装置２３は、後述する３個の機能液滴吐出ヘッド４に、それぞれＲ・Ｇ・Ｂ３色の機能液を供給するものであり、ケース２７内に、Ｒ・Ｇ・Ｂ３色の機能液タンクを有している（図示省略）。また、ケース２７の下側には、これらを支持する装置架台２８が設けられており、装置架台２８には、圧縮エアー供給装置２９が組み込まれている。なお、詳細は後述するが、３個の機能液タンクから延びる機能液チューブや、圧縮エアー供給装置２９から延びるエアーチューブは、一箇所に纏められ、チャンバルーム８の後部から描画装置６に取り込まれる（図示省略）。
【００５１】
Ｘ軸テーブル１３は、石定盤１２上に直接設置されており、ワークＷをセットするための吸着テーブル３１と、吸着テーブル３１を支持するθテーブル３２と、θテーブル３２をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸エアースライダ（図示省略）と、θテーブル３２および吸着テーブル３１を介して、ワークＷをＸ軸方向に移動させるＸ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｘ軸エアースライダに併設したＸ軸リニアスケール（図示省略）と、を備えている。Ｘ軸テーブル１３では、Ｘ軸リニアモータの駆動により、θテーブル３２とワークＷを吸着セットした吸着テーブル３１とが、Ｘ軸エアースライダを案内にしてＸ軸方向に移動する。
【００５２】
なお、Ｘ軸リニアモータ、Ｘ軸エアースライダ、およびＸ軸リニアスケールは、Ｘ軸に対して平行に配設されており、Ｘ軸ボックス３３内に収容されている。また、θテーブル３２には、上記したヘッド認識カメラ１８が固定されており、吸着テーブル３１に対して、ヘッドユニット１６の位置を補正可能となっている。
【００５３】
Ｙ軸テーブル１４は、石定盤１２に立設されたスタンド付のＹ軸フレーム３５に載置されており、Ｘ軸テーブル１３を跨ぎ、Ｘ軸テーブル１３に直交する方向に延在している。Ｙ軸テーブル１４は、ヘッドユニット１６を搭載したメインキャリッジ１５と、Ｙ軸フレーム３５にスライド自在に支持され、メインキャリッジ１５を支持するＹ軸エアースライダ（図示省略）と、Ｙ軸エアースライダを介して、ヘッドユニット１６をＹ軸方向に移動させるＹ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｙ軸エアースライダに併設したＹ軸リニアスケール（図示省略）と、を有している。
【００５４】
また、Ｙ軸フレーム３５には、Ｙ軸エアースライダの他に、エアースライダ（図示省略）がスライド自在に支持されており、エアースライダには、上記したワーク認識カメラ１９が固定されている。そして、Ｙ軸リニアモータの駆動により、ワーク認識カメラ１９もＹ軸方向へ移動するようになっている。なお、描画観察カメラ２０は、吐出処理されたワークＷに、機能液が適切に塗布（着弾）されているか否かの観察にも用いられる。
【００５５】
そして、メインキャリッジ１５に搭載したヘッドユニット１６には、サブキャリッジ（図示省略）を介して、複数（３個）の機能液滴吐出ヘッド４が搭載されている。特に詳細は図示しないが、サブキャリッジには、Ｒ・Ｇ・Ｂ３色の機能液に対応して３個の機能液滴吐出ヘッド４が搭載されており、これら機能液滴吐出ヘッド４は、主走査方向に対し所定の角度傾けて相互に平行に配設されている。
【００５６】
本実施形態の描画装置６では、機能液滴吐出ヘッド４の駆動（機能液滴の選択的吐出）に同期してワークＷが移動する構成であり、機能液滴吐出ヘッド４のいわゆる主走査は、Ｘ軸テーブル１３のＸ軸方向への往復動作により行われる。また、これに対応して、いわゆる副走査は、Ｙ軸テーブル１４により機能液滴吐出ヘッド４のＹ軸方向への往動動作により行われる。
【００５７】
一方、メンテナンス装置７は、機能液滴吐出ヘッド４から予備吐出された機能液を受けるためのフラッシングユニット４１と、機能液滴吐出ヘッド４のポンプ吸引を行う吸引ユニット４２と、機能液滴吐出ヘッド４のノズル面に付着する汚れを払拭するためのワイピングユニット４３と、機能液滴吐出ヘッド４から吐出される機能液の吐出状態を検査するための吐出検査ユニット４４と、機能液滴吐出ヘッド４から吐出された機能液の重量を測定する重量測定ユニット４５と、を備えており、これら各ユニット４１，４２，４３，４４，４５は、吸着テーブル３１の周囲に集約的に配設されている。なお、吸引ユニット４２および吐出検査ユニット４４は、上下に重なるように配設されている。
【００５８】
この場合、フラッシングユニット４１、吸引ユニット４２、ワイピングユニット４３および吐出検査ユニット４４は、Ｘ軸テーブル１３の左側に配設され、重量測定ユニット４５はＸ軸テーブル１３の図示の右側に配設されている。そして、これら各ユニット４１，４２，４３，４４，４５は、Ｙ軸方向に移動するヘッドユニット１６の移動軌跡上に配設されており、Ｙ軸テーブル１４によるヘッドユニット１６の移動を利用して、ヘッドユニット１６に臨み、保守に供するようになっている。なお、ワークＷに対して機能液を吐出させる直前に行う吐出前フラッシング用に、吸着テーブル３１の前後には、吐出前フラッシングユニット４６，４６がそれぞれ設けられている。
【００５９】
このように構成された液滴吐出装置２では、Ｙ軸テーブル１４の前方直近がメンテナンスのためのメンテナンスエリア５１となっており、またＸ軸テーブル１３とメンテナンスエリア５１とが重なる部分が描画のための描画エリア５２となっている。さらに、Ｘ軸テーブル１３の前部位置が、ワークＷを吸着テーブル３１にセットするためのワークセットエリア５３となっている。詳細は後述するが、メンテナンスエリア５１の左側から、チャンバルーム８へのヘッドユニット１６の運び込み（交換）や装置の保守作業が行われ、またワークセットエリア５３の右側から、チャンバルーム８へのワークＷの搬入・搬出（交換）が行われる。
【００６０】
次に、図４の系統図、および図５ないし図１０の構造図を参照して、チャンバ装置３について詳細に説明する。なお、チャンバ装置３の説明では、図５における紙面の下側を「前」、上側「後」、左側を「左」、右側を「右」として説明を進める。
【００６１】
チャンバ装置３は、上記の液滴吐出装置（描画装置６）２を収容するチャンバルーム８と、チャンバルーム８の右後部に配置した電気・機械室９とから成り、電気・機械室９は、チャンバルーム８側に配設した機械室６１と、機械室６１の後側に併設した電気室６２とで構成されている。また、電気室６２には、チャンバ装置３の機械装置を制御する制御盤６３が組み込まれている。
【００６２】
ドライエアーは、図外のドライエアー供給設備（工場設備）から機械室６１に供給され、ここで温度調和処理され、給気ダクト（角ダクト）６５を介してチャンバルーム８に導入される。また、チャンバルーム８内の雰囲気は、排気ダクト（角ダクト）６６を介して機械室６１に導入され、機械室６１から排気処理設備（工場設備）に送られる。実際の運転では、チャンバルーム８に対し、ドライエアーの給気と排気とが連続して行われ、チャンバルーム８内を低速で流れるドライエアーにより、チャンバルーム８内の雰囲気が構成されるようになっている。
【００６３】
チャンバルーム８は、正面壁７１、背面壁７２、左側壁７３、右側壁７４、床壁７５および天壁７６を、エアータイト材で相互にシールして組み上げたものであり、主要部分がステンレス板で構成されている。正面壁７１には、その上部に、ポリカーボネート等の透光性の樹脂で構成した覗き窓７８が設けられ、中間部に、２組のグローブホルダ７９，７９が横並びに設けられている。左側壁７３には、メンテナンス用の大型の開閉扉８０が設けられ、右側壁７４には、ワーク受入れ部８１を介して、ワークＷの搬入・搬出に用いるワークボックス８２が着脱自在に取り付けられている。
【００６４】
背面壁７２の右部には、上部に位置して上記の給気ダクト６５が接続される給気口８４が設けられると共に、下部に位置して上記の排気ダクト６６が接続される排気口８５が設けられている。また、背面壁７２の右部には、背面壁７２を内外に貫通する各種のチューブやケーブルをシールする配管配線取出し部８６が設けられている。そして、上記の架台１１上に設けたベースプレートにより、床壁７５が構成されている。
【００６５】
一方、チャンバルーム８の内部に収容された液滴吐出装置（描画装置６）２は、前後方向をＸ軸方向とし、左右方向をＹ軸方向とした姿勢で収容されている（図１参照）。すなわち、上記の開閉扉８０は、メンテナンス装置（メンテナンスエリア５１）７および描画装置６（描画エリア５２）に側方（左方）から臨むように設けられている。また、この開閉扉８０を介してヘッドユニット１６の運び込み（交換）等が行えるようになっている。同様に、ワークセットエリア５３に対し、側方からワーク受入れ部８１が臨むと共に、正面からグローブホルダ７９が臨んでいる。ワークＷの交換作業では、ワーク受入れ部８１に、処理前のワークＷを収容したワークボックス８２を装着した後、作業者がグローブホルダ７９により、手作業でワークＷの交換セットを行う（詳細は後述する）。
【００６６】
なお、特に図示しないが、開閉扉８０をはじめとして、チャンバルーム８の各壁７１，７２，７３，７４，７５，７６に取り付けられている各種部品は、いずれもエアータイト材でシールされている。また、開閉扉８０は、運転中に誤って開放されないように、電磁ロック装置等によりインターロックされている。
【００６７】
チャンバルーム８の天井部分には、給気口８５に連なるフィルタチャンバ８７が平面方向の全域に亘って形成されている。フィルタチャンバ８７は、天井部分をフィルタ装着枠８８で前後に水平に仕切って構成され、このフィルタ装着枠８８に２枚（複数）のフィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）８９，８９が装着されている（図５ないし図７参照）。
【００６８】
給気口８５から流入したドライエアーはフィルタチャンバ８７に流入し、２枚のフィルタ８９，８９を通過して液滴吐出装置２の上部に流入する。この場合、給気口８４から流入したドライエアーは、フィルタチャンバ８７内で十分に減速した後、フィルタ８９を通過し、上部から下部に向かう均一な気流となって、液滴吐出装置２を通過して排気口８５に至るようになっている。そして、この気流の主流路（中央部）上には、描画装置６の描画エリア５２が臨むようになっている。
【００６９】
すなわち、チャンバルーム８内では、ドライエアーの主気流が描画エリア５２を包み込むように流れ、且つ気流全体としはフィルタ８９からダウンフローした後、排気口８５に向かって流れる。これにより、描画エリア５２は、常に新鮮なドライエアーの雰囲気に曝されることになる。なお、この場合の気流の流速は、機能液滴吐出ヘッド４から吐出した機能液滴に飛行曲がりが生じない程度に調整されていることは、言うまでもない。
【００７０】
機械室６１の内部は、上隔壁９１および下隔壁９２により、上室９３、中間室９４および下室９５に仕切られており、上室９３が給気ダクト６５に連通している。また、下室９５の右上部には、外側からドライエアー供給設備に連なる給気用短管９８が接続されている。すなわち、給気用短管９８、下室９５、中間室９４、上室９３および給気ダクト６５により、給気流路９７が構成されている。給気用短管９８には、流量計９９およびエアー開閉バルブ（給気量調整手段：電磁弁）１００が設けられ、このエアー開閉バルブ１００により、チャンバルーム８内への給気量が調整されるようになっている。
【００７１】
一方、下室９５には、排気ダクト６６に連なる内部ダクト（図示省略）が収容されており、内部ダクトの下流端は、下室９５の右下部から外部に突出した排気用短管１０３に接続されている。すなわち、排気ダクト６６、内部ダクト、および排気用短管１０３により、排気流路１０２が構成されている。排気用短管１０３には、エアー調整ダンパー（排気量調整手段：モータダンパー）１０４が設けられており、このエアー調整ダンパー１０４により、チャンバルーム８の排気量が調整されるようになっている（図４参照）。また、内部ダクトには、排気ファン１０５が介設されており（図４参照）、この排気ファン１０５により、汚れた排気が強制吸引され且つ排気処理設備に強制送気される。なお、排気ファン１０５は、エアー調整ダンパー１０４と共にチャンバルーム８内の圧力を調整すべくインバータ制御される（詳細は後述する）。
【００７２】
また、内部ダクトには、手動ダンパー１０６が介設されると共に、手動ダンパー１０６の下流側が下室９５内に開放されている（図４参照）。すなわち、内部ダクトに設けた開放口と下室９５とにより、給気流路９７に連なるリターン流路１０７が構成されている。手動ダンパー１０６は、排気の一部をリターンエアーとして給気側に戻す際の、リターンエアーの量を調整する。
【００７３】
一方、上記のＸ軸ボックス３３やＹ軸フレーム３５の部分には、装置の駆動により発生する塵埃を排気するための２本の塵埃排気パイプ１０９，１０９が接続されており（図４参照）、この２本の塵埃排気パイプ１０９，１０９は、上記の配管配線取出し部８６から装置外部に取り出され、その下流端が給気流路（下室９５）９７に接続されている。そして、塵埃排気パイプ１０９には、塵埃排気を給気流路に強制的に送り込む塵埃ファン１１０が介設されている（図４参照）。なお、塵埃排気は、給気流路９７を介してフィルタ８９を通過することで、塵埃が取り除かれることになる。
【００７４】
下隔壁９２の開口部分には、縦置きのクーラー（チーリングユニット）１１２およびヒーター（電気ヒーター）１１３が隣接して設けられており、温度調節装置を構成している。下室９５のリターンエアーを含むドライエアーは、クーラー１１２を通過していったん冷却され、ヒーター１１３で昇温されてから中間室９４に送り込まれる。このように、ドライエアーをいったん冷却することでヒーター１１３が連続運転し、ヒーター１１３の出口温度が精度良く制御される。これにより、チャンバルーム８内のドライエアーの雰囲気が、所定の温度、例えば実施形態のものでは２３℃±０．１℃に維持されるようになっている。なお、図８中の符号１１４は、クーラー１１２のコンプレッサであり、符号１１５，１１６，１１７は、それぞれクーラー１１２の冷媒往管、冷媒返管（屋外機に接続）およびドレン管である。
【００７５】
上隔壁９１の開口部分には、給気ファン（クロスフローファン）１１８が設けられており、ヒーター１１３により温度調整された中間室９４のドライエアーは、この給気ファン１１８により、上室９３および給気ダクト６５を通ってチャンバルーム８内に強制的に送気される。また、上室９３から給気口８４に至る給気流路９７には、第１逃がし弁（電磁弁）１２１および第２逃がし弁（電磁弁）１２２が設けられており、チャンバルーム８内が所定の圧力以上になったときに、これら第１逃がし弁１２１および第２逃がし弁１２２が適宜開放して、給気を外部に逃がす（大気開放）ようにしている。なお、図１０中の符号１２３は、メクラ蓋で閉塞した試験運転用の外気導入口である。この外気導入口１２３は、プレフィルタ１２４を介して下室９５に接続されている（図４参照）。
【００７６】
次に、チャンバ装置３の運転方法について簡単に説明する。チャンバ装置３の運転方法では、給気ファン１１８および排気ファン１０５を同時に駆動し、ドライエアーを、給気流路９７を介してチャンバルーム８に連続的に送り込むと共に、チャンバルーム８内の雰囲気（ドライエアー）を、排気流路１０２を介して排気する。また、ドライエアーの無駄な消費を抑えるべく、排気の一部は、リターン流路１０７を介して給気側に戻される。
【００７７】
チャンバルーム８内には、露点センサー１２６が設けられており、露点センサー（水分濃度検出手段）は視認用の水分計１２７を介してコントローラ（制御手段）１２５に接続されている。コントローラ１２７は、チャンバルーム８内の水分濃度が所定の値（実施形態では、−６５℃ＤＰ）になるように、給気側のエアー開閉バルブ１００および排気側のエアー調整ダンパー１０４を制御する。
【００７８】
また、チャンバルーム８内には、温度センサー（温度検出手段）１２９が設けられており、温度センサー１２９は、温度調節計（リレー）１３０を介してヒーター１１３に接続されている。この場合、ヒーター１１３およびクーラー１１２は常時定格運転となっており、ヒーター１１３により、チャンバルーム８内が所定の温度（実施形態では、２３℃±０．１℃）になるように制御される。
【００７９】
さらに、チャンバルーム８内には、圧力センサー（圧力検出手段）１３２が設けられており、圧力センサー１３２は視認用の圧力計１３３を介してコントローラ１２５に接続されている。コントローラ１２５は、チャンバルーム８内の圧力が正圧を維持するように、排気側のエアー調整ダンパー１０４を制御すると共に、インバータ１３４を介して排気ファン１０５を制御する。これにより、チャンバルーム８からドライエアーが漏れることはあっても、外気の侵入は防止される。また、圧力センサー１３２が所定値以上の圧力を検出すると、コントローラ１２５は、フェールセーフを考慮した上記の第１逃がし弁１２１および第２逃がし弁１２２を開弁する。
【００８０】
次に、図１１ないし図１４を参照して、ワークボックス８２廻りの構造について説明する。上述したように、ワークセットエリア５３に面してチャンバルーム８の右側壁７４には、ワーク受入れ部８１が設けられ、このワーク受入れ部８１には、外側からワークＷを収容したワークボックス８２が着脱自在に取り付けられている（図５および図６参照）。また、本実施形態では、チャンバルーム８に装着したワークボックス８２および後述する中継ボックス１５４に対し、チャンバルーム８と同一の雰囲気となるようにドライエアーをパージするボックスパージ手段１５０が設けられている（図４参照）。
【００８１】
図１１および図１２に示すように、ワーク受入れ部８１は、右側壁７４の開口部７４ａを縁取るようにチャンバルーム８の内側に設けた内枠（ルーム側開口部）１５１と、チャンバルーム８の外側に設けた外枠（ボックス側開口部）１５２とを有している。また、内枠１５１には、開口部７４ａを気密に封止する内開きの開閉扉１５３が設けられている。内枠１５１は、断面略「Ω」字状のステンレスのプレス成形品である枠材を、四周枠組みして構成されている。同様に、外枠１５２は、断面クランク状のステンレスのプレス成形品である枠材を、四周枠組みして構成されている。外枠１５２は、外側に突出しており、この外枠１５２と内枠１５１との間には、チャンバルーム８とワークボックス８２とを繋ぐ中継ボックス１５４が構成されている。
【００８２】
図１３に示すように、開閉扉１５３は、上部に設けたヒンジ１６１を中心に上方に開放する。開閉扉１５３の正面上部には、横並びに３つの板ばね１６２，１６２，１６２が取り付けられており、この３つの板ばね１６２により開閉扉１５３は上方（開放方向）に回動付勢されている。開閉扉１５３の正面中央には、開閉レバー１６３が設けられ、また下部には、横並びに３つの係止爪１６４，１６４，１６４が設けられている。開閉レバー１６３は、リンク１６５を介して３つの係止爪１６４，１６４，１６４に連結されており、開閉レバー１６３の回動操作により、３つの係止爪１６４が、内枠１５１に設けた３つの係止受け１６６に同時に係脱して、開閉扉１５３がロック・アンロックされる。
【００８３】
また、開閉扉１５３には、ワークボックス８２の装着時のみその開閉が可能となるようにインターロック機構１６８が設けられている。インクーロック機構１６８は、上下動自在に構成され上動して開閉扉１５３の中央をロックするロック爪１６８と、ロック爪１６８を上下動させアクチュエータ（シリンダ）１６９とで構成されている。一方、図示しないが、ワークボックス８２の着脱部位（中継ボックス１５４内）には、ワークボックス８２の着脱を検出する着脱検出センサーが設けられており、この着脱検出センサーが、ワークボックス８２の「離脱」を検出するとロック爪１６８が上動して開閉扉１５３をロックし、「装着」を検出するロック爪１６８が下動して開閉扉１５３をアンロックする。
【００８４】
図１１および図１２に示すように、ワークボックス８２は、チャンバルーム８側の端部を開放部した方形のボックス本体１７１と、ボックス本体１７１の開放部を開閉する蓋体１７２と、ボックス本体１７１に収容したスライドテーブル１７３とを有しており、主要部がステンレス板で形成されている。ワークボックス８２は、ワークＷをスライドテーブル１７３の上面に水平に保持し、且つ蓋体１７２を閉塞した状態でワーク受入れ部８１に装着される。
【００８５】
ボックス本体１７１の上面には、透窓１７５が設けられており、外部からワークＷを視認できるようになっている。また、ボックス本体１７１の開放部外周面には、複数のパッチン錠１７６の錠本体１７６ａが設けられ、これに対応して、外枠１５２には複数の錠受け１７６ｂが設けられている。すなわち、錠本体１７６ａと錠受け１７６ｂから成る複数のパッチン錠１７６により、ワークボックス８２がワーク受入れ部８１に着脱自在に装着される。また、図示では省略したが、ワーク受入れ部８１の外枠１５２とワークボックス８２の開放部との間には、エアータイト材が介設されており、パッチン錠１７６を施錠した状態で、中継ボックス（外枠１５２）１５４とワークボックス８２とは気密に接合される。
【００８６】
さらに、ボックス本体１７１には、一方の側面（図示前側）にドライエアーを給気するためのワーク部給気ポート１７８が取り付けられ、他方の側面（図示後側）に排気のための複数（６個）のワーク部排気ポート１７９が取り付けられている。同様に、中継ボックス１５４を構成する外枠１５２には、一方の側面（図示前側）に中継部給気ポート１８１が取り付けられ、他方の側面（図示後側）に複数（２個）の中継部排気ポート１８２が取り付けられている。詳細は後述するが、ワークボックス８２および中継ボックス１５４には、高圧のドライエアーが給気されるため、これに見合うように、排気側のワーク部排気ポート１７９および中継部排気ポート１８２の総断面積を十分に確保するようにしている。
【００８７】
図１４に示すように、蓋体１７２は、下部に設けたヒンジ１８５を中心に下方に開放され、また上部に設けた一対の止め金１８６，１８６により閉塞ロックされる。すなわち、本実施形態では、上記の開閉扉１５３を上側に開放すると共にこの蓋体１７２を下側に開放することで、チャンバルーム８とワークボックス８２とが連通し、この状態でワークボックス８２からワークＷを取り出すようになっている。なお、蓋体１７２とボックス本体１７１の開放部との間にも、エアータイト材が介設されていることは、いうまでもない。
【００８８】
図１１および図１２に示すように、スライドテーブル１７３は、ワークＷを保持する平板状のテーブル本体１９１と、テーブル本体１９１をその両側でスライド自在に支持する入れ子式の一対のスライダ１９２，１９２と、各スライダ１９２を支持する一対の脚片１９３，１９３とで構成されている。蓋体１７２を開放した状態で、テーブル本体１９１をチャンバルーム８内に引き出すと、一対のスライダ１９２，１９２が延伸し、ワークＷが吸着テーブル３１上に、すなわちワークセットエリア５３に臨む。また、逆の手順で、テーブル本体１９１をワークボックス８２に向かって押し込むことにより、ワークＷがワークボックス８２内に収容される。
【００８９】
一方、図４に示すように、ボックスパージ手段１５０は、ワークボックス８２内の雰囲気をドライエアーにパージするワーク部パージ手段２０１と、中継ボックス１５４内の雰囲気をドライエアーにパージする中継部パージ手段２０２と、ワーク部パージ手段２０１および中継部パージ手段２０２の給気側に接続される共通給気管路２０３と、ワーク部パージ手段２０１および中継部パージ手段２０２の排気側に接続される共通排気管路２０４と、を有している。
【００９０】
共通給気管路２０３の上流端は、上記の流量計９９およびエアー開閉バルブ１００の間に位置して給気用短管９８に接続されている。また、共通給気管路２０３の途中には、ボックス系流量計２１１と、ボックス系開閉バルブ２１２とが介設されている。ボックス系開閉バルブ２１２は、上記のコントローラ１２５に接続されており、ワークボックス８２へのドライエアーのパージ指令に基づいて、開閉が制御されるようになっている。同様に、共通排気管路２０４は、上記の手動ダンパー１０６と排気ファン１０５の間に位置して内部ダクトに接続されている。
【００９１】
ワーク部パージ手段２０１は、その給気側（給気機構）に、上記のワーク部給気ポート１７８にワンタッチ接続されるワーク部給気継手２１５と、一端がワーク部給気継手２１５に連なると共に他端が共通給気管路２０３に連なるワーク部給気管路２１６と、ワーク部給気管路２１６に介設したワーク部給気バルブ（エアーオペレートバルブ）２１７とを有している。また、ワーク部パージ手段２０１は、その排気側（排気機構）に、上記の複数のワーク部排気ポート１７９にワンタッチ接続される複数のワーク部排気継手２１８と、一端が各ワーク部排気継手２１８に連なると共に他端が共通排気管路２０４に連なる複数のワーク部排気管路２１９と、各ワーク部排気管路２１９に介設した複数のワーク部排気バルブ（エアーオペレートバルブ）２２０とを有している。なお、ワーク部給気管路２１６およびワーク部排気管路２１９は、耐圧チューブ等で構成されていることが、好ましい。
【００９２】
この場合、エアーオペレートバルブで構成されたワーク部給気バルブ２１７およびワーク部排気バルブ２２０は、上記の圧縮エアー供給装置２９に連なる制御エアー供給管路２２２に接続されており、制御エアー供給管路２２２に介設した制御弁２２３により空圧制御されるようになっている。すなわち、制御弁２２３は、上記のコントローラ１２５に接続されており、コントローラ１２５は、制御弁２２３を介してワーク部給気バルブ２１７およびワーク部排気バルブ２２０をタイマー制御する。これにより、ワーク部給気バルブ２１７およびワーク部排気バルブ２２０が、同時に且つ所定時間開弁され、ワークボックス８２内の雰囲気がドライエアーと置換する（パージ）。
【００９３】
また、ワークボックス８２には、共通給気管路２０３を介して高圧のドライエアーが供給される（減圧用のチャンバ等を設けていない）。このため、図示しないがワークボックス８２には圧力センサーが設けられており、この圧力センサーが所定値以上の圧力が検出した場合に、コントローラ１２５は制御弁２２３を介してワーク部給気バルブ２１７を閉弁するようになっている。
【００９４】
同様に、中継部パージ手段２０２は、その給気側（中継部給気機構）に、上記の中継部給気ポート１８１にワンタッチ接続される中継部給気継手２２５と、一端が中継部給気継手２２５に連なると共に他端が共通給気管路２０３に連なる中継部給気管路２２６と、中継部給気管路２２６に介設した中継部給気バルブ（電磁弁）２２７とを有している。また、中継部パージ手段２０２は、その排気側（中継部排気機構）に、上記の複数の中継部排気ポート１８２にワンタッチ接続される複数の中継部排気継手２２８と、一端が各中継部排気継手２２８に連なると共に他端が共通排気管路２０４に連なる複数の中継部排気管路２２９と、各中継部排気管路２２９に介設した複数の中継部排気バルブ（電磁弁）２３０とを有している。
【００９５】
この場合、電磁弁で構成された中継部給気バルブ２２７および中継部排気バルブ２３０は、上記のコントローラ１２５に接続されており、コントローラ１２５は、中継部給気バルブ２２７および中継部排気バルブ２３０をタイマー制御する。これにより、中継部給気バルブ２２７および中継部排気バルブ２３０が、同時に且つ所定時間開弁して、中継ボックス１５４内の雰囲気がドライエアーと置換する（パージ）。また、ワークボックス８２と同様に、中継ボックス１５４には圧力センサーが設けられており（図示省略）、この圧力センサーが所定値以上の圧力が検出した場合に、コントローラ１２５は中継部給気バルブ２２７を閉弁するようになっている。
【００９６】
このように、コントローラ１２５により、ワーク部パージ手段２０１および中継部パージ手段２０２を制御して、ワークボックス８２および中継ボックス１５４をドライエアーで満たしたら、作業者は、グローブホルダ７９を利用して手作業により、開閉扉８０および蓋体１７２を開放する。次に、スライドテーブル１７３を介してワークＷをワークセットエリア５３に引き出し、ここで処理済（描画済み）のワークＷと、新規のワークＷとを載せかえる。その後、上記と逆の手順で、ワークＷのワークボックス８２への収容と、蓋体１７２の閉塞および開閉扉８０の閉塞を行って、作業を完了する。
【００９７】
なお、この描画工程の後には、図外の乾燥装置（別置き）による機能液の乾燥工程にすすむ。そこで、実施形態では、別置きの乾燥装置（これもドライエアーの雰囲気中で乾燥を行う。）にワークＷを搬入すべく、ドライエアーの雰囲気で満たされたワークボックス８２と共にワークＷをチャンバルーム８から外して、乾燥装置に運び込むようにしている。そして、乾燥装置に設けた上記と同様のワーク受入れ部にワークボックス８２を装着して、上記と同様にワークＷを乾燥装置内に導入して乾燥処理を行う。
【００９８】
以上のように、本実施形態によれば、チャンバルーム８に対するドライエアーの給気および排気を連続させて、チャンバルーム８内の水分濃度を一定に維持するようにしているため、チャンバルーム８内を常に新鮮なドライエアーで満たしておくことができる。また、水分濃度を容易に制御することができる。これにより、ワークＷに着弾した（描画）機能液滴（発光材料）が変質したり損傷したりすることがなく、有機ＥＬ装置を安定に製造することができる。
【００９９】
また、給気と同時に排気を行うことで、ワークＷへの描画処理に伴う機能液の溶剤（気化したもの）の濃度上昇を抑えることができ、雰囲気の汚染を防止することができる。特に、機能液（発光材の溶剤）には酸性やアルカリ性のものがあり、機能液による内部装置の腐食等を有効に防止することができる。
【０１００】
また、本実施形態のチャンバ装置３は、そのチャンバルーム８にワークの搬入・搬出のためのワークボックス８２を着脱自在に設け、且つこのワークボックス８２にドライエアーをパージするボックスパージ手段１５０を設けているため、チャンバルーム８内のドライエアーの雰囲気を破壊することなく、ワークＷの搬入・搬出（交換）を簡単に行うことができる。しかも、ワークＷの交換後には、ワークボックス８２内がドライエアーで満たされた状態になるため、ドライエアーの雰囲気でワーク処理を行う次の装置（例えば乾燥装置）に、ワークＷをそのまま搬入することができる。
【０１０１】
なお、本実施形態では、チャンバルーム８に装着したワークボックス８２内を、ドライエアーにパージするためのワーク部パージ手段２０１を設けるようにしているが、この種のワーク部パージ手段２０１を別置きで設け、ワークボックス８２をドライエアーでパージした後、チャンバルーム８に運び込む（装着）ようにしてもよい。このようにすれば、チャンバ装置３における作業効率を向上させることができる。
【０１０２】
次に、上記実施形態のワーク処理設備を用いた有機ＥＬ装置の製造方法について説明する。図１５は、有機ＥＬ装置の断面図を示した図である。同図に示すように、有機ＥＬ装置７０１は、基板７１１、回路素子部７２１、画素電極７３１、バンク部７４１、発光素子７５１、陰極７６１（対向電極）、および封止用基板７７１から構成された有機ＥＬ素子７０２に、フレキシブル基板（図示省略）の配線および駆動ＩＣ（図示省略）を接続したものである。
【０１０３】
同図に示すように、有機ＥＬ素子７０２の基板７１１上には、回路素子部７２１が形成され、回路素子部７２１上には、複数の画素電極７３１が整列している。そして、各画素電極７３１間には、バンク部７４１が格子状に形成されており、バンク部７４１により生じた凹部開口７４４に、発光素子７５１が形成されている。バンク部７４１および発光素子７５１の上部全面には、陰極７６１が形成され、陰極７６１の上には、封止用基板７７１が積層されている。
【０１０４】
有機ＥＬ素子７０２の製造プロセスは、バンク部７４１を形成するバンク部形成工程と、発光素子７５１を適切に形成するためのプラズマ処理工程と、発光素子７５１を形成する発光素子形成工程と、陰極７６１を形成する対向電極形成工程と、封止用基板７７１を陰極７６１上に積層して封止する封止工程とを備えている。すなわち、有機ＥＬ素子７０２は、予め回路素子部７２１および画素電極７３１が形成された基板７１１（ワークＷ）の所定位置にバンク部７４１を形成した後、プラズマ処理、発光素子７５１および陰極７６１（対向電極）の形成を順に行い、さらに、封止用基板７７１を陰極７６１上に積層して封止することにより製造される。なお、有機ＥＬ素子７０２は、大気中の水分等の影響を受けて劣化しやすいため、有機ＥＬ素子７０２の製造は、ドライエアーの他、不活性ガス（窒素、アルゴン、ヘリウム等）の雰囲気で行うことが好ましい。
【０１０５】
また、各発光素子７５１は、正孔注入／輸送層７５２およびＲ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）のいずれかの色に着色された発光層７５３から成る成膜部で構成されており、発光素子形成工程には、正孔注入／輸送層７５２を形成する正孔注入／輸送層形成工程と、３色の発光層７５３を形成する発光層形成工程と、が含まれている。
【０１０６】
有機ＥＬ装置７０１は、有機ＥＬ素子７０２を製造した後、有機ＥＬ素子７０２の陰極７６１にフレキシブル基板の配線を接続すると共に、駆動ＩＣに回路素子部７２１の配線を接続することにより製造される。
【０１０７】
【発明の効果】
以上のように、本発明のチャンバ装置によれば、常に新鮮なドライエアーの給気とそれに見合う雰囲気の排気とを行うようにしているため、チャンバルーム内を安定で且つ管理された新鮮なドライエアーの雰囲気に維持することができる。したがって、常に良好な環境下でワーク処理等を行うことができる。
【０１０８】
また、本発明のワーク処理設備によれば、管理されたドライエアーの雰囲気中でワーク処理を行うことができるため、ワーク処理（有機ＥＬ装置の製造）における信頼性および品質を高レベルに維持することができる。したがって、この有機ＥＬ装置においては、高品質で且つ信頼性の高いものを低コストで提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係るワーク処理設備の平面図である。
【図２】実施形態に係るワーク処理設備の正面図である。
【図３】実施形態に係るワーク処理設備の側面図である。
【図４】実施形態に係るチャンバ装置のシステム系統図である。
【図５】実施形態に係るチャンバ装置の平面図である。
【図６】実施形態に係るチャンバ装置の正面図である。
【図７】実施形態に係るチャンバ装置の左側面図である。
【図８】実施形態に係るチャンバ装置の右側面図である。
【図９】実施形態に係るチャンバ装置の正面図である。
【図１０】実施形態に係るチャンバ装置の電気・機械室の正面図である。
【図１１】実施形態に係るワークボックスの裁断側面図である。
【図１２】実施形態に係るワークボックスの裁断平面図である。
【図１３】実施形態に係るワーク受入れ部の開閉扉の正面図である。
【図１４】実施形態に係るワークボックスの扉体の正面図である。
【図１５】実施形態に係る有機ＥＬ装置の断面図である。
【符号の説明】
１ ワーク処理設備 ２ 液滴吐出装置
３ チャンバ装置 ４ 機能液滴吐出ヘッド
６ 描画装置 ７ メンテナンス装置
８ チャンバルーム ９ 電気・機械室
５１ メンテナンスエリア ５２ 描画エリア
５３ ワークセットエリア ６５ 給気ダクト
６６ 排気ダクト ７９ グローブホルダ
８０ 開閉扉 ８１ ワーク受入れ部
８２ ワークボックス ８４ 給気口
８５ 排気口 ８７ フィルタチャンバ
８９ フィルタ ９７ 給気流路
１００ エアー開閉バルブ １０２ 排気流路
１０４ エアー調整ダンパー １０５ 排気ファン
１０７ リターン流路 １０９ 塵埃排気パイプ
１１０ 塵埃ファン １１２ クーラー
１１３ ヒーター １２１ 第１逃がし弁
１２２ 第２逃がし弁 １２５ コントローラ
１２６ 露点センサー １２９ 温度センサー
１３２ 圧力センサー ７０１ 有機ＥＬ装置
７０２ 有機ＥＬ素子 ７１１ 基板
７５２ 正孔注入／輸送層 ７５３ 発光層
Ｗ ワーク（基板）[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a chamber apparatus that houses a work processing apparatus that requires work processing in a dry air atmosphere in a chamber room. and Work processing equipment equipped with this Beside It is related.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, a chamber apparatus that seals an organic EL device as a workpiece in an inert gas atmosphere in a final manufacturing process is known (for example, see Patent Document 1). In this chamber apparatus, the inside of the chamber room is purged with an inert gas atmosphere by repeating vacuum suction (evacuation) and injection of inert gas. In addition, after purging the inert gas, the inert gas is circulated so as to pass through the drying device so as to maintain a predetermined moisture concentration.
[0003]
[Patent Document 1]
JP-A-10-241858
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
In such a conventional chamber apparatus, in order to maintain the moisture concentration of the atmosphere in a chamber room, it is necessary to provide a drying apparatus, and there exists a problem that an apparatus structure and control operation become complicated. Moreover, when using a solvent etc. for a workpiece | work process, the solvent density | concentration in atmosphere increases and the problem which has a bad influence on apparatus itself is also assumed.
[0005]
The present invention provides a chamber apparatus that can maintain a stable and fresh dry air atmosphere in a chamber room with a simple structure. and Work processing equipment equipped with this Be prepared The issue is to provide.
[0016]
[Means for Solving the Problems]
The chamber apparatus of the present invention is a chamber apparatus that accommodates a work processing apparatus that needs to perform work processing in an atmosphere of dry air, and is connected to a chamber room that accommodates the work processing apparatus, and a dry air supply facility, and is a chamber An air supply passage for supplying dry air into the room, an air supply amount adjusting means provided in the air supply passage, an exhaust passage for exhausting dry air in the chamber room, and an exhaust provided in the exhaust passage Based on the detection result of the amount adjustment means, the moisture concentration detection means for detecting the moisture concentration in the chamber room, and the detection result of the moisture concentration detection means, the supply amount adjustment means and the exhaust gas so that the moisture concentration in the chamber room becomes constant Air supply / exhaust control means for controlling the amount adjusting means; The It is characterized by having.
[0017]
According to this configuration, dry air is supplied to the chamber room from the dry air supply facility via the air supply passage, and the atmosphere in the chamber room is exhausted outside the room via the exhaust passage. At this time, the moisture concentration in the chamber room is detected by the moisture concentration detecting means, and the air supply amount adjusting means and the exhaust amount adjusting means are controlled based on the detection result so that the moisture concentration in the chamber room becomes constant. Therefore, the chamber room can be always filled with fresh dry air having a predetermined moisture concentration. Further, by exhausting together with the supply air, it is possible to prevent contamination of the atmosphere due to, for example, a solvent or the like (vaporized) accompanying the work processing. Note that a so-called dew point sensor is preferably used as the moisture concentration detecting means. Further, it is preferable to use a duct for the air supply passage and the exhaust passage when the amount of supply / exhaust is large, and a pipe when the amount is small. Further, it is preferable that the air supply amount adjusting means and the exhaust amount adjusting means use a damper when the air supply / exhaust flow path is a duct and a valve when it is a pipe.
[0018]
In this case, it is preferable that an air supply fan for supplying dry air into the chamber room is interposed in the air supply channel. Similarly, it is preferable that an exhaust fan for exhausting dry air in the chamber room is interposed in the exhaust passage.
[0019]
According to these configurations, supply and exhaust of air into the chamber room can be performed forcibly and stably. Further, the pressure loss due to the air supply passage and the exhaust passage can be compensated by the air supply fan and the exhaust fan.
[0020]
In this case, pressure detecting means for detecting the pressure in the chamber room, and fan control means for controlling the exhaust fan so that the pressure in the chamber room maintains a positive pressure based on the detection result of the pressure detecting means. It is preferable to further provide.
[0021]
According to this configuration, even if the dry air constituting the atmosphere in the chamber room leaks outside from the seal (air tight) portion, the outside air is reliably prevented from entering the chamber room. be able to.
[0022]
In these cases, the pressure in the chamber room becomes equal to or higher than a predetermined value based on the pressure relief valve provided in the air supply flow path, the pressure detection means for detecting the pressure in the chamber room, and the detection result of the pressure detection means. It is preferable to further include a relief valve control means for opening the pressure relief valve when the pressure relief valve is opened.
[0023]
According to this configuration, even if the atmospheric pressure in the chamber room exceeds a certain value due to abnormal operation of the dry air supply facility, failure or malfunction of the air supply amount adjusting means and the exhaust amount adjusting means, etc. I can escape. Thereby, deformation and breakage of the chamber room can be effectively prevented.
[0024]
In these cases, it is preferable to further include a return flow path that connects the air supply flow path and the exhaust flow path and returns a part of the exhaust to the air supply side.
[0025]
According to this configuration, a part of the exhaust can be returned to the supply side via the return flow path, so that wasteful consumption of dry air can be prevented. However, it is preferable to determine the return amount of the exhaust gas in consideration of the contamination of the atmosphere due to the solvent or the like.
[0026]
In these cases, a temperature adjusting device that is provided in the air supply flow path to adjust the temperature of the dry air, a temperature detecting means that detects the temperature in the chamber room, and a detection result of the temperature detecting means, It is preferable to further comprise temperature control means for controlling the temperature adjusting device so that the temperature becomes constant.
[0027]
According to this configuration, the temperature in the chamber room can be kept constant through the supply of dry air. For this reason, a workpiece | work process can always be performed on the same temperature conditions, and a workpiece | work process can be performed stably. In addition, the temperature in the chamber room considering work processing is preferably 20 ° C. to 23 ° C.
[0028]
In this case, the temperature adjusting device has a cooler located on the upstream side and a heater located on the downstream side and controlled by the temperature control means, and the heater raises the temperature of the dry air once cooled by the cooler. Is preferred.
[0029]
According to this configuration, since the dry air is once cooled by the cooler and then heated by the heater, the heater can be stably controlled (not intermittently operated), and the temperature of the dry air can be controlled. Can be performed with high accuracy.
[0030]
In these cases, the air supply port further includes an air supply port that is continuous with the air supply channel and is open to the chamber room, and an exhaust port that is continuous with the exhaust flow channel and is open to the chamber room. However, it is preferable that the exhaust port is opened at the lower part of the chamber room.
[0031]
According to this configuration, the air flow generated by the supply and exhaust of the dry air can flow from the upper part to the lower part of the chamber room. As a result, so-called air accumulation hardly occurs in the chamber room, and fresh dry air can always be supplied smoothly and continuously to the workpiece processing portion.
[0032]
In this case, it is preferable that the ceiling portion of the chamber room is provided with a filter chamber that is continuous with the air supply port and has an open lower surface, and a filter that is attached to the lower surface opening portion of the filter chamber.
[0033]
According to this configuration, a filter having a large filter area can be provided, and pressure loss due to the filter can be reduced as much as possible. In addition, the airflow of dry air flowing from the air supply port toward the exhaust port can be made to flow down and at a uniform flow rate. Note that a HEPA filter is preferably used as the filter.
[0034]
In this case, it is preferable that a dust exhaust passage for exhausting dust generated in the work processing apparatus through the chamber room is further provided, and the downstream end of the dust exhaust passage is connected to the air supply passage. .
[0035]
According to this configuration, it is possible to prevent contamination of the chamber room due to dust, and it is possible to remove the collected dust by using the filter, and it is not necessary to provide a dust processing device outside.
[0036]
In this case, it is preferable that a dust exhaust fan is interposed in the dust exhaust passage.
[0037]
According to this configuration, air containing dust can be appropriately fed into the air supply passage.
[0038]
A workpiece processing facility according to the present invention includes the above-described chamber device and a workpiece processing device accommodated in the chamber device.
And it is preferable that a workpiece | work processing apparatus is a manufacturing apparatus of an organic EL apparatus.
[0039]
According to this configuration, work processing can be performed in an atmosphere of fresh dry air, and reliability and quality in work processing (manufacturing of an organic EL device) can be maintained at a high level.
[0040]
In this case, the organic EL device manufacturing apparatus relatively scans the functional liquid droplet ejection head into which the light emitting functional material is introduced with respect to the substrate, which is a workpiece, and selectively ejects the light emitting functional material, so that a large number on the substrate. It is preferable to have a droplet discharge device that forms an organic EL functional layer in the pixel region.
[0041]
According to this configuration, the light emitting functional material in the organic EL is easily deteriorated or damaged by contact with the atmosphere (moisture). According to this configuration, the step of forming the organic EL functional layer by discharging the light emitting functional material can be performed in a fresh dry air atmosphere in which the moisture concentration is controlled. Can be effectively prevented. Moreover, the solvent evaporated from the light emitting functional material can be quickly exhausted.
[0044]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a workpiece processing facility to which a chamber apparatus according to an embodiment of the present invention is applied will be described with reference to the accompanying drawings. The work processing facility according to the present embodiment is applied to a so-called flat panel display manufacturing apparatus such as an organic EL device, and discharges functional liquid such as a luminescent material from a functional liquid droplet discharge head in an atmosphere of dry air. (Inkjet method), an EL light emitting layer and a hole injection layer of each pixel that perform the light emitting function of the organic EL device are formed.
[0045]
Therefore, in this embodiment, work processing equipment applied to an organic EL device manufacturing apparatus will be described, and the structure and manufacturing method (manufacturing process) of the organic EL device manufactured thereby will be described.
[0046]
As shown in FIGS. 1 to 3, the work processing facility 1 according to the embodiment includes a droplet discharge device 2 that is a work processing device and a chamber device 3 that houses the droplet discharge device 2. The functional liquid droplet discharge head 4 mounted on the substrate discharges a light emitting material (functional liquid) onto the substrate (work) W to form an EL light emitting layer and a hole injection layer of the organic EL device. A series of manufacturing steps including a discharge operation of the discharge head 4 is performed in an atmosphere of dry air configured by the chamber device 3.
[0047]
The droplet discharge device 2 includes a drawing device 6 on which the functional droplet discharge head 4 is mounted, and a maintenance device 7 including various devices used for maintenance of the functional droplet discharge head 4. On the other hand, the chamber apparatus 3 is configured by providing an electric / mechanical room 9 in the chamber room 8. The chamber room 8 is supplied with dry air produced by factory equipment, and the drawing device 6 and the maintenance device 7 accommodated therein are exposed to the dry air atmosphere as a whole and operate in the dry air atmosphere. .
[0048]
The drawing apparatus 6 includes a gantry 11 installed on the floor, a stone surface plate 12 installed on the gantry 11, an X axis table 13 installed on the stone surface plate 12, a Y axis table 14 orthogonal thereto, and a Y axis A main carriage 15 provided so as to be suspended from the table 14 and a head unit 16 mounted on the main carriage 15 are provided. In addition to this, the drawing apparatus 6 includes a head recognition camera 18 for recognizing the position of the head unit (functional liquid droplet ejection head 4) 16, a work recognition camera 19 for recognizing the position of the work W, and a work (substrate). ) Various devices such as a drawing observation camera 20 for observing the drawing result of the functional liquid droplets discharged to W and a suction switch unit 21 for driving a vacuum pump 24 described later are provided.
[0049]
The drawing apparatus 6 includes a functional liquid supply device 23 that supplies a functional liquid to the drawing apparatus 6 and a vacuum pump 24 for adsorbing a workpiece W that is connected to a suction table 31 described later, separately from the chamber apparatus 3. ing. A control device is connected to the droplet discharge device 2 (not shown), and overall control of the drawing device 6 and the maintenance device 7 is performed by the control device.
[0050]
The functional liquid supply device 23 supplies R, G, and B3 functional liquids to three functional liquid droplet ejection heads 4 to be described later. It has a liquid tank (not shown). Further, an apparatus base 28 for supporting these is provided below the case 27, and a compressed air supply device 29 is incorporated in the apparatus base 28. Although details will be described later, the functional liquid tubes extending from the three functional liquid tanks and the air tubes extending from the compressed air supply device 29 are collected in one place and taken into the drawing device 6 from the rear portion of the chamber room 8. (Not shown).
[0051]
The X-axis table 13 is directly installed on the stone surface plate 12, and a suction table 31 for setting the work W, a θ table 32 for supporting the suction table 31, and a θ table 32 are slid in the X-axis direction. An X-axis air slider (not shown) that is freely supported, an X-axis linear motor (not shown) that moves the workpiece W in the X-axis direction via the θ table 32 and the suction table 31, and an X-axis air slider are also provided. X-axis linear scale (not shown). In the X-axis table 13, by driving the X-axis linear motor, the θ table 32 and the suction table 31 on which the workpiece W is suction set are moved in the X-axis direction with the X-axis air slider as a guide.
[0052]
Note that the X-axis linear motor, the X-axis air slider, and the X-axis linear scale are disposed in parallel to the X-axis and are accommodated in the X-axis box 33. Further, the head recognition camera 18 described above is fixed to the θ table 32, and the position of the head unit 16 can be corrected with respect to the suction table 31.
[0053]
The Y-axis table 14 is placed on a Y-axis frame 35 with a stand that is erected on the stone surface plate 12, straddles the X-axis table 13, and extends in a direction orthogonal to the X-axis table 13. . The Y-axis table 14 is slidably supported by a main carriage 15 on which the head unit 16 is mounted, a Y-axis frame 35, and supports a Y-axis air slider (not shown) that supports the main carriage 15, and a Y-axis air slider. And a Y-axis linear motor (not shown) for moving the head unit 16 in the Y-axis direction, and a Y-axis linear scale (not shown) provided on the Y-axis air slider.
[0054]
In addition to the Y-axis air slider, an air slider (not shown) is slidably supported on the Y-axis frame 35, and the workpiece recognition camera 19 is fixed to the air slider. The workpiece recognition camera 19 is also moved in the Y-axis direction by driving the Y-axis linear motor. The drawing observation camera 20 is also used for observing whether or not the functional liquid is appropriately applied (landed) to the discharged work W.
[0055]
A plurality of (three) functional liquid droplet ejection heads 4 are mounted on the head unit 16 mounted on the main carriage 15 via a sub-carriage (not shown). Although not shown in detail, the sub-carriage is equipped with three functional liquid droplet ejection heads 4 corresponding to the R, G, and B color functional liquids. They are arranged in parallel to each other at a predetermined angle with respect to the scanning direction.
[0056]
In the drawing apparatus 6 of the present embodiment, the workpiece W moves in synchronization with the driving of the functional liquid droplet ejection head 4 (selective ejection of the functional liquid droplets), and so-called main scanning of the functional liquid droplet ejection head 4 is performed. The reciprocation of the X-axis table 13 in the X-axis direction is performed. Correspondingly, so-called sub-scanning is performed by the forward movement operation of the functional liquid droplet ejection head 4 in the Y-axis direction by the Y-axis table 14.
[0057]
On the other hand, the maintenance device 7 includes a flushing unit 41 for receiving the functional liquid preliminarily ejected from the functional liquid droplet ejection head 4, a suction unit 42 for performing pump suction of the functional liquid droplet ejection head 4, and a functional liquid droplet ejection head. 4, a wiping unit 43 for wiping off dirt adhering to the nozzle surface, a discharge inspection unit 44 for inspecting the discharge state of the functional liquid discharged from the functional liquid droplet discharge head 4, and the functional liquid droplet discharge head 4. A weight measuring unit 45 for measuring the weight of the functional liquid discharged from the unit, and these units 41, 42, 43, 44, 45 are collectively arranged around the suction table 31. . The suction unit 42 and the discharge inspection unit 44 are disposed so as to overlap each other.
[0058]
In this case, the flushing unit 41, the suction unit 42, the wiping unit 43, and the discharge inspection unit 44 are disposed on the left side of the X-axis table 13, and the weight measuring unit 45 is disposed on the right side of the X-axis table 13 in the drawing. Yes. These units 41, 42, 43, 44, 45 are arranged on the movement locus of the head unit 16 that moves in the Y-axis direction, and use the movement of the head unit 16 by the Y-axis table 14. The head unit 16 is faced for maintenance. In addition, before-discharge flushing units 46 and 46 are respectively provided before and after the suction table 31 for pre-discharge flushing performed immediately before the functional liquid is discharged onto the workpiece W.
[0059]
In the droplet discharge device 2 configured as described above, a maintenance area 51 for maintenance is located immediately in front of the Y-axis table 14, and a portion where the X-axis table 13 and the maintenance area 51 overlap is drawn. This is a drawing area 52. Further, the front position of the X-axis table 13 is a work set area 53 for setting the work W on the suction table 31. Although details will be described later, carrying (replacement) of the head unit 16 to the chamber room 8 and maintenance work of the apparatus are performed from the left side of the maintenance area 51, and work to the chamber room 8 is performed from the right side of the work set area 53. W is carried in and out (exchanged).
[0060]
Next, the chamber apparatus 3 will be described in detail with reference to the system diagram of FIG. 4 and the structural diagrams of FIGS. 5 to 10. In the description of the chamber device 3, the description will be made assuming that the lower side in FIG. 5 is “front”, the upper “rear”, the left side is “left”, and the right side is “right”.
[0061]
The chamber device 3 includes a chamber room 8 that accommodates the above-described droplet discharge device (drawing device 6) 2 and an electric / mechanical chamber 9 disposed at the right rear portion of the chamber room 8, and the electric / mechanical chamber 9 includes: The machine room 61 is disposed on the chamber room 8 side, and the electric room 62 is provided on the rear side of the machine room 61. The electrical chamber 62 incorporates a control panel 63 that controls the mechanical device of the chamber device 3.
[0062]
Dry air is supplied from a dry air supply facility (factory facility) (not shown) to the machine room 61 where the temperature is conditioned and introduced into the chamber room 8 via an air supply duct (square duct) 65. The atmosphere in the chamber room 8 is introduced into the machine room 61 via an exhaust duct (square duct) 66 and sent from the machine room 61 to an exhaust treatment facility (factory equipment). In actual operation, supply and exhaust of dry air are continuously performed on the chamber room 8 so that the atmosphere in the chamber room 8 is constituted by the dry air flowing at low speed in the chamber room 8. It has become.
[0063]
The chamber room 8 is constructed by assembling the front wall 71, the back wall 72, the left side wall 73, the right side wall 74, the floor wall 75 and the top wall 76 with an airtight material, and the main part is a stainless steel plate. It consists of The front wall 71 is provided with a viewing window 78 made of a light-transmitting resin such as polycarbonate at the upper portion thereof, and two sets of glove holders 79 and 79 are provided side by side at the intermediate portion. A large open / close door 80 for maintenance is provided on the left side wall 73, and a work box 82 used for loading / unloading the work W is detachably attached to the right side wall 74 via a work receiving portion 81. Yes.
[0064]
The right side of the back wall 72 is provided with an air supply port 84 that is located at the upper part and connected to the air supply duct 65, and at the lower part is an exhaust port 85 that is connected to the exhaust duct 66. Is provided. In addition, a pipe wiring take-out portion 86 that seals various tubes and cables that penetrate the back wall 72 inward and outward is provided on the right side of the back wall 72. And the floor wall 75 is comprised by the baseplate provided on said mount frame 11. FIG.
[0065]
On the other hand, the droplet discharge device (drawing device 6) 2 accommodated in the chamber room 8 is accommodated in a posture in which the front-rear direction is the X-axis direction and the left-right direction is the Y-axis direction (see FIG. 1). . That is, the opening / closing door 80 is provided so as to face the maintenance device (maintenance area 51) 7 and the drawing device 6 (drawing area 52) from the side (left side). Further, the head unit 16 can be carried (exchanged) through the opening / closing door 80. Similarly, a work receiving portion 81 faces the work set area 53 from the side, and a glove holder 79 faces from the front. In the work W replacement work, after the work box 82 containing the work W before processing is mounted on the work receiving portion 81, the operator manually sets the work W to be replaced by the glove holder 79 (for details, see FIG. Will be described later).
[0066]
Although not particularly shown, all the parts attached to the walls 71, 72, 73, 74, 75, 76 of the chamber room 8 including the opening / closing door 80 are all sealed with an airtight material. . The open / close door 80 is interlocked by an electromagnetic lock device or the like so that it is not accidentally opened during operation.
[0067]
A filter chamber 87 connected to the air supply port 85 is formed on the ceiling portion of the chamber room 8 over the entire area in the plane direction. The filter chamber 87 is configured such that the ceiling portion is horizontally divided forward and backward by a filter mounting frame 88, and two (plural) filters (HEPA filters) 89 and 89 are mounted on the filter mounting frame 88 (FIG. 5). To FIG. 7).
[0068]
The dry air flowing from the air supply port 85 flows into the filter chamber 87, passes through the two filters 89 and 89, and flows into the upper part of the droplet discharge device 2. In this case, the dry air flowing in from the air supply port 84 is sufficiently decelerated in the filter chamber 87, passes through the filter 89, becomes a uniform air flow from the upper part to the lower part, and passes through the droplet discharge device 2. Thus, the exhaust port 85 is reached. And the drawing area 52 of the drawing apparatus 6 faces on the main flow path (central part) of this airflow.
[0069]
That is, in the chamber room 8, the main airflow of dry air flows so as to wrap around the drawing area 52, and the entire airflow flows down from the filter 89 and then flows toward the exhaust port 85. As a result, the drawing area 52 is always exposed to fresh dry air. Needless to say, the flow velocity of the airflow in this case is adjusted to such an extent that the flight of the functional liquid droplets ejected from the functional liquid droplet ejection head 4 does not occur.
[0070]
The interior of the machine chamber 61 is partitioned into an upper chamber 93, an intermediate chamber 94, and a lower chamber 95 by an upper partition wall 91 and a lower partition wall 92, and the upper chamber 93 communicates with the air supply duct 65. In addition, an air supply short pipe 98 connected to the dry air supply facility from the outside is connected to the upper right portion of the lower chamber 95. That is, an air supply flow path 97 is configured by the air supply short pipe 98, the lower chamber 95, the intermediate chamber 94, the upper chamber 93, and the air supply duct 65. The short air supply pipe 98 is provided with a flow meter 99 and an air open / close valve (air supply amount adjusting means: electromagnetic valve) 100, and the air supply amount into the chamber room 8 is adjusted by the air open / close valve 100. It has become so.
[0071]
On the other hand, the lower chamber 95 accommodates an internal duct (not shown) connected to the exhaust duct 66, and the downstream end of the internal duct is connected to an exhaust short pipe 103 protruding outward from the lower right portion of the lower chamber 95. Has been. That is, the exhaust flow path 102 is configured by the exhaust duct 66, the internal duct, and the exhaust short pipe 103. The exhaust short pipe 103 is provided with an air adjusting damper (exhaust amount adjusting means: motor damper) 104, and the air adjusting damper 104 adjusts the exhaust amount of the chamber room 8 ( (See FIG. 4). In addition, an exhaust fan 105 is interposed in the internal duct (see FIG. 4), and the exhaust fan 105 forcibly sucks dirty exhaust gas and forcibly supplies it to the exhaust treatment facility. The exhaust fan 105 is inverter controlled to adjust the pressure in the chamber room 8 together with the air adjustment damper 104 (details will be described later).
[0072]
In addition, a manual damper 106 is interposed in the internal duct, and the downstream side of the manual damper 106 is opened in the lower chamber 95 (see FIG. 4). That is, the return channel 107 connected to the air supply channel 97 is constituted by the opening provided in the internal duct and the lower chamber 95. The manual damper 106 adjusts the amount of return air when returning a part of the exhaust as return air to the supply side.
[0073]
On the other hand, two dust exhaust pipes 109 and 109 for exhausting dust generated by driving the apparatus are connected to the X-axis box 33 and the Y-axis frame 35 (see FIG. 4). The two dust exhaust pipes 109 and 109 are taken out of the apparatus from the pipe wiring take-out portion 86, and their downstream ends are connected to an air supply passage (lower chamber 95) 97. The dust exhaust pipe 109 is provided with a dust fan 110 for forcibly sending dust exhaust into the air supply passage (see FIG. 4). Note that the dust exhaust passes through the filter 89 through the air supply passage 97, whereby the dust is removed.
[0074]
A vertical cooler (tealing unit) 112 and a heater (electric heater) 113 are provided adjacent to each other at the opening of the lower partition wall 92 to constitute a temperature control device. The dry air including the return air in the lower chamber 95 passes through the cooler 112, is once cooled, is heated by the heater 113, and then sent into the intermediate chamber 94. In this way, once the dry air is cooled, the heater 113 is continuously operated, and the outlet temperature of the heater 113 is accurately controlled. Thereby, the atmosphere of the dry air in the chamber room 8 is maintained at a predetermined temperature, for example, 23 ° C. ± 0.1 ° C. in the embodiment. In addition, the code | symbol 114 in FIG. 8 is the compressor of the cooler 112, and the codes | symbols 115,116,117 are the refrigerant | coolant forward pipe | tube, the refrigerant | coolant return pipe | tube (connected to an outdoor unit), and a drain pipe | tube of the cooler 112, respectively.
[0075]
An air supply fan (cross flow fan) 118 is provided at the opening of the upper partition wall 91, and the dry air in the intermediate chamber 94 whose temperature has been adjusted by the heater 113 is supplied to the upper chamber 93 and the air by the air supply fan 118. The air is forcibly supplied into the chamber room 8 through the air supply duct 65. In addition, a first relief valve (solenoid valve) 121 and a second relief valve (solenoid valve) 122 are provided in the air supply passage 97 from the upper chamber 93 to the air supply port 84, and the chamber room 8 has a predetermined interior. When the pressure becomes equal to or higher than the pressure, the first relief valve 121 and the second relief valve 122 are appropriately opened to release the supply air to the outside (open to the atmosphere). In addition, the code | symbol 123 in FIG. 10 is the external air introduction port for test operation | movement obstruct | occluded with the mekkura lid. The outside air introduction port 123 is connected to the lower chamber 95 via the prefilter 124 (see FIG. 4).
[0076]
Next, a method for operating the chamber device 3 will be briefly described. In the operation method of the chamber apparatus 3, the air supply fan 118 and the exhaust fan 105 are simultaneously driven, and dry air is continuously fed into the chamber room 8 through the air supply passage 97 and the atmosphere in the chamber room 8 (dry Air) is exhausted through the exhaust passage 102. Further, in order to suppress wasteful consumption of dry air, a part of the exhaust is returned to the air supply side via the return flow path 107.
[0077]
A dew point sensor 126 is provided in the chamber room 8, and the dew point sensor (moisture concentration detection means) is connected to a controller (control means) 125 via a moisture meter 127 for visual recognition. The controller 127 controls the air opening / closing valve 100 on the supply side and the air adjustment damper 104 on the exhaust side so that the moisture concentration in the chamber room 8 becomes a predetermined value (in the embodiment, −65 ° C. DP).
[0078]
A temperature sensor (temperature detection means) 129 is provided in the chamber room 8, and the temperature sensor 129 is connected to the heater 113 via a temperature controller (relay) 130. In this case, the heater 113 and the cooler 112 are always in rated operation, and the heater 113 is controlled so that the inside of the chamber room 8 becomes a predetermined temperature (23 ° C. ± 0.1 ° C. in the embodiment).
[0079]
Further, a pressure sensor (pressure detection means) 132 is provided in the chamber room 8, and the pressure sensor 132 is connected to the controller 125 via a pressure gauge 133 for visual recognition. The controller 125 controls the air adjustment damper 104 on the exhaust side and controls the exhaust fan 105 via the inverter 134 so that the pressure in the chamber room 8 maintains a positive pressure. Thereby, even if dry air leaks from the chamber room 8, intrusion of outside air is prevented. When the pressure sensor 132 detects a pressure equal to or higher than a predetermined value, the controller 125 opens the first relief valve 121 and the second relief valve 122 in consideration of fail-safe.
[0080]
Next, the structure around the work box 82 will be described with reference to FIGS. As described above, the workpiece receiving portion 81 is provided on the right side wall 74 of the chamber room 8 so as to face the workpiece setting area 53, and the workpiece receiving portion 81 has a work box 82 that accommodates the workpiece W from the outside. It is detachably attached (see FIGS. 5 and 6). In the present embodiment, the box purge means 150 is provided for purging the dry air so as to have the same atmosphere as the chamber room 8 with respect to the work box 82 attached to the chamber room 8 and the relay box 154 described later. (See FIG. 4).
[0081]
As shown in FIGS. 11 and 12, the workpiece receiving portion 81 includes an inner frame (room side opening) 151 provided inside the chamber room 8 so as to border the opening 74 a of the right side wall 74, and the chamber room 8. And an outer frame (box-side opening) 152 provided on the outer side. Further, the inner frame 151 is provided with an inner opening / closing door 153 that hermetically seals the opening 74a. The inner frame 151 is constituted by a four-frame frame made of a stainless steel press-molded product having a substantially “Ω” cross section. Similarly, the outer frame 152 is configured by a four-round frame made of a stainless steel press-molded product having a crank section. The outer frame 152 protrudes outward, and a relay box 154 that connects the chamber room 8 and the work box 82 is formed between the outer frame 152 and the inner frame 151.
[0082]
As shown in FIG. 13, the open / close door 153 opens upward with a hinge 161 provided at the top as a center. Three leaf springs 162, 162, 162 are attached to the front upper portion of the opening / closing door 153, and the opening / closing door 153 is urged to rotate upward (opening direction) by the three leaf springs 162. . An opening / closing lever 163 is provided in the center of the front of the opening / closing door 153, and three locking claws 164, 164, 164 are provided side by side at the lower part. The opening / closing lever 163 is connected to the three locking claws 164, 164, 164 via the link 165, and the three locking claws 164 are provided on the inner frame 151 by rotating the opening / closing lever 163. At the same time, the door 153 is locked / unlocked.
[0083]
The open / close door 153 is provided with an interlock mechanism 168 so that the open / close door 153 can be opened and closed only when the work box 82 is mounted. The inco lock mechanism 168 includes a lock claw 168 configured to be movable up and down and moving upward to lock the center of the door 153, and an actuator (cylinder) 169 that moves the lock claw 168 up and down. On the other hand, although not shown, an attachment / detachment detection sensor for detecting attachment / detachment of the work box 82 is provided at the attachment / detachment portion of the work box 82 (in the relay box 154). ”Is detected, the lock claw 168 moves upward to lock the door 153, and the lock claw 168 that detects“ attachment ”moves downward to unlock the door 153.
[0084]
As shown in FIGS. 11 and 12, the work box 82 includes a rectangular box body 171 having an open end on the chamber room 8 side, a lid 172 that opens and closes the open portion of the box body 171, and a box body 171. The main part is formed of a stainless steel plate. The work box 82 is mounted on the work receiving unit 81 with the work W held horizontally on the upper surface of the slide table 173 and the lid 172 closed.
[0085]
A transparent window 175 is provided on the upper surface of the box body 171 so that the workpiece W can be visually recognized from the outside. In addition, a lock body 176a of a plurality of patchon locks 176 is provided on the outer peripheral surface of the open portion of the box body 171, and a plurality of lock receivers 176b are provided on the outer frame 152 correspondingly. That is, the work box 82 is detachably attached to the work receiving portion 81 by a plurality of patch locks 176 including a lock body 176a and a lock receiver 176b. Although not shown in the drawing, an air tight material is interposed between the outer frame 152 of the work receiving portion 81 and the open portion of the work box 82, and the relay box is in a state where the patchon lock 176 is locked. (Outer frame 152) 154 and work box 82 are joined in an airtight manner.
[0086]
Further, the box body 171 is provided with a work part air supply port 178 for supplying dry air to one side surface (the front side in the drawing), and a plurality (6) for exhausting on the other side surface (the rear side in the drawing). ) Work part exhaust ports 179 are attached. Similarly, the outer frame 152 constituting the relay box 154 has a relay portion air supply port 181 attached to one side surface (the front side in the drawing), and a plurality (two) of relay portions on the other side surface (the rear side in the drawing). An exhaust port 182 is attached. Although details will be described later, since high-pressure dry air is supplied to the work box 82 and the relay box 154, the work-side exhaust port 179 and the relay-port exhaust port 182 on the exhaust side are totally cut off to meet this. A sufficient area is ensured.
[0087]
As shown in FIG. 14, the lid 172 is opened downward around a hinge 185 provided at the lower part, and is closed and locked by a pair of clasps 186 and 186 provided at the upper part. That is, in the present embodiment, the chamber room 8 and the work box 82 communicate with each other by opening the open / close door 153 to the upper side and opening the lid 172 to the lower side. The workpiece W is taken out. Needless to say, an air tight material is also interposed between the lid 172 and the open portion of the box body 171.
[0088]
As shown in FIGS. 11 and 12, the slide table 173 includes a flat table main body 191 that holds the workpiece W, and a pair of nested sliders 192 and 192 that slidably support the table main body 191 on both sides thereof. , And a pair of leg pieces 193 and 193 that support each slider 192. When the table body 191 is pulled out into the chamber room 8 with the lid 172 open, the pair of sliders 192 and 192 extend, and the workpiece W faces the suction table 31, that is, the workpiece set area 53. Further, the work W is accommodated in the work box 82 by pushing the table body 191 toward the work box 82 in the reverse procedure.
[0089]
On the other hand, as shown in FIG. 4, the box purge means 150 includes a work part purge means 201 for purging the atmosphere in the work box 82 to dry air, and a relay part purge means for purging the atmosphere in the relay box 154 to dry air. 202, a common air supply line 203 connected to the supply side of the work part purge means 201 and the relay part purge means 202, and a common exhaust pipe connected to the exhaust side of the work part purge means 201 and the relay part purge means 202 And a path 204.
[0090]
The upstream end of the common air supply line 203 is located between the flow meter 99 and the air opening / closing valve 100 and connected to the air supply short pipe 98. A box system flow meter 211 and a box system opening / closing valve 212 are provided in the middle of the common air supply line 203. The box system opening / closing valve 212 is connected to the controller 125, and is controlled to open / close based on a dry air purge command to the work box 82. Similarly, the common exhaust pipe 204 is located between the manual damper 106 and the exhaust fan 105 and connected to the internal duct.
[0091]
The work part purging means 201 has a work part air supply joint 215 that is connected to the work part air supply port 178 on the air supply side (air supply mechanism), and one end connected to the work part air supply joint 215. The other end has a work part air supply line 216 connected to the common air supply line 203, and a work part air supply valve (air operated valve) 217 interposed in the work part air supply line 216. Further, the work part purging means 201 has a plurality of work part exhaust joints 218 that are connected to the plurality of work part exhaust ports 179 on the exhaust side (exhaust mechanism), and one end connected to each work part exhaust joint 218. A plurality of work part exhaust pipe lines 219 which are connected to each other and connected to the common exhaust pipe line 204, and a plurality of work part exhaust valves (air operated valves) 220 provided in each work part exhaust pipe line 219 are provided. Yes. In addition, it is preferable that the workpiece | work part air supply line 216 and the workpiece | work part exhaust line 219 are comprised by the pressure | voltage resistant tube etc.
[0092]
In this case, the work part air supply valve 217 and the work part exhaust valve 220 constituted by air operated valves are connected to the control air supply line 222 connected to the compressed air supply device 29, and the control air supply line Pneumatic pressure is controlled by a control valve 223 interposed in 222. That is, the control valve 223 is connected to the controller 125 described above, and the controller 125 controls the work part air supply valve 217 and the work part exhaust valve 220 via the control valve 223 by timer. Thereby, the work part air supply valve 217 and the work part exhaust valve 220 are simultaneously opened for a predetermined time, and the atmosphere in the work box 82 is replaced with dry air (purge).
[0093]
The work box 82 is supplied with high-pressure dry air through the common air supply line 203 (no decompression chamber or the like is provided). Therefore, although not shown, the work box 82 is provided with a pressure sensor. When the pressure sensor detects a pressure equal to or higher than a predetermined value, the controller 125 controls the work part air supply valve 217 via the control valve 223. It is designed to close.
[0094]
Similarly, the relay part purge unit 202 includes a relay part air supply joint 225 that is connected to the relay part air supply port 181 at one touch on the supply side (relay part air supply mechanism) and one end of the relay part air supply unit. It has a relay part air supply line 226 that is connected to the joint 225 and the other end is connected to the common air supply line 203, and a relay part air supply valve (solenoid valve) 227 interposed in the relay part air supply line 226. Further, the relay part purge means 202 includes a plurality of relay part exhaust joints 228 that are connected to the above-described plurality of relay part exhaust ports 182 on the exhaust side (relay part exhaust mechanism) and one end of each relay part exhaust joint. And a plurality of relay part exhaust pipes 229 connected to the common exhaust pipe 204 at the other end, and a plurality of relay part exhaust valves (solenoid valves) 230 provided in the relay part exhaust pipes 229. ing.
[0095]
In this case, the relay part air supply valve 227 and the relay part exhaust valve 230 configured by electromagnetic valves are connected to the controller 125, and the controller 125 connects the relay part air supply valve 227 and the relay part exhaust valve 230 to each other. Timer control. As a result, the relay section air supply valve 227 and the relay section exhaust valve 230 are simultaneously opened for a predetermined time, and the atmosphere in the relay box 154 is replaced with dry air (purge). Similarly to the work box 82, the relay box 154 is provided with a pressure sensor (not shown), and when the pressure sensor detects a pressure equal to or higher than a predetermined value, the controller 125 detects the relay portion air supply valve 227. Is to be closed.
[0096]
In this way, when the controller 125 controls the work part purge unit 201 and the relay part purge unit 202 to fill the work box 82 and the relay box 154 with dry air, the operator uses the glove holder 79 to manually The opening / closing door 80 and the lid 172 are opened by the work. Next, the work W is pulled out to the work set area 53 via the slide table 173, and the processed (drawn) work W and the new work W are replaced here. Thereafter, the work W is accommodated in the work box 82, the lid 172 is closed, and the open / close door 80 is closed in the reverse order to the above, and the work is completed.
[0097]
In addition, after this drawing process, it proceeds to a functional liquid drying process using a drying device (separately installed). Therefore, in the embodiment, in order to load the workpiece W into a separate drying device (also drying in an atmosphere of dry air), the workpiece W is placed in the chamber room together with the workpiece box 82 filled with the atmosphere of dry air. 8 is removed and carried to the drying device. Then, a work box 82 is mounted on the same work receiving portion provided in the drying apparatus, and the work W is introduced into the drying apparatus in the same manner as described above to perform a drying process.
[0098]
As described above, according to the present embodiment, the supply and exhaust of dry air to the chamber room 8 are continued to keep the moisture concentration in the chamber room 8 constant. Can always be filled with fresh dry air. In addition, the moisture concentration can be easily controlled. Thereby, the (drawing) functional droplet (light emitting material) that has landed on the workpiece W is not altered or damaged, and the organic EL device can be manufactured stably.
[0099]
Further, by exhausting simultaneously with the supply of air, an increase in the concentration of the solvent (vaporized) of the functional liquid accompanying the drawing process on the workpiece W can be suppressed, and contamination of the atmosphere can be prevented. In particular, functional liquids (light-emitting material solvents) are acidic or alkaline, and can effectively prevent corrosion of internal devices due to the functional liquid.
[0100]
Further, the chamber apparatus 3 of the present embodiment is provided with a work box 82 for loading and unloading a work in the chamber room 8 in a detachable manner, and a box purge means 150 for purging the dry air in the work box 82. Therefore, the work W can be carried in and out (exchanged) easily without destroying the dry air atmosphere in the chamber room 8. Moreover, since the work box 82 is filled with dry air after the work W has been replaced, the work W is directly carried into the next apparatus (for example, a drying apparatus) that performs the work processing in the dry air atmosphere. be able to.
[0101]
In this embodiment, the work part purge means 201 for purging the inside of the work box 82 attached to the chamber room 8 with dry air is provided. However, this kind of work part purge means 201 is separately provided. After purging the work box 82 with dry air, it may be carried (mounted) into the chamber room 8. If it does in this way, the working efficiency in the chamber apparatus 3 can be improved.
[0102]
Next, a method for manufacturing an organic EL device using the work processing facility of the above embodiment will be described. FIG. 15 is a diagram showing a cross-sectional view of the organic EL device. As shown in the figure, the organic EL device 701 includes a substrate 711, a circuit element portion 721, a pixel electrode 731, a bank portion 741, a light emitting element 751, a cathode 761 (counter electrode), and a sealing substrate 771. A wiring of a flexible substrate (not shown) and a driving IC (not shown) are connected to the organic EL element 702.
[0103]
As shown in the figure, a circuit element portion 721 is formed on a substrate 711 of the organic EL element 702, and a plurality of pixel electrodes 731 are aligned on the circuit element portion 721. Bank portions 741 are formed in a lattice pattern between the pixel electrodes 731, and light emitting elements 751 are formed in the recess openings 744 generated by the bank portions 741. A cathode 761 is formed on the entire upper surface of the bank portion 741 and the light emitting element 751, and a sealing substrate 771 is laminated on the cathode 761.
[0104]
A manufacturing process of the organic EL element 702 includes a bank part forming process for forming the bank part 741, a plasma treatment process for appropriately forming the light emitting element 751, a light emitting element forming process for forming the light emitting element 751, and a cathode 761. And a sealing step in which a sealing substrate 771 is stacked on the cathode 761 and sealed. That is, the organic EL element 702 is formed by forming the bank portion 741 at a predetermined position on the substrate 711 (work W) on which the circuit element portion 721 and the pixel electrode 731 are formed in advance, and then performing plasma processing, the light emitting element 751 and the cathode 761 (opposing Electrode) are sequentially formed, and further, a sealing substrate 771 is laminated on the cathode 761 and sealed. Since the organic EL element 702 is easily deteriorated by the influence of moisture in the atmosphere, the organic EL element 702 is manufactured in an atmosphere of inert gas (nitrogen, argon, helium, etc.) in addition to dry air. Preferably it is done.
[0105]
Each light emitting element 751 includes a hole injection / transport layer 752 and a film forming portion including a light emitting layer 753 colored in any one color of R (red), G (green), and B (blue). The light emitting element forming step includes a hole injecting / transporting layer forming step for forming the hole injecting / transporting layer 752 and a light emitting layer forming step for forming the three-color light emitting layer 753. .
[0106]
The organic EL device 701 is manufactured by manufacturing the organic EL element 702 and then connecting the wiring of the flexible substrate to the cathode 761 of the organic EL element 702 and connecting the wiring of the circuit element unit 721 to the driving IC.
[0107]
【The invention's effect】
As described above, according to the chamber apparatus of the present invention, the supply of fresh dry air and the exhaust of the atmosphere corresponding to the supply of fresh dry air are always performed. An air atmosphere can be maintained. Therefore, work processing or the like can be performed in a always good environment.
[0108]
In addition, the work processing apparatus of the present invention Beside According to this, since the workpiece processing can be performed in a controlled dry air atmosphere, the reliability and quality in the workpiece processing (production of the organic EL device) can be maintained at a high level. Therefore, in this organic EL device, a high-quality and highly reliable device can be provided at a low cost.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view of a work processing facility according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a front view of the work processing facility according to the embodiment.
FIG. 3 is a side view of the work processing facility according to the embodiment.
FIG. 4 is a system diagram of the chamber apparatus according to the embodiment.
FIG. 5 is a plan view of the chamber apparatus according to the embodiment.
FIG. 6 is a front view of the chamber apparatus according to the embodiment.
FIG. 7 is a left side view of the chamber apparatus according to the embodiment.
FIG. 8 is a right side view of the chamber apparatus according to the embodiment.
FIG. 9 is a front view of the chamber apparatus according to the embodiment.
FIG. 10 is a front view of an electric / mechanical room of the chamber apparatus according to the embodiment.
FIG. 11 is a cut side view of the work box according to the embodiment.
FIG. 12 is a cutting plan view of the work box according to the embodiment.
FIG. 13 is a front view of the open / close door of the workpiece receiving unit according to the embodiment.
FIG. 14 is a front view of the door of the work box according to the embodiment.
FIG. 15 is a cross-sectional view of an organic EL device according to an embodiment.
[Explanation of symbols]
1 Work processing equipment 2 Droplet discharge device
3 Chamber device 4 Function droplet discharge head
6 Drawing device 7 Maintenance device
8 Chamber room 9 Electrical / mechanical room
51 Maintenance area 52 Drawing area
53 Workset area 65 Air supply duct
66 Exhaust duct 79 Glove holder
80 Opening / closing door 81 Work receiving part
82 Work box 84 Air supply port
85 Exhaust port 87 Filter chamber
89 Filter 97 Supply air flow path
100 Air open / close valve 102 Exhaust flow path
104 Air adjustment damper 105 Exhaust fan
107 Return flow path 109 Dust exhaust pipe
110 Dust fan 112 Cooler
113 Heater 121 First relief valve
122 Second relief valve 125 Controller
126 Dew point sensor 129 Temperature sensor
132 Pressure sensor 701 Organic EL device
702 Organic EL device 711 Substrate
752 Hole Injection / Transport Layer 753 Light-Emitting Layer
W Workpiece (substrate)

Claims (15)

ワーク処理をドライエアーの雰囲気中で行うことを要するワーク処理装置を収容するチャンバ装置であって、
前記ワーク処理装置を収容するチャンバルームと、
ドライエアー供給設備に連なると共に前記チャンバルーム内にドライエアーを給気する給気流路と、
前記給気流路に介設した給気量調整手段と、
前記チャンバルーム内のドライエアーを排気する排気流路と、
前記排気流路に介設した排気量調整手段と、
前記チャンバルーム内の水分濃度を検出する水分濃度検出手段と、
前記水分濃度検出手段の検出結果に基づいて、前記チャンバルーム内の水分濃度が一定になるように前記給気量調整手段および前記排気量調整手段を制御する給排気制御手段と、を備えたことを特徴とするチャンバ装置。A chamber apparatus that accommodates a work processing apparatus that needs to perform work processing in an atmosphere of dry air,
A chamber room for accommodating the workpiece processing apparatus;
An air supply passage that is connected to a dry air supply facility and supplies dry air into the chamber room;
An air supply amount adjusting means interposed in the air supply flow path;
An exhaust passage for exhausting dry air in the chamber room;
An exhaust amount adjusting means interposed in the exhaust passage;
Moisture concentration detecting means for detecting the moisture concentration in the chamber room;
Based on a detection result of the water concentration detection means, further comprising a, and supply and exhaust control means for the concentration of water in the chamber room to control the air supply amount adjusting means and the exhaust quantity adjusting means so as to be constant A chamber apparatus characterized by the above. 前記給気流路には、ドライエアーを前記チャンバルーム内に給気する給気ファンが介設されていることを特徴とする請求項１に記載のチャンバ装置。  The chamber apparatus according to claim 1, wherein an air supply fan for supplying dry air into the chamber room is interposed in the air supply passage. 前記排気流路には、前記チャンバルーム内のドライエアーを排気する排気ファンが介設されていることを特徴とする請求項１または２に記載のチャンバ装置。  The chamber apparatus according to claim 1 or 2, wherein an exhaust fan for exhausting dry air in the chamber room is interposed in the exhaust passage. 前記チャンバルーム内の圧力を検出する圧力検出手段と、
前記圧力検出手段の検出結果に基づいて、前記チャンバルーム内の圧力が正圧を維持するように前記排気ファンを制御するファン制御手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項３に記載のチャンバ装置。Pressure detecting means for detecting the pressure in the chamber room;
The fan control means for controlling the exhaust fan so that the pressure in the chamber room maintains a positive pressure based on the detection result of the pressure detection means. Chamber equipment. 前記給気流路に介設した圧力逃がし弁と、
前記チャンバルーム内の圧力を検出する圧力検出手段と、
前記圧力検出手段の検出結果に基づいて、前記チャンバルーム内の圧力が一定値以上になったときに前記圧力逃がし弁を開弁する逃がし弁制御手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のチャンバ装置。A pressure relief valve interposed in the air supply flow path;
Pressure detecting means for detecting the pressure in the chamber room;
And a relief valve control means for opening the pressure relief valve when the pressure in the chamber room becomes a predetermined value or more based on a detection result of the pressure detection means. Item 5. The chamber apparatus according to any one of Items 1 to 4. 前記給気流路と前記排気流路とを連通すると共に、排気の一部を給気側に戻すリターン流路を、更に備えたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載のチャンバ装置。  The chamber according to any one of claims 1 to 5, further comprising a return flow path that connects the air supply flow path and the exhaust flow path and returns a part of the exhaust to the air supply side. apparatus. 前記給気流路に介設されドライエアーの温度を調整する温度調整装置と、
前記チャンバルーム内の温度を検出する温度検出手段と、
前記温度検出手段の検出結果に基づいて、前記チャンバルーム内の温度が一定になるように前記温度調整装置を制御する温度制御手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載のチャンバ装置。A temperature adjusting device that is interposed in the air supply flow path and adjusts the temperature of the dry air;
Temperature detecting means for detecting the temperature in the chamber room;
The temperature control means for controlling the temperature adjusting device so that the temperature in the chamber room becomes constant based on the detection result of the temperature detection means, further comprising: The chamber apparatus in any one. 前記温度調整装置は、上流側に位置するクーラーと下流側に位置すると共に前記温度制御手段により制御されるヒーターとを有し、
前記ヒーターは、前記クーラーによりいったん冷却されたドライエアーを昇温することを特徴とする請求項７に記載のチャンバ装置。The temperature adjusting device has a cooler located on the upstream side and a heater located on the downstream side and controlled by the temperature control means,
The chamber apparatus according to claim 7, wherein the heater raises the temperature of the dry air once cooled by the cooler. 前記給気流路に連なると共に前記チャンバルームに開口した給気口と、
前記排気流路に連なると共に前記チャンバルームに開口した排気口と、を更に備え、
前記給気口は前記チャンバルームの上部に開口し、前記排気口は前記チャンバルームの下部に開口していることを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載のチャンバ装置。An air supply port that is continuous with the air supply passage and opens into the chamber room;
An exhaust port that continues to the exhaust passage and opens into the chamber room; and
The chamber apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the air supply port is opened at an upper portion of the chamber room, and the exhaust port is opened at a lower portion of the chamber room. 前記チャンバルームの天井部には、前記給気口に連なると共に下面を開放したフィルタチャンバと、前記フィルタチャンバの下面開放部に装着したフィルタと、が設けられていることを特徴とする請求項９に記載のチャンバ装置。  10. The ceiling portion of the chamber room is provided with a filter chamber that is continuous with the air supply port and has an open lower surface, and a filter that is attached to the lower surface open portion of the filter chamber. The chamber apparatus as described in. 前記チャンバルームを貫通して、前記ワーク処理装置で発生する塵埃を排気する塵埃排気流路を、更に備え、
前記塵埃排気流路の下流端は、前記給気流路に接続されていることを特徴とする請求項１０に記載のチャンバ装置。A dust exhaust passage that exhausts dust generated in the work processing apparatus through the chamber room is further provided,
The chamber apparatus according to claim 10, wherein a downstream end of the dust exhaust passage is connected to the air supply passage. 前記塵埃排気流路には、塵埃排気ファンが介設されていることを特徴とする請求項１１に記載のチャンバ装置。  The chamber apparatus according to claim 11, wherein a dust exhaust fan is interposed in the dust exhaust passage. 請求項１ないし１２のいずれかに記載のチャンバ装置と、前記チャンバ装置に収容した前記ワーク処理装置と、を備えたことを特徴とするワーク処理設備。  A work processing facility comprising the chamber apparatus according to claim 1 and the work processing apparatus accommodated in the chamber apparatus. 前記ワーク処理装置が、有機ＥＬ装置の製造装置であることを特徴とする請求項１３に記載のワーク処理設備。  The work processing equipment according to claim 13, wherein the work processing apparatus is an apparatus for manufacturing an organic EL device. 前記有機ＥＬ装置の製造装置が、ワークである基板に対し、発光機能材料を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に走査し、前記発光機能材料を選択的に吐出して前記基板上の多数の画素領域に有機ＥＬ機能層を形成する液滴吐出装置を有していることを特徴とする請求項１４に記載のワーク処理設備。  The organic EL device manufacturing apparatus relatively scans a functional liquid droplet ejection head into which a light emitting functional material is introduced with respect to a substrate which is a workpiece, and selectively ejects the light emitting functional material so that a large number on the substrate. The work processing facility according to claim 14, further comprising: a droplet discharge device that forms an organic EL functional layer in the pixel region.
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