JP4371088B2 - Ferroelectric memory - Google Patents
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Description
本発明は、強誘電体容量を記憶媒体とする強誘電体メモリ(FeRAM)に関する。より詳細には、強誘電体メモリにおけるデータ読み出し技術に関する。 The present invention relates to a ferroelectric memory (FeRAM) using a ferroelectric capacitor as a storage medium. More specifically, the present invention relates to a data reading technique in a ferroelectric memory.
図7は従来の強誘電体メモリの一例の要部のブロック回路図、図8はその詳細な回路図である(例えば、特許文献1参照)。図7および図8において、1は2トランジスタ/2キャパシタ型(2T/2C型)のメモリセル、WLはワード線、PLはプレート線、BL、BLXはビット線、2、3はプリセンスアンプ、4は閾値発生回路、5はマイナス電圧発生回路、6はセンスアンプ、7、8はシュミットトリガ回路、9はNANDゲートである。 FIG. 7 is a block circuit diagram of a main part of an example of a conventional ferroelectric memory, and FIG. 8 is a detailed circuit diagram thereof (see, for example, Patent Document 1). 7 and 8, 1 is a 2-transistor / 2-capacitor (2T / 2C-type) memory cell, WL is a word line, PL is a plate line, BL and BLX are bit lines, 2 and 3 are pre-sense amplifiers, 4 Is a threshold generation circuit, 5 is a negative voltage generation circuit, 6 is a sense amplifier, 7 and 8 are Schmitt trigger circuits, and 9 is a NAND gate.
実際には、メモリセルは、縦横に多数配列されているが、ここでは、1個のメモリセルのみを図示し、他のメモリセルは図示を省略している。また、プリセンスアンプ2、3、センスアンプ6、シュミットトリガ回路7、8およびNANDゲート9で読み出し回路が構成されているが、このような読み出し回路は、実際には複数組あるが、図7および図8に示す読み出し回路以外は図示を省略している。また、閾値発生回路4およびマイナス電圧発生回路5は、複数の読み出し回路で共用される。
Actually, a large number of memory cells are arranged vertically and horizontally, but only one memory cell is shown here, and the other memory cells are not shown. The
メモリセル1は、記憶媒体をなす強誘電体容量F1、F2と、NチャネルMOSトランジスタ(以下、NMOSトランジスタという)からなるアクセストランジスタN1、N2を有している。
The
アクセストランジスタN1は、ゲートをワード線WLに接続し、ドレインを強誘電体容量F1の一端に接続し、ソースをビット線BLに接続し、強誘電体容量F1は、他端をプレート線PLに接続している。アクセストランジスタN2は、ゲートをワード線WLに接続し、ドレインを強誘電体容量F2の一端に接続し、ソースをビット線BLXに接続し、強誘電体容量F2は、他端をプレート線PLに接続している。 The access transistor N1 has a gate connected to the word line WL, a drain connected to one end of the ferroelectric capacitor F1, a source connected to the bit line BL, and the ferroelectric capacitor F1 connected to the plate line PL. Connected. The access transistor N2 has a gate connected to the word line WL, a drain connected to one end of the ferroelectric capacitor F2, a source connected to the bit line BLX, and the other end connected to the plate line PL. Connected.
本例では、書き込み回路は、図示を省略しているが、強誘電体容量F1、F2には相補データが書き込まれる。即ち、強誘電体容量F1にデータ“0”が書込まれる場合には、強誘電体容量F2にはデータ“1”が書き込まれ、強誘電体容量F1にデータ“1”が書き込まれる場合には、強誘電体容量F2にはデータ“0”が書込まれる。 In this example, the writing circuit is not shown, but complementary data is written in the ferroelectric capacitors F1 and F2. That is, when data “0” is written to the ferroelectric capacitor F1, data “1” is written to the ferroelectric capacitor F2, and data “1” is written to the ferroelectric capacitor F1. In the ferroelectric capacitor F2, data “0” is written.
ここで、強誘電体容量F1に対するデータ“0”の書き込みは、ワード線WLの電位=VDD電位(例えば、3V)にしてアクセストランジスタN1をONにし、ビット線BLの電位=GND電位(0V)、プレート線PLの電位=VDD電位とし、強誘電体容量F1に正電圧を印加することにより行われる。 Here, the data “0” is written to the ferroelectric capacitor F1 by setting the potential of the word line WL = VDD potential (for example, 3V), turning on the access transistor N1, and the potential of the bit line BL = GND potential (0V). This is done by setting the potential of the plate line PL = VDD potential and applying a positive voltage to the ferroelectric capacitor F1.
これに対して、強誘電体容量F2に対するデータ“1”の書き込みは、ワード線WLの電位=VDD電位にしてアクセストランジスタN2をONにし、ビット線BLXの電位=VDD電位、プレート線PLの電位=GND電位とし、強誘電体容量F2に負電圧を印加することにより行われる。 On the other hand, in writing data “1” to the ferroelectric capacitor F2, the potential of the word line WL = VDD potential, the access transistor N2 is turned on, the potential of the bit line BLX = VDD potential, and the potential of the plate line PL. = GND potential, and a negative voltage is applied to the ferroelectric capacitor F2.
また、強誘電体容量F1に対するデータ“1”の書き込みは、ワード線WLの電位=VDD電位にしてアクセストランジスタN1をONにし、ビット線BLの電位=VDD電位、プレート線PLの電位=GND電位とし、強誘電体容量F1に負電圧を印加することにより行われる。 In addition, data “1” is written to the ferroelectric capacitor F1 by setting the potential of the word line WL = VDD potential, turning on the access transistor N1, the potential of the bit line BL = VDD potential, and the potential of the plate line PL = GND potential. And by applying a negative voltage to the ferroelectric capacitor F1.
これに対して、強誘電体容量F2に対するデータ“0”の書き込みは、ワード線WLの電位=VDD電位にしてアクセストランジスタN2をONにし、ビット線BLXの電位=GND電位、プレート線PLの電位=VDD電位とし、強誘電体容量F2に正電圧を印加することにより行われる。 On the other hand, when data “0” is written to the ferroelectric capacitor F2, the potential of the word line WL = VDD potential, the access transistor N2 is turned on, the potential of the bit line BLX = GND potential, and the potential of the plate line PL. = VDD potential, and a positive voltage is applied to the ferroelectric capacitor F2.
プリセンスアンプ2は、スイッチS1、S3と、PチャネルMOSトランジスタ(以下、PMOSトランジスタという)P1と、容量C1、C3を有している。スイッチS1は、一端をビット線BLに接続し、他端を接地し、ビット線BLのリセット時にはON、それ以外の時はOFFとされる。スイッチS3は、一端を節点MINUSに接続し、他端をマイナス電圧発生回路5の出力端5Aに接続し、節点MINUSのリセット時にはON、それ以外の時はOFFとされる。
The
PMOSトランジスタP1は、ソースをビット線BLに接続し、ゲートを閾値発生回路4の出力端4Aに接続し、ドレインを節点MINUSに接続している。容量C1は、一端を節点MINUSに接続し、他端を接地している。容量C3は、一端を節点MINUSに接続し、他端を節点OUTに接続している。
The PMOS transistor P1 has a source connected to the bit line BL, a gate connected to the
プリセンスアンプ3は、スイッチS2、S4と、PMOSトランジスタP2と容量C2、C4を有している。スイッチS2は、一端をビット線BLXに接続し、他端を接地し、ビット線BLXのリセット時にはON、それ以外の時はOFFとされる。スイッチS4は、一端を節点MINUSXに接続し、他端をマイナス電圧発生回路5の出力端5Aに接続し、節点MINUSXのリセット時にはON、それ以外の時はOFFとされる。
The
PMOSトランジスタP2は、ソースをビット線BLXに接続し、ゲートを閾値発生回路4の出力端4Aに接続し、ドレインを節点MINUSXに接続している。容量C2は、一端を節点MINUSXに接続し、他端を接地している。容量C4は、一端を節点MINUSXに接続し、他端を節点OUTXに接続している。
The PMOS transistor P2 has a source connected to the bit line BLX, a gate connected to the
閾値発生回路4は、ビット線BL、BLXがGND電位の時、即ち、PMOSトランジスタP1、P2のソースがGND電位の時のPMOSトランジスタの閾値VTHPに等しい電位を発生するものであり、閾値発生回路4が出力する電位VTHPは、GND電位よりも低い電位である。マイナス電圧発生回路5は負電位VMINUS(例えば、−3V)を発生するものである。
The
センスアンプ6は、ラッチ型センスアンプであり、PMOSトランジスタP3、P4、P5、P6、P7と、NMOSトランジスタN3、N4、N5、N6、N7と、スイッチS5、S6とインバータIB1を有している。 The sense amplifier 6 is a latch-type sense amplifier, and includes PMOS transistors P3, P4, P5, P6, and P7, NMOS transistors N3, N4, N5, N6, and N7, switches S5 and S6, and an inverter IB1. .
PMOSトランジスタP4とNMOSトランジスタN4は、ドレイン同士を接続すると共に、ゲート同士を接続し、インバータIB2を構成している。また、PMOSトランジスタP5とNMOSトランジスタN5は、ドレイン同士を接続すると共に、ゲート同士を接続し、インバータIB3を構成している。 The PMOS transistor P4 and the NMOS transistor N4 have drains connected to each other and gates connected to each other to constitute an inverter IB2. Further, the PMOS transistor P5 and the NMOS transistor N5 have drains connected to each other and gates connected to each other to constitute an inverter IB3.
インバータIB2、IB3は、インバータIB2の入力端をインバータIB3の出力端および節点SAOUTXに接続すると共に、インバータIB3の入力端をインバータIB2の出力端及び節点SAOUTに接続することにより、節点SAOUT、SAOUTXの電位差を増幅するように構成されている。 The inverters IB2 and IB3 connect the input terminal of the inverter IB2 to the output terminal of the inverter IB3 and the node SAOUTX, and connect the input terminal of the inverter IB3 to the output terminal of the inverter IB2 and the node SAOUT. It is configured to amplify the potential difference.
PMOSトランジスタP3は、ソースをVDD電源に接続し、ドレインをPMOSトランジスタP4、P5のソースに接続し、ゲートをインバータIB1の出力端に接続することにより、インバータIB2、IB3をVDD電源から切り離す電源スイッチをなしている。インバータIB1は、NANDゲート9が出力するラッチ起動信号SAPOWERを反転するものである。
The PMOS transistor P3 has a source connected to the VDD power supply, a drain connected to the sources of the PMOS transistors P4 and P5, and a gate connected to the output terminal of the inverter IB1, thereby disconnecting the inverters IB2 and IB3 from the VDD power supply. I am doing. The inverter IB1 inverts the latch activation signal SAPOWER output from the
NMOSトランジスタN3は、ドレインをNMOSトランジスタN4、N5のソースに接続し、ソースを接地し、ゲートをNANDゲート9の出力端に接続することにより、インバータIB2、IB3をGND電源から切り離す電源スイッチをなしている。
The NMOS transistor N3 has a power switch that disconnects the inverters IB2 and IB3 from the GND power supply by connecting the drain to the sources of the NMOS transistors N4 and N5, grounding the source, and connecting the gate to the output terminal of the
PMOSトランジスタP6およびNMOSトランジスタN6は、トランスファゲートTG1を構成しており、トランスファゲートTG1は、入力端を節点OUTに接続し、出力端を節点SAOUTに接続している。なお、PMOSトランジスタP6のゲートはNANDゲート9の出力端に接続され、NMOSトランジスタN6のゲートはインバータIB1の出力端に接続されている。
The PMOS transistor P6 and the NMOS transistor N6 constitute a transfer gate TG1, and the transfer gate TG1 has an input terminal connected to the node OUT and an output terminal connected to the node SAOUT. The gate of the PMOS transistor P6 is connected to the output terminal of the
PMOSトランジスタP7およびNMOSトランジスタN7は、トランスファゲートTG2を構成しており、トランスファゲートTG2は、入力端を節点OUTXに接続し、出力端を節点SAOUTXに接続している。なお、PMOSトランジスタP7のゲートはNANDゲート9の出力端に接続され、NMOSトランジスタN7のゲートはインバータIB1の出力端に接続されている。
The PMOS transistor P7 and the NMOS transistor N7 constitute a transfer gate TG2. The transfer gate TG2 has an input terminal connected to the node OUTX and an output terminal connected to the node SAOUTX. The gate of the PMOS transistor P7 is connected to the output terminal of the
スイッチS5は、一端を節点OUTに接続し、他端を接地しており、節点OUTのリセット時にはON、それ以外の時はOFFとされる。スイッチS6は、一端を節点OUTXに接続し、他端を接地しており、節点OUTXのリセット時にはON、それ以外の時はOFFとされる。 The switch S5 has one end connected to the node OUT and the other end grounded, and is turned on when the node OUT is reset, and is turned off otherwise. The switch S6 has one end connected to the node OUTX and the other end grounded. The switch S6 is turned on when the node OUTX is reset, and is turned off otherwise.
シュミットトリガ回路7は、PMOSトランジスタP8、P9、P10とNMOSトランジスタN8を有しており、入力端7Aを節点OUTに接続し、出力端7BをNANDゲート9の一方の入力端子に接続している。
The Schmitt trigger circuit 7 includes PMOS transistors P8, P9, and P10 and an NMOS transistor N8. The
PMOSトランジスタP8は、ゲートを入力端7Aに接続し、ソースをVDD電源に接続している。PMOSトランジスタP9は、ゲートを入力端7Aに接続し、ソースをPMOSトランジスタP8のドレインに接続し、ドレインを出力端7Bに接続している。
The PMOS transistor P8 has a gate connected to the
NMOSトランジスタN8は、ゲートを入力端7Aに接続し、ドレインを出力端7Bに接続し、ソースを接地している。PMOSトランジスタP10は、ソースをPMOSトランジスタP8のドレインに接続し、ドレインを接地し、ゲートをPMOSトランジスタP9のドレインに接続している。
The NMOS transistor N8 has a gate connected to the
シュミットトリガ回路8は、PMOSトランジスタP11、P12、P13とNMOSトランジスタN9を有しており、シュミットトリガ回路8は、入力端8Aを節点OUTXに接続し、出力端8BをNANDゲート9の他方の入力端子に接続している。
The
PMOSトランジスタP11は、ゲートを入力端8Aに接続し、ソースをVDD電源に接続している。PMOSトランジスタP12は、ゲートを入力端8Aに接続し、ソースをPMOSトランジスタP11のドレインに接続し、ドレインを出力端8Bに接続している。
The PMOS transistor P11 has a gate connected to the input terminal 8A and a source connected to the VDD power source. The PMOS transistor P12 has a gate connected to the input terminal 8A, a source connected to the drain of the PMOS transistor P11, and a drain connected to the
NMOSトランジスタN9は、ゲートを入力端8Aに接続し、ドレインを出力端8Bに接続し、ソースを接地している。PMOSトランジスタP13は、ソースをPMOSトランジスタP11のドレインに接続し、ドレインを接地し、ゲートをPMOSトランジスタP12のドレインに接続している。
The NMOS transistor N9 has a gate connected to the input terminal 8A, a drain connected to the
NANDゲート9は、シュミットトリガ回路7の出力TRG1とシュミットトリガ回路8の出力TRG2をNAND処理してラッチ起動信号SAPOWERを出力するものである。ラッチ起動信号SAPOWERは、インバータIB1の入力端およびPMOSトランジスタP6、P7のゲートに印加される。
The
図9は図7(図8)に示す従来の強誘電体メモリのデータ読み出し動作を示す波形図であり、ワード線WL、プレート線PL、ビット線BL、BLX、節点MINUS、MINUSX、節点OUT、OUTX、ラッチ起動信号SAPOWERおよび節点SAOUT、SAOUTXの電位変化を示しているが、強誘電体容量F1、F2の分極量が減少していない場合において、強誘電体容量F1にはデータ“1”が、強誘電体容量F2にはデータ“0”が書き込まれており、これを読み出す場合を例としている。 FIG. 9 is a waveform diagram showing the data read operation of the conventional ferroelectric memory shown in FIG. 7 (FIG. 8). The word line WL, the plate line PL, the bit lines BL and BLX, the nodes MINUS, MINUSX, the node OUT, Although the potential changes of OUTX, latch activation signal SAPOWER, and nodes SAOUT and SAOUTX are shown, when the amount of polarization of the ferroelectric capacitors F1 and F2 has not decreased, data “1” is stored in the ferroelectric capacitor F1. In this example, data “0” is written in the ferroelectric capacitor F2, and this is read.
図7(図8)に示す従来の強誘電体メモリにおいては、メモリセル1からデータを読み出す場合、時刻TRESまでは、プリセンスアンプ2、3内のスイッチS1、S2はONを維持し、図9(C)に示すように、ビット線BL、BLXをGND電位に固定しているが、時刻TRES以降は、スイッチS1、S2がOFFとなり、ビット線BL、BLXを開放する。
In the conventional ferroelectric memory shown in FIG. 7 (FIG. 8), when data is read from the
また、閾値発生回路4は、ビット線BL、BLXがGND電位、即ち、PMOSトランジスタP1、P2のソースがGND電位の時のPMOSトランジスタの閾値VTHPに等しい電位を発生し、これをPMOSトランジスタP1、P2のゲートに供給する。
The
また、プリセンスアンプ2、3内のスイッチS3、S4は、時刻TRESまではONを維持し、節点MINUS、MINUSXをマイナス電圧発生回路5が出力する負電位VMINUS(例えば、−3V)に下げているが、時刻TRES以降はOFFとなり、節点MINUS、MINUSXを開放する。なお、時刻TRESから時刻TWLPLまでは、節点MINUS、MINUSXの電位は、容量C1、C2によって負電位VMINUSに保たれる。
Further, the switches S3 and S4 in the
時刻TWLPLになると、図9(A)、(B)に示すようにワード線WLとプレート線PLの電位がVDD電位に上げられ、アクセストランジスタN1、N2がONとなり、強誘電体容量F1、F2に正電圧が印加される。ここに、データ“1”を記憶していた強誘電体容量F1に印加される電圧は、書き込み時と反対極性であることから、強誘電体容量F1に分極反転が起こり、強誘電体容量F1から比較的大きな反転電荷がビット線BLに流れることになる。 At time TWLPL, as shown in FIGS. 9A and 9B, the potentials of the word line WL and the plate line PL are raised to the VDD potential, the access transistors N1 and N2 are turned on, and the ferroelectric capacitors F1 and F2 are turned on. A positive voltage is applied to. Here, since the voltage applied to the ferroelectric capacitor F1 storing the data “1” has a polarity opposite to that at the time of writing, polarization inversion occurs in the ferroelectric capacitor F1, and the ferroelectric capacitor F1. Therefore, a relatively large inversion charge flows to the bit line BL.
この時、ビット線BLの電位は上がろうとするが、PMOSトランジスタP1のゲートに閾値VTHPが印加されているため、図9(C)に示すようにビット線BLの電位が僅かに上がると、PMOSトランジスタP1がONし、ビット線BLからPMOSトランジスタP1のソースおよびドレインを介して節点MINUSに反転電荷に等しい電荷が流れ、ビット線BLの電位はGND電位の近傍に保たれると共に、容量C1によりマイナス電位VMINUSに保持されていた節点MINUSの電位は、図9(D)に一点鎖線で示すように大きく上昇する。 At this time, the potential of the bit line BL tends to rise, but since the threshold value VTHP is applied to the gate of the PMOS transistor P1, when the potential of the bit line BL slightly increases as shown in FIG. 9C, The PMOS transistor P1 is turned on, a charge equal to the inverted charge flows from the bit line BL to the node MINUS via the source and drain of the PMOS transistor P1, the potential of the bit line BL is kept near the GND potential, and the capacitance C1 As a result, the potential of the node MINUS held at the minus potential VMINUS greatly increases as shown by a one-dot chain line in FIG.
これに対して、データ“0”を記憶していた強誘電体容量F2に印加される電圧は、書き込み時と同極性であることから、強誘電体容量F2では分極反転は起こらず、強誘電体容量F2から比較的小さな電荷がビット線BLXに流れることになる。 On the other hand, since the voltage applied to the ferroelectric capacitor F2 storing the data “0” has the same polarity as that at the time of writing, no polarization inversion occurs in the ferroelectric capacitor F2, and the ferroelectric capacitor A relatively small charge flows from the body capacitance F2 to the bit line BLX.
この時、ビット線BLXの電位も上がろうとするが、PMOSトランジスタP2のゲートに閾値VTHPが印加されているため、図9(C)に示すようにビット線BLXの電位が僅かに上がると、PMOSトランジスタP2がONし、ビット線BLXからPMOSトランジスタP2のソースおよびドレインを介して節点MINUSXに電荷が流れ、ビット線BLXの電位はGND電位の近傍に保たれると共に、容量C2によりマイナス電位VMINUSに保持されていた節点MINUSXの電位は、図9(D)に二点鎖線で示すように上昇するが、節点MINUSの上昇よりは小さい。 At this time, the potential of the bit line BLX also tends to rise, but since the threshold value VTHP is applied to the gate of the PMOS transistor P2, when the potential of the bit line BLX slightly increases as shown in FIG. 9C, The PMOS transistor P2 is turned on, and electric charge flows from the bit line BLX to the node MINUSX via the source and drain of the PMOS transistor P2, and the potential of the bit line BLX is kept near the GND potential, and the negative potential VMINUS is caused by the capacitor C2. The potential of the node MINUSX held at the point of time increases as shown by a two-dot chain line in FIG. 9D, but is smaller than the increase of the node MINUS.
また、センスアンプ6内のスイッチS5、S6は、時刻TRESまではONにされており、節点OUT、OUTXは、時刻TRESまではGND電位に固定されると共に、節点MINUS、MINUSXは、前述のように、時刻TRESまでは負電位VMINUSに固定されている。 The switches S5 and S6 in the sense amplifier 6 are turned ON until time TRES, and the nodes OUT and OUTX are fixed to the GND potential until time TRES, and the nodes MINUS and MINUSX are as described above. In addition, the negative potential VMINUS is fixed until time TRES.
時刻TRES以降、スイッチS5、S6はOFFとなり、節点OUT、OUTXは開放されるが、容量C3、C4は、それぞれその両端の電位差を保つので、節点MINUS、MINUSXの電位変化に応じて節点OUT、OUTXも動くことになる。したがって、図9(D)に示すように、節点MINUS、MINUSXの電位が上昇すると、節点OUT、OUTXの電位は、図9(E)に示すように、節点MINUS、MINUSXの波形と同じ波形で、電位が|VMINUS|だけ上にずれ、GND電位を基準とした正電位の波形となる。 After the time TRES, the switches S5 and S6 are turned off and the nodes OUT and OUTX are opened, but the capacitors C3 and C4 maintain the potential difference between both ends thereof, so that the nodes OUT and OUT are changed according to the potential changes of the nodes MINUS and MINUSX. OUTX will also move. Therefore, as shown in FIG. 9D, when the potentials of the nodes MINUS and MINUSX rise, the potentials of the nodes OUT and OUTX are the same as the waveforms of the nodes MINUS and MINUSX as shown in FIG. , The potential is shifted upward by | VMINUS |, resulting in a positive potential waveform with respect to the GND potential.
また、シュミットトリガ回路7、8の入力端7A、8Aはそれぞれ節点OUT、OUTXに接続されているが、節点OUT、OUTXの電位は、読み出し前にはGND電位とされるので、シュミットトリガ回路7、8の出力TRG1、TRG2は、読み出し前にはVDD電位となり、NANDゲート9が出力するラッチ起動信号SAPOWERは、読み出し前にはGND電位となっている。
The
読み出しが始まると、節点OUT、OUTXの電位が上昇し、本例の場合、図9(E)に示すように、節点OUTが節点OUTXよりも先に時刻T2でシュミットトリガ回路7の入力立ち上がり側の閾値VSCHMIDTに達することになる。この結果、シュミットトリガ回路7の出力TRG1がVDD電位からGND電位に切り替わり、NANDゲート9が出力するラッチ起動信号SAPOWERは、図9(F)に示すように、GND電位からVDD電位に切り替わる。
When reading starts, the potentials of the nodes OUT and OUTX rise. In this example, as shown in FIG. 9E, the node OUT is on the input rising side of the Schmitt trigger circuit 7 at time T2 before the node OUTX. The threshold value VSCHMIDT will be reached. As a result, the output TRG1 of the Schmitt trigger circuit 7 is switched from the VDD potential to the GND potential, and the latch activation signal SAPOWER output from the
なお、節点OUT、OUTXの電位はゆるやかに立ち上がるが、シュミットトリガ回路7、8は、いったん出力が切り替わると、入力が多少変動しても切り替わらないため、チャッタリング(閾値付近での入力の僅かな変動で出力がなんども切り替わること)を起こすことはない。
Although the potentials of the nodes OUT and OUTX rise gently, the
また、節点OUTの電位がシュミットトリガ回路7の入力立ち上がり側の閾値VSCHMIDTに達する時刻T2までは、NANDゲート9が出力するラッチ起動信号SAPOWERはGND電位を保ち、クロスカップル接続されたインバータIB2、IB3はVDD電源およびGND電源から切り離されて非活性状態となっている。また、トランスファゲートTG1、TG2はONで、節点OUTは節点SAOUTに接続され、節点OUTXは節点SAOUTXに接続されている。
Further, until the time T2 when the potential of the node OUT reaches the threshold value VSCHMIDT on the input rising side of the Schmitt trigger circuit 7, the latch activation signal SAPOWER output from the
時刻T2で、図9(F)に示すようにラッチ起動信号SAPOWERがVDD電位になると、トランスファゲートTG1、TG2はOFFとなると共に、インバータIB2、IB3にVDDおよびGND電源が供給され、インバータIB2、IB3は活性状態となり、図9(G)に示すように、節点SAOUT、SAOUTXの電位差がVDD電位−GND電位まで増幅されて読み出し出力となる。 At time T2, as shown in FIG. 9 (F), when the latch activation signal SAPOWER becomes the VDD potential, the transfer gates TG1 and TG2 are turned off, and VDD and GND power are supplied to the inverters IB2 and IB3, and the inverter IB2, IB3 enters an active state, and as shown in FIG. 9G, the potential difference between the nodes SAOUT and SAOUTX is amplified to the VDD potential-GND potential and becomes a read output.
以上のように、図7(図8)に示す従来の強誘電体メモリでは、シュミットトリガ回路7、8が電位検出手段として節点OUT、OUTXの電位を検出し、NANDゲート9がラッチ起動信号SAPOWERを生成することにより、節点OUT、OUTXの電位差が大きい時刻T2にセンスアンプ6のラッチ動作を起動できるようにしている。
As described above, in the conventional ferroelectric memory shown in FIG. 7 (FIG. 8), the
仮に、シュミットトリガ回路7、8を設けず、所定時間にセンスアンプ6のラッチ動作を起動することにすると、強誘電体容量F1、F2の特性は、ばらつきや温度依存、時間劣化が大きいので、図9に示す時刻T1のように充分余裕を取った時間に設定せざるをえず、この場合、節点OUT、OUTXの電位差ΔV1が小さくなってしまう。
If the
本例では、強誘電体容量F1にはデータ“1”が、強誘電体容量F2にはデータ“0”が書き込まれていた場合について説明したが、強誘電体容量F1にデータ“0”が、強誘電体容量F2にデータ“1”が書き込まれていた場合も同様である。なお、容量C1、C2、C3、C4は強誘電体容量でも、その他の容量でも良い。
図10は図7(図8)に示す従来の強誘電体メモリが有する問題点を説明するための波形図であり、図10(A)は節点OUT、OUTXの電位変化、図10(B)はラッチ起動信号SAPOWERを示している。但し、図10(A)に一点鎖線で示す節点OUTの電位変化および二点鎖線で示す節点OUTXの電位変化は、いずれも製造後初期での常温での電位波形であり、図9(E)に示す節点OUT、OUTXの電位変化を拡大して示すものである。また、実線で示す節点OUTの電位波形および点線で示す節点OUTXの電位変化は、強誘電体容量F1、F2の分極量が減少した場合の電位波形である。 FIG. 10 is a waveform diagram for explaining the problems of the conventional ferroelectric memory shown in FIG. 7 (FIG. 8). FIG. 10 (A) shows potential changes at nodes OUT and OUTX, and FIG. 10 (B). Indicates a latch activation signal SAPOWER. However, the potential change at the node OUT indicated by the alternate long and short dash line and the potential change at the node OUTX indicated by the alternate long and two short dashes line in FIG. 2 is an enlarged view of potential changes at nodes OUT and OUTX. The potential waveform of the node OUT indicated by the solid line and the potential change of the node OUTX indicated by the dotted line are the potential waveform when the polarization amounts of the ferroelectric capacitors F1 and F2 are decreased.
一般に、強誘電体容量の分極量は、常温より高温で減少する。また、書き込み後、長時間放置すると、減極と呼ばれる分極量の減少が起こる。また、繰り返し読み書き、即ち、分極反転を繰り返すと、ファティーグ(疲労特性)と呼ばれる分極量の減少が起こる。これらいずれか又は複合要因により分極量の減少が起こると、図10(A)の実線で示すように、強誘電体容量F1からのデータ“1”の読み出し波形は下降し、点線で示すように、強誘電体容量F2からのデータ“0”の読み出し波形は上昇する。 Generally, the amount of polarization of a ferroelectric capacitor decreases at a temperature higher than normal temperature. In addition, if it is left for a long time after writing, the amount of polarization called depolarization decreases. Further, repeated reading / writing, that is, polarization reversal, causes a decrease in the amount of polarization called fatigue (fatigue characteristics). When the amount of polarization decreases due to any of these or a complex factor, as shown by the solid line in FIG. 10A, the readout waveform of the data “1” from the ferroelectric capacitor F1 falls and as shown by the dotted line. The read waveform of data “0” from the ferroelectric capacitor F2 rises.
図7(図8)に示す従来の強誘電体メモリにおいては、初期状態時、常温において、強誘電体容量F1にはデータ“1”が、強誘電体容量F2にはデータ“0”が書き込まれていた場合、節点OUTの電位がシュミットトリガ回路7の入力立ち上がり側の閾値VSCHMIDTに先に達して、時刻T2で、ラッチ起動信号SAPOWERがVDD電位となり、センスアンプ6はラッチ動作を開始するが、この場合、センスアンプ6には、充分余裕を取って設定された固定時刻T1でラッチを起動する場合の電位差ΔV1よりも大きな電位差ΔV2が与えられる。 In the conventional ferroelectric memory shown in FIG. 7 (FIG. 8), data “1” is written in the ferroelectric capacitor F1 and data “0” is written in the ferroelectric capacitor F2 in the initial state at room temperature. If this occurs, the potential at the node OUT reaches the threshold value VSCHMIDT on the input rising side of the Schmitt trigger circuit 7 first, and at time T2, the latch activation signal SAPOWER becomes the VDD potential, and the sense amplifier 6 starts the latch operation. In this case, the sense amplifier 6 is given a potential difference ΔV2 larger than the potential difference ΔV1 when the latch is activated at a fixed time T1 set with a sufficient margin.
しかしながら、高温、減極、ファティーグ等のいずれか又は複合要因により強誘電体容量F1、F2の分極量が減少した場合には、節点OUTの電位変化は、図10(A)に実線で示す波形となり、シュミットトリガ回路7の入力立ち上がり側の閾値VSCHMIDTに達する時刻がT3となり、この時点でセンスアンプ6によるラッチが開始されることになる。 However, when the amount of polarization of the ferroelectric capacitors F1 and F2 decreases due to any one of high temperature, depolarization, fatigue, etc., or a composite factor, the potential change at the node OUT is a waveform indicated by a solid line in FIG. Thus, the time when the Schmitt trigger circuit 7 reaches the threshold value VSCHMIDT on the input rising side is T3, and latching by the sense amplifier 6 is started at this time.
この時、節点OUTXの電位も強誘電体膜F2の分極量の減少により上昇しているため、節点OUT、OUTXの電位差はΔV2よりも小さい電位差ΔV3となる。この場合、センスアンプ6は、入力電位差が小さいため、誤読み出しを起こす可能性がある。しかし、図10(A)に示す様に、時刻T3より前に、電位差ΔV3より大きな電位差ΔV4が生じている時刻T4があり、その時刻T4にラッチを起動できれば、より大きな入力電位差が得られ誤動作を防ぐことができる。 At this time, since the potential of the node OUTX also increases due to the decrease in the polarization amount of the ferroelectric film F2, the potential difference between the nodes OUT and OUTX becomes a potential difference ΔV3 smaller than ΔV2. In this case, the sense amplifier 6 may cause erroneous reading because the input potential difference is small. However, as shown in FIG. 10A, before time T3, there is a time T4 when a potential difference ΔV4 larger than the potential difference ΔV3 occurs, and if the latch can be started at the time T4, a larger input potential difference can be obtained and a malfunction occurs. Can be prevented.
本発明は、かかる点に鑑み、強誘電体容量の分極量が減少した場合であっても、センスアンプの誤読み出し動作を防ぐことができるようにした強誘電体メモリを提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above, an object of the present invention is to provide a ferroelectric memory capable of preventing an erroneous read operation of a sense amplifier even when the amount of polarization of a ferroelectric capacitor is reduced. To do.
本発明の強誘電体メモリは、相補データが記憶される第1、第2の強誘電体容量を有する2T/2C型のメモリセルと、第1の強誘電体容量から第1のビット線に読み出されたデータを検出する第1のプリセンスアンプと、第2の強誘電体容量から第2のビット線に読み出されたデータを検出する第2のプリセンスアンプと、第1のプリセンスアンプの出力が所定電位に達したことを検出する第1の電位検出手段と、第2のプリセンスアンプの出力が所定の電位に達したことを検出する第2の電位検出手段と、第1、第2の電位検出手段のどちらかの出力信号変化で起動し、第1、第2のプリセンスアンプの出力電位差を増幅するセンスアンプを備え、第1の電位検出手段は、その閾値が第2のプリセンスアンプの出力電位に応じて変化するように構成され、第2の電位検出手段は、その閾値が第1のプリセンスアンプの出力電位に応じて変化するように構成されるものである。 The ferroelectric memory of the present invention includes a 2T / 2C type memory cell having first and second ferroelectric capacitors in which complementary data is stored, and a first ferroelectric capacitor to the first bit line. A first pre-sense amplifier that detects the read data, a second pre-sense amplifier that detects data read from the second ferroelectric capacitor to the second bit line, and a first pre-sense amplifier. First potential detection means for detecting that the output has reached a predetermined potential, second potential detection means for detecting that the output of the second pre-sense amplifier has reached a predetermined potential, and first and second And a sense amplifier that amplifies the difference between the output potentials of the first and second pre-sense amplifiers. The first potential detection means has a threshold value of the second pre-sense amplifier. Varies according to the output potential of Configured urchin, a second potential detection means is one whose threshold value is configured so as to change according to the output potential of the first pre-sense amplifier.
本発明によれば、第1の電位検出手段は、その閾値が第2のプリセンスアンプの出力電位に応じて変化するように構成され、第2の電位検出手段は、その閾値が第1のプリセンスアンプの出力電位に応じて変化するように構成されるので、強誘電体容量の分極量が減少し、第1、第2のプリセンスアンプの出力電位差が小さくなっている場合であっても、センスアンプは、データ読み出し時に、第1、第2のプリセンスアンプの電位差が誤読み出しを起こす可能性のある小電位差になる前に、ラッチ動作を開始することができる。したがって、強誘電体容量の分極量が減少した場合であっても、センスアンプの誤読み出し動作を防ぐことができる。 According to the present invention, the first potential detection unit is configured such that the threshold value changes according to the output potential of the second pre-sense amplifier, and the second potential detection unit has the threshold value of the first pre-sense value. Since it is configured to change according to the output potential of the amplifier, even if the polarization amount of the ferroelectric capacitor is reduced and the difference between the output potentials of the first and second pre-sense amplifiers is small, the sense The amplifier can start a latching operation before the potential difference between the first and second pre-sense amplifiers becomes a small potential difference that may cause erroneous reading during data reading. Therefore, even if the amount of polarization of the ferroelectric capacitor is reduced, an erroneous read operation of the sense amplifier can be prevented.
(第1実施形態)
図1は本発明の第1実施形態の要部のブロック回路図、図2はその詳細な回路図である。本発明の第1実施形態は、図7(図8)に示す従来の強誘電体メモリが設けるシュミットトリガ回路7、8の代わりに、可変閾値シュミットトリガ回路10、11を設け、その他については、図7(図8)に示す従来の強誘電体メモリと同様に構成したものである。
(First embodiment)
FIG. 1 is a block circuit diagram of a main part of the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a detailed circuit diagram thereof. In the first embodiment of the present invention, variable threshold
可変閾値シュミットトリガ回路10は、図7(図8)に示すシュミットトリガ回路7にNMOSトランジスタN10を付加したものであり、PMOSトランジスタP8、P9、P10とNMOSトランジスタN8、N10を有しており、入力端10Aを節点OUTに接続し、出力端10BをNANDゲート9の一方の入力端子に接続している。
The variable threshold
ここで、PMOSトランジスタP8は、ゲートを入力端10Aに接続し、ソースをVDD電源に接続している。PMOSトランジスタP9は、ゲートを入力端10Aに接続し、ソースをPMOSトランジスタP8のドレインに接続し、ドレインを出力端10Bに接続している。NMOSトランジスタN8は、ゲートを入力端10Aに接続し、ドレインを出力端10Bに接続し、ソースを接地している。
Here, the PMOS transistor P8 has a gate connected to the
PMOSトランジスタP10は、ソースをPMOSトランジスタP8のドレインに接続し、ドレインを接地し、ゲートをPMOSトランジスタP9のドレインに接続している。NMOSトランジスタN10は、ドレインをNMOSトランジスタN8のドレインに接続し、ソースを接地し、ゲートを節点OUTXに接続している。 The PMOS transistor P10 has a source connected to the drain of the PMOS transistor P8, a drain grounded, and a gate connected to the drain of the PMOS transistor P9. The NMOS transistor N10 has a drain connected to the drain of the NMOS transistor N8, a source grounded, and a gate connected to the node OUTX.
可変閾値シュミットトリガ回路11は、図7(図8)に示すシュミットトリガ回路8にNMOSトランジスタ11を付加したものであり、PMOSトランジスタP11、P12、P13とNMOSトランジスタN9、N11を有しており、入力端11Aを節点OUTXに接続し、出力端11BをNANDゲート9の他方の入力端子に接続している。
The variable threshold
PMOSトランジスタP11は、ゲートを入力端11Aに接続し、ソースをVDD電源に接続している。PMOSトランジスタP12は、ゲートを入力端11Aに接続し、ソースをPMOSトランジスタP11のドレインに接続し、ドレインを出力端11Bに接続している。NMOSトランジスタN9は、ゲートを入力端11Aに接続し、ドレインを出力端11Bに接続し、ソースを接地している。
The PMOS transistor P11 has a gate connected to the input terminal 11A and a source connected to the VDD power source. The PMOS transistor P12 has a gate connected to the input terminal 11A, a source connected to the drain of the PMOS transistor P11, and a drain connected to the
PMOSトランジスタP13は、ソースをPMOSトランジスタP11のドレインに接続し、ドレインを接地し、ゲートをPMOSトランジスタP12のドレインに接続している。NMOSトランジスタN11は、ドレインをNMOSトランジスタN9のドレインに接続し、ソースを接地し、ゲートを節点OUTに接続している。 The PMOS transistor P13 has a source connected to the drain of the PMOS transistor P11, a drain grounded, and a gate connected to the drain of the PMOS transistor P12. The NMOS transistor N11 has a drain connected to the drain of the NMOS transistor N9, a source grounded, and a gate connected to the node OUT.
即ち、可変閾値シュミットトリガ回路10は、その閾値がプリセンスアンプ3の出力電位、即ち、節点OUTXの電位の上昇に応じて下降するように構成され、可変閾値シュミットトリガ回路11は、その閾値がプリセンスアンプ2の出力電位、即ち、節点OUTの電位の上昇に応じて下降するように構成されている。
That is, the variable threshold
図3は本発明の第1実施形態のデータ読み出し動作を示す波形図であり、ワード線WL、プレート線PL、ビット線BL、BLX、節点MINUS、MINUSX、節点OUT、OUTX、ラッチ起動信号SAPOWERおよび節点SAOUT、SAOUTXの電位変化を示しているが、強誘電体容量F1、F2の分極量が減少していない場合において、強誘電体容量F1にはデータ“1”が、強誘電体容量F2にはデータ“0”が書き込まれており、これを読み出す場合を例としている。 FIG. 3 is a waveform diagram showing a data read operation according to the first embodiment of the present invention. The word line WL, the plate line PL, the bit lines BL, BLX, the nodes MINUS, MINUSX, the nodes OUT, OUTX, the latch activation signal SAPOWER, and FIG. Although the potential changes of the nodes SAOUT and SAOUTX are shown, when the polarization amounts of the ferroelectric capacitors F1 and F2 are not decreased, the data “1” is stored in the ferroelectric capacitor F1, and the ferroelectric capacitor F2 is displayed. In this example, data “0” is written and this is read.
本発明の第1実施形態では、メモリセル1からデータを読み出す場合、時刻TRESまでは、プリセンスアンプ2、3内のスイッチS1、S2はONを維持し、図3(C)に示すように、ビット線BL、BLXをGND電位に固定しているが、時刻TRES以降は、スイッチS1、S2がOFFとなり、ビット線BL、BLXを開放する。
In the first embodiment of the present invention, when data is read from the
また、閾値発生回路4は、ビット線BL、BLXがGND電位、即ち、PMOSトランジスタP1、P2のソースがGND電位の時のPMOSトランジスタの閾値VTHPに等しい電位を発生し、これをPMOSトランジスタP1、P2のゲートに供給する。
The
また、プリセンスアンプ2、3内のスイッチS3、S4は、時刻TRESまではONを維持し、節点MINUS、MINUSXをマイナス電圧発生回路5が出力する負電位VMINUS(例えば、−3V)に下げているが、時刻TRES以降はOFFとなり、節点MINUS、MINUSXを開放する。なお、時刻TRESから時刻TWLPLまでは、節点MINUS、MINUSXの電位は、容量C1、C2によって負電位VMINUSに保たれる。
Further, the switches S3 and S4 in the
時刻TWLPLになると、図3(A)、(B)に示すようにワード線WLとプレート線PLの電位がVDD電位に上げられ、アクセストランジスタN1、N2がONとなり、強誘電体容量F1、F2に正電圧が印加される。ここに、データ“1”を記憶していた強誘電体容量F1に印加される電圧は、書き込み時と反対極性であることから、強誘電体容量F1に分極反転が起こり、強誘電体容量F1から比較的大きな反転電荷がビット線BLに流れることになる。 At time TWLPL, as shown in FIGS. 3A and 3B, the potentials of the word line WL and the plate line PL are raised to the VDD potential, the access transistors N1 and N2 are turned on, and the ferroelectric capacitors F1 and F2 are turned on. A positive voltage is applied to. Here, since the voltage applied to the ferroelectric capacitor F1 storing the data “1” has a polarity opposite to that at the time of writing, polarization inversion occurs in the ferroelectric capacitor F1, and the ferroelectric capacitor F1. Therefore, a relatively large inversion charge flows to the bit line BL.
この時、ビット線BLの電位が上がろうとするが、PMOSトランジスタP1のゲートに閾値VTHPが印加されているため、図3(C)に示すようにビット線BLの電位が僅かに上がると、PMOSトランジスタP1がONし、ビット線BLからPMOSトランジスタP1のソースおよびドレインを介して節点MINUSに反転電荷に等しい電荷が流れ、ビット線BLの電位はGND電位の近傍に保たれると共に、容量C1によりマイナス電位VMINUSに保持されていた節点MINUSの電位は、図3(D)に一点鎖線で示すように大きく上昇する。 At this time, the potential of the bit line BL tends to rise, but since the threshold value VTHP is applied to the gate of the PMOS transistor P1, if the potential of the bit line BL slightly increases as shown in FIG. The PMOS transistor P1 is turned on, a charge equal to the inverted charge flows from the bit line BL to the node MINUS via the source and drain of the PMOS transistor P1, the potential of the bit line BL is kept near the GND potential, and the capacitance C1 As a result, the potential of the node MINUS held at the minus potential VMINUS greatly increases as shown by a one-dot chain line in FIG.
これに対して、データ“0”を記憶していた強誘電体容量F2に印加される電圧は、書き込み時と同極性であることから、強誘電体容量F2では分極反転は起こらず、強誘電体容量F2から比較的小さな電荷がビット線BLXに流れることになる。 On the other hand, since the voltage applied to the ferroelectric capacitor F2 storing the data “0” has the same polarity as that at the time of writing, no polarization inversion occurs in the ferroelectric capacitor F2, and the ferroelectric capacitor A relatively small charge flows from the body capacitance F2 to the bit line BLX.
この時、ビット線BLXの電位も上がろうとするが、PMOSトランジスタP2のゲートに閾値VTHPが印加されているため、図3(C)に示すようにビット線BLXの電位がわずかに上がると、PMOSトランジスタP2がONし、ビット線BLXからPMOSトランジスタP2のソースおよびドレインを介して節点MINUSXに電荷が流れ、ビット線BLXの電位はGND電位の近傍に保たれると共に、容量C2によりマイナス電位VMINUSに保持されていた節点MINUSXの電位は、図3(D)に二点鎖線で示すように上昇するが、節点MINUSの上昇よりは小さい。 At this time, the potential of the bit line BLX also tends to rise, but since the threshold value VTHP is applied to the gate of the PMOS transistor P2, when the potential of the bit line BLX slightly increases as shown in FIG. The PMOS transistor P2 is turned on, and electric charge flows from the bit line BLX to the node MINUSX via the source and drain of the PMOS transistor P2, and the potential of the bit line BLX is kept near the GND potential, and the negative potential VMINUS is caused by the capacitor C2. The potential of the node MINUSX held at 上昇 increases as shown by a two-dot chain line in Fig. 3D, but is smaller than the increase of the node MINUS.
また、センスアンプ6内のスイッチS5、S6は、時刻TRESまではONにされており、節点OUT、OUTXは、時刻TRESまではGND電位に固定されると共に、節点MINUS、MINUSXは、前述のように、時刻TRESまでは負電位VMINUSに固定されている。 The switches S5 and S6 in the sense amplifier 6 are turned ON until time TRES, and the nodes OUT and OUTX are fixed to the GND potential until time TRES, and the nodes MINUS and MINUSX are as described above. In addition, the negative potential VMINUS is fixed until time TRES.
時刻TRES以降、スイッチS5、S6はOFFとなり、節点OUT、OUTXは開放されるが、容量C3、C4は、それぞれその両端の電位差を保つので、節点MINUS、MINUSXの電位変化に応じて節点OUT、OUTXも動くことになる。したがって、図3(D)に示すように、節点MINUS、MINUSXの電位が上昇すると、節点OUT、OUTXの電位は、図3(E)に示すように、節点MINUS、MINUSXの波形と同じ波形で、電位が|VMINUS|だけ上にずれ、GND電位を基準とした正電位の波形となる。 After the time TRES, the switches S5 and S6 are turned off and the nodes OUT and OUTX are opened, but the capacitors C3 and C4 maintain the potential difference between both ends thereof, so that the nodes OUT and OUT are changed according to the potential changes of the nodes MINUS and MINUSX. OUTX will also move. Therefore, as shown in FIG. 3D, when the potentials of the nodes MINUS and MINUSX rise, the potentials of the nodes OUT and OUTX are the same as the waveforms of the nodes MINUS and MINUSX as shown in FIG. , The potential is shifted upward by | VMINUS |, resulting in a positive potential waveform with respect to the GND potential.
また、可変閾値シュミットトリガ回路10、11の入力端10A、11Aはそれぞれ節点OUT、OUTXに接続されているが、節点OUT、OUTXの電位は、読み出し前にはGND電位とされるので、可変閾値シュミットトリガ回路10、11の出力TRG1、TRG2は、読み出し前にはVDD電位となり、NANDゲート9が出力するラッチ起動信号SAPOWERは、読み出し前にはGND電位となっている。
The
ここに、NMOSトランジスタ10のゲートは節点OUTXに接続され、NMOSトランジスタ11のゲートは節点OUTに接続されているので、NMOSトランジスタ10、11は、そのゲートにNMOSトランジスタの閾値より高い電圧を印加されるとONし初め、それぞれ節点TRG1,TRG2を引き下げようとする電流を流す。この結果、NMOSトランジスタN10、N11のゲート電圧が高いほど、可変閾値シュミットトリガ回路10、11の閾値が下げられる。
Here, since the gate of the
時刻TWLPL以降、読み出しが始まり、時刻T2になると、節点OUTXの電位は、まだ低いため、可変閾値シュミットトリガ回路10の閾値は、ほぼPMOSトランジスタP8、P9、P10およびNMOSトランジスタN8からなるシュミットトリガ回路(図8に示すシュミットトリガ回路7)の入力立ち上がり側の閾値VSCHMIDTのままであり、節点OUTの電位は、可変閾値シュミットトリガ回路10の入力立ち上がり側の閾値VSCHMIDTに達するので、可変閾値シュミットトリガ回路10の出力TRG1がGND電位に立下り、ラッチ起動信号SAPOWERはVDD電位に切り替わる。
After time TWLPL, reading starts and at time T2, the potential of the node OUTX is still low. Therefore, the threshold of the variable threshold
即ち、読み出しが始まると、節点OUT、OUTXの電位が上昇し、本例の場合、図3(E)に示すように、節点OUTが節点OUTXよりも先に時刻T2で可変閾値シュミットトリガ回路10の入力立ち上がり側の閾値VSCHMIDTに達することになる。この結果、可変閾値シュミットトリガ回路10の出力TRG1がVDD電位からGND電位に切り替わり、NANDゲート9が出力するラッチ起動信号SAPOWERは、図3(F)に示すように、GND電位からVDD電位に切り替わる。
That is, when reading starts, the potentials of the nodes OUT and OUTX rise. In this example, as shown in FIG. 3E, the variable threshold
なお、節点OUT、OUTXの電位はゆるやかに立ち上がるが、可変閾値シュミットトリガ回路10、11は、いったん出力が切り替わると、入力が多少変動しても切り替わらないため、チャッタリング(閾値付近での入力の僅かな変動で出力がなんども切り替わること)を起こすことはない。
Although the potentials of the nodes OUT and OUTX rise gently, the variable threshold
また、節点OUTの電位が可変閾値シュミットトリガ回路10の入力立ち上がり側の閾値VSCHMIDTに達する時刻T2までは、NANDゲート9が出力するラッチ起動信号SAPOWERはGND電位を保ち、クロスカップル接続されたインバータIB2、IB3はVDD電源およびGND電源から切り離されて非活性状態となっている。また、トランスファゲートTG1、TG2はONで、節点OUT、OUTXは節点SAOUT、SAOUTXに接続されている。
Further, until time T2 when the potential of the node OUT reaches the threshold value VSCHMIDT on the input rising side of the variable threshold value
時刻T2で、図3(F)に示すように、ラッチ起動信号SAPOWERがVDD電位になると、トランスファゲートTG1、TG2はOFFとなると共に、インバータIB2、IB3にVDD電源およびGND電源が供給され、インバータIB2、IB3は活性状態となり、図3(G)に示すように、節点SAOUT、SAOUTXの電位差がVDD電位−GND電位まで増幅されて読み出し出力となる。 At time T2, as shown in FIG. 3F, when the latch activation signal SAPOWER becomes the VDD potential, the transfer gates TG1 and TG2 are turned OFF, and the VDD power and the GND power are supplied to the inverters IB2 and IB3. IB2 and IB3 are activated, and as shown in FIG. 3G, the potential difference between the nodes SAOUT and SAOUTX is amplified to the VDD potential−GND potential to be a read output.
以上のように、本発明の第1実施形態では、可変閾値シュミットトリガ回路10、11が電位検出手段として節点OUT、OUTXの電位を検出し、NANDゲート9がラッチ起動信号SAPOWERを生成することにより、強誘電体容量F1、F2の分極量が減少していない場合には、図7(図8)に示す従来の強誘電体メモリと同様に、節点OUT、OUTXの電位差が大きい時刻T2にセンスアンプ6のラッチ動作を起動できるようにしている。
As described above, in the first embodiment of the present invention, the variable threshold
図4は本発明の第1実施形態の効果を説明するため波形図であり、図4(A)は節点OUT、OUTXの電位変化、図4(B)はラッチ起動信号SAPOWERを示している。但し、図4(A)に一点鎖線で示す節点OUTの電位変化および二点鎖線で示す節点OUTXの電位変化は、いずれも製造後初期での常温での電位波形であり、図3(E)に示す節点OUT、OUTXの電位変化を拡大して示すものである。また、実線で示す節点OUTの電位波形および点線で示す節点OUTXの電位変化は、強誘電体容量F1、F2の分極量が減少した場合の電位波形である。 4A and 4B are waveform diagrams for explaining the effect of the first embodiment of the present invention. FIG. 4A shows potential changes of the nodes OUT and OUTX, and FIG. 4B shows the latch activation signal SAPOWER. However, the potential change at the node OUT indicated by the one-dot chain line and the potential change at the node OUTX indicated by the two-dot chain line in FIG. 2 is an enlarged view of potential changes at nodes OUT and OUTX. The potential waveform of the node OUT indicated by the solid line and the potential change of the node OUTX indicated by the dotted line are the potential waveform when the polarization amounts of the ferroelectric capacitors F1 and F2 are decreased.
ここで、時刻T4における可変閾値シュミットトリガ回路10の閾値は、時刻T2におけるVSCHMIDTから節点OUTXの電位の上昇に応じて下降し、VARIABLE_VSCHMIDTとなる。この結果、強誘電体容量F1、F2の分極量が減少している場合であっても、節点OUTの電位がVARIABLE_VSCHMIDTになれば、可変閾値シュミットトリガ回路10の出力TG1は、GND電位となり、NANDゲート9が出力するラッチ起動信号SAPOWERはVDD電位となり、センスアンプ6はラッチ動作を開始することになる。
Here, the threshold value of the variable threshold value
このように、本発明の第1実施形態においては、時刻T4になると、センスアンプ6はラッチ動作を開始するが、この場合、センスアンプ6には、図7(図8)に示す従来の強誘電体メモリの場合に時刻T3で与えられる電位差ΔV3よりも大きな電位差ΔV4が与えられることになる。したがって、本発明の第1実施形態によれば、高温、減極、ファティーグ等のいずれか又は複合要因により強誘電体容量F1、F2の分極量が減少した場合であっても、センスアンプ6の誤読み出し動作を防ぐことができる。 As described above, in the first embodiment of the present invention, the sense amplifier 6 starts a latch operation at time T4. In this case, the sense amplifier 6 has a conventional strong power shown in FIG. 7 (FIG. 8). In the case of a dielectric memory, a potential difference ΔV4 larger than the potential difference ΔV3 given at time T3 is given. Therefore, according to the first embodiment of the present invention, even if the polarization amount of the ferroelectric capacitors F1 and F2 decreases due to any one of high temperature, depolarization, fatigue, etc., or a composite factor, the sense amplifier 6 An erroneous read operation can be prevented.
(第2実施形態)
図5は本発明の第2実施形態の要部の回路図である。本発明の第2実施形態は、プリセンスアンプ2、3の出力電位、即ち、節点OUT、OUTXの電位が所定電位に達したことを検出する電位検出手段として、図1(図2)に示す本発明の第1実施形態が備える可変閾値シュミットトリガ回路10、11の代わりに、可変閾値インバータ12、13を設け、その他については、本発明の第1実施形態と同様に構成したものである。
(Second Embodiment)
FIG. 5 is a circuit diagram of the main part of the second embodiment of the present invention. The second embodiment of the present invention is a circuit shown in FIG. 1 (FIG. 2) as potential detection means for detecting that the output potentials of the
可変閾値インバータ12は、PMOSトランジスタP14とNMOSトランジスタN12、N13を有しており、入力端12Aを節点OUTに接続し、出力端12BをNANDゲート9の一方の入力端子に接続している。
The variable threshold inverter 12 includes a PMOS transistor P14 and NMOS transistors N12 and N13. The
PMOSトランジスタP14は、ゲートを入力端12Aに接続し、ソースをVDD電源に接続し、ドレインを出力端12Bに接続している。NMOSトランジスタ12は、ゲートを入力端12Aに接続し、ドレインを出力端12Bに接続し、ソースを接地している。NMOSトランジスタN13は、ドレインをNMOSトランジスタN12のドレインに接続し、ソースを接地し、ゲートを節点OUTXに接続している。
The PMOS transistor P14 has a gate connected to the
可変閾値インバータ13は、PMOSトランジスタP15とNMOSトランジスタN14、N15を有しており、入力端13Aを節点OUTXに接続し、出力端13BをNANDゲート9の他方の入力端子に接続している。
The
PMOSトランジスタP15は、ゲートを入力端13Aに接続し、ソースをVDD電源に接続し、ドレインを出力端13Bに接続している。NMOSトランジスタ14は、ゲートを入力端13Aに接続し、ドレインを出力端13Bに接続し、ソースを接地している。NMOSトランジスタN15は、ドレインをNMOSトランジスタN14のドレインに接続し、ソースを接地し、ゲートを節点OUTに接続している。
The PMOS transistor P15 has a gate connected to the
即ち、可変閾値インバータ12は、その閾値がプリセンスアンプ3の出力電位、即ち、節点OUTXの電位の上昇に応じて下降するように構成され、可変閾値インバータ13は、その閾値がプリセンスアンプ2の出力電位、即ち、節点OUTの電位の上昇に応じて下降するように構成されている。
That is, the variable threshold inverter 12 is configured such that the threshold value decreases in response to an increase in the output potential of the
このように構成された本発明の第2実施形態においては、可変閾値インバータ12、13を、可変閾値シュミットトリガ回路10、11と同様に、プリセンスアンプ2、3の出力電位、即ち、節点OUT、OUTXの電位が所定電位に達したことを検出する電位検出手段として機能させることができる。したがって、本発明の第2実施形態によっても、本発明の第1実施形態と同様に、高温、減極、ファティーグ等のいずれか又は複合要因により強誘電体容量F1、F2の分極量が減少した場合であっても、センスアンプ6の誤読み出し動作を防ぐことができる。
In the second embodiment of the present invention configured as described above, the
(第3実施形態)
図6は本発明の第3実施形態の要部の回路図である。図6中、14は図1および図2に示す本発明の第1実施形態である。但し、図1および図2に記載しているBL、BLX、OUT、OUTX、SAOUT、SAOUTXは、図6では、それぞれBL0、BL0X、OUT0、OUT0X、SAOUT0、SAOUT0Xと記載している。
(Third embodiment)
FIG. 6 is a circuit diagram of an essential part of the third embodiment of the present invention. In FIG. 6,
また、15−1、15−mはワード線WLおよびプレート線PLに接続された1トランジスタ/1キャパシタ型(1T/1C型)のメモリセルであり、ワード線WLおよびプレート線PLに接続されている他のメモリセル15−2〜15−(m−1)は図示を省略している。 Reference numerals 15-1 and 15-m denote 1-transistor / 1-capacitor (1T / 1C-type) memory cells connected to the word line WL and the plate line PL, and are connected to the word line WL and the plate line PL. The other memory cells 15-2 to 15- (m-1) are not shown.
メモリセル15−1は、記憶媒体をなす強誘電体容量F3−1と、NMOSトランジスタからなるアクセストランジスタN16−1を有している。アクセストランジスタN16−1は、ゲートをワード線WLに接続し、ドレインを強誘電体容量F3−1の一端に接続し、ソースをビット線BL1に接続しており、強誘電体容量F3−1は、他端をプレート線PLに接続している。 The memory cell 15-1 includes a ferroelectric capacitor F3-1 serving as a storage medium and an access transistor N16-1 including an NMOS transistor. The access transistor N16-1 has a gate connected to the word line WL, a drain connected to one end of the ferroelectric capacitor F3-1, a source connected to the bit line BL1, and the ferroelectric capacitor F3-1 is The other end is connected to the plate line PL.
メモリセル15−mは、記憶媒体をなす強誘電体容量F3−mと、NMOSトランジスタからなるアクセストランジスタN16−mを有している。アクセストランジスタN16−mは、ゲートをワード線WLに接続し、ドレインを強誘電体容量F3−mの一端に接続し、ソースをビット線BLmに接続しており、強誘電体容量F3−mは、他端をプレート線PLに接続している。 The memory cell 15-m includes a ferroelectric capacitor F3-m serving as a storage medium, and an access transistor N16-m formed of an NMOS transistor. The access transistor N16-m has a gate connected to the word line WL, a drain connected to one end of the ferroelectric capacitor F3-m, and a source connected to the bit line BLm. The ferroelectric capacitor F3-m The other end is connected to the plate line PL.
16−1はメモリセル15−1に対応して設けられたプリセンスアンプ、16−mはメモリセル15−mに対応して設けられたプリセンスアンプであり、OUT1はプリセンスアンプ16−1の出力側の節点、OUTmはプリセンスアンプ16−mの出力側の節点である。メモリセル15−2〜15−(m−1)に対応して設けられているプリセンスアンプ16−2〜16−(m−1)は図示を省略している。なお、プリセンスアンプ16−1〜16−mは、プリセンスアンプ2、3と同様に構成されている。
Reference numeral 16-1 denotes a pre-sense amplifier provided corresponding to the memory cell 15-1, 16-m denotes a pre-sense amplifier provided corresponding to the memory cell 15-m, and OUT1 denotes an output side of the pre-sense amplifier 16-1. The node OUTm is a node on the output side of the pre-sense amplifier 16-m. The pre-sense amplifiers 16-2 to 16- (m-1) provided corresponding to the memory cells 15-2 to 15- (m-1) are not shown. The pre-sense amplifiers 16-1 to 16-m are configured similarly to the
17−1はプリセンスアンプ16−1に対応して設けられたセンスアンプ、17−mはプリセンスアンプ16−mに対応して設けられたセンスアンプであり、SAOUT1、SAOUT1Xはセンスアンプ17−1の出力側の節点、SAOUTm、SAOUTmXはセンスアンプ17−mの出力側の節点である。プリセンスアンプ16−2〜16−(m−1)に対応して設けられているセンスアンプ17−2〜17−(m−1)は図示を省略している。 Reference numeral 17-1 denotes a sense amplifier provided corresponding to the pre-sense amplifier 16-1, 17-m denotes a sense amplifier provided corresponding to the pre-sense amplifier 16-m, and SAOUT1 and SAOUT1X denote the sense amplifier 17-1. Output side nodes SAOUTm and SAOUTmX are output side nodes of the sense amplifier 17-m. The sense amplifiers 17-2 to 17- (m-1) provided corresponding to the pre-sense amplifiers 16-2 to 16- (m-1) are not shown.
センスアンプ17−1〜17−mは、センスアンプ6と同様の回路構成を有している。但し、センスアンプ17−i(但し、i=1、2、…、m)は、対応するプリセンスアンプ16−iの出力と参照電位VREFとの電位差を増幅するように構成されている。 The sense amplifiers 17-1 to 17-m have a circuit configuration similar to that of the sense amplifier 6. However, the sense amplifier 17-i (where i = 1, 2,..., M) is configured to amplify the potential difference between the output of the corresponding pre-sense amplifier 16-i and the reference potential VREF.
参照電圧VREFは、図示しない参照電圧生成回路で生成され、強誘電体容量F1、F2の分極量が減少した場合において、データ読み出し時、節点OUT0、OUT0Xのいずれかの電位が先に可変閾値シュミットトリガ回路10、11の入力立ち上がり側の閾値VARIABLE_VSCHMIDTに達した場合における(図4に示す時刻T4における)節点OUT0、OUT0X間電位のおよそ中間の電位とされる。
The reference voltage VREF is generated by a reference voltage generation circuit (not shown), and when the amount of polarization of the ferroelectric capacitors F1 and F2 decreases, when reading data, the potential of any one of the nodes OUT0 and OUT0X is first changed to the variable threshold Schmitt. When the threshold value VARIABLE_VSCHMIDT on the input rising side of the
このように構成された本発明の第3実施形態によれば、2T2C型のメモリセル1に対応して設けられている可変閾値シュミットトリガ回路10、11およびNANDゲート9により適正なセンスアンプ起動タイミングを決定することができ、そのタイミングで1T1C型のメモリセルに対応して設けられているセンスアンプを起動させることができる。
According to the third embodiment of the present invention configured as described above, an appropriate sense amplifier activation timing is provided by the variable threshold
したがって、本発明の第3実施形態によれば、高温、減極、ファティーグ等のいずれか又は複合要因により強誘電体容量F1、F2、F3−1〜F3−mを始めとする強誘電体容量の分極量が減少した場合であっても、センスアンプ6、17−1〜17−mの誤読み出し動作を防ぐことができる。 Therefore, according to the third embodiment of the present invention, the ferroelectric capacitors including the ferroelectric capacitors F1, F2, F3-1 to F3-m due to any one of the factors such as high temperature, depolarization, fatigue, and the like. Even when the amount of polarization decreases, an erroneous read operation of the sense amplifiers 6 and 17-1 to 17-m can be prevented.
1…2トランジスタ/2キャパシタ型のメモリセル
2、3…プリセンスアンプ
4…閾値発生回路
5…マイナス電圧発生回路
6…センスアンプ
7、8…シュミットトリガ回路
9…NANDゲート
10、11…可変閾値シュミットトリガ回路
12、13…可変閾値インバータ
14…本発明の第1実施形態
15−1、15−m…1トランジスタ/1キャパシタ型のメモリセル
16−1、16−m…プリセンスアンプ
17−1、17−m…センスアンプ
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記第1の強誘電体容量から第1のビット線に読み出されたデータを検出する第1のプリセンスアンプと、
前記第2の強誘電体容量から第2のビット線に読み出されたデータを検出する第2のプリセンスアンプと、
前記第1のプリセンスアンプの出力が所定電位に達したことを検出する第1の電位検出手段と、
前記第2のプリセンスアンプの出力が所定電位に達したことを検出する第2の電位検出手段と、
前記第1、第2の電位検出手段のどちらかの出力信号変化で起動し、前記第1、第2のプリセンスアンプの出力電位差を増幅する第1のセンスアンプを備え、
前記第1の電位検出手段は、その閾値が前記第2のプリセンスアンプの出力電位に応じて変化するように構成され、
前記第2の電位検出手段は、その閾値が前記第1のプリセンスアンプの出力電位に応じて変化するように構成されている
ことを特徴とする強誘電体メモリ。 A two-transistor / 2-capacitor type first memory cell having first and second ferroelectric capacitors for storing complementary data;
A first pre-sense amplifier for detecting data read from the first ferroelectric capacitor to the first bit line;
A second pre-sense amplifier for detecting data read from the second ferroelectric capacitor to the second bit line;
First potential detecting means for detecting that the output of the first pre-sense amplifier has reached a predetermined potential;
Second potential detecting means for detecting that the output of the second pre-sense amplifier has reached a predetermined potential;
A first sense amplifier that is activated by an output signal change of either of the first and second potential detection means and amplifies an output potential difference between the first and second pre-sense amplifiers;
The first potential detecting means is configured such that the threshold value changes according to the output potential of the second pre-sense amplifier,
The ferroelectric memory, wherein the second potential detecting means is configured such that a threshold value thereof changes in accordance with an output potential of the first pre-sense amplifier.
前記第2の電位検出手段は、その閾値が前記第1のプリセンスアンプの出力電位の上昇に応じて下降するように構成されている
ことを特徴とする請求項1記載の強誘電体メモリ。 The first potential detecting means is configured such that the threshold value decreases in response to an increase in the output potential of the second pre-sense amplifier,
2. The ferroelectric memory according to claim 1, wherein the second potential detection unit is configured such that a threshold value thereof decreases as the output potential of the first pre-sense amplifier increases. 3.
前記第1のシュミットトリガ回路は、入力端を前記第1のプリセンスアンプの出力端に接続し、
前記第2のNMOSトランジスタは、ドレインを前記第1のNMOSトランジスタのドレインに接続し、ソースを接地し、ゲートを前記第2のプリセンスアンプの出力端に接続し、
前記第2の電位検出手段は、プルダウン用の第3のNMOSトランジスタを有する第2のシュミットトリガ回路と、第4のNMOSトランジスタを有し、
前記第2のシュミットトリガ回路は、入力端を前記第2のプリセンスアンプの出力端に接続し、
前記第4のNMOSトランジスタは、ドレインを前記第3のNMOSトランジスタのドレインに接続し、ソースを接地し、ゲートを前記第1のプリセンスアンプの出力端に接続している
ことを特徴とする請求項2記載の強誘電体メモリ。 The first potential detection means includes a first Schmitt trigger circuit having a first NMOS transistor for pull-down, and a second NMOS transistor,
The first Schmitt trigger circuit has an input terminal connected to an output terminal of the first pre-sense amplifier,
The second NMOS transistor has a drain connected to the drain of the first NMOS transistor, a source grounded, a gate connected to the output terminal of the second pre-sense amplifier,
The second potential detection means has a second Schmitt trigger circuit having a third NMOS transistor for pull-down, and a fourth NMOS transistor,
The second Schmitt trigger circuit has an input terminal connected to an output terminal of the second pre-sense amplifier,
The drain of the fourth NMOS transistor is connected to the drain of the third NMOS transistor, the source is grounded, and the gate is connected to the output terminal of the first pre-sense amplifier. 2. The ferroelectric memory according to 2.
前記第1のインバータは、入力端を前記第1のプリセンスアンプの出力端に接続し、
前記第2のNMOSトランジスタは、ドレインを前記第1のNMOSトランジスタのドレインに接続し、ソースを接地し、ゲートを前記第2のプリセンスアンプの出力端に接続し、
前記第2の電位検出手段は、プルダウン用の第3のNMOSトランジスタを有する第2のインバータと、第4のNMOSトランジスタを有し、
前記第4のNMOSトランジスタは、ドレインを前記第3のNMOSトランジスタのドレインに接続し、ソースを接地し、ゲートを前記第1のプリセンスアンプの出力端に接続している
ことを特徴とする請求項2記載の強誘電体メモリ。 The first potential detecting means includes a first inverter having a first NMOS transistor for pull-down, and a second NMOS transistor,
The first inverter has an input terminal connected to an output terminal of the first pre-sense amplifier,
The second NMOS transistor has a drain connected to the drain of the first NMOS transistor, a source grounded, a gate connected to the output terminal of the second pre-sense amplifier,
The second potential detecting means has a second inverter having a third NMOS transistor for pull-down, and a fourth NMOS transistor,
The drain of the fourth NMOS transistor is connected to the drain of the third NMOS transistor, the source is grounded, and the gate is connected to the output terminal of the first pre-sense amplifier. 2. The ferroelectric memory according to 2.
前記第3の強誘電体容量から第3のビット線に読み出されたデータを検出する第3のプリセンスアンプと、
前記第1、第2の電位検出手段のどちらかの出力信号変化で起動し、前記第3のプリセンスアンプの出力電位と参照電位との電位差を増幅する第2のセンスアンプを備えている
ことを特徴とする請求項1、2、3または4記載の強誘電体メモリ。
A one-transistor / one-capacitor type second memory cell having a third ferroelectric capacitor and reading data simultaneously with the first memory cell;
A third pre-sense amplifier for detecting data read from the third ferroelectric capacitor to the third bit line;
A second sense amplifier that is activated by an output signal change of either the first or second potential detection means and that amplifies a potential difference between the output potential of the third pre-sense amplifier and a reference potential; 5. The ferroelectric memory according to claim 1, 2, 3 or 4.
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