JP4359567B2 - 視覚再生補助装置及びその作製方法 - Google Patents
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Description
上記従来技術の問題点に鑑み、埋植する装置自体をできるだけ小さくすることができるとともに、配線数が多数であっても容易に密封することのできる視覚再生補助装置及びその作製方法を提供することを技術課題とする。
(1) 患者の視覚を再生する視覚再生補助装置において、網膜を構成する細胞に電気刺激を与えるための刺激電極と、前記刺激電極に送る刺激電流を制御する半導体集積回路からなる制御手段と、該制御手段及び前記刺激電極を設置し,前記制御手段と刺激電極とを電気的に接続するための配線が形成された基板と、を有し、さらに該基板に設置された前記制御手段は生体安全性を有する貴金属にてその周囲がメッキ処理されていることを特徴とする。
(2) (1)の視覚再生補助装置において、前記制御手段は前記半導体集積回路の周囲に形成され、メッキ処理時における陰極となる電極部を備えることを特徴とする。
(3) (2)の視覚再生補助装置において、前記電極部は前記制御部の半導体基板と略同電位であることを特徴とする視覚再生補助装置。
(4) (3)の視覚再生補助装置において、前記制御手段は生体適合性の高い樹脂で包埋埋されていることを特徴とする。
(5) (1)〜(4)の視覚再生補助装置において、前記刺激電極と前記制御手段の半導体基板との間に刺激電流極性を反転させるためのスイッチを有し、前記スイッチがオンした場合に前記刺激電極と前記半導体基板が略同電位となる回路構成を備えることを特徴とする。
(6) 視覚再生補助装置の作製方法において、網膜を構成する細胞に電気刺激を与えるための刺激電流を制御するための制御回路を半導体上に集積することよりなる制御ユニットに前記制御回路以外の部分にメッキ処理を行う第1ステップと、該第1ステップによりメッキが施された前記制御ユニットを,体内に設置する基板に前記制御回路の形成面を向けて接合する第2ステップと、を有することを特徴とする。
(7) (6)の視覚再生補助装置の作製方法において、前記第1ステップの前に、前記半導体基板と略導通するとともに前記制御回路を取り囲む電極を前記制御ユニットの制御回路形成面上に所定の高さを持って形成するステップを有し、さらに前記第1ステップにおいて前記制御回路を取り囲む電極を陰極としてメッキ処理をすることを特徴とする。
10 体外装置
11 バイザー
13 外部デバイス
20 体内装置
21 基板
21a リード線
24 内部デバイス
26 不関電極
27 電極
50 生体
51 電源
52、53 定電流源
54、55、56、57 スイッチ
100 半導体基板
101 ボンディングパッド
102 外周配線
103 パターン配線
104 絶縁層
105 メッキ
200 ベース部
201 基板側外周配線
202 絶縁層
300 フィラー
Claims (7)
- 患者の視覚を再生する視覚再生補助装置において、網膜を構成する細胞に電気刺激を与えるための刺激電極と、前記刺激電極に送る刺激電流を制御する半導体集積回路からなる制御手段と、該制御手段及び前記刺激電極を設置し,前記制御手段と刺激電極とを電気的に接続するための配線が形成された基板と、を有し、さらに該基板に設置された前記制御手段は生体安全性を有する貴金属にてその周囲がメッキ処理されていることを特徴とする視覚再生補助装置。
- 請求項1の視覚再生補助装置において、前記制御手段は前記半導体集積回路の周囲に形成され、メッキ処理時における陰極となる電極部を備えることを特徴とする視覚再生補助装置。
- 請求項2の視覚再生補助装置において、前記電極部は前記制御部の半導体基板と略同電位であることを特徴とする視覚再生補助装置。
- 請求項3の視覚再生補助装置において、前記制御手段は生体適合性の高い樹脂で包埋されていることを特徴とする視覚再生補助装置。
- 請求項1〜4の視覚再生補助装置において、前記刺激電極と前記制御手段の半導体基板との間に刺激電流極性を反転させるためのスイッチを有し、前記スイッチがオンした場合に前記刺激電極と前記半導体基板が略同電位となる回路構成を備えることを特徴とする視覚再生補助装置。
- 視覚再生補助装置の作製方法において、網膜を構成する細胞に電気刺激を与えるための刺激電流を制御するための制御回路を半導体上に集積することよりなる制御ユニットに前記制御回路以外の部分にメッキ処理を行う第1ステップと、該第1ステップによりメッキが施された前記制御ユニットを,体内に設置する基板に前記制御回路の形成面を向けて接合する第2ステップと、を有することを特徴とする視覚再生補助装置の作製方法。
- 請求項6の視覚再生補助装置の作製方法において、前記第1ステップの前に、前記半導体基板と略導通するとともに前記制御回路を取り囲む電極を前記制御ユニットの制御回路形成面上に所定の高さを持って形成するステップを有し、さらに前記第1ステップにおいて前記制御回路を取り囲む電極を陰極としてメッキ処理をすることを特徴とする視覚再生補助装置の作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006187409A JP2006187409A (ja) | 2006-07-20 |
JP4359567B2 true JP4359567B2 (ja) | 2009-11-04 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4359567B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009501030A (ja) * | 2005-07-14 | 2009-01-15 | アイエムアイ インテリジェント メディカル インプランツ アクチエンゲゼルシャフト | 外眼網膜上移植組織 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008055000A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Nidek Co Ltd | 視覚再生補助装置 |
JP2012115545A (ja) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Nidek Co Ltd | 生体組織用刺激回路 |
EP2957317A4 (en) * | 2013-02-15 | 2016-03-09 | Nat Univ Corp Nara Inst | HIGH-FUNCTIONAL BIO ELECTRODE |
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JP2009501030A (ja) * | 2005-07-14 | 2009-01-15 | アイエムアイ インテリジェント メディカル インプランツ アクチエンゲゼルシャフト | 外眼網膜上移植組織 |
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JP2006187409A (ja) | 2006-07-20 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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