JP4338961B2 - 磁束照射装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ソレノイドコイルを用いて磁束を生じさせ、この磁束を被射体に照射するための磁束照射装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の磁束照射装置としては、例えば、局部温熱療法(ハイパーサーミア法)に使用される生体内部加熱装置に用いられているものがある。このハイパーサーミア法の一方式では、下記の特許文献1に開示されているように、鉄系酸化物の微粒子を主成分とする感磁発熱体が生体の患部に導入され、磁束照射装置によって感磁発熱体に磁束が照射される。感磁発熱体は照射された磁束によって磁気ヒステリシス損を生じ、患部はこの磁気ヒステリシス損によって局所的に加熱される。この加熱は正常細胞が侵襲されない程度の温度で行われ、患部の癌細胞のみが選択的に加熱されて壊死させられる。
【0003】
図1はこのような磁束照射装置1の概略構成を示している。磁束照射装置1はソレノイドコイル2および高周波電源3からなり、ソレノイドコイル2の内側には感磁発熱体を内部に有する生体4が配置されている。高周波電源3からソレノイドコイル2の両端に高周波電圧Vが印加されると、ソレノイドコイル2に高周波電流が流れて高周波磁界Hが発生する。この高周波磁界Hは生体4内の感磁発熱体に作用し、感磁発熱体を発熱させる。
【0004】
【特許文献1】
特開平11−57031号公報
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の磁束照射装置1においては、生体4の内奥部まで高周波磁界Hを作用させるため、高周波電源3からソレノイドコイル2に供給する高周波電圧Vを高く設定すると、ソレノイドコイル2の軸方向内側面に沿って大きい電位差が生じ、この電位差によって強い高周波電界Eが発生する。従って、上記従来の磁束照射装置1では、この高周波電界Eによって生体4の表層部が誘電加熱され、生体4といった被射体に対して高電圧印加とそれによる不本意な加熱という悪影響を与えてしまう。よって、この問題を解決することが課題となる。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明はこのような課題を解決するためになされたもので、複数の周回巻線が軸方向に連なる筒状のソレノイドコイルに電流を流して磁束を生じさせ、ソレノイドコイルの内側に配置された被射体に磁束を照射する磁束照射装置において、前記筒状の形態に起因してソレノイドコイルに沿ってその軸方向に生じる電界によって被射体が誘電加熱されないよう、ソレノイドコイルの軸方向内側面に沿った被射体との間に、被射体と空間を隔てて設けられた、前記電界によって生じて被射体を流れる電束流を分流させる非良導電性の高誘電体を備え、この高誘電体が固体であり、この固体にソレノイドコイルの軸方向に沿った経路を有する水路が形成されている、または、この高誘電体が液体であり、ソレノイドコイルの軸方向に沿った経路を有する管に入れられていることを特徴とする。
【0006】
なお、ここで言う高誘電体とは、その比誘電率εrが大気の比誘電率よりも顕著に高い誘電体を指している。すなわち、絶縁材として多用される汎用樹脂類(εr≒2〜3。ポリエチレン,ポリエステルなど)は好適と言えず、εr≧10、更にはεr≧30の誘電体が好適である。具体的な材料については後述する。また、ここで言う非良導電性とは、良導電体である金属のような高い導電性(導電率γ≒105[S/cm])は有しない意であり、この要件によって、磁界強度の著減までをもたらすような電界の短絡が避けられることで、本発明装置に必須の磁界形成作用が損なわれずに済むのである。この観点から、水道水の導電率(γ≒10−4[S/cm])を超えない導電率が許容しうる非良導電性の目安となり、蒸留水の導電率(γ≒10−5〜10−6[S/cm])を超えない導電率が好ましい非良導電性の目安となる。
【0007】
この構成によれば、ソレノイドコイルに供給する高周波電圧を高く設定し、ソレノイドコイルの軸方向内側面に沿って強い高周波電界が発生しても、この高周波電界は、ソレノイドコイルの軸方向内側面に沿って被射体との間に設けられた高誘電体によって誘電加熱消費され且つ電気的にシールドされ、生体といった被射体には実質的に影響が及ばない。また、高誘電体は非良導電性のため、高周波電界によって高誘電体に大電流が流れて、本来の磁界を打ち消すほどの逆極性磁界が発生することはない。
【0008】
図2は、上記本発明の構成と作用を模式的に示す等価回路図であって、同図において図1と同一または相当する部分には同一符号を付して説明する。空間には磁気抵抗Z1、生体4内には磁気インダクタンスZLおよび磁気抵抗Z2が形成されており、これらがソレノイドコイル2に直列接続されて等価磁気回路が構成されている。ソレノイドコイル2に通電されると高周波磁界Hが発生し、磁束流φがこの等価磁気回路を流れる。
【0009】
また、空間にはインピーダンスZR1,ZR2、生体4内にはキャパシタンスCA,抵抗RAを含むインピーダンスZR3が形成されており、これらがソレノイドコイル2に直列接続されて等価電気回路が構成されている。上記本発明の構成においては、生体4との間に非良導電性の高誘電体15が配備されているため、この等価電気回路では、高誘電体15内に形成されるキャパシタンスCB,抵抗RBを含むインピーダンスZR4の直列回路が、生体4内に形成されるキャパシタンスCA,抵抗RAを含むインピーダンスZR3の直列回路に並列に構成されている。
【0010】
ソレノイドコイル2に供給する高周波電圧Vが高くなると強い高周波電界Eが発生する。この高周波電界Eによって生じる電束流iは、従来はその全部が、空間に生じるインピーダンスZR1,ZR2、並びに生体4内のインピーダンスZR3に流入して、前記問題点をもたらしていた。しかし、上記本発明の構成によれば、電束流iの大部分の電束流i1は、生体4に並列に配備される高誘電体15内のインピーダンスZR4にバイパスし、残る小部分の電束流i2(i2<<i1)のみが生体4に作用することとなって、前記問題点が解消されるのである。
【0012】
また、高誘電体が固体であり、この固体にソレノイドコイルの軸方向に沿った経路を有する水路が形成されている構成によれば、発生した高周波電界に対する誘電加熱消費作用や電気シールド作用は、主として上記固体誘電体によってもたらされるが、水路を流れる高誘電体である水によってももたらされる。また、この消費によって高誘電体に生じた熱は、水路を流れる水によって冷却される。
【0014】
また、高誘電体が液体であり、ソレノイドコイルの軸方向に沿った経路を有する管に入れられている構成によれば、発生した高周波電界に対する誘電加熱消費作用や電気シールド作用は、ソレノイドコイルの軸方向に沿った経路の管に入れられている高誘電体によってもたらされる。また、高誘電体を管内に沿って流通させ、高誘電体に生じた熱を排出し、高周波電界に晒される高誘電体を常に新しいものにすることが出来る。
【0015】
【発明の実施の形態】
次に、本発明による磁束照射装置を生体内部加熱装置に適用した第1の実施形態について説明する。
【0016】
本実施形態による磁束照射装置11は、図3(a)に概略の側断面図が示され、同図(b)に正面図が示される。
【0017】
磁束照射装置11はソレノイドコイル12および高周波電源13からなり、ソレノイドコイル12の内側には感磁発熱体を内部に有する生体14が被射体として配置されている。また、ソレノイドコイル12の軸方向内側面に沿った生体14との間に、非良導電性の高誘電体15が備えられている。高誘電体15は円筒状の固体であり、チタニア磁器,チタン酸バリウム,チタン酸ストロンチウム,硫酸バリウム,酸化バリウム,酸化マグネシウムといったセラミックや、フッ化ビニリデン,ショウノウ等の高誘電率の材質からなる。
【0018】
このような構成において、高周波電源13からソレノイドコイル12の両端に高周波電圧Vが印加されると、ソレノイドコイル12に高周波電流が流れて高周波磁界Hが発生する。この高周波磁界Hは生体14内の感磁発熱体に作用し、感磁発熱体を発熱させる。
【0019】
また、ソレノイドコイル12に高周波電圧Vが印加されると、ソレノイドコイル12の軸方向内側面に沿って大きい電位差が生じ、この電位差によって強い高周波電界Eが発生する。本実施形態の磁束照射装置11では、この高周波電界Eは、ソレノイドコイル12の軸方向内側面に沿って生体14との間に設けられた高誘電体15を誘電加熱して、この高誘電体15内で消費される。また、高誘電体15は生体14を電気的にシールドする。また、高誘電体15は非良導電性のため、高周波電界Eによって高誘電体15に大電流が流れて、本来の磁界を打ち消すほどの逆極性磁界が発生することはなく、生体14に照射されている磁界Hに影響を与えることはない。
【0020】
従って、本実施形態による磁束照射装置11によれば、高誘電体15の内側に配置された生体14に及ぼす高周波電界Eの影響が抑制され、生体14の表層部が従来のように誘電加熱されなくなり、生体14に対する高電圧印加とそれによる不本意な加熱という悪影響を及ぼすことはない。
【0021】
図3(c)は、上記実施形態の高誘電体15に水路15aが形成された形態の磁束照射装置11’を示している。水路15aは、ソレノイドコイル12の軸方向に沿って高誘電体15を貫通する貫通穴からなる。
【0022】
この構成の磁束照射装置11’によれば、ソレノイドコイル12に高周波電圧Vが印加されて発生した高周波電界Eは、高誘電体15によって上述したように誘電加熱消費され且つ電気的にシールドされると共に、水路15aを流れる高誘電体の水(純水など)でも同様な誘電加熱消費作用や電気シールド作用がもたらされる。また、この消費によって高誘電体15に生じた熱は、水路15aを流れる水によって冷却される。
【0023】
このため、この磁束照射装置11’によれば、高周波電圧Vを高く設定することによって発生する高周波電界Eの消費効率が高まると共に、高誘電体15の発熱が抑えられ、高周波電界Eが生体14に及ぼす不本意な熱影響も抑制される。
【0024】
次に、本発明による磁束照射装置を生体内部加熱装置に適用した第2の実施形態について説明する。
【0025】
図4(a)は、この第2の実施形態による磁束照射装置21の概略の正面図である。この磁束照射装置21も、ソレノイドコイル12および高周波電源13からなり、ソレノイドコイル12の内側には感磁発熱体を内部に有する生体14が被射体として配置されている。この第2の実施形態による磁束照射装置21では、ソレノイドコイル12の軸方向内側面に沿った生体14との間に、絶縁材製の管16が備えられている。管16は、ポリエチレンやガラスといった絶縁性本位の材質からなり、同図(b)および同図(c)に示すように、ソレノイドコイル12の軸方向に沿った経路を有する。管16の内部には、液体の高誘電体、例えば、水17あるいはエチレングリコール,プロパンジオール,ブタンジオールなどが入れられている。
【0026】
この第2の実施形態による磁束照射装置21によれば、ソレノイドコイル12に高周波電圧Vが印加されて発生した強い高周波電界Eは、ソレノイドコイル12の軸方向に沿った経路の管16に入れられている水17を誘電加熱し、この水17によって誘電加熱消費され且つ電気的にシールドされる。また、水17を管16内に沿って流通させ、水17に生じた熱を排出し、高周波電界Eに晒される水17を常に新しいものにすることが出来る。このため、この第2の実施形態による磁束照射装置21によっても、高周波電界Eの消費効率が高くなると共に、水17の発熱が抑えられ、高周波電界Eが生体14に及ぼす不本意な熱影響も抑制される。
【0027】
図5は、上述した図4(a)および(b)に示す磁束照射装置21における生体14への影響についての実験結果を示している。なお、同図において図4と同一または相当する部分については同一符号を付してその説明は省略する。
【0028】
同図(a)に示すように、ソレノイドコイル12内の管16に沿わせて生体14に当たるものとしてシリコン18を配置し、ソレノイドコイル12に高周波電圧Vを印加して高周波電界Eを発生させ、シリコン18の温度を時間の経過に応じて測定した。同図(b)はこの実験結果を示すグラフであり、同グラフの横軸は電圧印加時間t[s],縦軸はシリコン18の温度T[℃]を表している。また、特性線31は管16への通水が無い場合の実験結果、特性線32は管16への通水が有る場合の実験結果を示している。
【0029】
この実験結果から、管16への通水が無い場合に比較して管16への通水が有る場合は、シリコン18の温度Tの上昇が抑えられていることが理解される。つまり、管16への通水があると、発生した高周波電界Eが管16内の水17において消費され、シリコン18つまり生体14への悪影響が排除される。
【0030】
また、同図(c)に示すように、ソレノイドコイル12内の中央部に、生体14内に埋め込まれる感磁発熱体として磁性粉入りポリエチレンシート19を配置し、ソレノイドコイル12に高周波電圧Vを印加して高周波電界Eを発生させ、ポリエチレンシート19の温度を時間の経過に応じて測定した。この測定では、ポリエチレンシート19の誘電率が低いため、ポリエチレンシート19に入れられた磁性粉に高周波磁界Hが作用して発生する発熱が測定される。同図(d)はこの実験結果を示すグラフであり、同グラフの横軸は電圧印加時間t[s],縦軸はポリエチレンシート19の温度T[℃]を表している。また、特性線33は、管16への通水が無い場合、および管16への通水が有る場合の両実験結果を示している。
【0031】
この実験結果から、管16への通水の有無にかかわらず、ポリエチレンシート19の温度が上昇していることが理解される。つまり、ソレノイドコイル12によって発生する高周波磁界Hは、管16内に水17が有っても無くても同様に、ポリエチレンシート19に及ぶ。
【0032】
すなわち、上記の2つの実験結果から、ソレノイドコイル12の内側に高誘電体として水17を配備することにより、高周波電界Eの生体14への影響を無くすことが出来ると共に、この水17の配備によって生体14に及ぶ高周波磁界Hは影響を受けない、ということが言える。
【0033】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、ソレノイドコイルに供給する高周波電圧を高く設定し、ソレノイドコイルの軸方向内側面に沿って強い高周波電界が発生しても、この高周波電界は、ソレノイドコイルの軸方向内側面に沿って被射体との間に設けられた高誘電体によって誘電加熱消費され且つ電気的にシールドされる。このため、高誘電体の内側に配置された被射体に及ぼす高周波電界の影響が抑制され、被射体に対して高電圧印加とそれによる不本意な加熱という悪影響を及ぼすことはない。
【0034】
また、上記高誘電体が固体であり、この固体にソレノイドコイルの軸方向に沿った経路を有する水路が形成されている構成の場合、発生した高周波電界に対する誘電加熱消費作用や電気シールド作用は、水路を流れる高誘電体である水によってももたらされる。また、この消費によって高誘電体に生じた熱は、水路を流れる水によって冷却される。このため、この構成によれば、高周波電圧を高く設定することによって発生する高周波電界に対する各作用の効率が高まると共に、高誘電体の発熱が抑えられ、高周波電界が被射体に及ぼす不本意な熱影響も抑制される。
【0035】
また、上記高誘電体が液体であり、ソレノイドコイルの軸方向に沿った経路を有する管に入れられている構成の場合、発生した高周波電界に対する誘電加熱消費作用や電気シールド作用は、ソレノイドコイルの軸方向に沿った経路の管に入れられている高誘電体によってもたらされる。また、高誘電体を管内に沿って流通させ、高誘電体に生じた熱を排出し、高周波電界に晒される高誘電体を常に新しいものにすることが出来る。このため、この構成によっても、高誘電体の発熱が抑えられ、高周波電界が被射体に及ぼす不本意な熱影響は抑制される。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の磁束照射装置の概略構成を示す図である。
【図2】本発明の構成と作用を模式的に示す等価回路図である。
【図3】(a)は本発明の第1の実施形態による磁束照射装置の概略の側断面図、(b)はその正面図、(c)はこの第1の実施形態による磁束照射装置の変形例を示す正面図である。
【図4】(a)は本発明の第2の実施形態による磁束照射装置の概略の正面図、(b)はその磁束照射装置を構成する管の構成を示す斜視図、(c)はこの管の別の構成を示す斜視図である。
【図5】(a)は第2の実施形態による磁束照射装置の第1の実験の構成を示す図、(b)はこの第1の実験の結果を示すグラフ、(c)は第2の実施形態による磁束照射装置の第2の実験の構成を示す図、(d)はこの第2の実験の結果を示すグラフである。
【符号の説明】
11,11’,21…磁束照射装置
12…ソレノイドコイル
13…高周波電源
14…生体
15…高誘電体
15a…水路
16…管
17…水
18…シリコン
19…磁性粉入りポリエチレンシート
Claims (4)
- 複数の周回巻線が軸方向に連なる筒状のソレノイドコイルに電流を流して磁束を生じさせ、前記ソレノイドコイルの内側に配置された被射体に前記磁束を照射する磁束照射装置において、
前記筒状の形態に起因して前記ソレノイドコイルに沿ってその軸方向に生じる電界によって前記被射体が誘電加熱されないよう、前記ソレノイドコイルの軸方向内側面に沿った前記被射体との間に、前記被射体と空間を隔てて設けられた、前記電界によって生じて前記被射体を流れる電束流を分流させる非良導電性の高誘電体を備え、
前記高誘電体は固体であり、この固体に前記ソレノイドコイルの軸方向に沿った経路を有する水路が形成されていることを特徴とする磁束照射装置。 - 複数の周回巻線が軸方向に連なる筒状のソレノイドコイルに電流を流して磁束を生じさせ、前記ソレノイドコイルの内側に配置された被射体に前記磁束を照射する磁束照射装置において、
前記筒状の形態に起因して前記ソレノイドコイルに沿ってその軸方向に生じる電界によって前記被射体が誘電加熱されないよう、前記ソレノイドコイルの軸方向内側面に沿った前記被射体との間に、前記被射体と空間を隔てて設けられた、前記電界によって生じて前記被射体を流れる電束流を分流させる非良導電性の高誘電体を備え、
前記高誘電体は液体であり、前記ソレノイドコイルの軸方向に沿った経路を有する管に入れられていることを特徴とする磁束照射装置。 - 前記高誘電体は、導電率が約10−4[S/cm])を超えない非良導電性を有し、比誘電率が10以上であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の磁束照射装置。
- 前記被射体は、前記磁束が照射されて発熱する感磁発熱体を内部に有する生体であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の磁束照射装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US10500409B2 (en) | 2015-03-02 | 2019-12-10 | KAIO Therapy, LLC | Systems and methods for providing alternating magnetic field therapy |
US10576297B2 (en) | 2013-09-20 | 2020-03-03 | Dai-Ichi High Frequency Co., Ltd. | Magnetic flux irradiation devices and components |
Families Citing this family (3)
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10342989B2 (en) | 2013-09-20 | 2019-07-09 | Dai-Ichi High Frequency Co., Ltd. | Magnetic flux irradiation devices and components |
US10576297B2 (en) | 2013-09-20 | 2020-03-03 | Dai-Ichi High Frequency Co., Ltd. | Magnetic flux irradiation devices and components |
US10500409B2 (en) | 2015-03-02 | 2019-12-10 | KAIO Therapy, LLC | Systems and methods for providing alternating magnetic field therapy |
Also Published As
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