JP4337343B2 - Droplet ejection apparatus and electro-optic device manufacturing method - Google Patents

Droplet ejection apparatus and electro-optic device manufacturing method Download PDF

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液滴吐出装置および電気光学装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、インクジェットプリンターが主に民生用のプリンターとして広く用いられている。このインクジェットプリンターのインクジェット方式（液滴吐出方式）を応用した産業用の液滴吐出装置（インクジェット描画装置）が知られている。この産業用の液滴吐出装置は、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ表示装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに使用される。
【０００３】
このような液滴吐出装置では、液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）の捨て吐出（フラッシングまたは予備吐出ともいう）という動作が行われる。この動作を行う目的は、次のようなものである。液滴吐出ヘッドは、液滴の吐出を休止してから吐出を再開するまでの時間が長くなると、液滴の吐出方向が乱れる、吐出量が多くなり過ぎる、吐出量が少なくなり過ぎる等の現象が起こり易くなり、液滴吐出動作が不安定になる傾向がある。すなわち、液滴吐出ヘッドは、液滴の吐出を開始した直後は、吐出状態が安定せずにまっすぐ飛びにくい、吐出量が安定しない等の傾向がある。このため、液滴吐出ヘッドが捨て吐出を行って吐出状態が安定した後に、基板等のワークに対するパターン形成（描画）を開始するようにしている。
【０００４】
従来の液滴吐出装置では、対象物である基板（ワーク）の周縁部（額縁部分）を捨て吐出場所として液滴を捨て吐出している（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、この場合には、基板の周縁部に機能上不必要なパターンを形成（描画）することとなり、基板の周縁部を有効に利用することができず、この部分が無駄になる。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００２−２２９２４号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ワーク搬送テーブルの撓み変形を防止しつつ、ワーク上に不必要なパターンを形成（描画）するのを回避することができる液滴吐出装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の液滴吐出装置は、装置本体と、
ワークを支持するワーク搬送テーブルと、
前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワーク搬送テーブルの少なくとも一辺の近傍に前記ワーク搬送テーブルと非接触で設けられ、前記液滴吐出ヘッドから捨て吐出された液体を受ける液受け部と、
前記ワーク搬送テーブルおよび前記液受け部をそれぞれ独立に支持する支持体と、
前記ワーク搬送テーブルおよび前記液受け部を前記支持体を介して支持し、該支持体ごと前記装置本体に対し少なくとも水平な一方向に移動させる移動機構と、
前記液受け部の高さを調整する高さ調整機構とを備えることを特徴とする。
これにより、ワーク搬送テーブルの撓み変形を防止しつつ、ワーク上に不必要なパターンを形成（描画）するのを回避することができる液滴吐出装置を提供することができる。
【０００８】
本発明の液滴吐出装置では、前記液受け部は、前記一辺に沿って細長く形成され、その長さは、前記一辺の長さとほぼ同じになっていることが好ましい。
これにより、液滴吐出ヘッドとワーク搬送テーブルとの当該一辺の長手方向についての相対的な位置関係にかかわらず液受け部に捨て吐出を行うことができるとともに、液受け部が占有するスペースを極力少なくすることができる。
【０００９】
本発明の液滴吐出装置は、前記ワーク搬送テーブルの互いに平行な二辺の近傍にそれぞれ前記液受け部が設けられていることが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブルを前進（往動）させながらワークに対し液滴を吐出する前と、後退（復動）させながらワークに対し液滴を吐出する前との両方で捨て吐出を行うことができる。
【００１０】
本発明の液滴吐出装置は、前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出することにより、前記ワークに所定のパターンを形成することが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００１１】
本発明の液滴吐出装置は、前記液滴吐出ヘッドを前記装置本体に対し前記一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に垂直かつ水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）に移動させるＸ軸方向移動機構をさらに備えることが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００１２】
本発明の液滴吐出装置は、前記Ｙ軸方向と前記Ｘ軸方向とのいずれか一方を主走査方向とし、他方を副走査方向として前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに対し液滴を吐出することが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００１３】
本発明の液滴吐出装置では、前記液受け部は、前記ワーク搬送テーブルの前記副走査方向に沿って延びる辺の近傍に設けられていることが好ましい。
これにより、液受け部に対する捨て吐出を行った後、直ちに主走査に移行することができるので、ワークに対するパターンの形成（描画）を迅速に行うことができ、サイクルタイムの短縮が図れる。
【００１４】
本発明の液滴吐出装置では、前記ワーク搬送テーブルは、前記ワーク搬送テーブルを鉛直方向の軸回りに所定範囲で回転させる回転機構を介して前記支持体に支持されており、
前記液受け部は、前記回転機構を介さずに前記支持体に支持されており、
前記回転機構は、前記液受け部の鉛直方向の軸周りの姿勢を変えることなく、前記ワーク搬送テーブルの鉛直方向の軸回りの姿勢を調整可能であることが好ましい。
これにより、回転機構によりワーク搬送テーブルの姿勢（角度）を調整しても、液受け部の姿勢（角度）は変化しないので、液滴吐出ヘッドが捨て吐出すべき位置を常に一定に保つことができる。
【００１６】
本発明の液滴吐出装置では、前記高さ調整機構は、前記液受け部が最上位置にあるとき、前記液受け部の上端の高さが前記ワーク搬送テーブルのワーク載置面の高さより高くなるように前記液受け部の高さを調整することが好ましい。
これにより、液受け部の上端と液滴吐出ヘッドとの隙間が十分に小さくなるように調整することができるので、捨て吐出された液滴が周囲に飛散するのをより確実に防止して液受け部で受けることができる。
【００１７】
本発明の液滴吐出装置では、前記高さ調整機構は、前記液受け部が最下位置にあるとき、前記液受け部の上端の高さが前記ワーク搬送テーブルのワーク載置面の高さより低くなるように前記液受け部の高さを調整することが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブル上へのワークの給材（搬入）および除材（搬出）の際、液受け部と干渉するのを防止することができるので、給材工程および除材工程を円滑、迅速かつ容易に行うことができ、また、給材工程および除材工程においてワークを傷つけるようなことも防止することができる。
【００１８】
本発明の液滴吐出装置では、前記液受け部は、液体を吸収し得る液体吸収体を有することが好ましい。
これにより、捨て吐出された液滴が周囲に飛散するのをより確実に防止することができる。
本発明の液滴吐出装置では、前記液受け部は、前記液体吸収体を押さえ、前記液体吸収体が膨張するのを防止する押さえ部材を有することが好ましい。
これにより、液体吸収体が液滴吐出ヘッドに接触するのを確実に防止することができる。
本発明の液滴吐出装置は、前記液受け部が受けた液体を回収して貯留する排液装置をさらに備えることが好ましい。
これにより、液受け部に溜まった液体を抜き取る作業が不要となり、稼働率の向上やオペレーターの負担軽減が図れる。
【００１９】
本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。
これにより、ワークに対するパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができるとともに、製造コストの低減が図れる電気光学装置の製造方法を提供することができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の液滴吐出装置を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
図１および図２は、それぞれ、本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す平面図および側面図、図９は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるタンク収納部を示す斜視図である。なお、以下では、説明の便宜上、水平な一方向（図１および図２中の左右方向に相当する方向）を「Ｙ軸方向」と言い、このＹ軸方向に垂直であって水平な方向（図１中の上下方向に相当する方向）を「Ｘ軸方向」と言う。また、Ｙ軸方向であって図１および図２中の右方向への移動を「Ｙ軸方向に前進」、Ｙ軸方向であって図１および図２中の左方向への移動を「Ｙ軸方向に後退」と言い、Ｘ軸方向であって図１中の下方向への移動を「Ｘ軸方向に前進」、Ｘ軸方向であって図１中の上方向への移動を「Ｘ軸方向に後退」と言う。
【００２１】
これらの図に示す液滴吐出装置（インクジェット描画装置）１は、ワークとしての基板Ｗに対し、例えばインクや、目的とする材料を含む機能液等の液体（吐出液）をインクジェット方式（液滴吐出方式）により微小な液滴の状態で吐出して所定のパターンを形成（描画）する装置であり、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ表示装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに用いることができる産業用の液滴吐出装置である。
【００２２】
液滴吐出装置１が対象とする基板Ｗの素材は、特に限定されず、板状の部材（ワーク）であればいかなるものでもよいが、例えば、ガラス基板、シリコン基板、フレキシブル基板等を対象とすることができる。また、本発明では、液滴吐出装置が対象とするワークは板状部材に限らずいかなるものでもよく、例えばレンズをワークとし、このレンズに液滴を吐出することにより光学薄膜等のコーティングを形成する液滴吐出装置などにも適用することができる。また、本発明は、比較的大型のワーク（例えば、長さ、幅がそれぞれ数十ｃｍ〜数ｍ程度のもの）にも対応することができる比較的大型の液滴吐出装置１に特に好ましく適用することができる。
【００２３】
この液滴吐出装置１は、装置本体２と、基板搬送テーブル（ワーク搬送テーブル）３と、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１１１を有するヘッドユニット１１と、描画前フラッシングユニット７と、液滴吐出ヘッド１１１のメンテナンスをするメンテナンス装置１２と、タンク収納部１３と、基板Ｗにガスを吹き付けるブロー装置１４と、基板搬送テーブル３の移動距離を測定するレーザー測長器１５と、制御装置１６と、ドット抜け検出ユニット１９とを備えている。
【００２４】
液滴吐出ヘッド１１１から吐出する液体としては、特に限定されず、カラーフィルタのフィルタ材料を含むインクの他、例えば以下のような各種の材料を含む液体（サスペンション、エマルション等の分散液を含む）とすることができる。・有機ＥＬ（electroluminescence）装置におけるＥＬ発光層を形成するための発光材料。・電子放出装置における電極上に蛍光体を形成するための蛍光材料。・ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置における蛍光体を形成するための蛍光材料。・電気泳動表示装置における泳動体を形成する泳動体材料。・基板Ｗの表面にバンクを形成するためのバンク材料。・各種コーティング材料。・電極を形成するための液状電極材料。・２枚の基板間に微小なセルギャップを構成するためのスペーサを構成する粒子材料。・金属配線を形成するための液状金属材料。・マイクロレンズを形成するためのレンズ材料。・レジスト材料。・光拡散体を形成するための光拡散材料。
【００２５】
図２に示すように、装置本体２は、床上に設置された架台２１と、架台２１上に設置された石定盤２２とを有している。石定盤２２の上には、基板搬送テーブル３が装置本体２に対しＹ軸方向に移動可能に設置されている。基板搬送テーブル３は、リニアモータ５１の駆動により、Ｙ軸方向に前進・後退する。この基板搬送テーブル３は、平面視で、Ｙ軸方向に沿って延びる辺とＸ軸方向に沿って延びる辺とを有するほぼ長方形の外形をなしている。基板Ｗは、基板搬送テーブル３上に載置される。
【００２６】
液滴吐出装置１では、基板搬送テーブル３と同程度の大きさの比較的大型の基板Ｗから、基板搬送テーブル３より小さい比較的小型の基板Ｗまで、様々な大きさおよび形状の基板Ｗを対象にすることができる。基板Ｗは、原則としては基板搬送テーブル３と中心を一致させるように位置決めした状態で液滴吐出動作をすることが好ましいが、比較的小型の基板Ｗの場合には、基板搬送テーブル３の端に寄せた位置に位置決めして液滴吐出動作をしてもよい。
【００２７】
図１に示すように、基板搬送テーブル３のＸ軸方向（副走査方向）に沿って延びる２つの辺の近傍には、それぞれ、液滴吐出ヘッド１１１が基板Ｗに対して液滴を吐出する前（主走査を行う前）に捨て吐出（フラッシングまたは予備吐出ともいう）した液体（液滴）を受ける（受け取る）液受け部７１を有する描画前フラッシングユニット７が設置されている。描画前フラッシングユニット７には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通り、後述する排液装置１８により回収される。なお、描画前フラッシングユニット７については、後に詳述する。
【００２８】
基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離は、移動距離検出手段としてのレーザー測長器１５により測定される。レーザー測長器１５は、装置本体２に設置されたレーザー測長器センサヘッド１５１、ミラー１５２およびレーザー測長器本体１５３と、基板搬送テーブル３に設置されたコーナーキューブ１５４とを有している。レーザー測長器センサヘッド１５１からＸ軸方向に沿って出射したレーザー光は、ミラー１５２で屈曲してＹ軸方向に進み、コーナーキューブ１５４に照射される。コーナーキューブ１５４での反射光は、ミラー１５２を経て、レーザー測長器センサヘッド１５１に戻る。液滴吐出装置１では、このようなレーザー測長器１５によって検出された基板搬送テーブル３の移動距離（現在位置）に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの吐出タイミングが生成される。
【００２９】
また、装置本体２には、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ６１が、基板搬送テーブル３の上方空間においてＸ軸方向に移動可能に設置されている。複数の液滴吐出ヘッド１１１を有するヘッドユニット１１は、リニアモータとガイドとを備えたリニアモータアクチュエータ６２の駆動により、メインキャリッジ６１とともにＸ軸方向に前進・後退する。
【００３０】
本実施形態の液滴吐出装置１では、液滴吐出ヘッド１１１のいわゆる主走査は、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に移動させながら、レーザー測長器１５を用いて生成した吐出タイミングに基づき、液滴吐出ヘッド１１１を駆動して液滴を選択的に吐出することにより行う。また、これに対応して、いわゆる副走査は、液滴吐出ヘッド１１１の非駆動時（非吐出時）に、ヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）をＸ軸方向に段階的（間欠的）移動させることにより行う。
【００３１】
また、装置本体２には、基板Ｗ上に吐出された液滴を乾燥させるブロー装置１４が設置されている。ブロー装置１４は、Ｘ軸方向に沿ってスリット状に開口するノズルを有しており、基板Ｗを基板搬送テーブル３によりＹ軸方向に搬送しつつ、このノズルより基板Ｗへ向けてガスを吹き付ける。本実施形態の液滴吐出装置１では、Ｙ軸方向に互いに離れた個所に位置する２個のブロー装置１４が設けられている。
【００３２】
メンテナンス装置１２は、架台２１および石定盤２２の側方に設置されている。このメンテナンス装置１２は、ヘッドユニット１１の待機時に液滴吐出ヘッド１１１をキャッピングするキャッピングユニット１２１と、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面をワイピングするクリーニングユニット１２２と、液滴吐出ヘッド１１１の定期的なフラッシングを受ける定期フラッシングユニット１２３と、重量測定ユニット１２５とを有している。
【００３３】
また、メンテナンス装置１２は、Ｙ軸方向に移動可能な移動台１２４を有しており、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３および重量測定ユニット１２５は、移動台１２４上にＹ軸方向に並んで設置されている。ヘッドユニット１１がメンテナンス装置１２の上方に移動した状態で移動台１２４がＹ軸方向に移動することにより、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３および重量測定ユニット１２５のいずれかが液滴吐出ヘッド１１１の下方に位置し得るようになっている。ヘッドユニット１１は、待機時にはメンテナンス装置１２の上方に移動し、キャッピング、クリーニング（ワイピング）および定期フラッシングを所定の順番で行う。
【００３４】
キャッピングユニット１２１は、複数の液滴吐出ヘッド１１１のそれぞれに対応するように配置された複数のキャップとこれらキャップを昇降させる昇降機構とを有している。各キャップには、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、キャッピングユニット１２１は、各キャップで各液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を覆うとともに、ノズル形成面に形成されたノズルから吐出液を吸引することができる。このようなキャッピングを行うことにより、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面が乾燥するのを防止したり、ノズル詰まりを回復（解消）したりすることができる。
【００３５】
キャッピングユニット１２１によるキャッピングは、ヘッドユニット１１の待機時や、ヘッドユニット１１に吐出液を初期充填する際、吐出液を異種のものに交換する場合にヘッドユニット１１から吐出液を排出する際、洗浄液によって流路を洗浄する際などに行われる。
キャッピングユニット１２１によるキャッピング中に液滴吐出ヘッド１１１から排出された吐出液は、前記吸引チューブを通り、後述するキャッピング排液装置１７により回収され、再利用に供される。ただし、流路の洗浄時に回収した洗浄液は再利用しない。
【００３６】
クリーニングユニット１２２は、洗浄液（例えば、吐出液を溶解可能な溶剤など）を含ませたワイピングシートをローラーにより走行させ、このワイピングシートにより液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を拭き取り、清掃するよう作動するものである。
定期フラッシングユニット１２３は、ヘッドユニット１１の待機時のフラッシングに使用されるものであり、液滴吐出ヘッド１１１が捨て吐出した吐出液滴を受けるものである。定期フラッシングユニット１２３には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通り、後述する排液装置１８により回収される。
【００３７】
重量測定ユニット１２５は、基板Ｗに対する液滴吐出動作の準備段階として、液滴吐出ヘッド１１１からの１回の液滴吐出量（重量）を測定するのに利用するものである。すなわち、基板Ｗに対する液滴吐出動作前、ヘッドユニット１１は、重量測定ユニット１２５の上方に移動し、各液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルから１回または複数回液滴を重量測定ユニット１２５に対し吐出する。重量測定ユニット１２５は、吐出された液滴を受ける液受けと、電子天秤等の重量計とを備えており、吐出された液滴の重量を計測する。または、液受けを取り外して装置外部の重量計で計測してもよい。後述する制御装置１６は、その重量計測結果に基づいて、吐出ノズルにおける１回の吐出液滴の量（重量）を算出し、その算出値が予め定められた設計値に等しくなるように、液滴吐出ヘッド１１１を駆動するヘッドドライバの印加電圧を補正する。
【００３８】
ドット抜け検出ユニット１９は、石定盤２２上における基板搬送テーブル３の移動領域と重ならない場所であって、ヘッドユニット１１の移動領域の下方に位置する場所に固定的に設置されている。ドット抜け検出ユニット１９は、液滴吐出ヘッド１１１の吐出ノズルの目詰まりが原因となって生じるドット抜けを検出するものであり、例えばレーザー光を投光・受光する投光部および受光部を備えている。ドット抜け検出を行う際には、ヘッドユニット１１がドット抜け検出ユニット１９の上方空間をＸ軸方向に移動しつつ、各吐出ノズルから液滴を捨て吐出し、ドット抜け検出ユニット１９は、この捨て吐出された液滴に対し投光・受光を行って、目詰まりしている吐出ノズルの有無および個所を光学的に検出する。この際に液滴吐出ヘッド１１１から吐出された吐出液は、ドット抜け検出ユニット１９が備える受け皿に溜まり、この受け皿の底部に接続された吸引チューブ（図示せず）を通って、後述する排液装置１８により回収される。
【００３９】
装置本体２およびメンテナンス装置１２の近傍には、ラック（棚）１３１を有するタンク収納部１３が設置されている。図９に示すように、タンク収納部１３のラック１３１には、液滴吐出ヘッド１１１から吐出する吐出液を貯留する第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２と、クリーニングユニット１２２に供給する洗浄液を貯留する第１の洗浄液タンク５０１および第２の洗浄液タンク５０２と、キャッピングユニット１２１から回収された排液を貯留する第１の再利用タンク１７１および第２の再利用タンク１７２と、描画前フラッシングユニット７、定期フラッシングユニット１２３およびドット抜け検出ユニット１９において液滴吐出ヘッド１１１より捨て吐出された排液を貯留する第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２（図９中では図示を省略）とがそれぞれ設置（収納）されている。
【００４０】
第１の一次タンク４０１、第２の一次タンク４０２は、それぞれ、空になったときに吐出液を補充したり、満杯になっているタンクに交換したりすることができるようになっている。なお、第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２は、交換（着脱）と、吐出液の補充との少なくとも一方が行えるようになっていればよい。
【００４１】
同様に、第１の洗浄液タンク５０１、第２の洗浄液タンク５０２も、それぞれ、交換または洗浄液の補充を行うことができるようになっている。また、第１の再利用タンク１７１、第２の再利用タンク１７２、第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２は、それぞれ、満杯になったときに空のタンクへの交換または排液の抜き取りを行うことができるようになっている。
【００４２】
制御装置（制御手段）１６は、液滴吐出装置１の各部の作動を制御するものであり、ＣＰＵ（Central Processing Unit）と、液滴吐出装置１の制御動作を実行するためのプログラム等の各種プログラムおよび各種データを記憶（格納）する記憶部とを有している。図示の構成では、制御装置１６は、後述するチャンバ９１の外部に設置されている。
【００４３】
このような液滴吐出装置１（制御装置１６を除く）は、第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２を含めて、好ましくは、内部の温度および湿度が管理されるチャンバ９１に収容（収納）されている。すなわち、液滴吐出装置１は、温度および湿度が管理された環境下で稼動する。これにより、基板Ｗ上に吐出液滴によるパターンを形成（描画）するに当たり、液滴吐出装置１の各部や基板Ｗが温度変化によって熱膨張・熱収縮することによる誤差を生じるのを防止することができるので、高い精度でパターンの形成（描画）を行うことができる。
【００４４】
また、第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２に貯留された吐出液の温度が管理（調節）される結果、吐出液の粘度等の特性が安定することから、液滴吐出ヘッド１１１からの液滴吐出状態が安定するので、さらに高い精度でパターンの形成（描画）を行うことができる。また、チャンバ９１内へのチリ、ホコリ等の侵入を防止することもでき、基板Ｗを清浄に維持した状態でパターンの形成（描画）を行うことができる。
【００４５】
チャンバ９１は、主室（第１の部屋）９１３と、副室（第２の部屋）９１６とを有している。主室９１３と副室９１６とは、隔壁９１４および９１５により隔てられている。主室９１３内には、液滴吐出装置１が収容されており、副室９１６内には、タンク収納部１３が収容されている。すなわち、第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２は、チャンバ９１内において液滴吐出装置１と別個の部屋である副室９１６に収容されている。
【００４６】
副室９１６には、チャンバ９１の外部に対する開閉扉（開閉部）９１８が設けられている（図１参照）。なお、副室９１６の開閉部は、開閉扉９１８のような開き戸に限らず、引き戸、シャッターなどでもよい。また、隔壁９１４には、主室９１３と副室９１６とを連通する連通部（開口）９１７が形成されている。また、副室９１６には、副室９１６内の気体を排出する排気口が形成され、この排気口には、外部へ延びる排気ダクト９４が接続されている。
【００４７】
このようなチャンバ９１を備えるチャンバ装置９は、さらに、チャンバ９１内の温度および湿度を調節（管理）する空調装置９２を備えている。空調装置９２は、公知のエアーコンディショナー装置を内蔵しており、温度および湿度を調節した空気（気体）を導入ダクト９３を通してチャンバ９１の天井裏９１１に送り込む。天井裏９１１に送り込まれた空気は、フィルタ９１２を透過して、チャンバ９１の主室９１３に導入される。主室９１３内に導入された空気は、連通部９１７を通って副室９１６に流入し、副室９１６内を経由して排気ダクト９４（排気口）により外部へと排出される。
【００４８】
このような構成により、空調装置９２によって温度および湿度が調節された空気が主室９１３および副室９１６の隅々まで確実に流入するので、簡単な構造で、液滴吐出装置１の周囲と、第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２の周囲との双方の温度および湿度を管理することができる。また、吐出液から発生する有害ガスをチャンバ９１の外部に排出することができ、安全性が高い。
【００４９】
本実施形態では、第１の一次タンク４０１、第２の一次タンク４０２の交換や吐出液の補充を行う際には、開閉扉９１８を開くことにより、主室９１３を外部に開放することなく、これを行うことができる。これにより、一次タンクの交換時や吐出液の補充時に、液滴吐出装置１の周囲（環境）の管理された温度および湿度を乱すことがないので、一次タンクの交換や吐出液の補充を行った直後でも、高い精度でパターンの形成（描画）を行うことができる。また、一次タンクの交換や吐出液の補充を行った後、主室９１３内の温度や液滴吐出装置１の各部の温度が管理された値に戻るのを待たずに済むので、スループット（生産能率）の向上が図れる。このようなことから、基板Ｗ等のワークを高い精度で量産するのに極めて有利であり、製造コストの低減が図れる。
【００５０】
また、本実施形態では、洗浄液タンクの交換、洗浄液の補充、再利用タンクおよび排液タンクの交換または液体の抜き取り等の作業を行う場合でも、同様に、液滴吐出装置１の周囲（環境）の管理された温度および湿度を乱すことがないので、その作業の直後から高い精度でパターンの形成（描画）を行うことができ、スループット（生産能率）のさらなる向上が図れる。
【００５１】
なお、排気ダクト９４には、好ましくは流速センサ（図示せず）が設置されている。制御装置１６は、この流速センサの検出結果に基づいて、常時、必要排気量が確保されているか監視しており、異常があった場合には、警報音、音声、操作パネル（図示せず）への表示などの方法により、その旨をオペレータに報知する。
【００５２】
また、チャンバ９１内には、空気以外のガス（例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の不活性ガスなど）を温度および湿度を調節して供給・充填し、このガスの雰囲気中で液滴吐出装置１を稼動することとしてもよい。
また、副室９１６に設けられた外部に対する開閉部は、戸が二重または三重以上になっていて、それらの戸と戸の間に別個の部屋（空間）が形成されるようなものでもよい。
また、チャンバ９１は、その内部の温度、湿度のいずれか一方が管理（調節）されるものであればよい。
また、本実施形態では、一次タンクを２個備えているが、一次タンクは、１個でも３個以上でもよい（他のタンクについても同様）。
【００５３】
図３は、図１および図２に示す液滴吐出装置における架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す平面図、図４は、図１および図２に示す液滴吐出装置における架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す側面図である。なお、図３および図４中では、描画前フラッシングユニット７の図示を省略する。
図３および図４に示すように、石定盤２２の上には、基板搬送テーブル３と、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に移動させるＹ軸方向移動機構５とが設置されている。図３に示すように、基板搬送テーブル３には、載置された基板Ｗを吸着して固定するための複数の吸引口（吸引部）３３２が形成されている。
【００５４】
図４に示すように、Ｙ軸方向移動機構５は、リニアモータ５１と、エアスライダ５２とを有している。エアスライダ５２は、石定盤２２上でＹ軸方向に沿って延在するスライドガイド５２１と、このスライドガイド５２１に沿って移動するスライドブロック５２２とを有している。スライドブロック５２２は、スライドガイド５２１との間に空気を吹き出す吹き出し口を有しており、この吹き出し口から吹き出す空気をスライドガイド５２１との間に介在させることにより、円滑に移動可能になっている。
【００５５】
スライドブロック５２２上には、基板搬送テーブル３および描画前フラッシングユニット７（液受け部７１）を支持する支持体（ベース）１０８が固定されている。この支持体１０８の上に、基板搬送テーブル３がθ軸回転機構６０を介して固定されている。このようにして、基板搬送テーブル３は、エアスライダ５２によってＹ軸方向に円滑に移動可能に支持され、リニアモータ５１の駆動によりＹ軸方向に移動するようになっている。また、基板搬送テーブル３は、θ軸回転機構６０により、基板搬送テーブル３の中心を通る鉛直方向の軸（以下、「θ軸」という）を回転中心として所定範囲で回転（回動）可能になっている。
【００５６】
Ｙ軸方向移動機構５の上方には、例えばステンレス鋼等の金属材料で構成された一対の帯状の薄板１０１がＹ軸方向移動機構５を上側から覆うように張り渡されている。薄板１０１は、支持体１０８の上面に形成された凹部（溝）内を通って支持体１０８とθ軸回転機構６０との間を挿通している。この薄板１０１が設けられていることにより、液滴吐出ヘッド１１１から吐出された吐出液がＹ軸方向移動機構５に付着するのを防止することができ、Ｙ軸方向移動機構５を保護することができる。
【００５７】
石定盤２２は、無垢の石材（例えば、ベルファストブラック、ラステンバーグ、クルヌール、インディアンブラック等）で構成され、その上面は、高い平面度を有している。この石定盤２２は、環境温度変化に対する安定性、振動に対する減衰性、経年変化（劣化）に対する安定性、吐出液に対する耐食性等の各種の特性に優れている。本実施形態では、このような石定盤２２によってＹ軸方向移動機構５および後述するＸ軸方向移動機構６を支持したことにより、環境温度変化、振動、経年変化（劣化）等の影響による誤差が少なく、基板搬送テーブル３とヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）との相対的な移動に高い精度が得られるとともに、その高い精度を常に安定して維持することができる。その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
【００５８】
このような石定盤２２は、架台２１に支持されている。架台２１は、アングル材等を方形に組んで構成された枠体２１１と、枠体２１１の下部に分散配置された複数の支持脚２１２とを有している。架台２１は、好ましくは空気バネまたはゴムブッシュ等による防振構造を有しており、床からの振動を石定盤２２に極力伝達しないように構成されている。
【００５９】
図５は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットおよびＸ軸方向移動機構を示す平面図、図６は、図５中の矢印Ａ方向から見た側面図、図７は、図５中の矢印Ｂ方向から見た正面図である。
図６および図７に示すように、石定盤２２の上には、４本の支柱２３と、これらの支柱２３に支持されたＸ軸方向に沿って延びる互いに平行な２本の桁（梁）２４および２５とが設置されている。基板搬送テーブル３は、桁２４および２５の下を通過可能になっている。
【００６０】
液滴吐出ヘッド１１１（ヘッドユニット１１）をＸ軸方向に移動させるＸ軸方向移動機構６は、桁２４および２５を介して、４本の支柱２３に支持されている。図５に示すように、Ｘ軸方向移動機構６は、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ６１と、桁２４上に設置され、メインキャリッジ６１をＸ軸方向に案内するとともに駆動するリニアモータアクチュエータ６２と、桁２５上に設置され、メインキャリッジ６１をＸ軸方向に案内するガイド６３とを有している。メインキャリッジ６１は、リニアモータアクチュエータ６２とガイド６３との間に架け渡されるようにして設置されている。
【００６１】
ヘッドユニット１１は、メインキャリッジ６１に対し着脱可能に支持されている。ヘッドユニット１１がメインキャリッジ６１とともにＸ軸方向に移動することにより、液滴吐出ヘッド１１１の副走査が行われる。また、ヘッドユニット１１は、メインキャリッジ６１に対するヘッドユニット１１の高さを調整する高さ調整機構２０を介してメインキャリッジ６１に支持されている。これにより、基板Ｗの厚さに合わせて、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面と基板Ｗとの隙間を調整することができる。
【００６２】
リニアモータアクチュエータ６２とガイド６３との間には、さらに、カメラキャリッジ１０６が架け渡されるようにして設置されている。カメラキャリッジ１０６は、リニアモータアクチュエータ６２およびガイド６３をメインキャリッジ６１と共用するとともに、メインキャリッジ６１と独立してＸ軸方向に移動する。
カメラキャリッジ１０６には、基板Ｗの所定の個所に設けられたアライメントマークを画像認識するための認識カメラ１０７が設置されている。認識カメラ１０７は、カメラキャリッジ１０６から下方に吊り下げられた状態で支持されている。なお、認識カメラ１０７は、他の用途に用いてもよい。
【００６３】
図８は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を模式的に示す平面図である。図８に示すように、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面には、液滴が吐出される多数の吐出ノズル（開口）が一列または二列以上に並んで形成されている。液滴吐出ヘッド１１１は、電圧の印加により変位（変形）する圧電素子を有し、この圧電素子の変位（変形）を利用して、吐出ノズルに連通するように形成された圧力室（液室）内の圧力を変化させることよって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものである。なお、液滴吐出ヘッド１１１は、このような構成に限らず、例えば、吐出液をヒータで加熱して沸騰させ、その圧力によって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものなどでもよい。
【００６４】
ヘッドユニット１１には、この液滴吐出ヘッド１１１が複数個（以下の説明では１２個として説明する）設置されている。これらの液滴吐出ヘッド１１１は、６個ずつ二列に副走査方向（Ｘ軸方向）に並ぶとともに、ノズル列が副走査方向に対し所定角度傾斜するような姿勢で配置されている。
なお、このような配列パターンは一例であり、例えば、各ヘッド列における隣接する液滴吐出ヘッド１１１同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における液滴吐出ヘッド１１１を９０°の角度を持って配置（列間ヘッド同士が「ハ」字状）したりしてもよい。いずれにしても、複数個の液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルによるドットが副走査方向において連続していればよい。
さらに、液滴吐出ヘッド１１１は、副走査方向に対し傾斜した姿勢で設置されていなくてもよく、また、複数個の液滴吐出ヘッド１１１が千鳥状、階段状に配設されていてもよい。また、メインキャリッジ６１に複数のヘッドユニット１１が支持されていてもよい。
【００６５】
ここで、制御装置１６の制御による液滴吐出装置１の全体の作動について簡単に説明する。液滴吐出装置１が備える基板位置決め装置（説明省略）の作動により基板搬送テーブル３上に載置（給材）された基板Ｗが所定の位置に位置決め（プリアライメント）されると、基板搬送テーブル３の各吸引口３３２からのエアー吸引により、基板Ｗは、基板搬送テーブル３に吸着・固定される。次いで、基板搬送テーブル３およびカメラキャリッジ１０６がそれぞれ移動することにより、認識カメラ１０７が基板Ｗの所定の個所（１箇所または複数箇所）に設けられたアライメントマークの上方に移動し、このアライメントマークを認識する。この認識結果に基づいて、θ軸回転機構６０が作動して基板Ｗのθ軸回りの角度が補正されるとともに、基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる（本アライメント）。
以上のような基板Ｗのアライメント作業が完了すると、液滴吐出装置１は、基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する動作を開始する。この動作は、液滴吐出ヘッド１１１（ヘッドユニット１１）を基板Ｗに対し主走査および副走査することにより行われる。
【００６６】
本実施形態の液滴吐出装置１では、主走査は、ヘッドユニット１１を装置本体２に対し停止した（移動しない）状態で、基板搬送テーブル３の移動により基板ＷをＹ軸方向に移動させながら、基板Ｗに対し各液滴吐出ヘッド１１１から液滴を吐出することにより行う。すなわち、本実施形態では、Ｙ軸方向が主走査方向となる。
【００６７】
この主走査は、基板搬送テーブル３の前進（往動）中に行っても、後退（復動）中に行っても、前進および後退の両方（往復）で行ってもよい。また、基板搬送テーブル３を複数回往復させて、複数回繰り返し行ってもよい。このような主走査により、基板Ｗ上の、所定の幅（ヘッドユニット１１により吐出可能な幅）で主走査方向に沿って延びる領域に、液滴の吐出が終了する。
【００６８】
このような主走査の後、副走査を行う。副走査は、液滴の非吐出時に、メインキャリッジ６１の移動により、ヘッドユニット１１を前記所定の幅の分だけＸ軸方向に移動させることにより行う。すなわち、本実施形態では、Ｘ軸方向が副走査方向となる。
このような副走査の後、前記と同様の主走査を行う。これにより、前回の主走査で液滴が吐出された領域に隣接する領域に対し、液滴が吐出される。
このようにして、主走査と副走査とを交互に繰り返し行うことにより、基板Ｗの全領域に対して液滴が吐出され、基板Ｗ上に、吐出された液滴（液体）による所定のパターンを形成（描画）することができる。
【００６９】
なお、本発明では、主走査方向と副走査方向とは、上述したのと逆になっていてもよい。すなわち、基板Ｗ（基板搬送テーブル３）を停止させた状態で液滴吐出ヘッド１１１（ヘッドユニット１１）をＸ軸方向に移動させながら基板Ｗに対して液滴を吐出することによって主走査を行い、液滴の非吐出時に基板Ｗ（基板搬送テーブル３）をＹ軸方向に移動させることによって副走査を行うように構成されていてもよい。
【００７０】
図１０は、図１および図２に示す液滴吐出装置における給液装置および排液装置を模式的に示す配管系統図、図１１は、液量検出手段の構成を模式的に示す図である。以下、これらの図、図６および図９に基づいて、液滴吐出装置１における吐出液供給装置４、洗浄液供給装置５０、キャッピング排液装置１７および排液装置１８について説明する。
【００７１】
まず、各液滴吐出ヘッド１１１から吐出する吐出液を供給する吐出液供給装置４について説明する。図１０に示すように、吐出液供給装置（給液装置）４は、吐出液を貯留する一次タンク系４０と、この一次タンク系４０と後述する二次タンク４１２とを接続する１本の一次流路４１１とを有している。
本実施形態では、一次タンク系４０は、吐出液を貯留する第１の一次タンク（吐出液タンク）４０１および第２の一次タンク（吐出液タンク）４０２と、第１の一次タンク４０１に接続された流出配管（流出流路）４０３と、第２の一次タンク４０２に接続された流出配管（流出流路）４０４と、三方弁（流路切り替え手段）４０５とを有している。なお、一次タンク系４０は、図示の構成に限らず、一次タンクの個数が１個のみのものでも、３個以上のものでもよい。
【００７２】
三方弁４０５には、一次流路４１１と、流出配管４０３および４０４とがそれぞれ接続されている。三方弁４０５は、一次流路４１１と流出配管４０３とを接続する状態と、一次流路４１１と流出配管４０４とを接続する状態とを切り替え可能になっている。これにより、第１の一次タンク４０１または第２の一次タンク４０２から選択的に吐出液を一次流路４１１に供給することができる。三方弁４０５は、アクチュエータ（図示せず）により、自動で切り替わるようになっている。
【００７３】
第１の一次タンク４０１、第２の一次タンク４０２の個々の容量は、特に限定されないが、交換作業の容易化と、吐出液供給装置４全体としての容量確保との両立を考慮する観点から、１〜１０リットル程度であるのが好ましく、３〜５リットル程度であるのがより好ましい。
また、吐出液供給装置４は、第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２内に加圧気体を供給する加圧手段４０６と、第１の一次タンク４０１に接続された加圧配管（加圧経路）４０７と、第２の一次タンク４０２に接続された加圧配管（加圧経路）４０８と、三方弁（加圧経路切り替え手段）４０９とをさらに有している。
【００７４】
加圧手段４０６としては、例えば、加圧された窒素ガス等の気体を供給する加圧気体供給源が使用される。三方弁４０９には、加圧手段４０６からの配管（経路）４１０と、加圧配管４０７および４０８とがそれぞれ接続されている。三方弁４０９は、配管４１０と加圧配管４０７とを接続する状態と、配管４１０と加圧配管４０８とを接続する状態とを切り替え可能になっている。これにより、第１の一次タンク４０１または第２の一次タンク４０２の内部を加圧手段４０６により選択的に加圧することができる。三方弁４０９は、アクチュエータ（図示せず）により、自動で切り替わるようになっている。
【００７５】
図６に示すように、二次タンク４１２は、メインキャリッジ６１に対し固定的に設置されている。すなわち、二次タンク４１２は、メインキャリッジ６１とともにＸ軸方向移動する。二次タンク４１２には、三方弁４０５から延びる一次流路４１１の他端が接続されており、一次タンク系４０の吐出液は、一次流路４１１を通って二次タンク４１２内に流入する。
【００７６】
一次流路４１１は、好ましくは可撓性を有するチューブで構成されている。この一次流路４１１の途中には、メインキャリッジ６１とともに移動する二次タンク４１２の移動に合わせて一次流路４１１の二次タンク４１２側の部分が移動可能となるように一次流路４１１を中継する中継部４１３が設けられている。
二次タンク４１２とヘッドユニット１１との間は、ヘッドユニット１１が備える１２個の液滴吐出ヘッド１１１の各々に対応する１２本の二次流路４１４によって接続されている。すなわち、ヘッドユニット１１には、各液滴吐出ヘッド１１１に対応する１２個の流入口（接続口）１１２が設けられており、二次タンク４１２から延びる１２本の二次流路４１４の他端は、それぞれ、各流入口１１２に接続されている。なお、図６中では、見易くするため、１２本の二次流路４１４のうちの２本のみを図示する。図示の構成では、二次流路４１４は、可撓性を有するチューブで構成されているが、これに限らず、硬質な管体で構成されていてもよい。
【００７７】
二次タンク４１２内は、図示しない圧力制御ユニット（負圧制御ユニット）によって、圧力が制御され、負圧になっている。二次タンク４１２内で圧力制御された吐出液は、各二次流路４１４を通って各液滴吐出ヘッド１１１に供給される。これにより、各液滴吐出ヘッド１１１に供給される吐出液の圧力が制御され、各液滴吐出ヘッド１１１の各吐出ノズルにおいて良好な液滴吐出状態が得られる。
【００７８】
各二次流路４１４の途中には、流路を遮断可能な遮断弁４１５が設けられている。遮断弁４１５は、前記圧力制御ユニットが何らかの原因で機能しない場合、二次流路４１４の流路を遮断し、二次タンク４１２より低い位置にある液滴吐出ヘッド１１１に二次タンク４１２から吐出液が流れ続けて液滴吐出ヘッド１１１から漏出するのを防止する。
【００７９】
図１１（ａ）に示すように、吐出液供給装置４は、第１の一次タンク４０１の内部の液量を検出する液量検出手段４１６をさらに有している。液量検出手段４１６は、第１の一次タンク４０１の外部において鉛直方向に沿って設けられ、その内腔が第１の一次タンク４０１内に連通した光透過性を有するチューブ４１７と、第１の一次タンク４０１の底部付近においてチューブ４１７を挟んで対向するように設置された投光部４１８および受光部４１９とで構成されている。この液量検出手段４１６は、受光部４１９での受光光量の変化により、第１の一次タンク４０１内の液量が減少して所定の下限レベルＥ（空の状態）になったとき、これを検出することができる。液量検出手段４１６の検出結果は、制御装置１６に入力される。
また、吐出液供給装置４は、第２の一次タンク４０２の内部の液量を検出する同様の液量検出手段４２０を有している。液量検出手段４２０は、第２の一次タンク４０２内の液量が減少して所定の下限レベルＥになったとき、これを検出し、その検出結果を制御装置１６に入力する。
【００８０】
このような吐出液供給装置４は、図１０に示す状態では、加圧手段４０６により第１の一次タンク４０１内が加圧され、この圧力により第１の一次タンク４０１内の吐出液は、流出配管４０３および一次流路４１１内を通って送出され、液滴吐出ヘッド１１１に供給される。
そして、第１の一次タンク４０１内の吐出液が消費されていき、液量検出手段４１６が第１の一次タンク４０１が空になったのを検出すると、制御装置１６は、その検出結果に基づいて、三方弁４０５および三方弁４０９をそれぞれ切り替える。これにより、加圧手段４０６が第２の一次タンク４０２内を加圧するとともに、この圧力により第２の一次タンク４０２内の吐出液が、流出配管４０４および一次流路４１１内を通って送出され、液滴吐出ヘッド１１１に供給される状態に切り替わる。
【００８１】
第２の一次タンク４０２から吐出液が供給されている間に、作業者は、空になった第１の一次タンク４０１をラック１３１から取り外し、吐出液を再充填した後、ラック１３１に戻す。その後、液量検出手段４２０が第２の一次タンク４０２が空になったのを検出すると、制御装置１６は、三方弁４０５および三方弁４０９をそれぞれ切り替え、第１の一次タンク４０１から吐出液を供給する状態に切り替える。そして、第１の一次タンク４０１から吐出液が供給されている間に、作業者は、空になった第２の一次タンク４０２をラック１３１から取り外して吐出液を再充填する。
【００８２】
制御装置１６は、第１の一次タンク４０１が空になったとき、および、第２の一次タンク４０２が空になったときには、それぞれ、その旨を報知し、タンクの交換（吐出液の補充）を作業者に促すのが好ましい。この報知の方法としては、操作パネル（図示せず）に文字または図形などを表示したり、音または音声を出したりする方法が挙げられる。また、第１の一次タンク４０１が空になったときと、第２の一次タンク４０２が空になったときとで、報知のための文字、図形、音または音声等を異ならせ、いずれの一次タンクが空になったのかが分かるようにするのが好ましい。
【００８３】
次に、液滴吐出ヘッド１１１のクリーニングを行うクリーニングユニット（クリーニング装置）１２２で用いる洗浄液を供給する洗浄液供給装置（給液装置）５０について説明するが、前記吐出液供給装置４と同様の事項については説明を省略する。図１０に示すように、洗浄液供給装置５０は、ラック１３１に着脱可能に設置された、洗浄液を貯留する第１の洗浄液タンク５０１および第２の洗浄液タンク５０２と、第１の洗浄液タンク５０１に接続された流出配管（流出流路）５０３と、第２の洗浄液タンク５０２に接続された流出配管（流出流路）５０４と、流出配管５０３および５０４とクリーニングユニット１２２への給液配管（給液流路）５１１とがそれぞれ接続された三方弁（流路切り替え手段）５０５と、第１の洗浄液タンク５０１および第２の一次タンク５０２内に加圧気体を供給する加圧手段５０６と、第１の洗浄液タンク５０１に接続された加圧配管（加圧経路）５０７と、第２の洗浄液タンク５０２に接続された加圧配管（加圧経路）５０８と、加圧配管５０７および５０８と加圧手段５０６からの配管（経路）５１０とがそれぞれ接続された三方弁（加圧経路切り替え手段）５０９と、第１の洗浄液タンク５０１および第２の洗浄液タンク５０２の残液量を検出する液量検出手段（図示せず）とを有している。
【００８４】
加圧手段５０６としては、例えば、加圧された窒素ガス等の気体を供給する加圧気体供給源が使用される。また、加圧手段４０６と加圧手段５０６とを別個に設けず、共用してもよい。給液流路５１１からクリーニングユニット１２２へ供給された洗浄液は、クリーニングユニット１２２に設置されたノズルより噴射され、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を拭き取るワイピングシートに含浸する。
このような洗浄液供給装置５０は、吐出液供給装置４と同様に、三方弁５０５および５０９の切り替えにより、第１の洗浄液タンク５０１、第２の洗浄液タンク５０２の２つを切り替えながら使用する。
【００８５】
次に、液滴吐出ヘッド１１１をキャッピングするキャッピングユニット（キャッピング装置）１２１からの排液（吐出液）を回収するキャッピング排液装置１７について説明するが、前記吐出液供給装置４と同様の事項については説明を省略する。図１０に示すように、キャッピング排液装置１７は、ラック１３１に着脱可能に設置された、キャッピングユニット１２１から回収した排液を貯留する第１の排液タンク１７１および第２の排液タンク１７２と、第１の排液タンク１７１に接続された流入配管（流入流路）１７３と、第２の排液タンク１７２に接続された流入配管（流入流路）１７４と、三方弁（流路切り替え手段）１７５とを有している。三方弁１７５には、キャッピングユニット１２１からの排液配管（排液流路）１７６と、流入配管１７３および１７４とがそれぞれ接続されている。三方弁１７５は、排液配管１７６と流入配管１７３とを接続する状態と、排液配管１７６と流入配管１７４とを接続する状態とを切り替え可能になっている。これにより、キャッピングユニット１２１からの排液を第１の排液タンク１７１または第２の排液タンク１７２内に選択的に導入することができる。三方弁１７５は、アクチュエータ（図示せず）により、自動で切り替わるようになっている。
【００８６】
図１１（ｂ）に示すように、キャッピング排液装置１７は、第１の排液タンク１７１の内部の液量を検出する液量検出手段１７７ａをさらに有している。液量検出手段１７７ａは、第１の排液タンク１７１の外部において鉛直方向に沿って設けられ、その内腔が第１の排液タンク１７１内に連通した光透過性を有するチューブ１７８と、第１の排液タンク１７１の頂部付近においてチューブ１７８を挟んで対向するように設置された投光部１７９および受光部１７０とで構成されている。この液量検出手段１７７ａは、受光部１７０での受光光量の変化により、第１の排液タンク１７１内の液量が増大して所定の上限レベルＦ（満杯の状態）になったとき、これを検出することができる。液量検出手段１７７ａの検出結果は、制御装置１６に入力される。また、キャッピング排液装置１７は、第２の排液タンク１７２の内部の液量を検出する前記液量検出手段１７７ａと同様の液量検出手段１７７ｂをさらに有している。
【００８７】
このようなキャッピング排液装置１７では、図１０に示す状態では、キャッピングユニット１２１からの排液は、図示しない吸引ポンプに吸引され、第１の排液タンク１７１内に導入される。そして、第１の排液タンク１７１内の排液が蓄積していき、液量検出手段１７７ａが第１の排液タンク１７１が満杯になったのを検出すると、制御装置１６は、その検出結果に基づいて、三方弁１７５を切り替え、排液が第２の排液タンク１７２内に導入される状態に切り替える。
【００８８】
制御装置１６は、第１の排液タンク１７１が満杯になったとき、および、第２の排液タンク１７２が満杯になったときには、それぞれ、その旨を例えば前記と同様の方法で報知し、タンクの交換（排液の回収）を作業者に促すのが好ましい。キャッピング排液装置１７により回収された排液は、比較的清浄な状態の吐出液であるので、再利用に供される。
【００８９】
次に、描画前フラッシングユニット７、定期フラッシングユニット１２３およびドット抜け検出ユニット１９において液滴吐出ヘッド１１１より捨て吐出された排液（吐出液）を回収する排液装置１８について説明するが、前記キャッピング排液装置１７と同様の事項については説明を省略する。
図１０に示すように、排液装置１８は、ラック１３１に着脱可能に設置された（図９中には表れていない）、捨て吐出された排液を貯留する第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２と、第１の排液タンク１８１に接続された流入配管（流入流路）１８３と、第２の排液タンク１８２に接続された流入配管（流入流路）１８４と、三方弁（流路切り替え手段）１８５とを有している。三方弁１８５には、描画前フラッシングユニット７、定期フラッシングユニット１２３およびドット抜け検出ユニット１９からの排液配管（排液流路）１８６と、流入配管１８３および１８４とがそれぞれ接続されている。また、第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２には、それぞれ、内部の液量を検出する前記液量検出手段１７７ａ、１７７ｂと同様の液量検出手段（図示せず）が設けられている。このような排液装置１８により回収された排液は、廃棄または再利用に供される。
【００９０】
図１２および図１３は、それぞれ、図３中の矢印Ｄで示す部分を拡大して示す一部切欠き側面図である。以下、これらの図に基づいて、基板搬送テーブル３の構成について詳細に説明する。
これらの図に示すように、基板搬送テーブル３は、基台３６と、基台３６上に設置された複数のブロック３３と、基台３６上に設置された複数のボールリフト装置３４とを有している。基台３６は、第１の板３１と、第１の板３１の下面側に重ねて接合された第２の板３２とで構成されている。
【００９１】
複数のブロック３３は、基台３６上で、互いに間隔を空けて行列状に並んで配置されている。これらのブロック３３の上面は、基板Ｗが載置される（基板Ｗが当接する）載置面（当接面）３３１を構成する。
各ブロック３３には、載置された基板Ｗを負圧により吸着するための吸引部として、載置面３３１に開口する吸引口３３２が形成されている。
【００９２】
図示の構成では、９×１１で９９個のブロック３３が設置されている（図１４参照）。ブロック３３の設置個数は、基板搬送テーブル３の大きさによってもその好ましい値は異なるが、通常、４〜４００個程度であるのが好ましく、４〜１００個程度であるのがより好ましい。
このようなブロック３３が設けられていることにより、基板搬送テーブル３へ基板Ｗの給材（搬入）および除材（搬出）する際、基板Ｗと基台３６との間に基板Ｗを支持する搬入治具が挿入可能な隙間（空間）が形成されるので、給材および除材を容易、円滑かつ迅速に行うことができる。
【００９３】
複数のボールリフト装置３４は、基台３６上に、互いに間隔を空けて行列状に並んで配置されている（図１４参照）。これら複数のボールリフト装置３４は、互いに同様の構成であるので、１つのボールリフト装置３４について代表して説明する。図１２に示すように、ボールリフト装置３４は、ブロック３３より高さが低くされたハウジング３４１と、ハウジング３４１内に設けられた空気圧シリンダ（ボール昇降機構）３４２と、空気圧シリンダ３４２のピストンとしても機能するボール支持体３４３と、ボール支持体３４３に複数の小球（ベアリング）３４５を介して滑らかに回転可能に支持されたボール（球体）３４４とを有している。ボール３４４は、その上部がボール支持体３４３から露出した状態で支持されている。
【００９４】
空気圧シリンダ３４２には、液滴吐出装置１の近傍（好ましくはチャンバ９１の外）に設置された図示しないエアー供給源（圧力供給源）からの空気圧を供給する配管３４６が接続されている。Ｙ軸方向に並ぶ１列の各ボールリフト装置３４の各空気圧シリンダ３４２は、Ｙ軸方向に並ぶハウジング３４１同士を連結する連結部３４８の内部に形成された通路３４７により互いに連通しており、１つの配管３４６によりＹ軸方向の１列のボールリフト装置３４のすべてに空気圧が供給される。
空気圧シリンダ３４２の作動により、ボール３４４は、ボール支持体３４３とともに、ボール３４４の少なくとも一部が載置面３３１より上側に突出する上昇位置（図１３に示す位置）と、ボール３４４の全体が載置面３３１より下側に退避する下降位置（図１２に示す位置）とに昇降する。
【００９５】
図１３に示すように、ボールリフト装置３４は、ボール３４４を上昇させることにより、各ボール３４４（基板Ｗの大きさが基板搬送テーブル３の大きさより小さいものである場合には、基板Ｗの領域内にあるボール３４４）で基板Ｗを持ち上げ、載置面３３１から離間した位置で基板Ｗを支持する。この状態では、基板Ｗが載置面３３１を擦ることがないとともにボール３４４が自由に回転するので、基板Ｗは、傷つくことなく基板搬送テーブル３上でＹ軸方向およびＸ軸方向に自由に移動（回転も含む）可能になる。なお、ボール３４４は、樹脂材料（例えばメラミン樹脂等）で構成されているのが好ましい。これにより、基板Ｗを傷つけることがより確実に防止される。
【００９６】
本実施形態の基板搬送テーブル３では、図１３に示す状態とすることにより、給材（搬入）された基板Ｗを基板搬送テーブル３上で動かして位置決め（プリアライメント）する工程を円滑、迅速かつ容易に行うことができる。そして、基板Ｗのプリアライメントの後、図１２示す状態とすることにより、基板Ｗを載置面３３１に載置して吸引口３３２からのエアー吸引により基板Ｗを吸着・固定することができる。
【００９７】
図示の構成では、８×１１で８８個のボールリフト装置３４が設置されている。ボールリフト装置３４の設置個数は、基板搬送テーブル３の大きさによってもその好ましい値は異なるが、通常、ブロック３３の個数と同程度であるのが好ましい。また、ボールリフト装置３４の最低個数としては、一直線上に並ばない少なくとも３つのボール３４４で基板Ｗを支持し得るように、一直線上に並ばないように配置された少なくとも３個のボールリフト装置３４が設置されていればよい。
【００９８】
図１４は、基板搬送テーブルおよび描画前フラッシングユニットを示す平面図、図１５および図１６は、それぞれ、基板搬送テーブルおよび描画前フラッシングユニットを示す側面図、図１７および図１８は、それぞれ、図１４中の矢印Ｅ方向から見た背面図、図１９は、描画前フラッシングユニットの液受け部の横断面図（液受け部の長手方向に垂直な平面で切った断面図）である。以下、これらの図に基づいて、図１および図２に示す液滴吐出装置における描画前フラッシングユニットの構成について詳細に説明する。
【００９９】
図１４に示すように、基板搬送テーブル３における副走査方向（Ｘ軸方向）に沿って延びる互い平行な二辺の近傍には、それぞれ、描画前フラッシングユニット７が設けられている。これらの描画前フラッシングユニット７は、Ｙ軸方向移動機構５のスライドブロック５２２上に設置された支持体１０８に支持されており、基板搬送テーブル３とともにＹ軸方向に移動する。この２つの描画前フラッシングユニット７は、その構成が互いに同様であるので、以下ではその一方について代表して説明する。
【０１００】
描画前フラッシングユニット７は、液受け部７１を有し、この液受け部７１は、基板搬送テーブル３のＸ軸方向に沿って延びる辺の近傍に、基板搬送テーブル３との間に隙間７９を空けて非接触で設けられている。前述したような基板Ｗ上へのパターンの形成（描画）動作における主走査を行う際、液滴吐出ヘッド１１１は、液受け部７１が液滴吐出ヘッド１１１の下に移動して来たら、まずこの液受け部７１に対して捨て吐出を行い、さらに基板Ｗが液滴吐出ヘッド１１１の下に移動して来たら、所定のパターンを形成（描画）するための正規の液滴の吐出を基板Ｗに対して行う。
【０１０１】
すなわち、液滴吐出ヘッド１１１は、基板Ｗに対する液滴の吐出を行う直前（主走査を行う直前）に、液受け部７１に対して捨て吐出を行う。このような描画前の捨て吐出を行う目的は、次のようなものである。
一般に、液滴吐出ヘッド１１１は、液滴の吐出を休止してから吐出を再開するまでの時間が長くなると、液滴の吐出方向が乱れる、吐出量が多くなり過ぎる、吐出量が少なくなり過ぎる等の現象が起こり易くなり、液滴吐出動作が不安定になる傾向がある。すなわち、液滴吐出ヘッド１１１は、液滴の吐出を開始した直後は、吐出状態が安定せずにまっすぐ飛びにくい、吐出量が安定しない等の傾向がある。
このため、基板Ｗに対して液滴を吐出する前（描画前）に、液受け部７１に対して捨て吐出をして、液滴吐出ヘッド１１１による液滴の吐出状態を安定させる。これにより、液滴吐出ヘッド１１１の適正な液滴吐出状態が得られ、この適正な液滴吐出状態で、基板Ｗに対するパターン形成（描画）を行うことができる。
【０１０２】
また、本発明では、捨て吐出を基板Ｗ上ではなく液受け部７１に対して行うので、基板Ｗの周縁部等に機能上不必要なパターンを形成（描画）するのを回避することができ、基板Ｗの全体を有効に利用することができるので、基板Ｗの無駄がなく、基板Ｗの製造コストの低減が図れる。
また、本実施形態では、液受け部７１が基板搬送テーブル３の互いに平行な二辺の近傍にそれぞれ設けられているので、主走査において基板Ｗ（基板搬送テーブル３）を前進（往動）させながら液滴を吐出する前と、後退（復動）させながら液滴を吐出する前との両方で捨て吐出を行うことができる。
【０１０３】
また、液受け部７１は、その近傍の基板搬送テーブル３の辺に沿って細長く形成され、その長さは、当該辺の長さとほぼ同じになっている。これにより、副走査によってヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）がＸ軸方向に移動しても、液滴吐出ヘッド１１１と基板搬送テーブル３とのＸ軸方向の相対位置関係にかかわらず、液受け部７１で捨て吐出を受けることができる。また、液受け部７１が占有するスペースも少ない。
【０１０４】
図１５に示すように、基板搬送テーブル３は、θ軸回転機構６０を介して支持体１０８上に設置されている。θ軸回転機構６０は、支持体１０８側に固定された固定部６０１と、基板搬送テーブル３側に固定された回転部６０２と、固定部６０１に対し基板搬送テーブル３側（回転部６０２側）を回動させるアクチュエータ（図示せず）とを有している。このようなθ軸回転機構６０は、基板搬送テーブル３を基板搬送テーブル３の中心を通る鉛直方向のθ軸回りに所定範囲で回転（回動）させることができる。このθ軸回転機構６０により基板搬送テーブル３のθ軸回りの姿勢（角度）を調整（微調整）することにより、基板搬送テーブル３上に載置された基板Ｗの姿勢がθ軸回りに斜めになっている場合、これを真っ直ぐな姿勢になるように正確に補正することができる。
【０１０５】
描画前フラッシングユニット７は、液受け部７１の下側に接合され液受け部７１を撓みなく保持するフレーム７２と、フレーム７２に固定された一対の支持脚７３と、支持体１０８からＸ軸方向に外側に突出するように設置され、各支持脚７３を支持する一対のブラケット７４とをさらに有している。
このように、基板搬送テーブル３は、θ軸回転機構６０を介して支持体１０８に支持されており、液受け部７１は、ブラケット７４を介して支持体１０８に支持されている。すなわち、基板搬送テーブル３および液受け部７１は、互いに非接触（離間状態）であり、支持体１０８にそれぞれ独立に支持されている。
【０１０６】
液受け部７１を基板搬送テーブル３の近傍に設置しようとする場合、単純には液受け部７１を基板搬送テーブル３に固定する構成が考えられる。これに対し、本発明では、基板搬送テーブル３と液受け部７１とを独立して支持する構成としたことにより、次のような利点がある。
液受け部７１の荷重が基板搬送テーブル３にかからないので、液受け部７１の重みによって基板搬送テーブル３が下側に湾曲するように撓む（変形する）のを防止することができる。よって、基板搬送テーブル３の各載置面３３１の集合により形成される面の平面度等の精度を高く保つことができ、基板Ｗを高い平面度で支持することができる。その結果、基板Ｗ上へのパターンの形成（描画）をより高い精度で正確に行うことができる。特に、液受け部７１に液体が溜まってさらに重くなってきても、これにかかわらず、この効果を発揮することができる。
また、液受け部７１は、θ軸回転機構６０を介さずに支持体１０８に支持されている。これにより、θ軸回転機構６０が基板搬送テーブル３のθ軸回りの姿勢（角度）を調整しても、液受け部７１のθ軸回りの姿勢（角度）は、変化せず、よって、液滴吐出ヘッド１１１が描画前に捨て吐出すべき位置を常に一定に保つことができる。
【０１０７】
これに対し、本実施形態と異なり、液受け部７１が基板搬送テーブル３とともに回転してしまう場合には、次のような不都合がある。すなわち、液受け部７１の位置がずれるので、これに合わせて液滴吐出ヘッド１１１が描画前に捨て吐出すべき位置を変更しなければならず、煩雑な制御を要する。あるいは、液受け部７１のＹ軸方向の幅の寸法を、位置ずれ分をカバーできるように大きくしなければならず、描画前フラッシングユニット７が重量増大および大型化するという問題を生じる。
また、液受け部７１がθ軸回転機構６０を介さずに基板搬送テーブル３と支持されていることにより、基板搬送テーブル３を回転させるときの慣性モーメントが小さいので、制御性が高く、基板搬送テーブル３のθ軸回りの角度調整をより高い精度で行うことができる。
【０１０８】
図１７に示すように、各支持脚７３は、各ブラケット７４に対し昇降可能に支持されている。また、描画前フラッシングユニット７は、各ブラケット７４に対し各支持脚７３を昇降させる昇降装置としての一対の空気圧シリンダ７５をさらに有している。各空気圧シリンダ７５には、液滴吐出装置１の近傍（好ましくはチャンバ９１の外）に設置された図示しないエアー供給源（圧力供給源）からの空気圧を供給する配管（図示せず）が接続されている。
本実施形態の描画前フラッシングユニット７では、支持脚７３、ブラケット７４および空気圧シリンダ７５により、液受け部７１の高さを調整する高さ調整機構が構成され、空気圧シリンダ７５を伸縮させることにより、液受け部７１の高さを調整することができる。
【０１０９】
図１５および図１７に示すように、液受け部７１の高さ調整機構は、液受け部７１が最上位置にあるとき、液受け部７１の上端の高さが基板搬送テーブル３の載置面３３１（ワーク載置面）の高さより高くなるように液受け部７１の高さを調整することができる。この状態とすることにより、液受け部７１の上端の高さが載置面３３１に載置された基板Ｗの上面の高さと同程度になるように調整可能である。換言すれば、液受け部７１の上端と液滴吐出ヘッド１１１（ノズル形成面）との隙間が十分に小さくなるようにすることができる。よって、液滴吐出ヘッド１１１から捨て吐出された液滴を周囲に飛散させることなく液受け部７１で受けることができる。
【０１１０】
図１６および図１８に示すように、液受け部７１の高さ調整機構は、液受け部７１が最下位置にあるとき、液受け部７１の上端の高さが基板搬送テーブル３の載置面３３１の高さより低くなるように液受け部７１の高さを調整することができる。基板Ｗを基板搬送テーブル３上に給材（搬入）および除材（搬出）する際には、この状態とすることにより、基板Ｗやこれを支持する搬入治具が液受け部７１に干渉（接触）するのを防止することができるので、基板Ｗの給材および除材を円滑、迅速かつ容易に行うことができ、また、給材工程および除材工程において基板Ｗを傷つけるようなことも防止することができる。
【０１１１】
また、液受け部７１の高さ調整機構は、ヘッドユニット１１の高さ調整機構２０により基板Ｗの厚さに応じて調節される液滴吐出ヘッド１１１の高さに合わせて液受け部７１の高さを調整することもできる。これにより、基板Ｗの厚さに応じて液受け部７１と液滴吐出ヘッド１１１との隙間を適正な大きさに調整することができ、基板Ｗの厚さによらず、液滴吐出ヘッド１１１から捨て吐出された液滴を周囲に飛散させることなく液受け部７１で受けることができる。
【０１１２】
図１９に示すように、液受け部７１は、受け皿７１１と、受け皿７１１の凹部７１４を覆うように設置された液体を吸収し得る液体吸収体７１２と、液体吸収体７１２の縁部を押さえる押さえ部材７１３とを有している。液体吸収体７１２は、例えばスポンジなどで構成されており、捨て吐出された液滴は、まず、液体吸収体７１２に吸収される。これにより、捨て吐出された液滴が周囲に飛散するのをより確実に防止することができる。
【０１１３】
液体吸収体７１２に吸収された液体は、液体吸収体７１２を通過して、受け皿７１１の凹部７１４に溜まる。受け皿７１１の底部には、排液口（図示せず）が形成され、この排液口は、液受け部７１に接続された吸引チューブ（図示せず）に連通している。この吸引チューブは、前述した排液装置１８の排液配管１８６に接続されている。このような構成により、液受け部７１が受けた液滴（液体）は、凹部７１４に溜まった後、この吸引チューブおよび排液配管１８６を通って回収され、第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２に貯留される。
液体吸収体７１２は、液体をある程度吸収すると膨張するが、本実施形態では、押さえ部材７１３が膨張しようとする液体吸収体７１２を押さえ、この膨張を防止する。これにより、液体吸収体７１２が膨張して上側に膨らんで液滴吐出ヘッド１１１に接触してしまうのを確実に防止することができる。
【０１１４】
以上、本発明の液滴吐出装置を図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、液滴吐出装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。
また、本発明では、液受け部は、ワーク搬送テーブルの少なくとも一辺の近傍に設けられていればよい。
また、Ｙ軸方向移動機構、Ｘ軸方向移動機構は、リニアモータで駆動するものに代えて、例えばボールネジ（送りネジ）などで駆動するものでもよい。
【０１１５】
また、本発明の液滴吐出装置は、ヘッドユニット（液滴吐出ヘッド）を装置本体に対し固定とし、ワーク（ワーク搬送テーブル）をＹ軸方向およびＸ軸方向にそれぞれ移動させることにより、主走査および副走査を行うよう構成されたものでもよい。この場合、ワーク搬送テーブルの四辺の近傍にそれぞれ液受け部を設けてもよい。
【０１１６】
また、電気光学装置は、以上説明したような本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。電気光学装置の具体例としては、特に限定されないが、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置などが挙げられる。
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、液晶表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色のフィルタ材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、基板上に多数のフィルタエレメントを配列してなるカラーフィルタを製造し、このカラーフィルタを用いて液晶表示装置を製造することができる。この他、本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、有機ＥＬ表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色の発光材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピクセルを基板上に配列してなる有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
また、電子機器は、前述したようにして製造された電気光学装置を備えることを特徴とする。電子機器の具体例としては、特に限定されないが、前述したようにして製造された液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置を搭載したパーソナルコンピュータや携帯電話機などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す平面図。
【図２】 本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す側面図。
【図３】 架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す平面図。
【図４】 架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す側面図。
【図５】 ヘッドユニットおよびＸ軸方向移動機構を示す平面図。
【図６】 図５中の矢印Ａ方向から見た側面図。
【図７】 図５中の矢印Ｂ方向から見た正面図。
【図８】 ヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を示す模式的平面図。
【図９】 タンク収納部を示す斜視図。
【図１０】 給液装置および排液装置を模式的に示す配管系統図。
【図１１】 液量検出手段の構成を模式的に示す図。
【図１２】 図３中の矢印Ｄで示す部分を拡大して示す一部切欠き側面図。
【図１３】 図３中の矢印Ｄで示す部分を拡大して示す一部切欠き側面図。
【図１４】 基板搬送テーブルおよび描画前フラッシングユニットを示す平面図。
【図１５】 基板搬送テーブルおよび描画前フラッシングユニットを示す側面図。
【図１６】 基板搬送テーブルおよび描画前フラッシングユニットを示す側面図。
【図１７】 図１４中の矢印Ｅ方向から見た背面図。
【図１８】 図１４中の矢印Ｅ方向から見た背面図。
【図１９】 描画前フラッシングユニットの液受け部の横断面図。
【符号の説明】
３……基板搬送テーブル、３１……第１の板、３２……第２の板、３３……ブロック、３３１……載置面、３４……ボールリフト装置、３４３……ボール支持体、３６……基台、７……描画前フラッシングユニット、７１……液受け部、７２……フレーム、７３……支持脚、７９……隙間、６０……θ軸回転機構、６０１……固定部、６０２……回転部、１０８……支持体[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a droplet discharge device and a method for manufacturing an electro-optical device .
[0002]
[Prior art]
Conventionally, ink jet printers have been widely used mainly as consumer printers. There is known an industrial liquid droplet ejection apparatus (inkjet drawing apparatus) to which the inkjet system (liquid droplet ejection system) of this inkjet printer is applied. This industrial liquid droplet ejection device is used, for example, for manufacturing a color filter, an organic EL display device or the like in a liquid crystal display device, or for forming a metal wiring on a substrate.
[0003]
In such a droplet discharge device, an operation of discard discharge (also referred to as flushing or preliminary discharge) of a droplet discharge head (inkjet head) is performed. The purpose of performing this operation is as follows. In the droplet discharge head, when the time from when the droplet discharge is stopped to when the discharge is restarted becomes longer, the droplet discharge direction is disturbed, the discharge amount becomes too large, or the discharge amount becomes too small. Tends to occur, and the droplet discharge operation tends to become unstable. In other words, the droplet discharge head tends to have a tendency that the discharge state is not stable and it is difficult to fly straight immediately after the droplet discharge is started, and the discharge amount is not stable. For this reason, pattern formation (drawing) on a workpiece such as a substrate is started after the droplet discharge head performs discard discharge and stabilizes the discharge state.
[0004]
In a conventional droplet discharge device, droplets are discarded and discharged using a peripheral portion (frame portion) of a substrate (workpiece) as a target as a discharge location (see, for example, Patent Document 1). However, in this case, a functionally unnecessary pattern is formed (drawn) on the peripheral portion of the substrate, and the peripheral portion of the substrate cannot be used effectively, and this portion is wasted.
[0005]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 2002-22924
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention, while preventing the bending deformation of the workpiece carrying table, a droplet ejecting device can be prevented from forming an unnecessary pattern on the workpiece (draw), or using a hunt droplet ejection apparatus It is to provide a manufacturing how the electro-optical device.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
Such an object is achieved by the present invention described below.
The droplet discharge device of the present invention includes a device main body,
A workpiece transfer table that supports the workpiece;
A droplet discharge head that discharges droplets to the workpiece supported by the workpiece transfer table;
A liquid receiving portion that is provided in non-contact with the work transfer table in the vicinity of at least one side of the work transfer table, and receives liquid discharged and discharged from the droplet discharge head;
A support for independently supporting the work transfer table and the liquid receiving part;
A moving mechanism that supports the work transfer table and the liquid receiving portion via the support, and moves the support together with the support in at least one horizontal direction with respect to the apparatus main body;
And a height adjusting mechanism for adjusting the height of the liquid receiving portion.
Accordingly, it is possible to provide a droplet discharge device that can avoid forming (drawing) an unnecessary pattern on the workpiece while preventing the workpiece conveyance table from being bent and deformed.
[0008]
In the liquid droplet ejection apparatus according to the aspect of the invention, it is preferable that the liquid receiving portion is formed elongated along the one side, and the length thereof is substantially the same as the length of the one side.
As a result, regardless of the relative positional relationship between the droplet discharge head and the work transfer table in the longitudinal direction of the one side, it is possible to discharge to the liquid receiving part and discharge the space occupied by the liquid receiving part as much as possible. Can be reduced.
[0009]
In the droplet discharge device of the present invention, it is preferable that the liquid receiving portion is provided in the vicinity of two parallel sides of the work transfer table.
As a result, the discharge is performed both before the droplet is discharged onto the workpiece while moving the workpiece transfer table forward (forward movement) and before the droplet is discharged onto the workpiece while moving backward (reverse movement). Can do.
[0010]
The droplet discharge device of the present invention forms a predetermined pattern on the workpiece by discharging droplets from the droplet discharge head while relatively moving the work transfer table and the droplet discharge head. It is preferable.
Thereby, various patterns can be formed (drawn) on the workpiece according to the purpose.
[0011]
In the droplet discharge apparatus of the present invention, the droplet discharge head is referred to as a direction (hereinafter referred to as “X-axis direction”) that is perpendicular to the one direction (hereinafter referred to as “Y-axis direction”) and horizontal to the apparatus body. It is preferable to further include an X-axis direction moving mechanism for moving the
Thereby, various patterns can be formed (drawn) on the workpiece according to the purpose.
[0012]
In the droplet discharge device of the present invention, either the Y-axis direction or the X-axis direction is set as a main scanning direction, and the other is set as a sub-scanning direction so that the work transfer table and the droplet discharge head are relatively It is preferable that droplets are ejected from the droplet ejection head onto the workpiece while being moved.
Thereby, various patterns can be formed (drawn) on the workpiece according to the purpose.
[0013]
In the liquid droplet ejection apparatus according to the aspect of the invention, it is preferable that the liquid receiving portion is provided in the vicinity of a side extending along the sub-scanning direction of the work transport table.
As a result, it is possible to immediately shift to the main scanning after performing the waste discharge to the liquid receiving portion, so that the pattern can be quickly formed (drawn) on the work, and the cycle time can be shortened.
[0014]
In the droplet discharge device of the present invention, the work transport table is supported by the support via a rotation mechanism that rotates the work transport table around a vertical axis within a predetermined range,
The liquid receiver is supported by the support body without the rotation mechanism,
It is preferable that the rotation mechanism is capable of adjusting a posture around the vertical axis of the work transfer table without changing a posture around the vertical axis of the liquid receiving portion.
Thereby, even if the posture (angle) of the work transfer table is adjusted by the rotation mechanism, the posture (angle) of the liquid receiving portion does not change, so that the position where the droplet discharge head should be discarded and discharged can be kept constant at all times. it can.
[0016]
In the liquid droplet ejection apparatus according to the aspect of the invention, the height adjusting mechanism may be configured such that when the liquid receiving unit is at the uppermost position, the height of the upper end of the liquid receiving unit is higher than the height of the work placement surface of the work transfer table. It is preferable to adjust the height of the liquid receiving portion.
As a result, the gap between the upper end of the liquid receiving portion and the liquid droplet discharge head can be adjusted to be sufficiently small, so that the liquid droplets discarded and discharged can be more reliably prevented from scattering around. Can be received at the receiving part.
[0017]
In the liquid droplet ejection apparatus according to the aspect of the invention, the height adjusting mechanism may be configured such that when the liquid receiving portion is at the lowest position, the height of the upper end of the liquid receiving portion is higher than the height of the work placement surface of the work transfer table. It is preferable to adjust the height of the liquid receiving portion so as to be lowered.
Thereby, it is possible to prevent interference with the liquid receiving part at the time of material supply (carrying in) and material removal (carrying out) on the workpiece conveyance table, so that the material supply process and material removal process are smooth, It is possible to carry out quickly and easily, and it is also possible to prevent the workpiece from being damaged in the material supply process and the material removal process.
[0018]
In the liquid droplet ejection apparatus according to the aspect of the invention, it is preferable that the liquid receiver has a liquid absorber that can absorb the liquid.
Thereby, it is possible to more reliably prevent the discarded and discharged droplets from being scattered around.
In the liquid droplet ejection apparatus according to the aspect of the invention, it is preferable that the liquid receiving portion includes a pressing member that presses the liquid absorber and prevents the liquid absorber from expanding.
This can reliably prevent the liquid absorber from coming into contact with the droplet discharge head.
The droplet discharge device of the present invention preferably further comprises a drainage device that collects and stores the liquid received by the liquid receiver.
This eliminates the need to remove the liquid accumulated in the liquid receiving portion, improving the operating rate and reducing the burden on the operator.
[0019]
The electro-optical device manufacturing method of the present invention is characterized by using the droplet discharge device of the present invention.
Accordingly, it is possible to provide a method of manufacturing an electro-optical device that can form (draw) a pattern on a workpiece with high accuracy and can reduce manufacturing costs .
[0020]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a droplet discharge device of the present invention will be described in detail based on a preferred embodiment shown in the accompanying drawings.
1 and FIG. 2 are a plan view and a side view, respectively, showing an embodiment of a droplet discharge device of the present invention, and FIG. 9 is a perspective view showing a tank storage portion in the droplet discharge device shown in FIGS. It is. Hereinafter, for convenience of explanation, one horizontal direction (a direction corresponding to the left and right direction in FIGS. 1 and 2) is referred to as a “Y-axis direction”, which is perpendicular to the Y-axis direction and is in a horizontal direction ( The direction corresponding to the vertical direction in FIG. 1 is referred to as “X-axis direction”. Further, the movement in the Y-axis direction in the right direction in FIGS. 1 and 2 is “advance in the Y-axis direction”, and the movement in the Y-axis direction in the left direction in FIGS. 1 and 2 is “Y "Reverse in the axial direction", the movement in the X-axis direction and downward in FIG. 1 is "forward movement in the X-axis direction", and the movement in the X-axis direction and upward in FIG. Say “Axis Backward”.
[0021]
A droplet discharge device (inkjet drawing device) 1 shown in these drawings applies, for example, a liquid (discharge liquid) such as ink or a functional liquid containing a target material to a substrate W as a workpiece by an inkjet method (droplet). Is a device that forms (draws) a predetermined pattern by discharging in the form of minute droplets by a discharge method), for example, manufacturing a color filter or an organic EL display device in a liquid crystal display device, or metal wiring on a substrate This is an industrial liquid droplet ejection device that can be used to form a liquid crystal.
[0022]
The material of the substrate W targeted by the droplet discharge device 1 is not particularly limited, and any material can be used as long as it is a plate-like member (work). For example, a glass substrate, a silicon substrate, a flexible substrate, and the like are targeted. can do. Further, in the present invention, the workpiece targeted by the droplet discharge device is not limited to a plate-like member. For example, a lens is used as a workpiece, and a coating such as an optical thin film is formed by discharging droplets onto the lens. The present invention can also be applied to a droplet discharge device that performs such a process. In addition, the present invention is particularly preferably applied to a relatively large droplet discharge device 1 that can cope with a relatively large workpiece (for example, a length and a width of about several tens of centimeters to several meters each). can do.
[0023]
The droplet discharge apparatus 1 includes an apparatus main body 2, a substrate transfer table (work transfer table) 3, a head unit 11 having a plurality of droplet discharge heads (inkjet heads) 111, a pre-drawing flushing unit 7, a liquid A maintenance device 12 for maintaining the droplet discharge head 111, a tank storage unit 13, a blow device 14 for blowing gas onto the substrate W, a laser length measuring device 15 for measuring the moving distance of the substrate transfer table 3, and a control device 16 And a missing dot detection unit 19.
[0024]
The liquid ejected from the droplet ejection head 111 is not particularly limited, and includes, for example, the following liquids (including dispersions such as suspensions and emulsions) in addition to the ink including the filter material of the color filter. It can be. A light emitting material for forming an EL light emitting layer in an organic EL (electroluminescence) device. A fluorescent material for forming a phosphor on an electrode in an electron emission device. A fluorescent material for forming a phosphor in a PDP (Plasma Display Panel) device. -Electrophoretic material that forms an electrophoretic body in an electrophoretic display device. Bank material for forming a bank on the surface of the substrate W.・ Various coating materials. -Liquid electrode material for forming electrodes. A particle material that forms a spacer for forming a minute cell gap between two substrates. -Liquid metal material for forming metal wiring. -Lens material for forming microlenses. -Resist material. A light diffusing material for forming a light diffuser.
[0025]
As shown in FIG. 2, the apparatus main body 2 includes a gantry 21 installed on the floor, and a stone surface plate 22 installed on the gantry 21. A substrate transfer table 3 is installed on the stone surface plate 22 so as to be movable in the Y-axis direction with respect to the apparatus main body 2. The substrate transfer table 3 moves forward / backward in the Y-axis direction by driving the linear motor 51. The substrate transfer table 3 has a substantially rectangular outer shape having a side extending along the Y-axis direction and a side extending along the X-axis direction in plan view. The substrate W is placed on the substrate transfer table 3.
[0026]
In the droplet discharge device 1, substrates W of various sizes and shapes, ranging from a relatively large substrate W having the same size as the substrate transport table 3 to a relatively small substrate W smaller than the substrate transport table 3. Can be targeted. In principle, it is preferable that the substrate W be subjected to the droplet discharge operation in a state where the substrate W is positioned so as to coincide with the center of the substrate transport table 3, but in the case of a relatively small substrate W, the end of the substrate transport table 3 is used. The droplets may be ejected by positioning at a position close to the position.
[0027]
As shown in FIG. 1, the droplet discharge head 111 discharges droplets onto the substrate W in the vicinity of two sides extending along the X-axis direction (sub-scanning direction) of the substrate transport table 3. A pre-drawing flushing unit 7 having a liquid receiving portion 71 that receives (receives) liquid (droplet) that has been discarded (also referred to as flushing or preliminary discharge) before (main scanning) is installed. A suction tube (not shown) is connected to the pre-drawing flushing unit 7, and the discharged and discharged discharge liquid passes through the suction tube and is collected by a drainage device 18 described later. The pre-drawing flushing unit 7 will be described in detail later.
[0028]
The moving distance in the Y-axis direction of the substrate transfer table 3 is measured by a laser length measuring device 15 as a moving distance detecting means. The laser length measuring device 15 has a laser length measuring device sensor head 151, a mirror 152 and a laser length measuring device main body 153 installed in the apparatus main body 2, and a corner cube 154 installed on the substrate transfer table 3. . Laser light emitted from the laser length measuring device sensor head 151 along the X-axis direction is bent by the mirror 152 and proceeds in the Y-axis direction, and is irradiated onto the corner cube 154. The reflected light from the corner cube 154 returns to the laser length measuring device sensor head 151 through the mirror 152. In the droplet discharge device 1, the discharge timing from the droplet discharge head 111 is generated based on the movement distance (current position) of the substrate transfer table 3 detected by the laser length measuring device 15.
[0029]
In the apparatus main body 2, a main carriage 61 that supports the head unit 11 is installed so as to be movable in the X-axis direction in the space above the substrate transport table 3. The head unit 11 having a plurality of droplet discharge heads 111 moves forward and backward in the X-axis direction together with the main carriage 61 by driving a linear motor actuator 62 including a linear motor and a guide.
[0030]
In the droplet discharge device 1 of the present embodiment, so-called main scanning of the droplet discharge head 111 is based on the discharge timing generated using the laser length measuring device 15 while moving the substrate transport table 3 in the Y-axis direction. This is performed by driving the droplet discharge head 111 to selectively discharge droplets. Correspondingly, so-called sub-scanning is performed stepwise (intermittently) in the X-axis direction when the droplet discharge head 111 is not driven (non-discharge). This is done by moving it.
[0031]
The apparatus main body 2 is provided with a blowing device 14 that dries the droplets discharged onto the substrate W. The blow device 14 has a nozzle that opens in a slit shape along the X-axis direction. While the substrate W is transported in the Y-axis direction by the substrate transport table 3, gas is blown toward the substrate W from the nozzle. . In the droplet discharge device 1 of the present embodiment, two blow devices 14 are provided that are located at positions separated from each other in the Y-axis direction.
[0032]
The maintenance device 12 is installed on the side of the gantry 21 and the stone surface plate 22. The maintenance device 12 includes a capping unit 121 for capping the droplet discharge head 111 during standby of the head unit 11, a cleaning unit 122 for wiping the nozzle formation surface of the droplet discharge head 111, and a periodic discharge of the droplet discharge head 111. It has a regular flushing unit 123 that receives proper flushing and a weight measurement unit 125.
[0033]
In addition, the maintenance device 12 includes a moving table 124 that can move in the Y-axis direction. The capping unit 121, the cleaning unit 122, the regular flushing unit 123, and the weight measuring unit 125 are arranged on the moving table 124 in the Y-axis direction. It is installed side by side. When the moving table 124 moves in the Y-axis direction with the head unit 11 moving above the maintenance device 12, any one of the capping unit 121, the cleaning unit 122, the regular flushing unit 123, and the weight measuring unit 125 drops. It can be positioned below the discharge head 111. The head unit 11 moves above the maintenance device 12 during standby, and performs capping, cleaning (wiping), and regular flushing in a predetermined order.
[0034]
The capping unit 121 has a plurality of caps arranged so as to correspond to each of the plurality of droplet discharge heads 111 and a lifting mechanism that lifts and lowers these caps. A suction tube (not shown) is connected to each cap, and the capping unit 121 covers the nozzle formation surface of each droplet discharge head 111 with each cap and discharges from the nozzle formed on the nozzle formation surface. Liquid can be aspirated. By performing such capping, it is possible to prevent the nozzle formation surface of the droplet discharge head 111 from drying, or to recover (resolve) nozzle clogging.
[0035]
Capping by the capping unit 121 is performed when the head unit 11 is on standby, when the head unit 11 is initially filled with the discharge liquid, or when the discharge liquid is discharged from the head unit 11 when the discharge liquid is replaced with a different type. This is performed when the flow path is washed by, for example.
Discharged liquid discharged from the droplet discharge head 111 during capping by the capping unit 121 passes through the suction tube, is collected by a capping liquid draining device 17 described later, and is reused. However, the cleaning liquid collected when the flow path is cleaned is not reused.
[0036]
The cleaning unit 122 operates such that a wiping sheet containing a cleaning liquid (for example, a solvent capable of dissolving the discharge liquid) is run by a roller, and the nozzle forming surface of the droplet discharge head 111 is wiped and cleaned by the wiping sheet. To do.
The regular flushing unit 123 is used for flushing when the head unit 11 is on standby, and receives the ejected liquid droplets discarded and ejected by the liquid droplet ejection head 111. A suction tube (not shown) is connected to the regular flushing unit 123, and the discharged and discharged discharge liquid passes through the suction tube and is collected by the drainage device 18 described later.
[0037]
The weight measurement unit 125 is used to measure a single droplet discharge amount (weight) from the droplet discharge head 111 as a preparation stage of a droplet discharge operation on the substrate W. That is, before the droplet discharge operation on the substrate W, the head unit 11 moves above the weight measurement unit 125 and drops droplets from the discharge nozzles of each droplet discharge head 111 one or more times to the weight measurement unit 125. Discharge against. The weight measuring unit 125 includes a liquid receiver that receives the discharged droplets and a weight scale such as an electronic balance, and measures the weight of the discharged droplets. Alternatively, the liquid receiver may be removed and measurement may be performed with a scale outside the apparatus. The control device 16 to be described later calculates the amount (weight) of one discharge droplet in the discharge nozzle based on the weight measurement result, and the liquid is adjusted so that the calculated value becomes equal to a predetermined design value. The applied voltage of the head driver that drives the droplet discharge head 111 is corrected.
[0038]
The dot dropout detection unit 19 is fixedly installed at a place on the stone surface plate 22 that does not overlap the movement area of the substrate transfer table 3 and is located below the movement area of the head unit 11. The missing dot detection unit 19 detects missing dots caused by clogging of the ejection nozzles of the droplet ejection head 111, and includes, for example, a light projecting unit and a light receiving unit that project and receive laser light. ing. When performing dot missing detection, the head unit 11 discards and discharges droplets from each ejection nozzle while moving in the X-axis direction in the space above the dot missing detection unit 19, and the dot missing detection unit 19 The ejected liquid droplets are projected and received to optically detect the presence and location of clogged ejection nozzles. At this time, the discharge liquid discharged from the droplet discharge head 111 is collected in a tray provided in the dot dropout detection unit 19, and drained as described later through a suction tube (not shown) connected to the bottom of the tray. It is collected by the device 18.
[0039]
In the vicinity of the apparatus main body 2 and the maintenance apparatus 12, a tank storage unit 13 having a rack (shelf) 131 is installed. As shown in FIG. 9, the rack 131 of the tank storage unit 13 supplies the first primary tank 401 and the second primary tank 402 that store the discharge liquid discharged from the droplet discharge head 111 and the cleaning unit 122. A first cleaning liquid tank 501 and a second cleaning liquid tank 502 for storing the cleaning liquid to be stored, a first reuse tank 171 and a second reuse tank 172 for storing the waste liquid collected from the capping unit 121, and drawing. A first drainage tank 181 and a second drainage tank 182 (in FIG. 9) that store the drainage discharged and discharged from the droplet discharge head 111 in the front flushing unit 7, the regular flushing unit 123, and the dot dropout detection unit 19. Are omitted (not shown).
[0040]
Each of the first primary tank 401 and the second primary tank 402 can be replenished with discharge liquid when it becomes empty, or can be replaced with a full tank. Note that the first primary tank 401 and the second primary tank 402 only need to be able to perform at least one of replacement (detachment) and replenishment of the discharge liquid.
[0041]
Similarly, the first cleaning liquid tank 501 and the second cleaning liquid tank 502 can also be replaced or replenished with cleaning liquid, respectively. In addition, the first reuse tank 171, the second reuse tank 172, the first drainage tank 181 and the second drainage tank 182 are respectively replaced with empty tanks when full. The drainage can be withdrawn.
[0042]
The control device (control means) 16 controls the operation of each part of the droplet discharge device 1, and includes a CPU (Central Processing Unit) and various programs such as a program for executing the control operation of the droplet discharge device 1. And a storage unit that stores (stores) programs and various data. In the illustrated configuration, the control device 16 is installed outside a chamber 91 described later.
[0043]
Such a droplet discharge device 1 (excluding the control device 16), including the first primary tank 401 and the second primary tank 402, is preferably housed in a chamber 91 in which the internal temperature and humidity are controlled. (Stored). That is, the droplet discharge device 1 operates in an environment in which temperature and humidity are controlled. Thereby, when forming (drawing) a pattern of ejected droplets on the substrate W, it is possible to prevent an error due to thermal expansion / contraction of each part of the droplet ejection device 1 and the substrate W due to a temperature change. Therefore, the pattern can be formed (drawn) with high accuracy.
[0044]
In addition, as a result of controlling (adjusting) the temperature of the discharge liquid stored in the first primary tank 401 and the second primary tank 402, characteristics such as the viscosity of the discharge liquid are stabilized. As a result, the state of droplet discharge from the substrate becomes stable, so that the pattern can be formed (drawn) with higher accuracy. In addition, entry of dust, dust or the like into the chamber 91 can be prevented, and a pattern can be formed (drawn) while the substrate W is kept clean.
[0045]
The chamber 91 includes a main room (first room) 913 and a sub room (second room) 916. The main chamber 913 and the sub chamber 916 are separated by partition walls 914 and 915. The droplet discharge device 1 is accommodated in the main chamber 913, and the tank accommodating portion 13 is accommodated in the sub chamber 916. That is, the first primary tank 401 and the second primary tank 402 are accommodated in a sub chamber 916 that is a separate room from the droplet discharge device 1 in the chamber 91.
[0046]
The sub chamber 916 is provided with an opening / closing door (opening / closing part) 918 for the outside of the chamber 91 (see FIG. 1). Note that the opening / closing portion of the sub chamber 916 is not limited to the opening door such as the opening / closing door 918 but may be a sliding door, a shutter, or the like. In addition, a communication portion (opening) 917 that connects the main chamber 913 and the sub chamber 916 is formed in the partition wall 914. The sub chamber 916 is formed with an exhaust port for discharging the gas in the sub chamber 916, and an exhaust duct 94 extending to the outside is connected to the exhaust port.
[0047]
The chamber apparatus 9 including such a chamber 91 further includes an air conditioner 92 that adjusts (manages) the temperature and humidity in the chamber 91. The air conditioner 92 includes a known air conditioner device, and sends air (gas) whose temperature and humidity are adjusted to the ceiling 911 of the chamber 91 through the introduction duct 93. The air sent into the ceiling 911 passes through the filter 912 and is introduced into the main chamber 913 of the chamber 91. The air introduced into the main chamber 913 flows into the sub chamber 916 through the communication portion 917 and is discharged to the outside through the sub chamber 916 through the exhaust duct 94 (exhaust port).
[0048]
With such a configuration, air whose temperature and humidity are adjusted by the air conditioner 92 surely flows into every corner of the main chamber 913 and the sub chamber 916. The temperature and humidity of both the first primary tank 401 and the periphery of the second primary tank 402 can be managed. Further, harmful gas generated from the discharged liquid can be discharged to the outside of the chamber 91, and safety is high.
[0049]
In the present embodiment, when the first primary tank 401 and the second primary tank 402 are replaced or the discharge liquid is replenished, the main chamber 913 is not opened to the outside by opening the opening / closing door 918. This can be done. Thereby, when the primary tank is replaced or when the discharge liquid is replenished, the temperature and humidity managed around the environment (environment) of the droplet discharge device 1 are not disturbed. Therefore, the primary tank is replaced or the discharge liquid is replenished. Even immediately after that, the pattern can be formed (drawn) with high accuracy. In addition, it is not necessary to wait for the temperature in the main chamber 913 or the temperature of each part of the droplet discharge device 1 to return to a controlled value after replacing the primary tank or replenishing the discharge liquid. (Efficiency) can be improved. For this reason, it is extremely advantageous to mass-produce a workpiece such as the substrate W with high accuracy, and the manufacturing cost can be reduced.
[0050]
Further, in the present embodiment, the surroundings (environment) of the droplet discharge device 1 are similarly performed even when operations such as replacement of the cleaning liquid tank, replenishment of the cleaning liquid, replacement of the reuse tank and drainage tank, or extraction of the liquid are performed. Since the controlled temperature and humidity are not disturbed, the pattern can be formed (drawn) with high accuracy immediately after the operation, and the throughput (production efficiency) can be further improved.
[0051]
The exhaust duct 94 is preferably provided with a flow rate sensor (not shown). Based on the detection result of the flow velocity sensor, the control device 16 constantly monitors whether the necessary exhaust amount is secured. If there is an abnormality, an alarm sound, a sound, an operation panel (not shown) This is notified to the operator by a method such as display on the screen.
[0052]
The chamber 91 is supplied and filled with a gas other than air (for example, an inert gas such as nitrogen, carbon dioxide, helium, neon, argon, krypton, xenon, or radon) with the temperature and humidity adjusted. The droplet discharge device 1 may be operated in this gas atmosphere.
Moreover, the opening / closing part with respect to the outside provided in the sub chamber 916 may be such that the door is double or triple or more, and a separate room (space) is formed between the doors. .
Further, the chamber 91 only needs to be controlled (adjusted) either in its internal temperature or humidity.
In the present embodiment, two primary tanks are provided, but the number of primary tanks may be one or more than three (the same applies to other tanks).
[0053]
3 is a plan view showing the gantry, the stone surface plate, and the substrate transfer table in the droplet discharge device shown in FIGS. 1 and 2, and FIG. 4 is the gantry, the stone surface in the droplet discharge device shown in FIGS. It is a side view which shows a board | substrate and a board | substrate conveyance table. 3 and 4, the illustration of the pre-drawing flushing unit 7 is omitted.
As shown in FIGS. 3 and 4, the substrate transport table 3 and the Y-axis direction moving mechanism 5 that moves the substrate transport table 3 in the Y-axis direction are installed on the stone surface plate 22. As shown in FIG. 3, the substrate transport table 3 is formed with a plurality of suction ports (suction units) 332 for sucking and fixing the placed substrate W.
[0054]
As shown in FIG. 4, the Y-axis direction moving mechanism 5 includes a linear motor 51 and an air slider 52. The air slider 52 includes a slide guide 521 that extends along the Y-axis direction on the stone surface plate 22, and a slide block 522 that moves along the slide guide 521. The slide block 522 has a blowout port for blowing air between the slide guide 521, and the air blown from the blowout port is interposed between the slide guide 521 and can move smoothly. .
[0055]
On the slide block 522, a support body (base) 108 that supports the substrate transport table 3 and the pre-drawing flushing unit 7 (liquid receiver 71) is fixed. The substrate transport table 3 is fixed on the support 108 via a θ-axis rotation mechanism 60. In this way, the substrate transport table 3 is supported by the air slider 52 so as to be smoothly movable in the Y-axis direction, and is moved in the Y-axis direction by driving the linear motor 51. Further, the substrate transport table 3 can be rotated (rotated) within a predetermined range about a vertical axis passing through the center of the substrate transport table 3 (hereinafter referred to as “θ axis”) by the θ-axis rotating mechanism 60. It has become.
[0056]
A pair of strip-shaped thin plates 101 made of a metal material such as stainless steel is stretched over the Y-axis direction moving mechanism 5 so as to cover the Y-axis direction moving mechanism 5 from above. The thin plate 101 passes through a recess (groove) formed on the upper surface of the support 108 and passes between the support 108 and the θ-axis rotation mechanism 60. By providing the thin plate 101, it is possible to prevent the discharge liquid discharged from the droplet discharge head 111 from adhering to the Y-axis direction moving mechanism 5, and to protect the Y-axis direction moving mechanism 5. Can do.
[0057]
The stone surface plate 22 is made of a solid stone material (for example, Belfast black, Rustenburg, Kurnuol, Indian black, etc.), and its upper surface has high flatness. The stone surface plate 22 is excellent in various characteristics such as stability against environmental temperature changes, damping properties against vibration, stability against aging (deterioration), and corrosion resistance against discharged liquid. In this embodiment, the Y-axis direction moving mechanism 5 and the later-described X-axis direction moving mechanism 6 are supported by the stone surface plate 22 as described above, so that an error due to the influence of environmental temperature change, vibration, secular change (deterioration), and the like. Therefore, high accuracy can be obtained in the relative movement between the substrate transport table 3 and the head unit 11 (droplet ejection head 111), and the high accuracy can always be stably maintained. As a result, pattern formation (drawing) with ejected droplets can be performed with high accuracy and always stably.
[0058]
Such a stone surface plate 22 is supported by the gantry 21. The gantry 21 includes a frame 211 formed by assembling an angle member or the like in a square shape, and a plurality of support legs 212 distributed and arranged at the lower part of the frame 211. The gantry 21 preferably has an anti-vibration structure such as an air spring or a rubber bush, and is configured not to transmit vibration from the floor to the stone surface plate 22 as much as possible.
[0059]
5 is a plan view showing the head unit and the X-axis direction moving mechanism in the droplet discharge device shown in FIGS. 1 and 2, FIG. 6 is a side view seen from the direction of arrow A in FIG. 5, and FIG. It is the front view seen from the arrow B direction in FIG.
As shown in FIGS. 6 and 7, on the stone surface plate 22, there are four columns 23 and two parallel beams (beams) extending along the X-axis direction supported by these columns 23. ) 24 and 25 are installed. The substrate transfer table 3 can pass under the girders 24 and 25.
[0060]
The X-axis direction moving mechanism 6 that moves the droplet discharge head 111 (head unit 11) in the X-axis direction is supported by four columns 23 via girders 24 and 25. As shown in FIG. 5, the X-axis direction moving mechanism 6 is installed on the main carriage 61 that supports the head unit 11 and the beam 24 and guides and drives the main carriage 61 in the X-axis direction. And a guide 63 that is installed on the beam 25 and guides the main carriage 61 in the X-axis direction. The main carriage 61 is installed so as to be bridged between the linear motor actuator 62 and the guide 63.
[0061]
The head unit 11 is detachably supported with respect to the main carriage 61. As the head unit 11 moves in the X-axis direction together with the main carriage 61, sub-scanning of the droplet discharge head 111 is performed. The head unit 11 is supported by the main carriage 61 via a height adjustment mechanism 20 that adjusts the height of the head unit 11 with respect to the main carriage 61. Thereby, according to the thickness of the substrate W, the gap between the nozzle formation surface of the droplet discharge head 111 and the substrate W can be adjusted.
[0062]
A camera carriage 106 is further installed between the linear motor actuator 62 and the guide 63 so as to be bridged. The camera carriage 106 shares the linear motor actuator 62 and the guide 63 with the main carriage 61 and moves in the X-axis direction independently of the main carriage 61.
The camera carriage 106 is provided with a recognition camera 107 for recognizing an image of alignment marks provided at predetermined positions on the substrate W. The recognition camera 107 is supported in a state where it is suspended downward from the camera carriage 106. Note that the recognition camera 107 may be used for other purposes.
[0063]
FIG. 8 is a plan view schematically showing the configuration of the head unit and the droplet discharge operation in the droplet discharge apparatus shown in FIGS. As shown in FIG. 8, on the nozzle formation surface of the droplet discharge head 111, a large number of discharge nozzles (openings) for discharging droplets are formed in a line or two or more lines. The droplet discharge head 111 has a piezoelectric element that is displaced (deformed) by application of a voltage, and a pressure chamber (liquid chamber) formed so as to communicate with the discharge nozzle by using the displacement (deformation) of the piezoelectric element. The liquid droplets are ejected from the ejection nozzles by changing the pressure inside. The droplet discharge head 111 is not limited to such a configuration. For example, the droplet discharge head 111 may be configured such that the discharge liquid is heated by a heater to boil, and the droplet is discharged from the discharge nozzle by the pressure. .
[0064]
The head unit 11 is provided with a plurality of droplet discharge heads 111 (described as 12 in the following description). Each of these droplet discharge heads 111 is arranged in two rows in a row in the sub-scanning direction (X-axis direction), and the nozzle rows are arranged so as to be inclined at a predetermined angle with respect to the sub-scanning direction.
Note that such an arrangement pattern is an example. For example, adjacent droplet discharge heads 111 in each head row are arranged with an angle of 90 ° (adjacent heads are in a “C” shape) The droplet discharge heads 111 between the head rows may be arranged with an angle of 90 ° (the heads between the rows are in a “C” shape). In any case, it is sufficient that dots formed by all the discharge nozzles of the plurality of droplet discharge heads 111 are continuous in the sub-scanning direction.
Furthermore, the droplet discharge heads 111 do not have to be installed in a posture inclined with respect to the sub-scanning direction, and a plurality of droplet discharge heads 111 may be arranged in a staggered or stepped manner. . A plurality of head units 11 may be supported on the main carriage 61.
[0065]
Here, the overall operation of the droplet discharge device 1 under the control of the control device 16 will be briefly described. When the substrate W placed (supplied) on the substrate transport table 3 is positioned (prealigned) at a predetermined position by the operation of the substrate positioning device (not shown) provided in the droplet discharge device 1, the substrate transport table. The substrate W is sucked and fixed to the substrate transfer table 3 by air suction from the three suction ports 332. Next, when the substrate transport table 3 and the camera carriage 106 are moved, the recognition camera 107 is moved above an alignment mark provided at a predetermined position (one or a plurality of positions) of the substrate W. recognize. Based on the recognition result, the θ-axis rotating mechanism 60 is operated to correct the angle of the substrate W about the θ-axis, and the position correction of the substrate W in the X-axis direction and the Y-axis direction is performed on the data ( Book alignment).
When the alignment operation of the substrate W as described above is completed, the droplet discharge device 1 starts an operation of forming (drawing) a predetermined pattern on the substrate W. This operation is performed by main-scanning and sub-scanning the droplet discharge head 111 (head unit 11) with respect to the substrate W.
[0066]
In the droplet discharge apparatus 1 of the present embodiment, main scanning is performed while moving the substrate W in the Y-axis direction by the movement of the substrate transfer table 3 while the head unit 11 is stopped (not moved) with respect to the apparatus body 2. This is performed by discharging droplets from the droplet discharge heads 111 to the substrate W. That is, in the present embodiment, the Y-axis direction is the main scanning direction.
[0067]
This main scanning may be performed while the substrate transport table 3 is moving forward (forward), while it is moving backward (backward), or both forward and backward (reciprocating). Alternatively, the substrate transfer table 3 may be reciprocated a plurality of times and repeatedly performed a plurality of times. By such main scanning, ejection of liquid droplets is completed in a region extending along the main scanning direction with a predetermined width (width that can be ejected by the head unit 11) on the substrate W.
[0068]
Sub scanning is performed after such main scanning. The sub-scanning is performed by moving the head unit 11 in the X-axis direction by the predetermined width by moving the main carriage 61 when droplets are not ejected. That is, in the present embodiment, the X-axis direction is the sub-scanning direction.
After such sub-scanning, the same main scanning as described above is performed. As a result, droplets are ejected to a region adjacent to the region where the droplets were ejected in the previous main scan.
In this manner, by alternately repeating main scanning and sub-scanning, droplets are ejected over the entire area of the substrate W, and a predetermined pattern is formed on the substrate W by the ejected droplets (liquid). Can be formed (drawn).
[0069]
In the present invention, the main scanning direction and the sub-scanning direction may be opposite to those described above. That is, main scanning is performed by discharging droplets onto the substrate W while moving the droplet discharge head 111 (head unit 11) in the X-axis direction while the substrate W (substrate transfer table 3) is stopped. The sub-scanning may be performed by moving the substrate W (substrate transport table 3) in the Y-axis direction when droplets are not discharged.
[0070]
FIG. 10 is a piping system diagram schematically showing a liquid supply device and a drainage device in the droplet discharge device shown in FIGS. 1 and 2, and FIG. 11 is a diagram schematically showing a configuration of the liquid amount detection means. . Hereinafter, the discharge liquid supply device 4, the cleaning liquid supply device 50, the capping liquid discharge device 17, and the liquid discharge device 18 in the droplet discharge device 1 will be described based on these drawings, FIGS. 6 and 9.
[0071]
First, the discharge liquid supply device 4 that supplies the discharge liquid discharged from each droplet discharge head 111 will be described. As shown in FIG. 10, the discharge liquid supply device (liquid supply device) 4 includes a primary tank system 40 that stores discharge liquid, and one primary that connects the primary tank system 40 and a secondary tank 412 described later. And a flow path 411.
In the present embodiment, the primary tank system 40 is connected to a first primary tank (discharge liquid tank) 401 and a second primary tank (discharge liquid tank) 402 that store discharge liquid, and the first primary tank 401. An outflow pipe (outflow flow path) 403, an outflow pipe (outflow flow path) 404 connected to the second primary tank 402, and a three-way valve (flow path switching means) 405. The primary tank system 40 is not limited to the configuration shown in the figure, and the number of primary tanks may be only one or three or more.
[0072]
The three-way valve 405 is connected to a primary flow path 411 and outflow pipes 403 and 404, respectively. The three-way valve 405 can be switched between a state in which the primary flow path 411 and the outflow pipe 403 are connected and a state in which the primary flow path 411 and the outflow pipe 404 are connected. As a result, the discharge liquid can be selectively supplied from the first primary tank 401 or the second primary tank 402 to the primary flow path 411. The three-way valve 405 is automatically switched by an actuator (not shown).
[0073]
The individual capacities of the first primary tank 401 and the second primary tank 402 are not particularly limited, but from the viewpoint of coexistence of facilitating replacement work and securing the capacity of the discharge liquid supply device 4 as a whole, It is preferably about 1 to 10 liters, and more preferably about 3 to 5 liters.
In addition, the discharge liquid supply device 4 includes a pressurizing unit 406 that supplies pressurized gas into the first primary tank 401 and the second primary tank 402, and a pressurized pipe connected to the first primary tank 401 ( It further includes a pressure path) 407, a pressure pipe (pressure path) 408 connected to the second primary tank 402, and a three-way valve (pressure path switching means) 409.
[0074]
As the pressurizing means 406, for example, a pressurized gas supply source that supplies a gas such as pressurized nitrogen gas is used. A pipe (path) 410 from the pressurizing means 406 and pressurizing pipes 407 and 408 are connected to the three-way valve 409, respectively. The three-way valve 409 can be switched between a state in which the pipe 410 and the pressure pipe 407 are connected and a state in which the pipe 410 and the pressure pipe 408 are connected. Thereby, the inside of the first primary tank 401 or the second primary tank 402 can be selectively pressurized by the pressurizing means 406. The three-way valve 409 is automatically switched by an actuator (not shown).
[0075]
As shown in FIG. 6, the secondary tank 412 is fixedly installed on the main carriage 61. That is, the secondary tank 412 moves in the X axis direction together with the main carriage 61. The other end of the primary flow path 411 extending from the three-way valve 405 is connected to the secondary tank 412, and the discharge liquid from the primary tank system 40 flows into the secondary tank 412 through the primary flow path 411.
[0076]
The primary flow path 411 is preferably composed of a flexible tube. In the middle of the primary flow path 411, the primary flow path 411 is relayed so that the portion of the primary flow path 411 on the secondary tank 412 side can move in accordance with the movement of the secondary tank 412 that moves with the main carriage 61. A relay unit 413 is provided.
The secondary tank 412 and the head unit 11 are connected by twelve secondary flow paths 414 corresponding to each of the twelve droplet discharge heads 111 provided in the head unit 11. That is, the head unit 11 is provided with twelve inlets (connection ports) 112 corresponding to the respective droplet discharge heads 111, and the other ends of the twelve secondary flow paths 414 extending from the secondary tank 412. Are connected to the respective inlets 112. In FIG. 6, only two of the twelve secondary flow paths 414 are shown for easy viewing. In the illustrated configuration, the secondary flow path 414 is configured by a flexible tube, but is not limited thereto, and may be configured by a hard tube.
[0077]
The pressure in the secondary tank 412 is negatively controlled by a pressure control unit (negative pressure control unit) (not shown). The discharge liquid whose pressure is controlled in the secondary tank 412 is supplied to each droplet discharge head 111 through each secondary channel 414. Thereby, the pressure of the discharge liquid supplied to each droplet discharge head 111 is controlled, and a good droplet discharge state is obtained at each discharge nozzle of each droplet discharge head 111.
[0078]
In the middle of each secondary flow path 414, a shut-off valve 415 capable of blocking the flow path is provided. When the pressure control unit does not function for some reason, the shutoff valve 415 shuts off the secondary flow path 414 and discharges it from the secondary tank 412 to the droplet discharge head 111 located at a position lower than the secondary tank 412. The liquid continues to flow and is prevented from leaking from the droplet discharge head 111.
[0079]
As shown in FIG. 11A, the discharge liquid supply device 4 further includes a liquid amount detection unit 416 that detects the amount of liquid inside the first primary tank 401. The liquid amount detection means 416 is provided along the vertical direction outside the first primary tank 401, and has a light-transmitting tube 417 whose lumen communicates with the first primary tank 401, and the first primary tank 401. A light projecting unit 418 and a light receiving unit 419 are disposed near the bottom of the primary tank 401 so as to face each other with the tube 417 interposed therebetween. When the amount of liquid in the first primary tank 401 decreases due to a change in the amount of light received by the light receiving unit 419, the liquid amount detecting means 416 detects this when the predetermined lower limit level E (empty state) is reached. Can be detected. The detection result of the liquid amount detection means 416 is input to the control device 16.
Further, the discharge liquid supply device 4 has the same liquid amount detection means 420 that detects the amount of liquid inside the second primary tank 402. When the amount of liquid in the second primary tank 402 decreases and reaches a predetermined lower limit level E, the liquid amount detecting means 420 detects this and inputs the detection result to the control device 16.
[0080]
In the state shown in FIG. 10, the discharge liquid supply device 4 is pressurized in the first primary tank 401 by the pressurizing means 406, and the discharge liquid in the first primary tank 401 flows out by this pressure. It is sent out through the pipe 403 and the primary flow path 411 and supplied to the droplet discharge head 111.
When the discharge liquid in the first primary tank 401 is consumed and the liquid amount detection means 416 detects that the first primary tank 401 is empty, the control device 16 determines based on the detection result. The three-way valve 405 and the three-way valve 409 are switched. Thereby, the pressurizing means 406 pressurizes the inside of the second primary tank 402, and the discharge liquid in the second primary tank 402 is sent out through the outflow pipe 404 and the primary flow path 411 by this pressure, The state is switched to the state supplied to the droplet discharge head 111.
[0081]
While the discharge liquid is being supplied from the second primary tank 402, the operator removes the empty first primary tank 401 from the rack 131, refills the discharge liquid, and returns it to the rack 131. Thereafter, when the liquid amount detecting means 420 detects that the second primary tank 402 is empty, the control device 16 switches the three-way valve 405 and the three-way valve 409, respectively, and discharges the discharge liquid from the first primary tank 401. Switch to the supply state. Then, while the discharge liquid is being supplied from the first primary tank 401, the operator removes the empty second primary tank 402 from the rack 131 and refills the discharge liquid.
[0082]
When the first primary tank 401 is emptied and when the second primary tank 402 is emptied, the control device 16 notifies that and replaces the tank (replenishment of discharge liquid). It is preferable to prompt the operator. Examples of the notification method include a method of displaying characters or graphics on an operation panel (not shown) or making a sound or a sound. In addition, when the first primary tank 401 is emptied and when the second primary tank 402 is emptied, the letters, figures, sounds, or voices for notification are made different, and any primary It is preferable to know if the tank is empty.
[0083]
Next, the cleaning liquid supply device (liquid supply device) 50 for supplying the cleaning liquid used in the cleaning unit (cleaning device) 122 for cleaning the droplet discharge head 111 will be described. Will not be described. As shown in FIG. 10, the cleaning liquid supply device 50 is detachably installed in the rack 131 and is connected to the first cleaning liquid tank 501 and the second cleaning liquid tank 502 that store the cleaning liquid, and the first cleaning liquid tank 501. Outflow piping (outflow passage) 503, outflow piping (outflow passage) 504 connected to the second cleaning liquid tank 502, outflow piping 503 and 504, and supply piping to the cleaning unit 122 (supply flow) A three-way valve (flow path switching means) 505, a pressurizing means 506 for supplying pressurized gas into the first cleaning liquid tank 501 and the second primary tank 502, and a first A pressure pipe (pressure path) 507 connected to the cleaning liquid tank 501, a pressure pipe (pressure path) 508 connected to the second cleaning liquid tank 502, and a pressure pipe 507 508 and the piping (path) 510 from the pressurizing means 506 are respectively connected to the three-way valve (pressurizing path switching means) 509 and the remaining liquid amounts of the first cleaning liquid tank 501 and the second cleaning liquid tank 502. A liquid amount detecting means (not shown) for detection.
[0084]
As the pressurizing means 506, for example, a pressurized gas supply source that supplies a gas such as pressurized nitrogen gas is used. Further, the pressurizing unit 406 and the pressurizing unit 506 may be shared without being provided separately. The cleaning liquid supplied from the liquid supply channel 511 to the cleaning unit 122 is ejected from the nozzles installed in the cleaning unit 122 and impregnates a wiping sheet that wipes off the nozzle formation surface of the droplet discharge head 111.
Similar to the discharge liquid supply apparatus 4, such a cleaning liquid supply apparatus 50 is used while switching between the first cleaning liquid tank 501 and the second cleaning liquid tank 502 by switching the three-way valves 505 and 509.
[0085]
Next, the capping drainage device 17 for collecting the drainage (discharge fluid) from the capping unit (capping device) 121 for capping the droplet ejection head 111 will be described. Will not be described. As shown in FIG. 10, the capping drainage device 17 is detachably installed in a rack 131 and includes a first drainage tank 171 and a second drainage tank 172 that store drainage collected from the capping unit 121. An inflow pipe (inflow path) 173 connected to the first drainage tank 171; an inflow pipe (inflow path) 174 connected to the second drainage tank 172; and a three-way valve (flow path switching) Means) 175. The three-way valve 175 is connected to a drain pipe (drain path) 176 from the capping unit 121 and inflow pipes 173 and 174, respectively. The three-way valve 175 can be switched between a state in which the drainage pipe 176 and the inflow pipe 173 are connected and a state in which the drainage pipe 176 and the inflow pipe 174 are connected. Thereby, the drainage from the capping unit 121 can be selectively introduced into the first drainage tank 171 or the second drainage tank 172. The three-way valve 175 is automatically switched by an actuator (not shown).
[0086]
As shown in FIG. 11B, the capping drainage device 17 further includes a liquid amount detection unit 177 a that detects the amount of liquid inside the first drainage tank 171. The liquid amount detecting means 177a is provided along the vertical direction outside the first drainage tank 171, and has a light-transmitting tube 178 whose lumen communicates with the first drainage tank 171; It is composed of a light projecting unit 179 and a light receiving unit 170 installed so as to face each other with a tube 178 sandwiched between the top of one drainage tank 171. When the amount of liquid in the first drainage tank 171 increases due to a change in the amount of light received by the light receiving unit 170, the liquid amount detection unit 177a detects the amount of liquid when it reaches a predetermined upper limit level F (full state). Can be detected. The detection result of the liquid amount detection means 177a is input to the control device 16. The capping drainage device 17 further includes a liquid level detection unit 177b similar to the liquid level detection unit 177a that detects the volume of liquid inside the second drainage tank 172.
[0087]
In such a capping drainage device 17, in the state shown in FIG. 10, the drainage from the capping unit 121 is sucked into a suction pump (not shown) and introduced into the first drainage tank 171. When the drainage liquid in the first drainage tank 171 accumulates and the liquid amount detection means 177a detects that the first drainage tank 171 is full, the control device 16 detects the detection result. Is switched to the state in which the drainage is introduced into the second drainage tank 172.
[0088]
When the first drainage tank 171 is full and when the second drainage tank 172 is full, the control device 16 notifies that fact by the same method as described above, for example. It is preferable to prompt the operator to change the tank (collect the drainage). Since the drainage liquid collected by the capping drainage device 17 is a discharge liquid in a relatively clean state, it is reused.
[0089]
Next, the drainage device 18 that collects the drained liquid discharged from the droplet discharge head 111 in the pre-drawing flushing unit 7, the regular flushing unit 123, and the dot dropout detection unit 19 will be described. Description of the same matters as the drainage device 17 is omitted.
As shown in FIG. 10, the drainage device 18 is detachably installed on the rack 131 (not shown in FIG. 9), and includes a first drainage tank 181 that stores the discarded and discharged drainage. A second drainage tank 182, an inflow pipe (inflow path) 183 connected to the first drainage tank 181, an inflow pipe (inflow path) 184 connected to the second drainage tank 182, And a three-way valve (flow path switching means) 185. The three-way valve 185 is connected with drain pipes (drain channels) 186 from the pre-drawing flushing unit 7, the regular flushing unit 123 and the dot dropout detection unit 19, and inflow pipes 183 and 184, respectively. Further, the first drainage tank 181 and the second drainage tank 182 are respectively provided with liquid level detection means (not shown) similar to the liquid level detection means 177a and 177b for detecting the liquid volume inside. Is provided. The drainage liquid collected by the drainage device 18 is used for disposal or reuse.
[0090]
12 and 13 are partially cutaway side views showing in enlargement the part indicated by arrow D in FIG. Hereinafter, the configuration of the substrate transfer table 3 will be described in detail based on these drawings.
As shown in these drawings, the substrate transfer table 3 includes a base 36, a plurality of blocks 33 installed on the base 36, and a plurality of ball lift devices 34 installed on the base 36. is doing. The base 36 includes a first plate 31 and a second plate 32 that is overlapped and joined to the lower surface side of the first plate 31.
[0091]
The plurality of blocks 33 are arranged in a matrix on the base 36 at intervals. The upper surfaces of these blocks 33 constitute a mounting surface (contact surface) 331 on which the substrate W is mounted (the substrate W contacts).
Each block 33 is formed with a suction port 332 that opens to the placement surface 331 as a suction portion for sucking the placed substrate W by negative pressure.
[0092]
In the illustrated configuration, 99 blocks 33 of 9 × 11 are installed (see FIG. 14). The preferable number of blocks 33 to be installed varies depending on the size of the substrate transfer table 3, but is usually preferably about 4 to 400, more preferably about 4 to 100.
By providing such a block 33, the substrate W is supported between the substrate W and the base 36 when the substrate W is supplied (carrying in) and removed (carrying out) from the substrate carrying table 3. Since a gap (space) into which the carry-in jig can be inserted is formed, feeding and removing can be performed easily, smoothly and quickly.
[0093]
The plurality of ball lift devices 34 are arranged on the base 36 in a matrix at intervals from each other (see FIG. 14). Since the plurality of ball lift devices 34 have the same configuration, one ball lift device 34 will be described as a representative. As shown in FIG. 12, the ball lift device 34 includes a housing 341 having a height lower than that of the block 33, a pneumatic cylinder (ball lifting mechanism) 342 provided in the housing 341, and a piston of the pneumatic cylinder 342. It has a functioning ball support 343 and a ball (sphere) 344 supported on the ball support 343 through a plurality of small balls (bearings) 345 so as to be smoothly rotatable. The ball 344 is supported with its upper portion exposed from the ball support 343.
[0094]
A piping 346 for supplying air pressure from an air supply source (pressure supply source) (not shown) installed in the vicinity of the droplet discharge device 1 (preferably outside the chamber 91) is connected to the pneumatic cylinder 342. The pneumatic cylinders 342 of the ball lift devices 34 in a row aligned in the Y-axis direction are in communication with each other by a passage 347 formed inside a connecting portion 348 that connects the housings 341 aligned in the Y-axis direction. Air pressure is supplied to all of the ball lift devices 34 in one row in the Y-axis direction by one pipe 346.
By the operation of the pneumatic cylinder 342, the ball 344, together with the ball support 343, is in a raised position (position shown in FIG. 13) where at least a part of the ball 344 protrudes above the placement surface 331, and the entire ball 344 is loaded. It moves up and down to a lowered position (position shown in FIG. 12) that retracts below the placement surface 331.
[0095]
As shown in FIG. 13, the ball lift device 34 raises the balls 344 to raise each ball 344 (the area of the substrate W when the size of the substrate W is smaller than the size of the substrate transfer table 3). The substrate W is lifted by the ball 344), and the substrate W is supported at a position separated from the placement surface 331. In this state, the substrate W does not rub the placement surface 331 and the ball 344 rotates freely, so that the substrate W moves freely in the Y-axis direction and the X-axis direction on the substrate transfer table 3 without being damaged. (Including rotation). The ball 344 is preferably made of a resin material (for example, melamine resin). This more reliably prevents the substrate W from being damaged.
[0096]
In the substrate transfer table 3 of the present embodiment, the process shown in FIG. 13 allows the substrate W that has been fed (carried in) to be moved and positioned (pre-aligned) on the substrate transfer table 3 smoothly and quickly. It can be done easily. Then, after the pre-alignment of the substrate W, the state shown in FIG. 12 is set, so that the substrate W can be placed on the placement surface 331 and sucked and fixed by air suction from the suction port 332.
[0097]
In the configuration shown in the figure, 88 ball lift devices 34 of 8 × 11 are installed. The number of ball lift devices 34 to be installed differs depending on the size of the substrate transfer table 3, but the preferred value is usually about the same as the number of blocks 33. The minimum number of ball lift devices 34 is at least three ball lift devices 34 arranged so as not to be aligned in a straight line so that the substrate W can be supported by at least three balls 344 not aligned in a straight line. Should just be installed.
[0098]
14 is a plan view showing the substrate transfer table and the pre-drawing flushing unit, FIGS. 15 and 16 are side views showing the substrate transfer table and the pre-drawing flushing unit, respectively, and FIGS. 17 and 18 are FIGS. FIG. 19 is a rear view as seen from the direction of arrow E, and FIG. 19 is a transverse cross-sectional view (cross-sectional view taken along a plane perpendicular to the longitudinal direction of the liquid receiving portion) of the flushing unit before drawing. Hereinafter, the configuration of the pre-drawing flushing unit in the droplet discharge device shown in FIGS. 1 and 2 will be described in detail based on these drawings.
[0099]
As shown in FIG. 14, the pre-drawing flushing unit 7 is provided in the vicinity of two parallel sides extending along the sub-scanning direction (X-axis direction) in the substrate transport table 3. These pre-drawing flushing units 7 are supported by a support 108 installed on a slide block 522 of the Y-axis direction moving mechanism 5 and move in the Y-axis direction together with the substrate transport table 3. Since the two pre-drawing flushing units 7 have the same configuration, only one of them will be described below as a representative.
[0100]
The pre-drawing flushing unit 7 has a liquid receiving part 71, and the liquid receiving part 71 has a gap 79 between the substrate carrying table 3 and the side near the side extending along the X-axis direction. It is provided in a non-contact manner. When performing the main scanning in the pattern formation (drawing) operation on the substrate W as described above, the liquid droplet ejection head 111 starts when the liquid receiving portion 71 moves below the liquid droplet ejection head 111. When the liquid receiving unit 71 is discarded and discharged, and the substrate W is moved below the droplet discharge head 111, normal droplet discharge for forming (drawing) a predetermined pattern is performed on the substrate. To W.
[0101]
In other words, the liquid droplet ejection head 111 performs waste ejection on the liquid receiving portion 71 immediately before the liquid droplet ejection onto the substrate W (immediately before the main scanning is performed). The purpose of performing such a discharge before drawing is as follows.
In general, when the time from when the droplet discharge is stopped to when the droplet is restarted becomes longer, the droplet discharge head 111 disturbs the discharge direction of the droplet, the discharge amount becomes too large, or the discharge amount becomes too small. Such a phenomenon tends to occur and the droplet discharge operation tends to become unstable. That is, immediately after the droplet discharge head 111 starts the discharge of the droplet, the discharge state is not stable and it is difficult to fly straight, and the discharge amount is not stable.
For this reason, before the liquid droplets are discharged onto the substrate W (before drawing), the liquid receiving part 71 is discarded and discharged to stabilize the liquid droplet discharge state by the liquid droplet discharge head 111. As a result, an appropriate droplet discharge state of the droplet discharge head 111 can be obtained, and pattern formation (drawing) on the substrate W can be performed in this appropriate droplet discharge state.
[0102]
Further, in the present invention, since the discarded discharge is performed not on the substrate W but on the liquid receiving portion 71, it is possible to avoid forming (drawing) a functionally unnecessary pattern on the peripheral portion of the substrate W or the like. Since the entire substrate W can be used effectively, the substrate W is not wasted and the manufacturing cost of the substrate W can be reduced.
Further, in the present embodiment, since the liquid receiving part 71 is provided in the vicinity of two parallel sides of the substrate transport table 3, the substrate W (substrate transport table 3) is advanced (forwardly moved) in the main scanning. Therefore, the discharge can be performed both before discharging the droplet and before discharging the droplet while moving backward (returning).
[0103]
The liquid receiving portion 71 is elongated along the side of the substrate transport table 3 in the vicinity thereof, and the length thereof is substantially the same as the length of the side. Thereby, even if the head unit 11 (droplet discharge head 111) moves in the X-axis direction by sub-scanning, the liquid discharge is performed regardless of the relative positional relationship between the droplet discharge head 111 and the substrate transport table 3 in the X-axis direction. The receiving part 71 can receive the discarded discharge. Further, the space occupied by the liquid receiving portion 71 is also small.
[0104]
As shown in FIG. 15, the substrate transport table 3 is installed on the support 108 via the θ-axis rotation mechanism 60. The θ-axis rotating mechanism 60 includes a fixing unit 601 fixed to the support 108 side, a rotating unit 602 fixed to the substrate transport table 3 side, and the substrate transport table 3 side (rotating unit 602 side) with respect to the fixed unit 601. And an actuator (not shown) for rotating. Such a θ-axis rotating mechanism 60 can rotate (rotate) the substrate transport table 3 within a predetermined range around the vertical θ-axis passing through the center of the substrate transport table 3. By adjusting (finely adjusting) the posture (angle) of the substrate transport table 3 around the θ axis by the θ-axis rotating mechanism 60, the posture of the substrate W placed on the substrate transport table 3 is inclined around the θ axis. If this is the case, it can be accurately corrected so as to have a straight posture.
[0105]
The pre-drawing flushing unit 7 is joined to the lower side of the liquid receiving portion 71 and holds the liquid receiving portion 71 without bending, a pair of support legs 73 fixed to the frame 72, and the support body 108 in the X-axis direction. And a pair of brackets 74 that support each of the support legs 73.
As described above, the substrate transport table 3 is supported on the support 108 via the θ-axis rotation mechanism 60, and the liquid receiver 71 is supported on the support 108 via the bracket 74. That is, the substrate transfer table 3 and the liquid receiving part 71 are not in contact with each other (in a separated state) and are supported independently by the support 108.
[0106]
When the liquid receiver 71 is to be installed in the vicinity of the substrate transport table 3, a configuration in which the liquid receiver 71 is simply fixed to the substrate transport table 3 can be considered. On the other hand, in this invention, it has the following advantages by having comprised the board | substrate conveyance table 3 and the liquid receiving part 71 independently supported.
Since the load of the liquid receiving portion 71 is not applied to the substrate transfer table 3, it is possible to prevent the substrate transfer table 3 from being bent (deformed) so as to be bent downward due to the weight of the liquid receiving portion 71. Therefore, it is possible to maintain high accuracy such as the flatness of the surface formed by the set of the placement surfaces 331 of the substrate transport table 3, and to support the substrate W with high flatness. As a result, pattern formation (drawing) on the substrate W can be accurately performed with higher accuracy. In particular, this effect can be exerted regardless of the fact that liquid accumulates in the liquid receiving portion 71 and becomes heavier.
Further, the liquid receiving portion 71 is supported by the support body 108 without using the θ-axis rotation mechanism 60. Thereby, even if the θ-axis rotation mechanism 60 adjusts the posture (angle) of the substrate transport table 3 around the θ-axis, the posture (angle) of the liquid receiving portion 71 around the θ-axis does not change. The position where the droplet discharge head 111 should be thrown away before drawing can always be kept constant.
[0107]
On the other hand, unlike the present embodiment, when the liquid receiving part 71 rotates together with the substrate transfer table 3, there are the following disadvantages. That is, since the position of the liquid receiving portion 71 is shifted, the position at which the droplet discharge head 111 should be discarded and discharged before drawing must be changed accordingly, and complicated control is required. Alternatively, the dimension of the width of the liquid receiving portion 71 in the Y-axis direction must be increased so as to cover the misalignment, which causes a problem that the pre-drawing flushing unit 7 increases in weight and size.
Further, since the liquid receiving portion 71 is supported by the substrate transfer table 3 without the θ-axis rotating mechanism 60, the moment of inertia when rotating the substrate transfer table 3 is small, so that the controllability is high and the substrate transfer is performed. The angle adjustment around the θ axis of the table 3 can be performed with higher accuracy.
[0108]
As shown in FIG. 17, each support leg 73 is supported so as to be movable up and down with respect to each bracket 74. In addition, the pre-drawing flushing unit 7 further includes a pair of pneumatic cylinders 75 as lifting devices that lift and lower each support leg 73 with respect to each bracket 74. Connected to each pneumatic cylinder 75 is a pipe (not shown) for supplying air pressure from an air supply source (pressure supply source) (not shown) installed near the droplet discharge device 1 (preferably outside the chamber 91). Has been.
In the pre-drawing flushing unit 7 of the present embodiment, the support leg 73, the bracket 74, and the pneumatic cylinder 75 constitute a height adjusting mechanism that adjusts the height of the liquid receiving portion 71. By extending and contracting the pneumatic cylinder 75, The height of the liquid receiving part 71 can be adjusted.
[0109]
As shown in FIG. 15 and FIG. 17, the height adjustment mechanism of the liquid receiving part 71 is such that when the liquid receiving part 71 is at the uppermost position, the height of the upper end of the liquid receiving part 71 is the mounting surface of the substrate transport table 3. The height of the liquid receiving portion 71 can be adjusted to be higher than the height of 331 (work placement surface). In this state, the height of the upper end of the liquid receiving portion 71 can be adjusted to be approximately the same as the height of the upper surface of the substrate W placed on the placement surface 331. In other words, the gap between the upper end of the liquid receiving portion 71 and the droplet discharge head 111 (nozzle formation surface) can be made sufficiently small. Therefore, the liquid receiving part 71 can receive the liquid droplets discarded and discharged from the liquid droplet discharge head 111 without scattering to the surroundings.
[0110]
As shown in FIGS. 16 and 18, the height adjustment mechanism of the liquid receiving part 71 is configured such that when the liquid receiving part 71 is at the lowest position, the height of the upper end of the liquid receiving part 71 is set to place the substrate transport table 3. The height of the liquid receiving part 71 can be adjusted to be lower than the height of the surface 331. When the substrate W is fed (loaded) and removed (unloaded) onto the substrate transport table 3, the substrate W and the loading jig that supports the substrate W interfere with the liquid receiving portion 71 (this is the state). Contact), the substrate W can be fed and removed smoothly, quickly and easily, and the substrate W can be damaged in the feeding and removing steps. Can be prevented.
[0111]
Further, the height adjustment mechanism of the liquid receiving portion 71 is adjusted according to the height of the droplet discharge head 111 adjusted according to the thickness of the substrate W by the height adjustment mechanism 20 of the head unit 11. The height can be adjusted. Accordingly, the gap between the liquid receiving portion 71 and the droplet discharge head 111 can be adjusted to an appropriate size according to the thickness of the substrate W, and the droplet discharge head 111 can be adjusted regardless of the thickness of the substrate W. It is possible to receive the liquid droplets discarded and discharged from the liquid receiver 71 without being scattered around.
[0112]
As shown in FIG. 19, the liquid receiving part 71 includes a receiving tray 711, a liquid absorber 712 that can absorb the liquid installed so as to cover the recess 714 of the receiving tray 711, and a presser that holds the edge of the liquid absorbing body 712. Member 713. The liquid absorber 712 is made of, for example, a sponge, and the discarded liquid droplets are first absorbed by the liquid absorber 712. Thereby, it is possible to more reliably prevent the discarded and discharged droplets from being scattered around.
[0113]
The liquid absorbed by the liquid absorber 712 passes through the liquid absorber 712 and accumulates in the recess 714 of the tray 711. A drain port (not shown) is formed at the bottom of the tray 711, and this drain port communicates with a suction tube (not shown) connected to the liquid receiver 71. This suction tube is connected to the drainage pipe 186 of the drainage device 18 described above. With such a configuration, the droplet (liquid) received by the liquid receiving portion 71 is collected in the concave portion 714 and then collected through the suction tube and the drainage pipe 186, and the first drainage tank 181 and the first drainage tank 181. 2 is stored in the second drainage tank 182.
The liquid absorber 712 expands when it absorbs liquid to some extent, but in this embodiment, the pressing member 713 presses the liquid absorber 712 to be expanded to prevent this expansion. Accordingly, it is possible to reliably prevent the liquid absorber 712 from expanding and expanding upward and coming into contact with the droplet discharge head 111.
[0114]
The embodiment of the droplet discharge apparatus of the present invention has been described above. However, the present invention is not limited to this, and each part constituting the droplet discharge apparatus is an arbitrary element that can exhibit the same function. It can be replaced with the configuration of Moreover, arbitrary components may be added.
Moreover, in this invention, the liquid receiving part should just be provided in the vicinity of at least one side of the workpiece conveyance table.
Further, the Y-axis direction moving mechanism and the X-axis direction moving mechanism may be driven by, for example, a ball screw (feed screw) instead of the one driven by the linear motor.
[0115]
In the droplet discharge device of the present invention, the head unit (droplet discharge head) is fixed with respect to the device main body, and the workpiece (work transfer table) is moved in the Y-axis direction and the X-axis direction, respectively. Further, it may be configured to perform sub-scanning. In this case, a liquid receiving part may be provided in the vicinity of the four sides of the work transfer table.
[0116]
The electro-optical device is manufactured using the droplet discharge device of the present invention as described above. Specific examples of the electro-optical device are not particularly limited, and examples thereof include a liquid crystal display device and an organic EL display device.
In addition, the electro-optical device manufacturing method of the present invention uses the droplet discharge device of the present invention. The electro-optical device manufacturing method of the present invention can be applied to, for example, a liquid crystal display device manufacturing method. That is, a liquid containing a filter material of each color is selectively discharged onto the substrate using the droplet discharge device of the present invention, thereby producing a color filter having a large number of filter elements arranged on the substrate. A liquid crystal display device can be manufactured using a color filter. In addition, the electro-optical device manufacturing method of the present invention can be applied to, for example, an organic EL display device manufacturing method. That is, an organic material in which a large number of pixel pixels including an EL light emitting layer are arranged on a substrate by selectively discharging a liquid containing a light emitting material of each color onto the substrate using the droplet discharge device of the present invention. An EL display device can be manufactured.
Further, the electronic apparatus includes an electro-optical device manufactured as described above. Specific examples of the electronic device include, but are not limited to, a personal computer or a mobile phone equipped with the liquid crystal display device or the organic EL display device manufactured as described above.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a droplet discharge device of the present invention.
FIG. 2 is a side view showing an embodiment of a droplet discharge device of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing a gantry, a stone surface plate, and a substrate transfer table.
FIG. 4 is a side view showing a gantry, a stone surface plate, and a substrate transfer table.
FIG. 5 is a plan view showing a head unit and an X-axis direction moving mechanism.
6 is a side view seen from the direction of arrow A in FIG.
7 is a front view seen from the direction of arrow B in FIG.
FIG. 8 is a schematic plan view showing a configuration of a head unit and a droplet discharge operation.
FIG. 9 is a perspective view showing a tank storage unit.
FIG. 10 is a piping system diagram schematically showing a liquid supply device and a drainage device.
FIG. 11 is a diagram schematically illustrating a configuration of a liquid amount detection unit.
12 is a partially cutaway side view showing, on an enlarged scale, a portion indicated by an arrow D in FIG. 3;
13 is a partially cutaway side view showing, on an enlarged scale, a portion indicated by an arrow D in FIG. 3;
FIG. 14 is a plan view showing a substrate transfer table and a pre-drawing flushing unit.
FIG. 15 is a side view showing a substrate transfer table and a pre-drawing flushing unit.
FIG. 16 is a side view showing a substrate transfer table and a pre-drawing flushing unit.
FIG. 17 is a rear view seen from the direction of arrow E in FIG. 14;
18 is a rear view seen from the direction of arrow E in FIG.
FIG. 19 is a cross-sectional view of a liquid receiving portion of a pre-drawing flushing unit.
[Explanation of symbols]
3... Substrate transfer table 31... First plate 32. Second plate 33. Block 331 Placement surface 34 Ball lift device 343 Ball support 36 …… Base, 7 …… Pre-drawing flushing unit, 71 …… Liquid receiving portion, 72 …… Frame, 73 …… Support leg, 79 …… Gap, 60 …… θ-axis rotation mechanism, 601 …… Fixed portion, 602: Rotating part, 108: Support

Claims (14)

装置本体と、
ワークを支持するワーク搬送テーブルと、
前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワーク搬送テーブルの少なくとも一辺の近傍に前記ワーク搬送テーブルと非接触で設けられ、前記液滴吐出ヘッドから捨て吐出された液体を受ける液受け部と、
前記ワーク搬送テーブルおよび前記液受け部をそれぞれ独立に支持する支持体と、
前記ワーク搬送テーブルおよび前記液受け部を前記支持体を介して支持し、該支持体ごと前記装置本体に対し少なくとも水平な一方向に移動させる移動機構と、
前記液受け部の高さを調整する高さ調整機構とを備えることを特徴とする液滴吐出装置。The device body;
A workpiece transfer table that supports the workpiece;
A droplet discharge head that discharges droplets to the workpiece supported by the workpiece transfer table;
A liquid receiving portion that is provided in non-contact with the work transfer table in the vicinity of at least one side of the work transfer table, and receives the liquid discharged and discharged from the droplet discharge head;
A support for independently supporting the work transfer table and the liquid receiving part;
A moving mechanism that supports the work transfer table and the liquid receiving portion via the support, and moves the support together with the support in at least one horizontal direction with respect to the apparatus main body;
A droplet discharge device comprising: a height adjusting mechanism for adjusting a height of the liquid receiving portion. 前記液受け部は、前記一辺に沿って細長く形成され、その長さは、前記一辺の長さとほぼ同じになっている請求項１に記載の液滴吐出装置。  2. The droplet discharge device according to claim 1, wherein the liquid receiving portion is formed to be elongated along the one side, and the length thereof is substantially the same as the length of the one side. 前記ワーク搬送テーブルの互いに平行な二辺の近傍にそれぞれ前記液受け部が設けられている請求項１または２に記載の液滴吐出装置。  The droplet discharge device according to claim 1, wherein the liquid receiving portion is provided in the vicinity of two sides parallel to each other of the work transfer table. 前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出することにより、前記ワークに所定のパターンを形成する請求項１ないし３のいずれかに記載の液滴吐出装置。  4. The predetermined pattern is formed on the workpiece by ejecting droplets from the droplet ejection head while relatively moving the work transport table and the droplet ejection head. 5. The liquid droplet ejection apparatus described. 前記液滴吐出ヘッドを前記装置本体に対し前記一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に垂直かつ水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）に移動させるＸ軸方向移動機構を備える請求項１ないし４のいずれかに記載の液滴吐出装置。  An X-axis direction moving mechanism for moving the droplet discharge head in a direction (hereinafter referred to as “X-axis direction”) perpendicular to the one direction (hereinafter referred to as “Y-axis direction”) relative to the apparatus main body A droplet discharge device according to any one of claims 1 to 4. 前記Ｙ軸方向と前記Ｘ軸方向とのいずれか一方を主走査方向とし、他方を副走査方向として前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに対し液滴を吐出する請求項５に記載の液滴吐出装置。  Either the Y-axis direction or the X-axis direction is set as the main scanning direction, and the other is set as the sub-scanning direction while moving the work transfer table and the droplet discharging head relative to each other from the droplet discharging head. The droplet discharge device according to claim 5, wherein droplets are discharged to the workpiece. 前記液受け部は、前記ワーク搬送テーブルの前記副走査方向に沿って延びる辺の近傍に設けられている請求項６に記載の液滴吐出装置。  The liquid droplet ejection apparatus according to claim 6, wherein the liquid receiving portion is provided in the vicinity of a side extending along the sub-scanning direction of the work transfer table. 前記ワーク搬送テーブルは、前記ワーク搬送テーブルを鉛直方向の軸回りに所定範囲で回転させる回転機構を介して前記支持体に支持されており、
前記液受け部は、前記回転機構を介さずに前記支持体に支持されており、
前記回転機構は、前記液受け部の鉛直方向の軸周りの姿勢を変えることなく、前記ワーク搬送テーブルの鉛直方向の軸回りの姿勢を調整可能である請求項１ないし７のいずれかに記載の液滴吐出装置。The work transfer table is supported by the support via a rotation mechanism that rotates the work transfer table around a vertical axis within a predetermined range.
The liquid receiver is supported by the support body without the rotation mechanism,
8. The rotation mechanism according to claim 1, wherein the rotation mechanism is capable of adjusting a posture around the vertical axis of the workpiece transfer table without changing a posture around the vertical axis of the liquid receiving portion. Droplet discharge device. 前記高さ調整機構は、前記液受け部が最上位置にあるとき、前記液受け部の上端の高さが前記ワーク搬送テーブルのワーク載置面の高さより高くなるように前記液受け部の高さを調整する請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置。  The height adjusting mechanism is configured so that when the liquid receiving part is at the uppermost position, the height of the liquid receiving part is set such that the height of the upper end of the liquid receiving part is higher than the height of the work placement surface of the work transfer table. The droplet discharge device according to claim 1, which adjusts the thickness. 前記高さ調整機構は、前記液受け部が最下位置にあるとき、前記液受け部の上端の高さが前記ワーク搬送テーブルのワーク載置面の高さより低くなるように前記液受け部の高さを調整する請求項１ないし９のいずれかに記載の液滴吐出装置。  The height adjusting mechanism is configured so that when the liquid receiving part is at the lowest position, the height of the upper end of the liquid receiving part is lower than the height of the work placing surface of the work transfer table. The liquid droplet ejection apparatus according to claim 1, wherein the height is adjusted. 前記液受け部は、液体を吸収し得る液体吸収体を有する請求項１ないし１０のいずれかに記載の液滴吐出装置。  The liquid droplet ejection apparatus according to claim 1, wherein the liquid receiving portion includes a liquid absorber that can absorb a liquid. 前記液受け部は、前記液体吸収体を押さえ、前記液体吸収体が膨張するのを防止する押さえ部材を有する請求項１１に記載の液滴吐出装置。  The droplet discharge device according to claim 11, wherein the liquid receiving portion includes a pressing member that presses the liquid absorber and prevents the liquid absorber from expanding. 前記液受け部が受けた液体を回収して貯留する排液装置を備える請求項１ないし１２のいずれかに記載の液滴吐出装置。  The droplet discharge device according to claim 1, further comprising a drainage device that collects and stores the liquid received by the liquid receiving unit. 請求項１ないし１３のいずれかに記載の液滴吐出装置を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法。  14. A method of manufacturing an electro-optical device using the droplet discharge device according to claim 1.
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