JP4317288B2 - Transfer sheet and pattern forming method - Google Patents

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【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電極パターンを高い精度で形成するための転写シートおよびパターン形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等における電極パターンの形成は、より高い精度で、かつ、低い製造コストで実施可能なことが要求されている。従来、ＰＤＰにおける電極パターンの形成は、導電性粉体を含有するパターン形成用ペーストを用いてスクリーン印刷やオフセット印刷等の印刷法により所定のパターンを形成し、乾燥後に焼成する印刷法等により行われていた。
【０００３】
しかし、上記の印刷法は、工程が簡略であり製造コストの低減が期待されるが、スクリーン印刷法ではスクリーン印刷版を構成するメッシュ材料の伸びによる印刷精度の限界があり、また、形成したパターンにメッシュ目が生じたりパターンのにじみが発生し、パターンの表面状態が悪いという問題がある。また、オフセット印刷法では、印刷回数が進むにつれてパターン形成用ペーストが完全に基板に転写されずにブランケットに残るようになり、層厚やパターンの精度の低下が生じる。したがって、ブランケットの交換を随時行いペーストのブランケット残りを防止してパターン精度を維持する必要があり、このため作業が極めて煩雑であるという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このような問題を解消するものとして、電極パターン形成用等の感光性樹脂組成物を用いてベースフィルム上に剥離可能に転写層を設けて転写シートとし、この転写シートを用いて転写層を被転写体に熱転写した後、焼成することにより電極パターン等を形成する方法がある。
【０００５】
しかし、被転写体に熱転写された転写層は、上述のような印刷法により形成された被膜に比べて転写性付与のために樹脂、可塑剤等の有機バインダ成分が多いためゴミが付着しやすく、一度ゴミが付着すると、エアーブロー等によって取り除くことが困難であり、製造歩留の向上に支障を来していた。
【０００６】
このため、転写シートの転写層を被転写体に圧着した後、ベースフィルムを剥離せずに残し、このベースフィルムを介して転写層を露光し、その後、ベースフィルムを剥離して現像し、焼成することにより電極パターンを形成することが考えられる。しかし、上記の転写層は、含有する金属微粉末の作用により、照射された光を反射しやすい性質を示す。転写層での反射で生じた散乱光は、ベースフィルムと転写層との界面に沿って進むことになるが、ここではほとんど酸素が存在しないため、酸素によるラジカルの捕捉が生じることがなく、このため、散乱光による転写層の反応が進行する。したがって、形成された電極パターンの線幅に太りが生じて、精度の高い電極パターンを形成することが困難になる。
【０００７】
本発明は、上述のような事情に鑑みてなされたものであり、高精細な電極パターンの形成が可能な転写シートと、電極パターンを高い精度で簡便に形成するためのパターン形成方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明の転写シートは、ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた転写層と、ベースフィルムの他方の面に、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収背面層と、を備え、該転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有し、前記転写層および前記ベースフィルムの少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するような構成とした。
また、本発明の転写シートは、前記転写層が重合停止剤を含有するような構成とした。
本発明の転写シートは、ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた転写層とを備え、該転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有し、前記ベースフィルムが紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するような構成とした。
【０００９】
また、本発明の転写シートは、前記転写層が重合停止剤を含有するような構成とした。
【００１０】
本発明の転写シートは、ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に設けられた光吸収層と、該光吸収層上に剥離可能に形成された転写層とを備え、前記光吸収層は紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有し、前記転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有するような構成とした。
【００１１】
本発明の転写シートは、ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた焼成除去可能な光吸収層と、該光吸収層上に形成された転写層とを備え、前記光吸収層は紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有し、前記転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有するような構成とした。
【００１２】
また、本発明の転写シートは、前記転写層および前記ベースフィルムの少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するような構成とした。
【００１３】
さらに、本発明の転写シートは、前記転写層が重合停止剤を含有するような構成とした。
【００１４】
また、本発明の転写シートは、前記ベースフィルムの他方の面に、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収背面層を備えるような構成とした。
【００１５】
本発明のパターン形成方法は、上述の転写シートを用いて基板上に前記転写層を圧着し、ベースフィルム側から所望のパターンで前記転写層を露光し、その後、前記ベースフィルムを剥離して現像し、焼成して有機成分を除去するような構成とした。
【００１６】
また、本発明のパターン形成方法は、上述の転写シートを用いて基板上に前記転写層を圧着し、ベースフィルム側から紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収性フィルムを介して所望のパターンで前記転写層を露光し、その後、前記ベースフィルムを剥離して現像し、焼成して有機成分を除去するような構成とした。
【００１７】
上記のような本発明では、ベースフィルム側から転写シートに照射された光は、ベースフィルムを透過して転写層に到達するが、導電性粉体を含有する転写層等の転写シート内部で反射された散乱光は、転写シート内に含有される紫外線吸収剤や着色剤等により吸収されるので、ベースフィルムと転写層との界面に沿って照射部位の外に拡散することが防止される。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
転写シートの第１の実施形態
図１は、本発明の転写シートの一実施形態を示す概略断面図である。図１において、転写シート１はベースフィルム２と、このベースフィルム２上に剥離可能に設けられた転写層３と、さらに、転写層３上に剥離可能に設けられた保護フィルム４とを備えている。転写層３は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有する。そして、ベースフィルム２および転写層３の少なくとも一方は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する。さらに、転写層３は、重合停止剤を含むものであってもよい。
【００１９】
このような転写シート１は、シート状、長尺状のいずれであってもよく、長尺状の場合はコアに巻き回したロール形状とすることができる。使用するコアは、ごみ発生、紙粉発生を防止するためにＡＢＳ樹脂、塩化ビニル樹脂、ベークライト等で成形されたコア、樹脂を含浸させた紙管等が好ましい。
【００２０】
次に、上記の転写シート１の構成について説明する。
（ベースフィルム）
転写シート１を構成するベースフィルム２は、転写層３を形成するときのインキ組成物に対して安定であり、かつ、転写層３の露光に用いる光に対して透過性を有し、また、柔軟性を有するとともに張力もしくは圧力で著しい変形を生じない材料を使用する。
【００２１】
用いる材料としては、まず、樹脂フィルムを挙げることができる。樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンフィルム、エチレンー 酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン- ビニルアルコール共重合体フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルブチラールフィルム、ナイロンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリサルフォンフィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリテトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテルフィルム、ポリビニルフルオライドフィルム、テトラフルオロエチレン−エチレンフィルム、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレンフィルム、ポリクロロトリフルオロエチレンフィルム、ポリビニリデンフルオライドフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、１，４−ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエステルフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリウレタンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、これらの樹脂材料にフィラーを配合したフィルム、これらの樹脂材料を用いたフィルムを１軸延伸もしくは２軸延伸したもの、これらの樹脂材料を用いて流れ方向より幅方向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらの樹脂材料を用いて幅方向より流れ方向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらのフィルムのうちの同種または異種のフィルムを貼り合わせたもの、および、これらのフィルムに用いられる原料樹脂から選ばれる同種または異種の樹脂を共押し出しすることによって作成される複合フィルム等を挙げることができる。また、上記の樹脂フィルムに処理を施したもの、例えば、シリコン処理ポリエチレンテレフタレート、コロナ処理ポリエチレンテレフタレート、シリコン処理ポリプロピレン、コロナ処理ポリプロピレン等を使用してもよい。
【００２２】
ベースフィルム２として、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するものを使用する場合、上述の樹脂に紫外線吸収剤や着色剤を含有させてフィルム成形した樹脂フィルムを使用することができる。
【００２３】
使用する紫外線吸収剤としては、従来公知の紫外線吸収剤を挙げることができ、例えば、アゾ系染料、サリチル酸系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、ベンゾエート系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料、ベンゾトリアゾール系染料、ニッケルチオカーバメイト化合物等、３００〜４５０ｎｍの光を吸収するものがよく、これらの１種または２種以上を使用することができる。また、着色剤としては、従来公知の黒色顔料、黒色染料、赤色顔料、赤色染料、黄色顔料、黄色染料等の１種または２種以上を使用することができる。
【００２４】
ベースフィルム２における紫外線吸収剤や着色剤の含有量は、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜１０重量％の範囲で設定することができる。
【００２５】
上記のようなベースフィルム２の厚みは、４〜４００μｍ、好ましくは１０〜１５０μｍの範囲で設定することができる。
【００２６】
（転写層）
転写層３は、導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有するインキ組成物を、ベースフィルム２上にダイレクトグラビアコーティング法、グラビアリバースコーティング法、リバースロールコーティング法、スライドダイコーティング法、スリットダイコーティング法、コンマコーティング法、スリットリバースコーティング法等の公知の塗布手段により塗布、乾燥して形成することができる。
【００２７】
このような転写層３を、紫外線吸収剤、着色剤、重合停止剤の少なくとも１種を含有したものとする場合、紫外線吸収剤や着色剤、重合停止剤を含有させたインキ組成物を塗布、乾燥して形成することができる。
【００２８】
使用する紫外線吸収剤としては、従来公知の紫外線吸収剤のなかで、焼成によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存させることのないものであり、例えば、アゾ系染料、サリチル酸系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、ベンゾエート系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料、ベンゾトリアゾール系染料、ニッケルチオカーバメイト化合物等、３００〜４５０ｎｍの光を吸収するものがよく、これらの１種または２種以上を使用することができる。
【００２９】
また、着色剤としては、従来公知の耐火性の黒色顔料、赤色顔料、黄色顔料等を使用することができる。
【００３０】
さらに、重合停止剤は、従来公知の重合停止剤のなかで、焼成によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存させることのないものであり、例えば、ハイドロキノン系化合物、チオール系化合物、ニトロ基含有化合物、ニッケルチオカーバメイト化合物等の１種または２種以上を使用することができる。
【００３１】
転写層３における紫外線吸収剤、着色剤、重合停止剤の含有量は、０．０１〜１０重量％、好ましくは０．０５〜３重量％の範囲で設定することができる。
【００３２】
（１）無機成分
導電性粉体としては、Ａｕ粉体、Ａｇ粉体、Ｃｕ粉体、Ｎｉ粉体、Ａｌ粉体、Ａｇ−Ｐｄ粉体等の１種または２種以上を使用することができる。この導電性粉体の形状は、球状、板状、塊状、円錐状、棒状等の種々の形状であってよいが、凝集性がなく分散性が良好な球状の導電性粉体が好ましく、その平均粒径は０．０５〜１０μｍの範囲が好ましい。転写層３における導電性粉体とガラスフリットとの含有割合は、導電性粉末１００重量部に対してガラスフリットが２〜２０重量部、好ましくは２〜１５重量部の範囲とすることができる。
【００３３】
ガラスフリットとしては、例えば、軟化温度が３５０〜６５０℃であり、熱膨張係数α300 が６０×１０-7〜１００×１０-7／℃であるガラスフリットを使用することができる。ガラスフリットの軟化温度が６５０℃を超えると焼成温度を高くする必要があり、例えば、被パターン形成体の耐熱性が低い場合には焼成段階で熱変形を生じることになり好ましくない。また、ガラスフリットの軟化温度が３５０℃未満では、焼成により有機成分が完全に分解、揮発して除去される前にガラスフリットが融着するため、空隙を生じやすく好ましくない。さらに、ガラスフリットの熱膨張係数α300 が６０×１０-7／℃未満、あるいは、１００×１０-7／℃を超えると、被パターン形成体の熱膨張係数との差が大きくなりすぎる場合があり、歪み等を生じることになり好ましくない。このようなガラスフリットの平均粒径は０．１〜１０μｍの範囲が好ましい。このようなガラスフリットとしては、例えばＢｉ2 Ｏ3 、ＺｎＯまたはＰｂＯを主成分とするガラスフリットを使用することができる。
【００３４】
また、転写層３は、無機粉体として酸化アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、炭酸カルシウム等の無機粉体をガラスフリット１００重量部に対して３０重量部以下の範囲で含有することができる。このような無機粉体は、平均粒径が０．１〜１０μｍの範囲が好ましく、骨材として焼成時のパターン流延防止の作用をなし、また、反射率を制御する作用をなすものである。
【００３５】
（２）有機成分
転写層３に含有される焼成除去可能な感光性樹脂組成物は、少なくともポリマー、モノマーおよび開始剤を含有するものであり、焼成によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存させることのないものである。
ポリマーとしては、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンの１種以上と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の二量体（例えば、東亜合成（株）製Ｍ−５６００）、コハク酸２−メタクリロイルオキシエチル、コハク酸２−アクリロイルオキシエチル、フタル酸２−メタクリロイルオキシエチル、フタル酸２−アクリロイルオキシエチル、ヘキサヒドロフタル酸２−メタクリロイルオキシエチル、ヘキサヒドロフタル酸２−アクリロイルオキシエチル、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これらの酸無水物等の１種以上からなるポリマーまたはコポリマー、カルボキシル基含有セルロース誘導体等が挙げられる。
【００３６】
また、上記のコポリマーにグリシジル基または水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させたポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３７】
上記のポリマーの分子量は、５，０００〜３００，０００、好ましくは３０，０００〜１５０，０００の範囲である。また、上記のポリマーに他のポリマー、例えば、メタクリル酸エステルポリマー、ポリビニルアルコール誘導体、Ｎ−メチル−２−ピロリドンポリマー、セルロース誘導体、スチレンポリマー等を混合することができる。
【００３８】
感光性樹脂組成物を構成する反応性モノマーとしては、少なくとも１つの重合可能な炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を用いることができる。具体的には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレート、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、および、上記のアクリレートをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドン等が挙げられる。上記の反応性モノマーは、１種または２種以上の混合物として、あるいは、その他の化合物との混合物として使用することができる。
【００３９】
感光性樹脂組成物を構成する光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフォノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−tert−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミン等の還元剤の組み合わせ等が挙げられ、これらの光重合開始剤を１種または２種以上使用することができる。
【００４０】
このような感光性樹脂組成物の転写層３における含有量は、上述の無機成分１００重量部に対して３〜５０重量部、好ましくは５〜３０重量部の範囲で設定することができる。感光性樹脂組成物の含有量が３重量部未満であると、転写層３の形状保持性が低く、特に、ロール状態での保存性、取扱性に問題を生じ、また、転写シート１を所望の形状に切断（スリット）する場合に無機成分がごみとして発生し、プラズマディスプレイパネル作製に支障を来すことがある。一方、感光性樹脂組成物の含有量が５０重量部を超えると、焼成により有機成分を完全に除去することができず、焼成後の膜中に炭化物が残り品質が低下するので好ましくない。
【００４１】
さらに、上述の感光性樹脂組成物には、添加剤として、増感剤、連鎖移動剤、レベリング剤、分散剤、転写性付与剤、安定剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止剤、剥離剤等を必要に応じて含有することができる。
【００４２】
転写性付与剤は、転写性、インキ組成物の流動性を向上させることを目的として添加され、例えば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−ｎ−オクチルフタレート等のノルマルアルキルフタレート類、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジイソデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸エステル類、トリ−２−エチルヘキシルトリメリテート、トリ−ｎ−アルキルトリメリテート、トリイソノニルトリメリテート、トリイソデシルトリメリテート等のトリメリット酸エステル、ジメチルアジペート、ジブチルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジイソデシルアジペート、ジブチルジグリコールアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアゼテート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジ−２−エチルヘキシルセバケート、ジ−２−エチルヘキシルマレート、アセチル−トリ−（２−エチルヘキシル）シトレート、アセチル−トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリブチルシトレート等の脂肪族二塩基酸エステル類、ポリエチレングリコールベンゾエート、トリエチレングリコール−ジ−（２−エチルヘキソエート）、ポリグリコールエーテル等のグリコール誘導体、グリセロールトリアセテート、グリセロールジアセチルモノラウレート等のグリセリン誘導体、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸等からなるポリエステル系、分子量３００〜３０００の低分子量ポリエーテル、同低分子量ポリ−α−スチレン、同低分子量ポリスチレン、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリ−２−エチルヘキシルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート等の正リン酸エステル類、メチルアセチルリシノレート等のリシノール酸エステル類、ポリ−１，３−ブタンジオールアジペート、エポキシ化大豆油等のポリエステル・エポキシ化エステル類、グリセリントリアセテート、２−エチルヘキシルアセテート等の酢酸エステル類を挙げることができる。
【００４３】
また、分散剤、沈降防止剤は、上記の無機粉体の分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであり、例えば、リン酸エステル系、シリコーン系、ひまし油エステル系、各種界面活性剤等が挙げられ、消泡剤としては、例えば、シリコーン系、アクリル系、各種界面活性剤等が挙げられ、剥離剤としては、例えば、シリコーン系、フッ素油系、パラフィン系、脂肪酸系、脂肪酸エステル系、ひまし油系、ワックス系、コンパウンドタイプ等が挙げられ、レベリング剤としては、例えば、フッ素系、シリコーン系、各種界面活性剤等が挙げられ、それぞれ適量添加することができる。
【００４４】
また、転写層３形成のために感光性樹脂組成物とともに用いる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ−テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジエチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、２−メトキシエチルアセテート、シクロヘキシルアセテート、２−エトキシエチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等の酢酸エステル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル、３−エトキシプロピオン酸エチル、安息香酸メチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
【００４５】
上述のような無機成分と有機成分とを含有し、必要に応じて紫外線吸収剤、着色剤、重合停止剤の少なくとも１種を含有する転写層３の厚みは、５〜２０μｍ、好ましくは５〜１５μｍの範囲で設定することができる。
【００４６】
（保護フィルム）
転写シート１を構成する保護フィルム４は、柔軟で、張力もしくは圧力で著しい変形を生じない材料を使用することができる。具体的には、ポリエチレンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリメタクリル酸フィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルブチラールフィルム、ナイロンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリサルフォンフィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリテトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテルフィルム、ポリビニルフルオライドフィルム、テトラフルオロエチレン−エチレンフィルム、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレンフィルム、ポリクロロトリフルオロエチレンフィルム、ポリビニリデンフルオライドフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエステルフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリウレタンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、これらの樹脂材料にフィラーを配合したフィルム、これらの樹脂材料を用いたフィルムを１軸延伸もしくは２軸延伸したもの、これらの樹脂材料を用いて流れ方向より幅方向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらの樹脂材料を用いて幅方向より流れ方向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらのフィルムのうちの同種または異種のフィルムを貼り合わせたもの、および、これらのフィルムに用いられる原料樹脂から選ばれる同種または異種の樹脂を共押し出しすることによって作成される複合フィルム等を挙げることができる。これらのフィルムのうちで、特に２軸延伸ポリエステルフィルムを使用することが好ましい。また、上記の樹脂フィルムに処理を施したもの、例えば、シリコン処理ポリエチレンテレフタレート、コロナ処理ポリエチレンテレフタレート、メラミン処理ポリエチレンテレフタレート、コロナ処理ポリエチレン、コロナ処理ポリプロピレン、シリコン処理ポリプロピレン等を使用してもよい。
【００４７】
上記のような保護フィルム４の厚みは、４〜４００μｍ、好ましくは６〜１５０μｍの範囲で設定することができる。
【００４８】
このような保護フィルム４を備えた本発明の転写シート１を使用する場合、保護フィルム４を剥離除去した後に転写工程に供することができる。尚、本発明の転写シートは、保護フィルムを備えていないものであってもよい。
【００４９】
転写シートの第２の実施形態
図２は、本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略断面図である。図２において、転写シート１１はベースフィルム１２と、このベースフィルム１２上に設けられた光吸収層１５と、この光吸収層１５上に剥離可能に形成された転写層１３と、さらに、転写層１３上に剥離可能に設けられた保護フィルム１４とを備えている。光吸収層１５は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層である。また、転写層１３は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有する。さらに、転写シート１１では、ベースフィルム１２および転写層１３の少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層であってもよく、また、転写層１３は、重合停止剤を含むものであってもよい。
【００５０】
このような転写シート１１は、上述の転写シート１と同様に、シート状、長尺状のいずれであってもよく、長尺状の場合はコアに巻き回したロール形状とすることができる。
【００５１】
次に、上記の転写シート１１の構成について説明する。尚、転写シート１１を構成するベースフィルム１２、転写層１３および保護フィルム１４は、上述の転写シート１を構成するベースフィルム２、転写層３および保護フィルム４と同様であり、ここでの説明は省略する。
【００５２】
（光吸収層）
光吸収層１５は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層であり、光吸収層１５を形成する材料は、転写層１３を形成するときのインキ組成物に対して安定であり、かつ、ベースフィルム１２に固着され、転写層１３が剥離可能となる材料を使用する。
【００５３】
光吸収層１５に用いることができる有機成分としては、アクリレート樹脂、メタクリレート樹脂、セルロース樹脂、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エーテル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂を挙げることができる。また、他の有機成分として、可塑剤、安定剤、消泡剤、レベリング剤等を使用することができる。
【００５４】
光吸収層１５に使用する紫外線吸収剤および着色剤は、上述の転写シート１のベースフィルム２に使用できる紫外線吸収剤および着色剤と同じものを挙げることができ、露光に使用する光源に応じて適宜選択することができる。
【００５５】
光吸収層１５は、上述のような樹脂と紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するインキ組成物を、ベースフィルム１２上にダイレクトグラビアコーティング法、グラビアリバースコーティング法、リバースロールコーティング法、スライドダイコーティング法、スリットダイコーティング法、コンマコーティング法、スリットリバースコーティング法等の公知の塗布手段により塗布、乾燥して形成することができる。
【００５６】
尚、上述の本発明の転写シート１１は、保護フィルム１４を剥離除去した後に転写工程に供することができるが、本発明の転写シートは、保護フィルムを備えていないものであってもよい。
【００５７】
転写シートの第３の実施形態
図３は、本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略断面図である。図３において、転写シート２１はベースフィルム２２と、このベースフィルム１２上に剥離可能に設けられた光吸収層２５と、この光吸収層２５上に積層された転写層２３と、さらに、転写層２３上に剥離可能に設けられた保護フィルム２４とを備えている。光吸収層２５は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する焼成除去可能な層である。また、転写層２３は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有する。さらに、転写シート２１では、ベースフィルム２２および転写層２３の少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層であってもよく、また、転写層２３は、重合停止剤を含むものであってもよい。
【００５８】
このような転写シート２１は、上述の転写シート１と同様に、シート状、長尺状のいずれであってもよく、長尺状の場合はコアに巻き回したロール形状とすることができる。
【００５９】
次に、上記の転写シート２１の構成について説明する。尚、転写シート２１を構成するベースフィルム２２、転写層２３および保護フィルム２４は、上述の転写シート１を構成するベースフィルム２、転写層３および保護フィルム４と同様であり、ここでの説明は省略する。
【００６０】
（光吸収層）
光吸収層２５は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する焼成除去可能な層であり、光吸収層２５を形成する材料は、転写層２３を形成するときのインキ組成物に対して安定であり、ベースフィルム２２に対して剥離可能な程度の粘着性を有し、転写層２３に対して十分な接着力を有する材料を使用する。
【００６１】
光吸収層２５に用いることができる有機成分としては、アクリレート樹脂、メタクリレート樹脂、セルロース樹脂、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エーテル樹脂等の樹脂を挙げることができる。また、他の有機成分として、可塑剤、安定剤、消泡剤、レベリング剤等を使用することができる。
【００６２】
光吸収層２５に使用する紫外線吸収剤および着色剤は、上述の転写シート１の転写層３に使用できる紫外線吸収剤および着色剤を挙げることができ、露光に使用する光源に応じて適宜選択することができる。
【００６３】
光吸収層２５は、上述のような焼成除去可能な樹脂と紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するインキ組成物を、ベースフィルム２２上にダイレクトグラビアコーティング法、グラビアリバースコーティング法、リバースロールコーティング法、スライドダイコーティング法、スリットダイコーティング法、コンマコーティング法、スリットリバースコーティング法等の公知の塗布手段により塗布、乾燥して形成することができる。
【００６４】
尚、上述の本発明の転写シート２１は、保護フィルム２４を剥離除去した後に転写工程に供することができるが、本発明の転写シートは、保護フィルムを備えていないものであってもよい。
【００６５】
転写シートの第４の実施形態
図４は、本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略断面図である。図４において、転写シート３１はベースフィルム３２と、このベースフィルム３２上に剥離可能に形成された転写層３３と、転写層３３上に剥離可能に設けられた保護フィルム３４、および、ベースフィルム３２の他方の面に形成された光吸収背面層３６とを備えている。光吸収背面層３６は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層である。また、転写層３３は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有する。さらに、転写シート３１では、ベースフィルム３２および転写層３３の少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層であってもよく、また、転写層３３は、重合停止剤を含むものであってもよい。
【００６６】
このような転写シート３１は、上述の転写シート１と同様に、シート状、長尺状のいずれであってもよく、長尺状の場合はコアに巻き回したロール形状とすることができる。
【００６７】
上記の転写シート３１を構成するベースフィルム３２、転写層３３および保護フィルム３４は、上述の転写シート１を構成するベースフィルム２、転写層３および保護フィルム４と同様のものとすることができ、ここでの説明は省略する。
【００６８】
また、転写シート３１を構成する光吸収背面層３６は、転写層３３を露光するために照射された光の強度を、転写層３３を露光するには十分な強度で、転写層３３内の反射で生じた散乱光による照射部位外の露光を防止できる程度の強度に弱めるためのものである。この光吸収背面層３６は、上述の転写シート１１を構成する光吸収層１５の説明で挙げたような樹脂と紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するインキ組成物を用いて、公知の塗布手段により塗布、乾燥して形成することができる。
【００６９】
尚、上述の本発明の転写シート３１は、保護フィルム３４を剥離除去した後に転写工程に供することができるが、本発明の転写シートは、保護フィルムを備えていないものであってもよい。また、転写シート３１のベースフィルム３２と転写層３３との間に、上述の光吸収層１５と同様の光吸収層を設け、転写層３３をこの光吸収層に対して剥離可能としてもよく、あるいは、転写シート３１のベースフィルム３２に対して剥離可能に上述の光吸収層２５と同様の光吸収層を設け、この光吸収層上に転写層３３を積層してもよい。
【００７０】
パターン形成方法の第１の実施形態
次に、本発明のパターン形成方法を、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の電極パターン形成を例として説明する。
【００７１】
ここで、電極パターン形成を説明する前に、ＡＣ型のＰＤＰについて説明する。
図５はＡＣ型ＰＤＰを示す概略構成図であり、前面板と背面板を離した状態を示したものである。図５において、ＰＤＰ５１は前面板６１と背面板７１とが互いに平行に、かつ対向して配設されており、背面板７１の前面側には、立設するように障壁７６が形成され、この障壁７６によって前面板６１と背面板７１とが一定間隔で保持される。前面板６１は、前面ガラス基板６２を有し、この前面ガラス基板６２の背面側に透明電極である維持電極６３と金属電極であるバス電極６４とからなる複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って誘電体層６５が形成されており、さらにその上にＭｇＯ層６６が形成されている。また、背面板７１は、背面ガラス基板７２を有し、この背面ガラス基板７２の前面側には下地層７３を介して上記複合電極と直交するように障壁７６の間に位置してアドレス電極７４が互いに平行に形成され、また、これを覆って誘電体層７５が形成されており、さらに障壁７６の壁面とセルの底面を覆うようにして蛍光体層７７が設けられている。このＡＣ型ＰＤＰでは、前面ガラス基板６２上の複合電極間に交流電源から所定の電圧を印加して電場を形成することにより、前面ガラス基板６２と背面ガラス基板７２と障壁７６とで区画される表示要素としての各セル内で放電が行われる。そして、この放電により生じる紫外線により蛍光体層７７が発光させられ、前面ガラス基板６２を透過してくるこの光を観察者が視認するようになっている。
【００７２】
尚、図５に示されるＡＣ型ＰＤＰでは、下地層７３を介して背面ガラス基板７２上にアドレス電極７４等が設けられているが、下地層７３を形成しないものであってもよい。
【００７３】
次に、上述のＰＤＰの背面板７１におけるアドレス電極７４の形成を説明する。
図６は、上述の本発明の転写シート１を用いたアドレス電極７４のパターン形成を説明するための工程図である。尚、この場合の転写シート１の転写層３は、焼成除去可能な感光性樹脂組成物としてネガ型の感光性樹脂組成物を含有するものとする。
【００７４】
図６において、まず、下地層７３が設けられた背面ガラス基板７２（下地層７３が設けられていない背面ガラス基板７２に直接でもよい）に転写シート１の転写層３側を圧着する（図６（Ａ））。この転写層３の圧着において加熱が必要な場合、背面ガラス基板７２の加熱、圧着ロール等により加熱を行ってもよい。
【００７５】
次に、電極パターン用のフォトマスクＭを介し、ベースフィルム２側から転写層３を露光する（図６（Ｂ））。本発明のパターン形成方法では、フォトマスクＭを介して照射された光は、ベースフィルム２を透過して転写層３に到達するが、転写層３で反射されて生じた散乱光は、転写層３に含有される紫外線吸収剤や着色剤等により吸収され、あるいは、ベースフィルム２に含有される紫外線吸収剤や着色剤等により吸収されるので、散乱光がベースフィルム２と転写層３との界面に沿って照射部位の外に拡散することが防止される。また、転写層３に重合停止剤が含有される場合、仮に照射部位の外に散乱光が拡散しても、散乱光程度の光量では、重合停止剤によって転写層３の感光性樹脂組成物の重合反応が抑制される。したがって、ベースフィルム２を剥離せず残した状態で、ベースフィルム２側から転写層３の露光を行っても、露光パターンに忠実な高精細な露光が可能となる。また、露光時に存在するベースフィルム２が外部酸素によるラジカル捕捉を抑制するので、ベースフィルムを剥離した状態での露光に比べ、露光に要する時間を大幅に短縮することができる。
【００７６】
さらに、本発明のパターン形成方法では、このようにベースフィルム２を剥離することなく残したままで露光を行うので、上記の圧着工程から露光工程までの間に、粘着性の高い転写層３に直接ゴミが付着することが防止され、また、ベースフィルム２上に付着したゴミはエアーブロー等により容易に取り除くことができ、ゴミ付着による欠陥発生が防げるとともに、露光時に使用するフォトマスクＭへのゴミ、汚れ付着も防止できる。
尚、露光においては、フォトマスクＭをベースフィルム２に密着してもよく、図示例のように所定の間隙を設けて配設してもよい。
【００７７】
次いで、ベースフィルム２を剥離し、転写層３を現像することにより、導電性の感光性樹脂層からなるパターン３´を下地層７３上に形成し（図６（Ｃ））、その後、焼成してパターン３´の有機成分を除去することにより、アドレス電極パターン７４を形成する（図６（Ｄ））。
【００７８】
上述の例では、図１に示されるような本発明の転写シートが使用されているが、図２乃至図４に示される転写シート１１、２１、３１のいずれを使用しても、同様の操作により電極パターン形成を行うことが可能である。
【００７９】
パターン形成方法の第２の実施形態
図７は、上述の本発明の転写シート１を用いたアドレス電極７４のパターン形成を説明するための工程図である。尚、この場合の転写シート１の転写層３は、焼成除去可能な感光性樹脂組成物としてネガ型の感光性樹脂組成物を含有するものとする。
【００８０】
図７において、まず、下地層７３が設けられた背面ガラス基板７２に転写シート１の転写層３側を圧着する（図７（Ａ））。この転写層３の圧着において加熱が必要な場合、背面ガラス基板７２の加熱、圧着ロール等により加熱を行ってもよい。
【００８１】
次に、ベースフィルム２上に光吸収性フィルム４１と電極パターン用のフォトマスクＭを配設し、ベースフィルム２側から転写層３を露光する（図７（Ｂ））。光吸収性フィルム４１は、照射された光の強度を、転写層３を露光するには十分であるが、転写層３内の反射で生じた散乱光による照射部位外の露光を抑制する程度に弱めるためのものである。このような光吸収性フィルム４１は、紫外線吸収剤や着色剤を含有した熱可塑性樹脂を用いてフィルム成形することにより形成することができる。使用できる樹脂材料、紫外線吸収剤、着色剤等は、上述の転写シート１のベースフィルム２の説明で記載した各材料を挙げることができる。光吸収性フィルム４１の厚み、含有される紫外線吸収剤や着色剤の量は、露光に使用する光源、転写層３に含有される感光性樹脂組成物等を考慮して適宜設定することができる。
【００８２】
上述のような露光では、フォトマスクＭを介して照射された光は、光吸収性フィルム４１、ベースフィルム２を透過して転写層３に到達し、転写層３で反射により散乱光が生じても、この散乱光により照射部位外の転写層３が露光されることはない。また、上述のパターン形成方法と同様に、散乱光がベースフィルム２と転写層３との界面に沿って照射部位の外に拡散することが防止される。また、露光時に存在するベースフィルム２が外部酸素によるラジカル捕捉を抑制するので、ベースフィルムを剥離した状態での露光に比べ、露光に要する時間を大幅に短縮することができる。
【００８３】
さらに、本発明のパターン形成方法では、上述のパターン形成方法と同様に、ゴミ付着による欠陥発生を防げるとともに、露光時に使用するフォトマスクＭへのゴミ、汚れ付着も防止できる。
【００８４】
尚、露光においては、フォトマスクＭを光吸収性フィルム４１に密着してもよく、図示例のように所定の間隙を設けた配設してもよい。
【００８５】
次いで、ベースフィルム２を剥離し、転写層３を現像することにより、導電性の感光性樹脂層からなるパターン３´を下地層７３上に形成し（図７（Ｃ））、その後、焼成してパターン３´の有機成分を除去することにより、アドレス電極パターン７４を形成する（図７（Ｄ））。
【００８６】
上述の例では、図１に示されるような本発明の転写シートが使用されているが、図２および図３に示される転写シート１１、２１を使用しても、同様の操作により電極パターン形成を行うことが可能である。
【００８７】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
【００８８】
［実施例１］
（１）材料の準備
（ベースフィルム）
ベースフィルムとして、厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製Ｔ−６０）を準備した。
【００８９】
（転写層形成用インキ組成物）
転写層形成用のインキ組成物Ａとして、紫外線吸収剤を含有した下記組成の感光性樹脂組成物を調製した。

Figure 0004317288
【００９０】
また、転写層形成用のインキ組成物Ｂとして、紫外線吸収剤を含有しない下記組成の感光性樹脂組成物を調製した。
転写層形成用インキ組成物Ｂ
・銀粉（球形状、平均粒径１μｍ） … ９５重量部
・ガラスフリット … ５重量部
（主成分：Ｂｉ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，Ｂ2 Ｏ3 （無アルカリ）平均粒径＝１μｍ、熱膨張係数＝７８×１０-7／℃、軟化点＝５００℃）
・ｎ−ブチルメタクリレート／２−ヒドロキシプロピルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（グリシジルメタクリレート付加）
（分子量＝８万、酸価＝１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ） … １３重量部
・ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート … １０重量部
・光重合開始剤（チバガイギ社製イルガキュア３６９）… １．５重量部
・３−メトキシブチルアセテート … ２０重量部
【００９１】
（光吸収層用インキ組成物）
光吸収層形成用のインキ組成物として、紫外線吸収剤を含有した下記組成の感光性樹脂組成物を調製した。
光吸収層形成用インキ組成物
・ポリメチルメタクリレート … １００重量部
・紫外線吸収剤 … ３重量部
（共同薬品（株）製バイオソープ５８０）
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
【００９２】
（２）転写シートの作製
上記の各材料を下記の表１に示す組み合わせで使用し、下記の２種の層構成Ｉ、IIからなる転写シート（試料１〜３）を作製した。
層構成Ｉ ：ベースフィルム／転写層／保護フィルム
（ベースフィルムと転写層間で剥離）
層構成II ：ベースフィルム／光吸収層／転写層／保護フィルム
（ベースフィルムと光吸収層間で剥離）
【００９３】
ベースフィルム上への転写層（厚み１０μｍ）の形成は、転写層形成用のインキ組成物をブレードコート法により塗布し乾燥（１００℃、１０分間）することにより行った。
【００９４】
また、ベースフィルム上への光吸収層（厚み５μｍ）の形成は、光吸収層形成用のインキ組成物をブレードコート法により塗布し乾燥（８０℃、５分間）することにより行った。
【００９５】
また、保護フィルムとしては、シリコン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム（東セロ（株）製ＳＰ−ＰＥＴ−０３−２５−Ｃ）を転写層上にラミネートして設けた。
【００９６】
（３）電極パターンの形成
次いで、上記の各転写シート（試料１〜３）を所定の幅にスリットし、保護フィルムを剥離した後、６０℃に加温したガラス基板上に旭化成工業（株）製ラミネータＡＬ−７００を用いて６０℃の熱ロールで圧着した。次に、室温まで冷却した後、プラズマディスプレイパネルの電極のネガパターンマスク（開口部線幅１２０μｍ）を介して紫外線（光源：超高圧水銀ランプ）を照射（５０ｍＪ／ｃｍ2 ）して転写層を露光した。
【００９７】
次いで、ベースフィルムを剥離して転写層をガラス基板に転写した。この転写工程において、層構成Ｉの転写シートを使用した場合は、転写層のみがガラス基板上に転写され、層構成IIの転写シートを使用した場合は、転写層と光吸収層とがガラス基板上に転写された。
【００９８】
次いで、０．５％炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像し、所定のパターンを得た。その後、ガラス基板を５５０℃で焼成して、電極パターンを形成した。
【００９９】
このように形成された電極パターンの厚み、線幅を測定して、下記の表１に示した。
【０１００】
【表１】
Figure 0004317288
表１に示されるように、本発明の転写シート（試料１、２）を用いて形成した電極パターンは、厚み、線幅が均一であり、高い精度で形成されていることが確認された。
【０１０１】
これに対して、比較の転写シート（試料３）を用いて形成した電極パターンは、パターンの太りが発生して直線性の悪いものであった。
【０１０２】
［実施例２］
実施例１で作製した本発明の転写シート（試料１）を使用し、ベースフィルムを剥離せずに残した状態で紫外線の照射量を５０ｍＪ／ｃｍ2 として転写層を露光し、実施例１と同様にして電極パターンを形成した。形成した電極パターンは、厚みが４±１μｍ、線幅が１００±５μｍで均一な高精度のパターンであった。
【０１０３】
また、比較として、実施例１で作製した本発明の転写シート（試料１）を使用し、保護フィルムを剥離した後、６０℃に加温したガラス基板上に旭化成工業（株）製ラミネータＡＬ−７００を用いて６０℃の熱ロールで圧着した。次に、室温まで冷却した後、ベースフィルムを剥離して転写層をガラス基板に転写した。
【０１０４】
次に、プラズマディスプレイパネルの電極のネガパターンマスク（開口部線幅１２０μｍ）を介して紫外線（光源：超高圧水銀ランプ）を種々の照射量で照射して転写層の露光を行った。
【０１０５】
次いで、０．５％炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像し、所定のパターンを得た。その後、ガラス基板を５５０℃で焼成して、電極パターンを形成した。
【０１０６】
このように形成された比較の電極パターンの厚み、線幅を測定した結果、本発明にしたがってベースフィルムを剥離せずに残した状態で転写層を露光した場合と同様の厚み、線幅が均一な電極パターンを形成するためには、２５０ｍＪ／ｃｍ2 の照射量が必要であった。このことから、本発明のパターン形成方法により、露光に要する時間を大幅に短縮できることが確認された。
【０１０７】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば転写シートは、ベースフィルム側から照射された光を透過して転写層に到達させるが、導電性粉体を含有する転写層等の転写シート内部での反射により生じた散乱光を、転写シート内に含有される紫外線吸収剤や着色剤等により吸収するので、散乱光がベースフィルムと他の層との界面に沿って照射部位の外に拡散することが防止され、これにより、転写シートの転写層を基板に圧着し、ベースフィルムを剥離せずに残した状態でベースフィルム側から転写層の露光を行っても、露光パターンに忠実な高精細な露光が可能となり、かつ、露光時に存在するベースフィルムが外部酸素によるラジカル捕捉を抑制するので、露光に要する時間が大幅に短縮でき、同時に、従来、転写工程から露光工程までの間に発生していた転写層へのゴミ付着が防止され、ゴミ付着による欠陥発生が防止できるとともに、露光時に使用するフォトマスクへのゴミ、汚れ付着も防止でき、工程管理および効率が大幅に向上し、高精細な電極パターンを高い精度で形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の転写シートの一実施形態を示す概略断面図である。
【図２】本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略断面図である。
【図３】本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略断面図である。
【図４】本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略断面図である。
【図５】プラズマディスプレイパネルの一例を示す概略構成図である。
【図６】本発明のパターン形成方法の一実施形態を説明するための工程図である。
【図７】本発明のパターン形成方法の他の実施形態を説明するための工程図である。
【符号の説明】
１，１１，２１，３１…転写シート
２，１２，２２，３２…ベースフィルム
３，１３，２３，３３…転写層
４，１４，２４，３４…保護フィルム
１５，２５…光吸収層
３６…光吸収背面層
４１…光吸収性フィルム
５１…プラズマディスプレイパネル
６１…前面板
７１…背面板
７４…アドレス電極[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a transfer sheet and a pattern forming method for forming an electrode pattern with high accuracy.
[0002]
[Prior art]
In recent years, it has been required that the formation of electrode patterns in plasma display panels (PDP) or the like can be performed with higher accuracy and at lower manufacturing costs. Conventionally, an electrode pattern in a PDP is formed by a printing method or the like in which a predetermined pattern is formed by a printing method such as screen printing or offset printing using a pattern forming paste containing a conductive powder, and is fired after drying. It was broken.
[0003]
However, the above printing method has a simple process and is expected to reduce the manufacturing cost. However, the screen printing method has a limit of printing accuracy due to the elongation of the mesh material constituting the screen printing plate, and the formed pattern There is a problem that mesh eyes are generated or pattern bleeding occurs, and the surface state of the pattern is poor. Further, in the offset printing method, as the number of times of printing proceeds, the pattern forming paste is not completely transferred to the substrate but remains on the blanket, resulting in a decrease in layer thickness and pattern accuracy. Therefore, it is necessary to replace the blanket at any time to prevent the blanket of the paste from being left, and to maintain the pattern accuracy. Therefore, there is a problem that the operation is extremely complicated.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
In order to solve such a problem, a transfer layer is provided on the base film so as to be peelable using a photosensitive resin composition for electrode pattern formation or the like to form a transfer sheet, and this transfer sheet is used to cover the transfer layer. There is a method in which an electrode pattern or the like is formed by baking after heat transfer to a transfer body.
[0005]
However, the transfer layer thermally transferred to the transfer object has more organic binder components such as resin and plasticizer for imparting transferability than the film formed by the printing method as described above, and therefore dust easily adheres. Once the dust is attached, it is difficult to remove it by air blow or the like, which hinders the improvement of the manufacturing yield.
[0006]
For this reason, after the transfer layer of the transfer sheet is pressure-bonded to the transfer object, the base film is left without being peeled off, and the transfer layer is exposed through the base film, and then the base film is peeled off, developed, and baked. It is conceivable to form an electrode pattern by doing so. However, the above-mentioned transfer layer exhibits the property of easily reflecting the irradiated light due to the action of the metal fine powder contained therein. Scattered light generated by the reflection on the transfer layer travels along the interface between the base film and the transfer layer, but here there is almost no oxygen, so there is no trapping of radicals by oxygen. For this reason, the reaction of the transfer layer by the scattered light proceeds. Therefore, the line width of the formed electrode pattern is increased, making it difficult to form a highly accurate electrode pattern.
[0007]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a transfer sheet capable of forming a high-definition electrode pattern and a pattern forming method for easily forming an electrode pattern with high accuracy. For the purpose.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
  In order to achieve such an object, the transfer sheet of the present invention includes a base film, a transfer layer provided on one surface of the base film so as to be peelable,A light-absorbing back layer containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant on the other surface of the base film;The transfer layer contains at least one of an inorganic component containing conductive powder and glass frit and an organic component containing a photosensitive resin composition that can be removed by baking, and at least one of the transfer layer and the base film comprises: It was set as the structure containing at least 1 sort (s) of a ultraviolet absorber and a coloring agent.
  In addition, the transfer sheet of the present invention is configured such that the transfer layer contains a polymerization terminator..
  The transfer sheet of the present invention comprises a base film and a transfer layer provided on one surface of the base film so as to be peelable, and the transfer layer can be removed by baking with inorganic components including conductive powder and glass frit. And an organic component containing a photosensitive resin composition, and the base film contains at least one of an ultraviolet absorber and a colorant..
[0009]
The transfer sheet of the present invention is configured such that the transfer layer contains a polymerization terminator.
[0010]
The transfer sheet of the present invention includes a base film, a light absorption layer provided on one surface of the base film, and a transfer layer formed on the light absorption layer so as to be peelable. It contains at least one of an ultraviolet absorber and a colorant, and the transfer layer contains at least an electrically conductive powder, an inorganic component containing glass frit, and an organic component containing a photosensitive resin composition that can be removed by baking. The configuration.
[0011]
The transfer sheet of the present invention comprises a base film, a fire-removable light absorbing layer that is detachably provided on one surface of the base film, and a transfer layer formed on the light absorbing layer, The light absorption layer contains at least one of an ultraviolet absorber and a colorant, and the transfer layer contains at least an inorganic component containing conductive powder and glass frit and an organic component containing a photosensitive resin composition capable of being removed by baking. It was set as the structure which contains.
[0012]
In the transfer sheet of the present invention, at least one of the transfer layer and the base film contains at least one of an ultraviolet absorber and a colorant.
[0013]
Furthermore, the transfer sheet of the present invention is configured such that the transfer layer contains a polymerization terminator.
[0014]
In addition, the transfer sheet of the present invention is configured to include a light-absorbing back layer containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant on the other surface of the base film.
[0015]
In the pattern forming method of the present invention, the transfer layer is pressure-bonded onto a substrate using the transfer sheet described above, the transfer layer is exposed with a desired pattern from the base film side, and then the base film is peeled off and developed. And it was set as the structure which removes an organic component by baking.
[0016]
In the pattern forming method of the present invention, the transfer layer is pressure-bonded onto a substrate using the transfer sheet described above, and the base film side is passed through a light-absorbing film containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant. Then, the transfer layer was exposed with a desired pattern, and then the base film was peeled off and developed, and baked to remove organic components.
[0017]
In the present invention as described above, the light irradiated to the transfer sheet from the base film side passes through the base film and reaches the transfer layer, but is reflected inside the transfer sheet such as a transfer layer containing conductive powder. The scattered light thus absorbed is absorbed by an ultraviolet absorber, a colorant, or the like contained in the transfer sheet, so that it is prevented from diffusing outside the irradiation site along the interface between the base film and the transfer layer.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
First embodiment of transfer sheet
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the transfer sheet of the present invention. In FIG. 1, a transfer sheet 1 includes a base film 2, a transfer layer 3 provided on the base film 2 so as to be peelable, and a protective film 4 provided on the transfer layer 3 so as to be peelable. Yes. The transfer layer 3 contains at least an inorganic component containing conductive powder and glass frit and an organic component containing a photosensitive resin composition that can be removed by baking. At least one of the base film 2 and the transfer layer 3 contains at least one of an ultraviolet absorber and a colorant. Furthermore, the transfer layer 3 may contain a polymerization terminator.
[0019]
Such a transfer sheet 1 may be either a sheet shape or a long shape. In the case of a long shape, the transfer sheet 1 may be a roll shape wound around a core. The core to be used is preferably a core formed of ABS resin, vinyl chloride resin, bakelite or the like in order to prevent generation of dust and paper dust, a paper tube impregnated with resin, and the like.
[0020]
Next, the configuration of the transfer sheet 1 will be described.
(Base film)
The base film 2 constituting the transfer sheet 1 is stable with respect to the ink composition when forming the transfer layer 3, and has transparency to the light used for exposure of the transfer layer 3, Use a material that is flexible and does not cause significant deformation under tension or pressure.
[0021]
As a material to be used, a resin film can be mentioned first. Specific examples of the resin film include polyethylene film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, ethylene-vinyl alcohol copolymer film, polypropylene film, polystyrene film, polymethacrylate film, polyvinyl chloride film, polyvinyl alcohol film, polyvinyl Butyral film, nylon film, polyether ketone film, polyphenylene sulfide film, polysulfone film, polyether sulfone film, polytetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether film, polyvinyl fluoride film, tetrafluoroethylene-ethylene film, tetrafluoroethylene -Hexafluoropropylene film, polychlorotrifluoroethylene Film, polyvinylidene fluoride film, polyethylene terephthalate film, 1,4-polycyclohexylenedimethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyester film, cellulose triacetate film, polycarbonate film, polyurethane film, polyimide film, polyetherimide Films, films obtained by blending these resin materials with fillers, films using these resin materials uniaxially or biaxially stretched, and using these resin materials, the stretch ratio in the width direction was increased from the flow direction. A biaxially stretched film, a biaxially stretched film in which the stretch ratio in the flow direction is increased from the width direction using these resin materials, and a laminate of the same or different types of these films, And include a composite film or the like which is created by co-extruding the same or different resin selected from a raw material resin used for these films. Moreover, what processed the said resin film, for example, a silicon processing polyethylene terephthalate, a corona processing polyethylene terephthalate, a silicon processing polypropylene, a corona processing polypropylene etc., may be used.
[0022]
When using the base film 2 containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant, a resin film obtained by film-forming the above-described resin with an ultraviolet absorber or a colorant can be used.
[0023]
Examples of the ultraviolet absorber to be used include conventionally known ultraviolet absorbers, such as azo dyes, salicylic acid dyes, aminoketone dyes, xanthene dyes, benzoate dyes, quinoline dyes, anthraquinone dyes, Benzophenone dyes, diphenyl cyanoacrylate dyes, triazine dyes, p-aminobenzoic acid dyes, benzotriazole dyes, nickel thiocarbamate compounds, and the like which absorb light at 300 to 450 nm are preferable, Two or more types can be used. Moreover, as a coloring agent, 1 type (s) or 2 or more types, such as a conventionally well-known black pigment, black dye, a red pigment, a red dye, a yellow pigment, a yellow dye, can be used.
[0024]
Content of the ultraviolet absorber and the coloring agent in the base film 2 can be set in the range of 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 10% by weight.
[0025]
The thickness of the base film 2 as described above can be set in the range of 4 to 400 μm, preferably 10 to 150 μm.
[0026]
(Transfer layer)
The transfer layer 3 is formed by applying an ink composition containing at least an inorganic component containing conductive powder and glass frit and an organic component containing a photosensitive resin composition that can be removed by baking onto the base film 2 by a direct gravure coating method. It can be formed by applying and drying by a known application means such as a gravure reverse coating method, a reverse roll coating method, a slide die coating method, a slit die coating method, a comma coating method, or a slit reverse coating method.
[0027]
When such a transfer layer 3 contains at least one of an ultraviolet absorber, a colorant and a polymerization terminator, an ink composition containing an ultraviolet absorber, a colorant and a polymerization terminator is applied, It can be formed by drying.
[0028]
As the ultraviolet absorber to be used, among the conventionally known ultraviolet absorbers, those that volatilize and decompose by firing and do not leave carbides in the fired film. For example, azo dyes and salicylic acid Dyes, aminoketone dyes, xanthene dyes, benzoate dyes, quinoline dyes, anthraquinone dyes, benzophenone dyes, diphenylcyanoacrylate dyes, triazine dyes, p-aminobenzoic acid dyes, benzotriazole dyes, What absorbs 300-450 nm light, such as a nickel thiocarbamate compound, is good, and these 1 type (s) or 2 or more types can be used.
[0029]
As the colorant, conventionally known fire-resistant black pigments, red pigments, yellow pigments and the like can be used.
[0030]
Furthermore, the polymerization terminator is a conventionally known polymerization terminator, which volatilizes and decomposes by firing and does not leave carbides in the fired film. For example, hydroquinone compounds, thiol compounds 1 type (s) or 2 or more types, such as a compound, a nitro group containing compound, and a nickel thiocarbamate compound, can be used.
[0031]
The contents of the ultraviolet absorber, the colorant and the polymerization terminator in the transfer layer 3 can be set in the range of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 3% by weight.
[0032]
(1) Inorganic component
As the conductive powder, one or more of Au powder, Ag powder, Cu powder, Ni powder, Al powder, Ag-Pd powder and the like can be used. The shape of the conductive powder may be various shapes such as a spherical shape, a plate shape, a lump shape, a conical shape, a rod shape, etc., but a spherical conductive powder having no cohesiveness and good dispersibility is preferable. The average particle size is preferably in the range of 0.05 to 10 μm. The content ratio of the conductive powder and the glass frit in the transfer layer 3 can be in the range of 2 to 20 parts by weight, preferably 2 to 15 parts by weight of the glass frit with respect to 100 parts by weight of the conductive powder.
[0033]
As the glass frit, for example, the softening temperature is 350 to 650 ° C., and the thermal expansion coefficient α300 Is 60 × 10-7~ 100 × 10-7A glass frit that is / ° C can be used. When the softening temperature of the glass frit exceeds 650 ° C., it is necessary to increase the firing temperature. For example, if the heat resistance of the pattern forming body is low, thermal deformation occurs in the firing step, which is not preferable. Further, when the softening temperature of the glass frit is less than 350 ° C., the glass frit is fused before the organic components are completely decomposed, volatilized and removed by firing, and thus voids are likely to be generated. Furthermore, the thermal expansion coefficient α of the glass frit300 Is 60 × 10-7/ ° C or 100 x 10-7If it exceeds / ° C., the difference from the coefficient of thermal expansion of the pattern-formed body may be too large, resulting in distortion and the like. The average particle size of such a glass frit is preferably in the range of 0.1 to 10 μm. As such a glass frit, for example, Bi2 OThree A glass frit containing ZnO or PbO as a main component can be used.
[0034]
The transfer layer 3 is made of inorganic powder such as aluminum oxide, boron oxide, silica, titanium oxide, magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, calcium carbonate, etc. as an inorganic powder with respect to 100 parts by weight of the glass frit. It can contain in 30 weight part or less of range. Such an inorganic powder preferably has an average particle size in the range of 0.1 to 10 μm, and serves as an aggregate to prevent pattern casting during firing and to control reflectance. .
[0035]
(2) Organic components
The photosensitive resin composition that can be removed by baking contained in the transfer layer 3 contains at least a polymer, a monomer, and an initiator, and volatilizes and decomposes by baking to leave a carbide in the film after baking. There is nothing.
Examples of the polymer include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert- Butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, n-pentyl acrylate, n-pentyl methacrylate, n-hexyl acrylate, n-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-octyl acrylate, n-octyl methacrylate, n- Decyl acrylate, n-decyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate , Hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, styrene, α-methylstyrene, N-vinyl-2-pyrrolidone and acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid dimer (for example, Toa Gosei) M-5600), 2-methacryloyloxyethyl succinate, 2-acryloyloxyethyl succinate, 2-methacryloyloxyethyl phthalate, 2-acryloyloxyethyl phthalate, 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalate , Polymers or copolymers composed of one or more of 2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalate, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof, carboxyl group-containing cellulose derivative Etc. The.
[0036]
Moreover, although the polymer etc. which added the ethylenically unsaturated compound which has a glycidyl group or a hydroxyl group to said copolymer are mentioned, it is not limited to these.
[0037]
The molecular weight of the polymer is in the range of 5,000 to 300,000, preferably 30,000 to 150,000. In addition, other polymers such as methacrylic acid ester polymers, polyvinyl alcohol derivatives, N-methyl-2-pyrrolidone polymers, cellulose derivatives, styrene polymers, and the like can be mixed with the above polymers.
[0038]
As the reactive monomer constituting the photosensitive resin composition, a compound having at least one polymerizable carbon-carbon unsaturated bond can be used. Specifically, allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxyethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycerol acrylate, glycidyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl Acrylate, isobornyl acrylate, isodexyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,4-butane Diol diacrylate, , 5-pentanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,3-propanediol acrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 2,2-dimethylolpropane diacrylate, glycerol diacrylate, tripropylene Glycol diacrylate, glycerol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, polyoxyethylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ethylene oxide modified pentaerythritol triacrylate, ethylene oxide modified pentaerythritol tetraacrylate, Propylene oxide modified pentaerythritol triacrylate, Lopylene oxide modified pentaerythritol tetraacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyoxypropyltrimethylolpropane triacrylate, butylene glycol diacrylate, 1,2,4-butanetriol triacrylate, 2,2,4-trimethyl-1,3 -Pentanediol diacrylate, diallyl fumarate, 1,10-decanediol dimethyl acrylate, pentaerythritol hexaacrylate, and the above acrylate replaced with methacrylate, gamma-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2 -Pyrrolidone etc. are mentioned. Said reactive monomer can be used as a 1 type, 2 or more types of mixture, or a mixture with another compound.
[0039]
Photopolymerization initiators constituting the photosensitive resin composition include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamine) benzophenone, α-amino acetophenone 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophonone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2- Methylpropiophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, benzylmethoxyethyl acetate , Benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzsuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzylacetophenone, 2,6-bis (p -Azidobenzylidene) cyclohexane, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadion-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione- 2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl) Oxime, Michler's ketone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, naphthalenesulfonyl Chloride, quinolinesulfonyl chloride, n-phenylthioacridone, 4,4-azobisisobutyronitrile, diphenyldisulfide, benzthiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, tetrabrominated carbon, tribromophenylsulfone, peroxidation A combination of a photoreductive dye such as benzoin, eosin, methylene blue and a reducing agent such as ascorbic acid or triethanolamine can be used. One or more of these photopolymerization initiators can be used.
[0040]
The content of the photosensitive resin composition in the transfer layer 3 can be set in the range of 3 to 50 parts by weight, preferably 5 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the inorganic component. When the content of the photosensitive resin composition is less than 3 parts by weight, the shape retaining property of the transfer layer 3 is low, and in particular, problems arise in storage stability and handleability in a roll state, and the transfer sheet 1 is desired. In the case of cutting (slit) into a shape, inorganic components are generated as dust, which may hinder the manufacture of plasma display panels. On the other hand, when the content of the photosensitive resin composition exceeds 50 parts by weight, it is not preferable because organic components cannot be completely removed by baking, and carbide remains in the film after baking and the quality deteriorates.
[0041]
Furthermore, the photosensitive resin composition described above includes, as additives, a sensitizer, a chain transfer agent, a leveling agent, a dispersant, a transferability imparting agent, a stabilizer, an antifoaming agent, a thickener, a precipitation inhibitor, A release agent or the like can be contained as necessary.
[0042]
The transferability-imparting agent is added for the purpose of improving transferability and fluidity of the ink composition. For example, normal alkyl phthalates such as dimethyl phthalate, dibutyl phthalate and di-n-octyl phthalate, di-2- Phthalates such as ethylhexyl phthalate, diisodecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisononyl phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, tri-2-ethylhexyl trimellitate, tri-n-alkyl trimellitate , Trimellitonate such as triisononyl trimellitate, triisodecyl trimellitate, dimethyl adipate, dibutyl adipate, di-2-ethylhexyl adipate, diisodecyl adipate, dibutyl diglycol Dipetate, di-2-ethylhexyl azate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, di-2-ethylhexyl sebacate, di-2-ethylhexyl malate, acetyl-tri- (2-ethylhexyl) citrate, acetyl-tri-n -Aliphatic dibasic acid esters such as butyl citrate and acetyl tributyl citrate, polyethylene glycol benzoate, triethylene glycol di- (2-ethylhexoate), glycol derivatives such as polyglycol ether, glycerol triacetate, glycerol Glycerin derivatives such as diacetyl monolaurate, polyesters composed of sebacic acid, adipic acid, azelaic acid, phthalic acid, etc., low molecular weight polyethers having a molecular weight of 300 to 3000, the same low molecular weight poly-α-styrene, Low molecular weight polystyrene, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, tri-2-ethylhexyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, xylenyl diphenyl phosphate , Orthophosphoric acid esters such as 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, ricinoleic acid esters such as methylacetyl ricinolate, poly-1,3-butanediol adipate, polyester epoxidized esters such as epoxidized soybean oil, glycerin triacetate And acetic acid esters such as 2-ethylhexyl acetate.
[0043]
Further, the dispersant and the anti-settling agent are intended to improve the dispersibility and anti-settling property of the above inorganic powder. For example, phosphate ester type, silicone type, castor oil ester type, various surfactants Examples of the antifoaming agent include silicone-based, acrylic-based, various surfactants, etc., and examples of the release agent include silicone-based, fluorine oil-based, paraffin-based, fatty acid-based, fatty acid ester. Type, castor oil type, wax type, compound type and the like, and as the leveling agent, for example, fluorine type, silicone type, various surfactants and the like can be mentioned, and appropriate amounts can be added respectively.
[0044]
Examples of the solvent used together with the photosensitive resin composition for forming the transfer layer 3 include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, ethylene glycol, and propylene glycol, and α- or β-terpineol. Terpenes, etc., acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, N-methyl-2-pyrrolidone, diethyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone and other ketones, toluene, xylene, tetramethylbenzene and other aromatic hydrocarbons, cellosolve, Methyl cellosolve, ethyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol Glycol ethers such as nomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, ethyl Carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 2-methoxyethyl acetate, cyclohexyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate, 3-methoxybutyl acetate and other acetates, diethylene glycol dialkyl Ether, dipropylene glycol dialkyl ether , Ethyl 3-ethoxypropionate, methyl benzoate, N, N- dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide and the like.
[0045]
The transfer layer 3 containing the inorganic component and the organic component as described above and containing at least one of an ultraviolet absorber, a colorant, and a polymerization terminator as necessary has a thickness of 5 to 20 μm, preferably 5 to 5 μm. It can be set within a range of 15 μm.
[0046]
(Protective film)
The protective film 4 constituting the transfer sheet 1 can be made of a material that is flexible and does not cause significant deformation under tension or pressure. Specifically, polyethylene film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, ethylene-vinyl alcohol copolymer film, polypropylene film, polystyrene film, polymethacrylic acid film, polyvinyl chloride film, polyvinyl alcohol film, polyvinyl butyral film, Nylon film, polyether ether ketone film, polysulfone film, polyether sulfone film, polytetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether film, polyvinyl fluoride film, tetrafluoroethylene-ethylene film, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene film, Polychlorotrifluoroethylene film, polyvinylidene fluoride film, poly Tylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyester film, cellulose triacetate film, polycarbonate film, polyurethane film, polyimide film, polyetherimide film, film in which filler is added to these resin materials, film using these resin materials Uniaxially stretched or biaxially stretched, biaxially stretched film using these resin materials to increase the stretch ratio in the width direction from the flow direction, and using these resin materials, the stretch ratio in the flow direction from the width direction. It is produced by co-extrusion of the same type or different type of resin selected from the biaxially stretched film, the same type or different type of these films, and the raw resin used for these films. Double Mention may be made of the film, and the like. Among these films, it is particularly preferable to use a biaxially stretched polyester film. Moreover, you may use what processed the said resin film, for example, silicon processing polyethylene terephthalate, corona processing polyethylene terephthalate, melamine processing polyethylene terephthalate, corona processing polyethylene, corona processing polypropylene, silicon processing polypropylene, etc.
[0047]
The thickness of the protective film 4 as described above can be set in the range of 4 to 400 μm, preferably 6 to 150 μm.
[0048]
When using the transfer sheet 1 of this invention provided with such a protective film 4, it can use for a transcription | transfer process, after peeling and removing the protective film 4. FIG. The transfer sheet of the present invention may not be provided with a protective film.
[0049]
Second embodiment of transfer sheet
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the transfer sheet of the present invention. In FIG. 2, a transfer sheet 11 includes a base film 12, a light absorption layer 15 provided on the base film 12, a transfer layer 13 formed on the light absorption layer 15 so as to be peelable, and a transfer layer. 13 and a protective film 14 provided in a peelable manner. The light absorption layer 15 is a layer containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant. The transfer layer 13 contains at least an inorganic component containing conductive powder and glass frit and an organic component containing a photosensitive resin composition that can be removed by baking. Further, in the transfer sheet 11, at least one of the base film 12 and the transfer layer 13 may be a layer containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant, and the transfer layer 13 includes a polymerization terminator. It may be included.
[0050]
Similar to the transfer sheet 1 described above, the transfer sheet 11 may be in the form of a sheet or a long shape. In the case of a long shape, the transfer sheet 11 may have a roll shape wound around a core.
[0051]
Next, the configuration of the transfer sheet 11 will be described. The base film 12, the transfer layer 13 and the protective film 14 constituting the transfer sheet 11 are the same as the base film 2, the transfer layer 3 and the protective film 4 constituting the transfer sheet 1 described above. Omitted.
[0052]
(Light absorption layer)
The light absorption layer 15 is a layer containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant, and the material forming the light absorption layer 15 is stable with respect to the ink composition when the transfer layer 13 is formed. In addition, a material that is fixed to the base film 12 and from which the transfer layer 13 can be peeled is used.
[0053]
Examples of the organic component that can be used for the light absorption layer 15 include resins such as acrylate resin, methacrylate resin, cellulose resin, ester resin, urethane resin, ether resin, phenol resin, and epoxy resin. Moreover, a plasticizer, a stabilizer, an antifoamer, a leveling agent, etc. can be used as another organic component.
[0054]
Examples of the ultraviolet absorber and the colorant used for the light absorption layer 15 may include the same ultraviolet absorber and colorant that can be used for the base film 2 of the transfer sheet 1 described above, depending on the light source used for exposure. It can be selected appropriately.
[0055]
The light absorption layer 15 is a direct gravure coating method, a gravure reverse coating method, a reverse roll coating method, an ink composition containing at least one of the resin and the ultraviolet absorber and a colorant as described above. It can be formed by applying and drying by a known application means such as a slide die coating method, a slit die coating method, a comma coating method, a slit reverse coating method or the like.
[0056]
In addition, although the transfer sheet 11 of the present invention described above can be subjected to a transfer step after the protective film 14 is peeled and removed, the transfer sheet of the present invention may not include a protective film.
[0057]
Third embodiment of transfer sheet
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the transfer sheet of the present invention. In FIG. 3, the transfer sheet 21 includes a base film 22, a light absorption layer 25 provided on the base film 12 so as to be peelable, a transfer layer 23 laminated on the light absorption layer 25, and a transfer layer. And a protective film 24 detachably provided on 23. The light absorption layer 25 is a layer that can be removed by baking, containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant. The transfer layer 23 contains at least an inorganic component containing conductive powder and glass frit and an organic component containing a photosensitive resin composition that can be removed by baking. Further, in the transfer sheet 21, at least one of the base film 22 and the transfer layer 23 may be a layer containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant, and the transfer layer 23 includes a polymerization terminator. It may be included.
[0058]
Similar to the transfer sheet 1 described above, the transfer sheet 21 may be in the form of a sheet or a long shape. In the case of a long shape, the transfer sheet 21 may have a roll shape wound around a core.
[0059]
Next, the configuration of the transfer sheet 21 will be described. The base film 22, the transfer layer 23, and the protective film 24 that constitute the transfer sheet 21 are the same as the base film 2, the transfer layer 3, and the protective film 4 that constitute the transfer sheet 1 described above. Omitted.
[0060]
(Light absorption layer)
The light absorption layer 25 is a layer that can be removed by baking, containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant. The material for forming the light absorption layer 25 is based on the ink composition used to form the transfer layer 23. And a material that has sufficient adhesiveness to the transfer layer 23 and is sticky enough to be peelable from the base film 22.
[0061]
Examples of the organic component that can be used for the light absorption layer 25 include resins such as acrylate resins, methacrylate resins, cellulose resins, ester resins, urethane resins, and ether resins. Moreover, a plasticizer, a stabilizer, an antifoamer, a leveling agent, etc. can be used as another organic component.
[0062]
Examples of the ultraviolet absorber and the colorant used for the light absorption layer 25 include an ultraviolet absorber and a colorant that can be used for the transfer layer 3 of the transfer sheet 1 described above, and are appropriately selected according to the light source used for exposure. be able to.
[0063]
The light absorbing layer 25 is formed by applying an ink composition containing at least one of a resin that can be removed by baking as described above, an ultraviolet absorber, and a colorant on the base film 22 by a direct gravure coating method, a gravure reverse coating method, a reverse method. It can be formed by applying and drying by a known application means such as a roll coating method, a slide die coating method, a slit die coating method, a comma coating method, or a slit reverse coating method.
[0064]
The transfer sheet 21 of the present invention described above can be used for the transfer process after the protective film 24 is peeled off, but the transfer sheet of the present invention may not include a protective film.
[0065]
Fourth embodiment of transfer sheet
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the transfer sheet of the present invention. In FIG. 4, the transfer sheet 31 includes a base film 32, a transfer layer 33 formed on the base film 32 so as to be peelable, a protective film 34 provided on the transfer layer 33 so as to be peelable, and the base film 32. And a light-absorbing back layer 36 formed on the other surface. The light absorption back layer 36 is a layer containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant. The transfer layer 33 contains at least an inorganic component containing conductive powder and glass frit and an organic component containing a photosensitive resin composition that can be removed by baking. Further, in the transfer sheet 31, at least one of the base film 32 and the transfer layer 33 may be a layer containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant, and the transfer layer 33 contains a polymerization terminator. It may be included.
[0066]
Similar to the transfer sheet 1 described above, the transfer sheet 31 may be in the form of a sheet or a long shape. In the case of a long shape, the transfer sheet 31 may have a roll shape wound around a core.
[0067]
The base film 32, the transfer layer 33, and the protective film 34 that constitute the transfer sheet 31 can be the same as the base film 2, the transfer layer 3, and the protective film 4 that constitute the transfer sheet 1, The description here is omitted.
[0068]
Further, the light absorbing back surface layer 36 constituting the transfer sheet 31 has a sufficient intensity for exposing the transfer layer 33 so that the intensity of the light irradiated for exposing the transfer layer 33 is reflected within the transfer layer 33. This is to weaken the intensity to such an extent that exposure outside the irradiation site due to the scattered light generated in step 1 can be prevented. This light absorption back layer 36 is publicly known using an ink composition containing at least one of a resin, an ultraviolet absorber and a colorant as mentioned in the description of the light absorption layer 15 constituting the transfer sheet 11 described above. The coating means can be applied and dried.
[0069]
In addition, although the above-mentioned transfer sheet 31 of this invention can use for a transfer process after peeling and removing the protective film 34, the transfer sheet of this invention may not be provided with the protective film. Further, a light absorption layer similar to the light absorption layer 15 described above may be provided between the base film 32 and the transfer layer 33 of the transfer sheet 31, and the transfer layer 33 may be peelable from the light absorption layer. Or the light absorption layer similar to the above-mentioned light absorption layer 25 may be provided so that peeling with respect to the base film 32 of the transfer sheet 31 is carried out, and the transfer layer 33 may be laminated | stacked on this light absorption layer.
[0070]
First embodiment of pattern forming method
Next, the pattern forming method of the present invention will be described by taking the electrode pattern formation of a plasma display panel (PDP) as an example.
[0071]
Here, an AC type PDP will be described before describing electrode pattern formation.
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing an AC type PDP, and shows a state in which the front plate and the back plate are separated. In FIG. 5, a PDP 51 has a front plate 61 and a back plate 71 arranged in parallel and facing each other, and a barrier 76 is formed on the front side of the back plate 71 so as to stand upright. The front plate 61 and the back plate 71 are held at regular intervals by the barrier 76. The front plate 61 has a front glass substrate 62. On the back side of the front glass substrate 62, composite electrodes including a sustain electrode 63 that is a transparent electrode and a bus electrode 64 that is a metal electrode are formed in parallel to each other. A dielectric layer 65 is formed so as to cover it, and an MgO layer 66 is further formed thereon. Further, the back plate 71 has a back glass substrate 72, and on the front side of the back glass substrate 72, an address electrode 74 is located between the barriers 76 so as to be orthogonal to the composite electrode via a base layer 73. Are formed in parallel to each other, and a dielectric layer 75 is formed so as to cover this, and a phosphor layer 77 is provided so as to cover the wall surface of the barrier 76 and the bottom surface of the cell. In this AC type PDP, an electric field is formed by applying a predetermined voltage from an AC power source between the composite electrodes on the front glass substrate 62, so that the front glass substrate 62, the rear glass substrate 72, and the barrier 76 are partitioned. Discharge is performed in each cell as a display element. Then, the phosphor layer 77 is caused to emit light by the ultraviolet rays generated by this discharge, and an observer can visually recognize this light transmitted through the front glass substrate 62.
[0072]
In the AC type PDP shown in FIG. 5, the address electrode 74 and the like are provided on the rear glass substrate 72 via the base layer 73, but the base layer 73 may not be formed.
[0073]
Next, the formation of the address electrode 74 in the back plate 71 of the PDP will be described.
FIG. 6 is a process diagram for explaining pattern formation of the address electrode 74 using the transfer sheet 1 of the present invention described above. In this case, the transfer layer 3 of the transfer sheet 1 contains a negative photosensitive resin composition as a photosensitive resin composition that can be removed by baking.
[0074]
In FIG. 6, first, the transfer layer 3 side of the transfer sheet 1 is pressure-bonded to a back glass substrate 72 provided with a base layer 73 (may be directly on the back glass substrate 72 not provided with a base layer 73) (FIG. 6). (A)). When heating is required for pressure bonding of the transfer layer 3, heating may be performed by heating the back glass substrate 72, a pressure bonding roll, or the like.
[0075]
Next, the transfer layer 3 is exposed from the base film 2 side through the photomask M for electrode pattern (FIG. 6B). In the pattern forming method of the present invention, light irradiated through the photomask M passes through the base film 2 and reaches the transfer layer 3, but scattered light generated by being reflected by the transfer layer 3 is transferred to the transfer layer 3. 3 is absorbed by the ultraviolet absorber, the colorant, etc. contained in 3 or is absorbed by the ultraviolet absorber, the colorant, etc. contained in the base film 2, the scattered light is absorbed between the base film 2 and the transfer layer 3. Diffusion outside the irradiated area along the interface is prevented. Moreover, when the polymerization stopper is contained in the transfer layer 3, even if the scattered light is diffused outside the irradiated portion, the polymerization stopper may be used to form the photosensitive resin composition of the transfer layer 3 with a light amount of about the scattered light. The polymerization reaction is suppressed. Therefore, even if the transfer layer 3 is exposed from the base film 2 side with the base film 2 left without being peeled off, high-definition exposure faithful to the exposure pattern is possible. Moreover, since the base film 2 existing at the time of exposure suppresses radical scavenging by external oxygen, the time required for the exposure can be greatly shortened as compared with the exposure with the base film peeled off.
[0076]
Furthermore, in the pattern forming method of the present invention, since the exposure is performed while leaving the base film 2 without being peeled in this way, it is directly applied to the highly adhesive transfer layer 3 between the pressure bonding step and the exposure step. Dust is prevented from adhering, and the dust adhering to the base film 2 can be easily removed by air blow or the like, so that the generation of defects due to the adhering of dust can be prevented and the dust on the photomask M used during exposure can be prevented. , Dirt can be prevented.
In the exposure, the photomask M may be in close contact with the base film 2, or may be provided with a predetermined gap as shown in the example of the drawing.
[0077]
Next, the base film 2 is peeled off, and the transfer layer 3 is developed to form a pattern 3 ′ composed of a conductive photosensitive resin layer on the base layer 73 (FIG. 6C), and then fired. Then, the address electrode pattern 74 is formed by removing the organic component of the pattern 3 '(FIG. 6D).
[0078]
In the above-described example, the transfer sheet of the present invention as shown in FIG. 1 is used, but the same operation is performed regardless of which of the transfer sheets 11, 21, and 31 shown in FIGS. Thus, electrode pattern formation can be performed.
[0079]
Second embodiment of pattern forming method
FIG. 7 is a process diagram for explaining pattern formation of the address electrode 74 using the transfer sheet 1 of the present invention described above. In this case, the transfer layer 3 of the transfer sheet 1 contains a negative photosensitive resin composition as a photosensitive resin composition that can be removed by baking.
[0080]
In FIG. 7, first, the transfer layer 3 side of the transfer sheet 1 is pressure-bonded to the back glass substrate 72 provided with the base layer 73 (FIG. 7A). When heating is required for pressure bonding of the transfer layer 3, heating may be performed by heating the back glass substrate 72, a pressure bonding roll, or the like.
[0081]
Next, a light-absorbing film 41 and an electrode pattern photomask M are provided on the base film 2, and the transfer layer 3 is exposed from the base film 2 side (FIG. 7B). The light-absorbing film 41 is sufficient to expose the transfer layer 3 with the intensity of the irradiated light, but to such an extent that the exposure outside the irradiation site due to the scattered light generated by the reflection in the transfer layer 3 is suppressed. It is for weakening. Such a light absorptive film 41 can be formed by film-forming using a thermoplastic resin containing an ultraviolet absorber or a colorant. Usable resin materials, ultraviolet absorbers, colorants, and the like can include the materials described in the description of the base film 2 of the transfer sheet 1 described above. The thickness of the light-absorbing film 41 and the amounts of the ultraviolet absorber and the colorant contained can be appropriately set in consideration of the light source used for exposure, the photosensitive resin composition contained in the transfer layer 3, and the like. .
[0082]
In the exposure as described above, the light irradiated through the photomask M passes through the light-absorbing film 41 and the base film 2 and reaches the transfer layer 3, and scattered light is generated by reflection at the transfer layer 3. However, the transfer layer 3 outside the irradiated region is not exposed by the scattered light. Further, similarly to the above-described pattern forming method, the scattered light is prevented from diffusing outside the irradiation site along the interface between the base film 2 and the transfer layer 3. Moreover, since the base film 2 existing at the time of exposure suppresses radical scavenging by external oxygen, the time required for the exposure can be greatly shortened as compared with the exposure with the base film peeled off.
[0083]
Further, in the pattern forming method of the present invention, it is possible to prevent the occurrence of defects due to the adhesion of dust as well as the adhesion of dust and dirt to the photomask M used during exposure, as in the above-described pattern forming method.
[0084]
In the exposure, the photomask M may be brought into close contact with the light absorbing film 41, or a predetermined gap may be provided as shown in the drawing.
[0085]
Next, the base film 2 is peeled off, and the transfer layer 3 is developed to form a pattern 3 ′ composed of a conductive photosensitive resin layer on the base layer 73 (FIG. 7C), and then fired. Then, the address electrode pattern 74 is formed by removing the organic component of the pattern 3 ′ (FIG. 7D).
[0086]
In the above example, the transfer sheet of the present invention as shown in FIG. 1 is used. However, even if the transfer sheets 11 and 21 shown in FIGS. Can be done.
[0087]
【Example】
Next, an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail.
[0088]
[Example 1]
(1) Preparation of materials
(Base film)
A polyethylene terephthalate film (T-60 manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 25 μm was prepared as a base film.
[0089]
(Ink composition for forming a transfer layer)
As the ink composition A for forming a transfer layer, a photosensitive resin composition having the following composition containing an ultraviolet absorber was prepared.
Figure 0004317288
[0090]
Moreover, the photosensitive resin composition of the following composition which does not contain an ultraviolet absorber was prepared as the ink composition B for transfer layer formation.
Ink composition B for forming a transfer layer
Silver powder (spherical shape, average particle size 1 μm) ... 95 parts by weight
・ Glass frit: 5 parts by weight
(Main component: Bi2 OThree , SiO2 , B2 OThree (No alkali) Average particle diameter = 1 μm, coefficient of thermal expansion = 78 × 10-7/ ° C, softening point = 500 ° C)
・ N-Butyl methacrylate / 2-hydroxypropyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (glycidyl methacrylate added)
(Molecular weight = 80,000, acid value = 110 mg KOH / g) ... 13 parts by weight
・ Pentaerythritol tri / tetraacrylate: 10 parts by weight
-Photopolymerization initiator (Irgacure 369 manufactured by Ciba-Gaigi) ... 1.5 parts by weight
・ 3-methoxybutyl acetate: 20 parts by weight
[0091]
(Ink composition for light absorbing layer)
As an ink composition for forming a light absorbing layer, a photosensitive resin composition having the following composition containing an ultraviolet absorber was prepared.
Ink composition for forming light absorption layer
・ Polymethyl methacrylate: 100 parts by weight
・ UV absorber: 3 parts by weight
(Biosoap 580 manufactured by Kyodo Yakuhin Co., Ltd.)
・ Methyl ethyl ketone: 50 parts by weight
・ Toluene: 50 parts by weight
[0092]
(2) Preparation of transfer sheet
Each of the above materials was used in the combinations shown in Table 1 below, and transfer sheets (Samples 1 to 3) composed of the following two types of layer structures I and II were produced.
Layer structure I: Base film / transfer layer / protective film
(Peeling between base film and transfer layer)
Layer structure II: Base film / light absorption layer / transfer layer / protective film
(Peeling between base film and light absorbing layer)
[0093]
The transfer layer (thickness 10 μm) was formed on the base film by applying the ink composition for forming the transfer layer by a blade coating method and drying (100 ° C., 10 minutes).
[0094]
The light absorption layer (thickness 5 μm) was formed on the base film by applying the ink composition for forming the light absorption layer by a blade coating method and drying (80 ° C., 5 minutes).
[0095]
Further, as the protective film, a silicon-treated polyethylene terephthalate film (SP-PET-03-25-C manufactured by Tosero Co., Ltd.) was laminated on the transfer layer.
[0096]
(3) Formation of electrode pattern
Next, after slitting each of the above transfer sheets (samples 1 to 3) to a predetermined width and peeling off the protective film, a laminator AL-700 manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. was used on a glass substrate heated to 60 ° C. And crimping with a hot roll at 60 ° C. Next, after cooling to room temperature, irradiation with ultraviolet rays (light source: ultra-high pressure mercury lamp) is performed through a negative pattern mask (opening line width 120 μm) of the electrode of the plasma display panel (50 mJ / cm2 ) To expose the transfer layer.
[0097]
Next, the base film was peeled off, and the transfer layer was transferred to a glass substrate. In this transfer step, when the transfer sheet having the layer structure I is used, only the transfer layer is transferred onto the glass substrate. When the transfer sheet having the layer structure II is used, the transfer layer and the light absorption layer are made of the glass substrate. Transcribed above.
[0098]
Next, development was performed using a 0.5% aqueous sodium carbonate solution to obtain a predetermined pattern. Thereafter, the glass substrate was baked at 550 ° C. to form an electrode pattern.
[0099]
The thickness and line width of the electrode pattern thus formed were measured and shown in Table 1 below.
[0100]
[Table 1]
Figure 0004317288
As shown in Table 1, it was confirmed that the electrode pattern formed using the transfer sheet (Samples 1 and 2) of the present invention had a uniform thickness and line width and was formed with high accuracy.
[0101]
On the other hand, the electrode pattern formed using the comparative transfer sheet (Sample 3) was poor in linearity due to pattern thickening.
[0102]
[Example 2]
Using the transfer sheet (sample 1) of the present invention prepared in Example 1, the amount of UV irradiation was 50 mJ / cm with the base film left without peeling.2 Then, the transfer layer was exposed and an electrode pattern was formed in the same manner as in Example 1. The formed electrode pattern was a uniform high-precision pattern having a thickness of 4 ± 1 μm and a line width of 100 ± 5 μm.
[0103]
For comparison, the transfer sheet (sample 1) of the present invention prepared in Example 1 was used, the protective film was peeled off, and then a laminator AL- manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. was heated on a glass substrate heated to 60 ° C. 700 was pressure-bonded with a hot roll at 60 ° C. Next, after cooling to room temperature, the base film was peeled off and the transfer layer was transferred to a glass substrate.
[0104]
Next, the transfer layer was exposed by irradiating with ultraviolet rays (light source: ultra-high pressure mercury lamp) at various doses through a negative pattern mask (opening line width 120 μm) of the electrode of the plasma display panel.
[0105]
Next, development was performed using a 0.5% aqueous sodium carbonate solution to obtain a predetermined pattern. Thereafter, the glass substrate was baked at 550 ° C. to form an electrode pattern.
[0106]
As a result of measuring the thickness and line width of the comparative electrode pattern thus formed, the thickness and line width are the same as when the transfer layer was exposed in a state where the base film was left without peeling according to the present invention. In order to form a simple electrode pattern, 250 mJ / cm2 Was necessary. From this, it was confirmed that the time required for exposure can be greatly shortened by the pattern forming method of the present invention.
[0107]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, the transfer sheet transmits the light irradiated from the base film side and reaches the transfer layer, but inside the transfer sheet such as a transfer layer containing conductive powder. The scattered light generated by the reflection of the light is absorbed by the ultraviolet absorber or colorant contained in the transfer sheet, so that the scattered light diffuses out of the irradiation site along the interface between the base film and other layers. Therefore, even if the transfer layer of the transfer sheet is pressure-bonded to the substrate and the base film is left without being peeled, the transfer layer is exposed from the base film side, and the high-definition faithful to the exposure pattern. Exposure and the base film present at the time of exposure suppresses radical scavenging by external oxygen, so that the time required for exposure can be greatly shortened, and at the same time, conventionally, from the transfer process to the exposure process. Dust adherence to the transfer layer that has occurred can be prevented, and defects caused by adhering to dust can be prevented, and dust and dirt can be prevented from adhering to the photomask used during exposure, greatly improving process management and efficiency. A high-definition electrode pattern can be formed with high accuracy.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a transfer sheet of the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the transfer sheet of the present invention.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the transfer sheet of the present invention.
FIG. 4 is a schematic sectional view showing another embodiment of the transfer sheet of the present invention.
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing an example of a plasma display panel.
FIG. 6 is a process diagram for explaining an embodiment of the pattern forming method of the present invention.
FIG. 7 is a process diagram for explaining another embodiment of the pattern forming method of the present invention.
[Explanation of symbols]
1, 11, 21, 31 ... transfer sheet
2, 12, 22, 32 ... Base film
3, 13, 23, 33 ... transfer layer
4, 14, 24, 34 ... Protective film
15, 25 ... Light absorption layer
36. Light absorption back layer
41 ... Light-absorbing film
51 ... Plasma display panel
61 ... Front plate
71 ... Back plate
74: Address electrode

Claims (11)

ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた転写層と、ベースフィルムの他方の面に、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収背面層と、を備え、該転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有し、前記転写層および前記ベースフィルムの少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有することを特徴とする転写シート。A base film, a transfer layer provided on one side of the base film so as to be peelable , and a light absorption back layer containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant on the other side of the base film, The transfer layer contains at least an inorganic component containing conductive powder and glass frit and an organic component containing a photosensitive resin composition that can be removed by baking, and at least one of the transfer layer and the base film is made of ultraviolet rays A transfer sheet comprising at least one of an absorbent and a colorant. 前記転写層は重合停止剤を含有することを特徴とする請求項１に記載の転写シート。  The transfer sheet according to claim 1, wherein the transfer layer contains a polymerization terminator. ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた転写層とを備え、該転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有し、前記ベースフィルムが紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有することを特徴とする転写シート。 A base film and a transfer layer provided on one surface of the base film so as to be peelable, the transfer layer comprising an electrically conductive powder and an inorganic component including glass frit and a photosensitive resin composition capable of being removed by baking. And a base sheet containing at least one of an ultraviolet absorber and a colorant . 前記転写層は重合停止剤を含有することを特徴とする請求項３に記載の転写シート。 The transfer sheet according to claim 3, wherein the transfer layer contains a polymerization terminator . ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に設けられた光吸収層と、該光吸収層上に剥離可能に形成された転写層とを備え、前記光吸収層は紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有し、前記転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有することを特徴とする転写シート。  A base film; a light absorption layer provided on one surface of the base film; and a transfer layer formed on the light absorption layer so as to be peelable. The light absorption layer includes an ultraviolet absorber and a colorant. A transfer sheet comprising at least one kind, wherein the transfer layer contains at least an inorganic component containing conductive powder and glass frit and an organic component containing a photosensitive resin composition capable of being removed by baking. ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた焼成除去可能な光吸収層と、該光吸収層上に形成された転写層とを備え、前記光吸収層は紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有し、前記転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有することを特徴とする転写シート。  A base film; a fire-removable light absorbing layer provided on one surface of the base film so as to be peelable; and a transfer layer formed on the light absorbing layer, wherein the light absorbing layer is an ultraviolet absorber. And at least one colorant, and the transfer layer contains at least an electrically conductive powder, an inorganic component containing glass frit, and an organic component containing a photosensitive resin composition that can be removed by baking. Transfer sheet. 前記転写層および前記ベースフィルムの少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項５または請求項６に記載の転写シート。The transfer sheet according to claim 5 or 6 , wherein at least one of the transfer layer and the base film contains at least one of an ultraviolet absorber and a colorant. 前記転写層は重合停止剤を含有することを特徴とする請求項５乃至請求項７のいずれかに記載の転写シート。Transfer sheet according to any one of claims 5 to 7 wherein the transfer layer is characterized by containing a polymerization terminator. ベースフィルムの他方の面に、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収背面層を備えることを特徴とする請求項３乃至請求項８のいずれかに記載の転写シート。On the other surface of the base film, the transfer sheet according to any one of claims 3 to 8, characterized in that it comprises a light-absorbing back layer containing at least one ultraviolet absorber and colorant. 請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の転写シートを用いて基板上に前記転写層を圧着し、ベースフィルム側から所望のパターンで前記転写層を露光し、その後、前記ベースフィルムを剥離して現像し、焼成して有機成分を除去することを特徴としたパターン形成方法。The transfer sheet according to any one of claims 1 to 9 , wherein the transfer layer is pressure-bonded onto a substrate, the transfer layer is exposed in a desired pattern from the base film side, and then the base film is peeled off. And developing and baking to remove organic components. 請求項３乃至請求項８のいずれかに記載の転写シートを用いて基板上に前記転写層を圧着し、ベースフィルム側から紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収性フィルムを介して所望のパターンで前記転写層を露光し、その後、前記ベースフィルムを剥離して現像し、焼成して有機成分を除去することを特徴としたパターン形成方法。Said transfer layer is crimped onto a substrate using a transfer sheet according to any one of claims 3 to 8, a light absorbing film containing at least one ultraviolet absorber and colorant from the base film side The pattern forming method is characterized in that the transfer layer is exposed with a desired pattern through, the base film is peeled off, developed, and baked to remove organic components.
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