JP4305500B2 - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4305500B2 JP4305500B2 JP2006318436A JP2006318436A JP4305500B2 JP 4305500 B2 JP4305500 B2 JP 4305500B2 JP 2006318436 A JP2006318436 A JP 2006318436A JP 2006318436 A JP2006318436 A JP 2006318436A JP 4305500 B2 JP4305500 B2 JP 4305500B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion beam
- permanent magnet
- permanent magnets
- ion
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
14 ビーム平行化器(イオンビーム偏向器)
24 ターゲット
40 第1の永久磁石列
42 第2の永久磁石列
44、46 永久磁石
Claims (3)
- X方向の走査を経て、またはX方向の走査を経ることなく、X方向の寸法が当該X方向と実質的に直交するY方向の寸法よりも大きいリボン状の形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオン注入装置において、
前記ターゲットよりも上流側に設けられていて、前記リボン状のイオンビームの経路を挟んでY方向において相対向するように配置された第1の永久磁石列および第2の永久磁石列を備えており、
前記第1の永久磁石列は、X方向に一対の磁極をそれぞれ有する複数の永久磁石を、各永久磁石のN極を同一方向に向けて所定の間隔でX方向に配列して成り、かつ一つの永久磁石の一対の磁極表面間の距離よりも隣り合う永久磁石の磁極表面間の距離を大きくしており、隣り合う各永久磁石間にそれぞれ同じ向きの磁界であって前記イオンビームに対してY方向における内向きのローレンツ力を作用させる向きの磁界を発生させるものであり、
前記第2の永久磁石列は、X方向に一対の磁極をそれぞれ有する複数の永久磁石を、各永久磁石のN極を同一方向に、しかも前記第1の永久磁石列とは逆向きに向けて所定の間隔でX方向に配列して成り、かつ一つの永久磁石の一対の磁極表面間の距離よりも隣り合う永久磁石の磁極表面間の距離を大きくしており、隣り合う各永久磁石間にそれぞれ同じ向きの磁界であって前記イオンビームに対してY方向における内向きのローレンツ力を作用させる向きの磁界を発生させるものである、ことを特徴とするイオン注入装置。 - 前記第1の永久磁石列を構成する各永久磁石と前記第2の永久磁石列を構成する各永久磁石とは、それぞれ、極性が互いに逆であることを除いて、前記イオンビームの経路のY方向における中心を通る平面であってY方向に実質的に垂直な対称面に関して実質的に面対称に配置されている請求項1記載のイオン注入装置。
- 前記ターゲットに照射するエネルギー状態の前記イオンビームを磁界または電界によって偏向させて当該イオンビームと中性粒子とを分離するイオンビーム偏向器を更に備えていて、前記第1の永久磁石列および第2の永久磁石列は、前記イオンビーム偏向器の下流側および上流側の少なくとも一方に設けられている請求項1または2記載のイオン注入装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006318436A JP4305500B2 (ja) | 2006-11-27 | 2006-11-27 | イオン注入装置 |
CN200710193462XA CN101192499B (zh) | 2006-11-27 | 2007-11-27 | 离子注入装置 |
US11/945,831 US7888652B2 (en) | 2006-11-27 | 2007-11-27 | Ion implantation apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006318436A JP4305500B2 (ja) | 2006-11-27 | 2006-11-27 | イオン注入装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008135208A JP2008135208A (ja) | 2008-06-12 |
JP4305500B2 true JP4305500B2 (ja) | 2009-07-29 |
Family
ID=39559926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006318436A Expired - Fee Related JP4305500B2 (ja) | 2006-11-27 | 2006-11-27 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4305500B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9029811B1 (en) * | 2013-10-22 | 2015-05-12 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Apparatus to control an ion beam |
-
2006
- 2006-11-27 JP JP2006318436A patent/JP4305500B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008135208A (ja) | 2008-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10541112B2 (en) | Charged particle beam system and method of operating the same | |
JP5329050B2 (ja) | ビーム処理装置 | |
JP5085887B2 (ja) | ビーム処理装置及びビーム処理方法 | |
KR101119073B1 (ko) | 빔 편향주사방법, 빔 편향주사장치, 이온주입방법, 및 이온주입 시스템 | |
JP6281257B2 (ja) | リボンイオンビームのエネルギーを変更するためのシステム | |
JP4793696B2 (ja) | イオン注入システムにおいて引き出されたイオンビームの選択的プレディスパージョンのための方法及び装置 | |
JP2007220522A (ja) | イオンビーム照射装置 | |
US7755067B2 (en) | Ion implantation apparatus and method of converging/shaping ion beam used therefor | |
EP1863065B1 (en) | Electrostatic beam deflection scanner and beam deflection scanning method | |
JP4305499B2 (ja) | イオン注入装置 | |
JP4600426B2 (ja) | イオン注入装置およびイオンビームの偏差角補正方法 | |
US7888652B2 (en) | Ion implantation apparatus | |
JP2006351312A (ja) | イオン注入装置 | |
JP4305500B2 (ja) | イオン注入装置 | |
US7598498B2 (en) | Electric field lens and ion implanter having the same | |
JP5634992B2 (ja) | イオンビーム照射装置及びイオンビーム発散抑制方法 | |
US8405052B2 (en) | Ion implanter provided with beam deflector and asymmetrical einzel lens | |
JP5018938B2 (ja) | イオン注入装置 | |
JP5495236B2 (ja) | イオンビーム照射装置及びイオンビーム発散抑制方法 | |
TW201227796A (en) | System and method for producing a mass analyzed ion beam | |
JP2007080691A (ja) | 偏向電磁石およびイオンビーム照射装置 | |
JP2011141986A (ja) | 複数の電子閉じ込め用ミラー磁場形成部材を有する磁石を備えたイオンビーム照射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081202 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090114 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090407 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090420 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120515 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120515 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130515 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130515 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |