JP4304020B2 - 酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤並びに処理方法 - Google Patents
酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤並びに処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4304020B2 JP4304020B2 JP2003280234A JP2003280234A JP4304020B2 JP 4304020 B2 JP4304020 B2 JP 4304020B2 JP 2003280234 A JP2003280234 A JP 2003280234A JP 2003280234 A JP2003280234 A JP 2003280234A JP 4304020 B2 JP4304020 B2 JP 4304020B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- exhaust gas
- amine
- gas containing
- treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
CVD法には種々の金属化合物が用いられ、CVDプロセスからは毒性の高い原料ガスや反応生成物を含むガスが排気されている。例えば、炭化タングステンは、高硬度、高温での耐酸化皮膜性などの優れた性質を利用して、切削工具や宇宙開発用特殊複合材料などの製造に用いられているが、炭化タングステンを用いてCVD法により切削工具や宇宙開発用特殊複合材料などを製造する場合、ハロゲン化タングステン、ハロゲン化水素、炭化水素などを含むガスが排気される。
しかし、この方法は、真空ポンプの腐食や、オイルへの炭化水素の溶解による真空度の低下が発生し、製品の歩留りが低下するとの問題がある。
例えば、特許文献1には、深冷法と、吸着剤としてフッ化ナトリウム及びソーダ石灰を用いた吸着法とを組合せた、真空下でのCVD法による排ガスの乾式処理方法が提案されている。また、特許文献2には、半導体製造装置などのような真空下での処理装置からの廃ガスの処理方法として、アルカリ金属化合物などを活性炭などに含浸させた吸着剤に上記廃ガスを接触させる方法が提案されている。
本発明は、上記知見に基づいてなされたもので、アミンの無機酸塩及び活性炭からなり、前記アミンの無機酸塩が、脂環式アミンの炭酸塩、重炭酸塩、及びリン酸塩、ならびにテトラアルキルアンモニウムの炭酸塩、重炭酸塩、及びリン酸塩からなる群から選ばれる少なくとも1種である、酸性ガスを含む排ガスの処理剤を提供するものである。
また、本発明は、アミンの無機酸塩及び活性炭からなり、前記アミンの無機酸塩が、脂環式アミンの炭酸塩、重炭酸塩、及びリン酸塩、ならびにテトラアルキルアンモニウムの炭酸塩、重炭酸塩、及びリン酸塩からなる群から選ばれる少なくとも1種である、酸性ガス及び炭化水素ガスを含む排ガスの処理剤を提供するものである。
また、本発明は、酸性ガスを含む排ガスの処理方法であって、前記酸性ガスが、ハロゲン化水素、ハロゲン化タングステン、ハロゲン化珪素、及びハロゲン化ホウ素からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む酸性ガスであり、該酸性ガスを含む排ガスを、上記の本発明の処理剤と真空下で接触させることを特徴とする酸性ガスを含む排ガスの処理方法を提供するものである。
また、本発明は、酸性ガス及び炭化水素ガスを含む排ガスの処理方法であって、前記酸性ガスが、ハロゲン化水素、ハロゲン化タングステン、ハロゲン化珪素、及びハロゲン化ホウ素からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む酸性ガスであり、前記炭化水素ガスが、ベンゼン、トルエン、キシレン、及びエチルベンゼンからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む炭化水素ガスであって、該酸性ガス及び該炭化水素ガスを含む排ガスを、上記の本発明の処理剤と真空下で接触させることを特徴とする酸性ガス及び炭化水素ガスを含む排ガスの処理方法を提供するものである。
上記脂環式アミンとしては、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミンが好ましく、上記テトラアルキルアンモニウムとしては、テトラメチルアンモニウム及びテトラエチルアンモニウムが好ましく、これらの中でも、特にシクロヘキシルアミンの炭酸塩、テトラメチルアンモニウムの炭酸塩が好ましい。
上記のアミンの無機酸塩は、単独使用又は2種以上併用することができる。
粒状活性炭への上記アミンの無機酸塩の添着は、例えば、次のようにして行えばよい。アミンの無機酸塩の溶液を調製し、この溶液に粒状活性炭を添加し、アミンの無機酸塩を粒状活性炭に含浸させた後、溶媒を除去すればよい。アミンの無機酸塩の溶液を調製するための溶媒としては、メタノール、エタノール、水などが用いられ、アミンの無機酸塩の溶液濃度は、制限されるものではないが、通常、0.1〜1質量%程度とするのがよい。
本発明の処理剤は、上記の酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスに対して、乾式法による排ガスの処理に用いられている従来の処理剤と同様にして使用することができる。
図1は、本発明の排ガスの処理方法の一実施形態を示す概略フローシートである。
図1に示す本発明の実施形態は、真空下でのCVD装置(図示せず)から排出される酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理に適用したものである。
また、図中、10は、収容容器1及び配管2に設けられたリボンヒーター、11は、配管内部置換用ガス供給管、12は、マスフローコントローラー6のバイパス、13は、吸着筒3のバイパス、14は、真空ポンプ5からの排出ライン、15は、該排出ライン14に設置されたガスメーターである。また、16及び17はそれぞれ、希釈用ガス供給管9に設置されたフィルター及びマスフローメーターであり、18は、バイパス12に設置された圧力連成計、19及び20は、吸着筒3の前後に設置された圧力真空計である。
尚、排ガスがベンゼン、トルエンなどの炭化水素を含む場合は、収容容器1をリボンヒーター10で所定の温度に加熱し、窒素ガスなどでバブリングして、蒸気圧分を供給するとよい。また、バイパス12及び13はそれぞれ、マスフローコントローラー6及び吸着筒3の交換、修繕などの際のバイパスである。
シクロヘキシルアミン1%メタノール溶液に炭酸ガスを吹き込み、シクロヘキシルアミンの炭酸塩のメタノール溶液を調製した。この溶液に、粒径が4〜8メッシュの粒状活性炭を添加し、該活性炭にシクロヘキシルアミンの炭酸塩を含浸させた。その後、真空下でメタノールを蒸発させ、粒状活性炭にシクロヘキシルアミンの炭酸塩が30質量%添着した本発明の処理剤(シクロヘキシルアミン炭酸塩30質量%添着粒状活性炭)を得た。
得られた本発明の処理剤を用い、図1に示すフローシートにより、次のようにして、下記表1に示すガス種を含有するガスを処理した。
吸着筒としては、上端にガス入口及び下端にガス出口を有する寸法が8.5cm径×15cm高のステンレス製吸着筒を用いた。該吸着筒への本発明の処理剤の充填量は約500gである。処理対象ガス中のフッ化水素の濃度は10〜15%、六フッ化タングステンの濃度は1〜5%、ベンゼンの濃度は0.5〜2%、トルエンの濃度は0.5〜2%、及び塩化水素の濃度は10〜15%とし、100〜6000Pavac.の真空下、室温で処理を行った。このとき、線速度は1〜10cm/sec、排ガスの吸着筒内滞留時間は10〜60秒の範囲となるように実施した。ベンゼン及びトルエンは、収容容器をリボンヒーターで15〜45℃に加熱し、窒素ガスでバブリングして、蒸気圧分を供給した。
分析は、真空ポンプの排出ラインからサンプリングを行い、ガス検知管、ガスクロマトグラフィー、FT−IR、イオンクロマトグラフィーなどを使用した。処理剤の処理能力は、排出ラインからサンプリングしたガス中の各種ガス濃度がTLV値(許容濃度)に達した時点で破過とした。
この処理剤の処理能力の結果を下記表1に示す。
処理剤として下記表1に示す処理剤をそれぞれ用いた以外は、実施例1と同様にして、下記表1に示すガス種を含有するガスを処理した。
これらの処理剤の処理能力の結果を下記表1に示す。
尚、下記表1に示す処理剤のうち、アミンの炭酸塩及び重炭酸塩を粒状活性炭に添着させた処理剤については、実施例1においてシクロヘキシルアミンの代わりに、それぞれ対応するアミンを用いた以外は、実施例1で用いた処理剤(シクロヘキシルアミン炭酸塩30質量%添着粒状活性炭)と同様にして製造した。また、アミンのリン酸塩を粒状活性炭に添着させた処理剤については、実施例1においてシクロヘキシルアミン1%メタノール溶液に炭酸ガスを吹き込む代わりに、該溶液をリン酸を用いて中和した以外は、実施例1で用いた処理剤と同様にして製造した。
処理剤としてゼオライト(比較例1)、活性アルミナ(比較例2)、コークス10%含有ソーダライム(比較例3)(何れも市販品)をそれぞれ用いた以外は、実施例1と同様にして、フッ化水素、六フッ化タングステン及びベンゼンを含有するガスを処理した。
これらの処理剤の処理能力の結果を下記表1に示す。
処理剤として下記表2に示す処理剤をそれぞれ用いた以外は、実施例1と同様にして、下記表2に示すガス種を含有するガスを処理した。
これらの処理剤の処理能力の結果を下記表2に示す。
尚、下記表2に示す処理剤は、アミンの無機酸塩の添着量を25質量%とした以外は、上記表1に示す処理剤と同様にして製造したものである。
処理剤として下記表3に示す処理剤をそれぞれ用いた以外は、実施例1と同様にして、下記表3に示すガス種を含有するガスを処理した。
これらの処理剤の処理能力の結果を下記表3に示す。
尚、下記表3に示す処理剤は、アミンの無機酸塩の添着量を35質量%とした以外は、上記表1に示す処理剤と同様にして製造したものである。
3 吸着筒
5 真空ポンプ
Claims (11)
- アミンの無機酸塩及び活性炭からなり、前記アミンの無機酸塩が、脂環式アミンの炭酸塩、重炭酸塩、及びリン酸塩、ならびにテトラアルキルアンモニウムの炭酸塩、重炭酸塩、及びリン酸塩からなる群から選ばれる少なくとも1種である、酸性ガスを含む排ガスの処理剤。
- アミンの無機酸塩及び活性炭からなり、前記アミンの無機酸塩が、脂環式アミンの炭酸塩、重炭酸塩、及びリン酸塩、ならびにテトラアルキルアンモニウムの炭酸塩、重炭酸塩、及びリン酸塩からなる群から選ばれる少なくとも1種である、酸性ガス及び炭化水素ガスを含む排ガスの処理剤。
- 前記脂環式アミンが、シクロヘキシルアミン及びジシクロヘキシルアミンであり、前記テトラアルキルアンモニウムが、テトラメチルアンモニウム及びテトラエチルアンモニウムである、請求項1又は2記載の処理剤。
- 前記活性炭が、比表面積が500〜1500m2/g及び細孔容積が0.6〜1.1cm3/gのものである、請求項1又は2記載の処理剤。
- 前記活性炭が、粒径が1〜10メッシュの粒状物であり、当該粒状の活性炭に、脂環式アミンの炭酸塩、重炭酸塩、及びリン酸塩、ならびにテトラアルキルアンモニウムの炭酸塩、重炭酸塩、及びリン酸塩からなる群から選ばれる少なくとも1種のアミンの無機酸塩を添着させた粒状品である、請求項1又は2記載の処理剤。
- 前記活性炭に対する前記アミンの無機酸塩の含有量が、25〜35質量%である、請求項1又は2記載の処理剤
- 酸性ガスを含む排ガスの処理方法であって、前記酸性ガスが、ハロゲン化水素、ハロゲン化タングステン、ハロゲン化珪素、及びハロゲン化ホウ素からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む酸性ガスであり、該酸性ガスを含む排ガスを、請求項1〜6の何れかに記載の処理剤と真空下で接触させることを特徴とする酸性ガスを含む排ガスの処理方法。
- 酸性ガス及び炭化水素ガスを含む排ガスの処理方法であって、前記酸性ガスが、ハロゲン化水素、ハロゲン化タングステン、ハロゲン化珪素、及びハロゲン化ホウ素からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む酸性ガスであり、前記炭化水素ガスが、ベンゼン、トルエン、キシレン、及びエチルベンゼンからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む炭化水素ガスであって、該酸性ガス及び該炭化水素ガスを含む排ガスを、請求項1〜6の何れかに記載の処理剤と真空下で接触させることを特徴とする酸性ガス及び炭化水素ガスを含む排ガスの処理方法。
- 前記真空の度合いが、100〜6000Pa vac.である、請求項7又は8記載の処理方法。
- 前記酸性ガスが、ハロゲン化水素、及びハロゲン化タングステンから選ばれる少なくとも1種を含む酸性ガスである、請求項7又は8に記載の処理方法。
- 前記炭化水素ガスが、ベンゼン、及びトルエンから選ばれる少なくとも1種を含む炭化水素ガスである、請求項8に記載の処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003280234A JP4304020B2 (ja) | 2003-07-25 | 2003-07-25 | 酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤並びに処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003280234A JP4304020B2 (ja) | 2003-07-25 | 2003-07-25 | 酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤並びに処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005040766A JP2005040766A (ja) | 2005-02-17 |
JP4304020B2 true JP4304020B2 (ja) | 2009-07-29 |
Family
ID=34266120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003280234A Expired - Lifetime JP4304020B2 (ja) | 2003-07-25 | 2003-07-25 | 酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤並びに処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4304020B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012020229A (ja) * | 2010-07-14 | 2012-02-02 | Kao Corp | 活性炭粒子の製造方法 |
KR101635388B1 (ko) * | 2013-09-23 | 2016-07-08 | 주식회사 지앤비에스엔지니어링 | 공정 폐가스 처리용 스크러버 |
KR101641855B1 (ko) * | 2014-08-25 | 2016-07-22 | 주식회사 지앤비에스엔지니어링 | 공정 폐가스 처리용 스크러버 |
CN111392800B (zh) * | 2020-04-02 | 2021-09-28 | 中国石油集团渤海钻探工程有限公司 | 油气井返排废气综合处理装置 |
-
2003
- 2003-07-25 JP JP2003280234A patent/JP4304020B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005040766A (ja) | 2005-02-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6030591A (en) | Process for removing and recovering halocarbons from effluent process streams | |
EP1467957B1 (en) | Method for making sulphided ion exchange resins and their use | |
KR101115206B1 (ko) | 배기가스의 처리 방법 및 처리 장치 | |
CN1379732A (zh) | 使用有机金属源试剂的化学气相沉积过程的流出物的消除 | |
CN1256961A (zh) | 净化废气的工艺和装置 | |
JPWO2020129726A1 (ja) | ハロゲンフッ化物の除去方法およびハロゲンフッ化物混合ガス中の含有ガス成分の定量分析方法、定量分析装置 | |
JP3511003B2 (ja) | 気体ハロゲン化水素から水を除去する方法及び吸着剤 | |
WO2001076725A1 (fr) | Procede de traitement de gaz d'echappement contenant un compose fluore | |
JP4304020B2 (ja) | 酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤並びに処理方法 | |
TW546164B (en) | Cleaning process and cleaning agent for harmful gas | |
EP1063001A1 (en) | Purifying agent and purification method for halogen-containing exhaust gas | |
JP4564242B2 (ja) | 三フッ化塩素を含む無機ハロゲン化ガス含有排ガスの処理方法、処理剤及び処理装置 | |
US3980755A (en) | System for removing chloromethyl ether and bis-chloromethyl ether from air contaminated therewith | |
US6709487B1 (en) | Adsorbent for moisture removal from fluorine-containing fluids | |
KR100808618B1 (ko) | 플루오르-함유 화합물 및 co를 함유하는 가스의처리방법 및 처리장치 | |
JPS5820224A (ja) | ガス中の水銀の除去方法 | |
JP3260825B2 (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
JP2011143329A (ja) | 三フッ化塩素含有ガスの除害処理装置 | |
JP4831924B2 (ja) | Hf含有ガスの乾式処理装置及び処理方法 | |
JP4833602B2 (ja) | 排ガスの処理方法 | |
JP3650588B2 (ja) | パーフルオロコンパウンドのリサイクル利用方法 | |
JP2001353420A (ja) | 化合物半導体の製造装置から生ずる排気ガスから半導体特殊材料ガスの回収 | |
JP2006130499A (ja) | 排ガスの処理方法及び処理装置 | |
JP2796754B2 (ja) | 液状炭化水素中の水銀除去法 | |
EP1566210A1 (en) | Method for removing harmful substance in bent gas |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060719 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081001 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081014 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090414 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090427 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120501 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4304020 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130501 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |