JP4295671B2 - 二部式自己接着性歯科用組成物 - Google Patents
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Description
(a)以下からなる群から選択される少なくとも1つの酸性部分を含む少なくとも1種の酸性化合物
(b)重合性基がアクリレート、メタクリレートおよびビニル基からなる群から選択される、いかなる酸性基も有さない少なくとも1種の重合性モノマー;
(c)1-(2-ピリジル)-2-チオ尿素および1-(2-テトラヒドロフルフリル)-2-チオ尿素からなる群から選択される置換チオ尿素;および
(d)第三級炭素に結合した少なくとも1個のヒドロペルオキシド基を有するヒドロペルオキシド化合物。
(a)以下からなる群から選択される少なくとも1つの酸性部分を含む少なくとも1種の酸性化合物
(b)重合性基がアクリレート、メタクリレートおよびビニル基からなる群から選択される、いかなる酸性基も有さない少なくとも1種の重合性モノマー;
(c)1-(2-ピリジル)-2-チオ尿素および1-(2-テトラヒドロフルフリル)-2-チオ尿素からなる群から選択される置換チオ尿素;および
(d)第三級炭素に結合した少なくとも1個のヒドロペルオキシド基を有するヒドロペルオキシド化合物。2つの部分は施用の直前に混合し、次いで混合組成物を歯科用基質に施用する。これは、自己硬化または自己硬化と光硬化との組合せのいずれかで硬化する。
(a)以下からなる群から選択される少なくとも1つの酸性部分を含む少なくとも1種の酸性化合物
(b)重合性基がアクリレート、メタクリレートおよびビニル基からなる群から選択される、いかなる酸性基も有さない少なくとも1種の重合性モノマー;
(c)1-(2-ピリジル)-2-チオ尿素および1-(2-テトラヒドロフルフリル)-2-チオ尿素からなる群から選択される置換チオ尿素;および
(d)第三級炭素に結合した少なくとも1個のヒドロペルオキシド基を有するヒドロペルオキシド化合物。
以下の実施例では、二部式デュアルキュア自己接着性セメント組成物のみを配合し、試験した。他の形状、例えば自己硬化対デュアルキュア;充填対非充填;セメント対充填材料、ライナー/基剤、プライマーまたは接着剤;複合レジン対コンポマーまたはレジン-変性ガラス-アイオノマーなどの混成材料は、異なる硬化開始剤(自己硬化開始剤または自己硬化開始剤と光開始剤の組合せ)、充填剤タイプ(反応性充填剤および/または酸を有する非反応性充填剤)および粘性(充填剤濃度、溶媒を変える)を導入することにより容易に得ることができる。
ATU:1-アセチル-2-チオ尿素
バリウムガラス:平均粒子径が1.0ミクロンであり、表面がMPTMSで処理されたバリウムアルミノホウケイ酸塩充填剤
BHT:2,6-ジ-(tert-ブチル)-4-メチルフェノール
ビス-GMA:2,2-ビス[4-(2-ヒドロキシ-3-メタクリロイルプロポキシ)-フェニル)-プロパン
BPO:過酸化ベンゾイル
CHP:クメンヒドロペルオキシド
CQ:カンファーキノン
DHEPT:N,N-ジヒドロキシエチル-p-トルイジン
DMAPE:4-(ジメチルアミノ)フェネチルアルコール
EBPADMA-4:酸化エチレン4モルを含むエトキシル化ビスフェノールAジメタクリレート
EDMAB:4-(N,N-ジメチルアミノ)安息香酸エチル
ETMPTA:酸化エチレン3モルを含むエトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート
GDM:ジメタクリル酸グリセリル
GDM-P:グリセリルジメタクリレートホスフェート
HEMA:メタクリル酸ヒドロキシエチル
MEHQ:4-メトキシフェノール
MHP:p-メタンヒドロペルオキシド
MPTMS:γ-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン
PA-HEMA:無水フタル酸とメタクリル酸ヒドロキシエチル(HEMA)との付加生成物
PHP:ピナンヒドロペルオキシド
PTU:1-(2-ピリジル)-2-チオ尿素
Sr/Zn FASガラス:平均粒子径が4.0ミクロンであり、表面がMPTMSで処理されたストロンチウム亜鉛フルオロアルミノケイ酸塩ガラス
ST-OX-50:MPTMSで表面処理されたヒュームドシリカOX-50
PEG-400 DMA:ポリエチレングリコール-400ジメタクリレート
TAHP:t-アミルヒドロペルオキシド
TEGDMA:ジメタクリル酸トリエチレングリコール
TMBHP:1,1,3,3-テトラメチルブチルヒドロペルオキシド
TS-530:Cabot Corp.が販売する表面処理されたヒュームドシリカまたはコロイドシリカ
UDMA:メタクリル酸2-ヒドロキシエチルとイソシアン酸2,4,4-トリメチルヘキサンとの反応生成物
DHEPTを活性化剤として使用する基剤ペースト(B-1)と過酸化ベンゾイル(BPO)を触媒として使用する触媒ペースト(C-1およびC-2)を含む以下の接着性セメント配合物を比較目的のみで調製した。酸性モノマーGDM-Pを触媒ペーストC-2に入れ、触媒ペーストC-1中のGDM-Pを非酸性モノマーGDMで置き換えた。
B-1
ビスGMA 8.65
UDMA 7.22
PEG-400 DMA 4.33
ETMPTA 2.89
HEMA 5.77
CQ 0.09
MEHQ 0.014
DMAPE 0.13
DHEPT 0.41
TS-530 3.00
ST-OX-50 4.72
Sr/Zn FASガラス 62.78
C-1 C-2
ビスGMA 6.56 6.56
GDM 16.40 --
GDM-P -- 16.40
HEMA 6.56 6.56
ETMPTA 3.27 3.27
BHT 0.05 0.05
BPO 0.66 0.66
TS-530 2.00 2.00
ST-OX-50 3.22 3.22
バリウムガラス 61.28 61.28
触媒としてBPOをクメンヒドロペルオキシド(CHP)と置き換えて、実施例1のC-2と同様の触媒ペースト(C-3)を調製した。
C-3
ビスGMA 6.45
GDM-P 16.13
HEMA 6.45
ETMPTA 3.23
BHT 0.05
CHP 1.19
TS-530 2.00
ST-OX-50 3.22
バリウムガラス 61.28
DHEPTをそれぞれ1-アセチル-2-チオ尿素(ATU)および1-(2-ピリジル)-2-チオ尿素(PTU)と置き換えて、実施例1のB-1と同様の2種の基剤ペースト(B-2およびB-3)を調製した。
B-2 B-3
ビスGMA 8.65 8.65
UDMA 7.22 7.22
PEG40ODMA 4.33 4.33
ETMPTA 2.89 2.89
HEMA 5.77 5.77
CQ 0.09 0.09
MEHQ 0.014 0.014
DMAPE 0.13 0.13
ATU/PTU 0.41(ATU) 0.41(PTU)
TS-530 3.00 3.00
ST-OX-50 4.72 4.72
Sr/Zn FASガラス 62.78 62.78
B-2とC-3の組合せは開始時硬化時間が4'21"であり、B-3とC-3の組合せは開始時硬化時間が3'28"であった。次いで、触媒ペーストC-3を37℃で加速エージングさせ、周囲温度で貯蔵した各基剤(B-2およびB-3)で硬化時間を1週間おきに試験した。
触媒C-3(37℃で貯蔵)について試験した硬化時間
基剤B-2(ATU) 基剤B-3(PTU)
開始時 4'21" 3'28"
1週間 9'00" 3'40"
2週間 11'42" 4'50"
3週間 20'15" 5'18"
4週間 -- --
5週間 >35'00" 9'50"
B-2(ATU)とC-3(CHP)の組合せの開始時硬化時間は4'21"であり、実施例1の従来のDHEPTとBPO開始剤系よりもかなり向上している。しかし、B-2(ATU)/C-3(CHP)対の硬化反応は3週間後にはかなり緩慢であり、その硬化時間は20'15"に増大し、5週間後には35分後に硬化しなかった。B-3(PTU)/C-3(CHP)の組合せはB-2(ATU)/C-3(CHP)対よりも安定な系をもたらし、5週間のエージング後に依然10分以内に硬化した。
p-メタンヒドロペルオキシド(MHP)を触媒として使用して、2種のさらなる触媒ペースト(C-4およびC-5)を調製した。C-4は水を含んでおらず、C-5には水1.51%を入れた。
C-4 C-5
ビスGMA 6.34 6.03
GDM-P 15.82 15.08
HEMA 6.34 6.03
ETMPTA 3.17 3.02
BHT 0.05 0.05
水 -- 1.51
MHP(55%活性成分) 1.78 1.78
TS-530 2.00 2.00
ST-OX-50 3.22 3.22
バリウムガラス 61.28 61.28
実施例2の基剤B-3を使用して触媒ペーストC-4およびC-5の硬化時間を試験した。新たに調製したペーストの開始時硬化時間および種々のエージング時間後の硬化時間を次表に挙げる。実施例2と同様に、基剤を室温でエージングさせ、触媒ペーストを37℃でエージングさせた。
硬化時間 C-4 C-5
開始時 3'36" 4'05"
1週間 3'49" 4'18"
2週間 4'53" 3'42"
3週間 6'40" 4'36"
4週間 6'52" 5'10"
5週間 -- --
6週間 7'12" 6'30"
再び、PTUおよびMHP(ヒドロペルオキシド)を含む自己硬化開始剤系を利用して貯蔵安定性の接着性セメント系を得た。水を入れると触媒ペースト(C-5)はわずかに安定性が高くなった。
1,1,3,3-テトラメチルブチルヒドロペルオキシド(TMBHP)およびt-アミルヒドロペルオキシド(TAHP)をそれぞれ使用して、2種のさらなる触媒ペースト(C-6およびC-7)を調製した。
C-6 C-7
ビスGMA 6.23 6.23
GDM-P 19.67 19.67
HEMA 4.59 4.59
ETMPTA 2.30 2.30
BHT 0.05 0.05
TMBHP/TAHP 0.66(TMBHP) 0.66(TAHP)
TS-530 2.00 2.00
ST-0X-50 3.22 3.22
バリウムガラス 61.28 61.28
PTUを使用する基剤ペースト(B-4)を調製して上記の2種の触媒ペーストを試験した。
B-4
ビスGMA 8.71
UDMA 7.26
PEG400DMA 4.36
ETMPTA 2.90
HEMA 5.81
CQ 0.09
MEHQ 0.015
DMAPE 0.13
PTU 0.72
TS-530 3.00
ST-OX-50 4.69
Sr/Zn FASガラス 62.31
開始時の硬化時間ならびにエージング後の硬化時間を次表に挙げた。触媒ペーストを37℃で貯蔵し、基剤ペーストを室温で貯蔵した。
硬化時間 C-6(TMBHP) C-7(TAHP)
開始時 3'10" 4'20"
1週間 4'40" 5'26"
2週間 4'52" 5'40"
3週間 5'00" 6'55"
4週間 5'20" --
5週間 5'16" 6'40"
6週間 5'35" 7'00"
再び、活性化剤としてPTUおよび触媒としてヒドロペルオキシド(TMBHPまたはTAHP)を含む自己硬化開始剤系を利用して貯蔵安定性の接着性セメント系を得た。
PTUを使用する基剤ペーストB-5およびピナンヒドロペルオキシド(PHP)触媒および2種の酸性モノマー(GDM-PおよびPAMA)を使用する触媒ペーストC-8を調製した。
B-5
ビスGMA 8.40
UDMA 8.40
HEMA 11.21
CQ 0.08
MEHQ 0.015
PTU 0.39
TS-530 3.00
ST-OX-50 4.80
Sr/Zn FASガラス 63.70
C-8
GDM-P 19.67
HEMA 6.55
PA-HEMA 6.55
BHT 0.05
CHP 0.59
PHP(55%活性成分) 0.59
TS-530 2.00
ST-OX-50 3.20
バリウムガラス 60.80
PTUを使用する基剤ペーストB-6および1,1,3,3-テトラメチルブチルヒドロペルオキシド(TMBHP)/クメンヒドロペルオキシド(CHP)触媒および酸性モノマーGDM-Pを使用する触媒ペーストC-9を調製した。
B-6
UDMA 22.00
SR-454 5.50
CQ 0.17
MEHQ 0.010
EDMAB 0.28
PTU 0.54
TS-530 3.00
ST-OX-50 4.80
Sr/Zn FASガラス 63.70
C-9
ビスGMA 4.86
GDM-P 14.24
HEMA 5.82
GDM 4.21
SR-454 3.24
BHT 0.05
TMBHP 0.54
CHP 0.54
TS530 2.00
ST-OX-50 3.23
バリウムガラス 61.28
Claims (40)
- 微粉砕した充填剤、光開始剤、安定化剤、溶媒およびこれらの組合せからなる群から選択される少なくとも1種の成分をさらに含む請求項1に記載の歯科用組成物。
- 充填剤が、無機金属、塩、酸化物、窒化物、ケイ酸塩ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、アルミノホウケイ酸塩ガラス、フルオロアルミノケイ酸塩ガラス、石英、コロイドシリカ、沈降シリカ、ジルコニア-シリカ、高分子充填剤、無機粒子と重合した複合充填剤およびこれらの組合せからなる群から選択される請求項2に記載の歯科用組成物。
- 金属、塩、酸化物、ケイ酸塩ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、アルミノホウケイ酸塩ガラスおよびフルオロアルミノケイ酸塩ガラスが、Sr、Y、Zr、Ba、La、Hf、Zn、Bi、W、希土類金属およびこれらの組合せからなる群から選択される元素を含む請求項3に記載の歯科用組成物。
- 溶媒が、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、エチレングリコール、グリセリン、メチルエチルケトンおよびこれらの組合せからなる群から選択される請求項2に記載の歯科用組成物。
- 酸性化合物が、アクリレート、メタクリレートおよびビニル基からなる群から選択される少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する重合性モノマー/ポリマーである請求項1に記載の歯科用組成物。
- 酸性の重合性モノマーが、ヒドロキシエチルメタクリレートホスフェート、グリセリルジメタクリレートホスフェート、ビス(ヒドロキシエチルメタクリレート)ホスフェート、メタクリロイルオキシデシルホスフェート、フェニルメタクリルオキシエチルホスフェートおよびジペンタエリスリトールペンタアクリレートホスフェートからなる群から選択される請求項6に記載の歯科用組成物。
- ヒドロペルオキシド化合物が、t-ブチルヒドロペルオキシド、t-アミルヒドロペルオキシド、p-ジイソプロピルベンゼンヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ピナンヒドロペルオキシド、p-メタンヒドロペルオキシド、1,1,3,3-テトラメチルブチルヒドロペルオキシドおよびこれらの組合せからなる群から選択される請求項1に記載の歯科用組成物。
- 二部式組成物の第一の部分が置換チオ尿素を含み、二部式組成物の第二の部分がヒドロペルオキシド化合物を含む請求項1に記載の歯科用組成物。
- 二部式組成物の第一の部分がマイクロカプセル化置換チオ尿素およびヒドロペルオキシド化合物を含む請求項1に記載の歯科用組成物。
- 二部式組成物が、ペースト/ペースト二部式組成物、液体/液体二部式組成物および粉末/液体二部式組成物からなる群から選択される請求項1に記載の歯科用組成物。
- 二部式組成物が、充填材料、セメント、ライナー/基剤、穴/裂溝シーラント材、プライマーおよび接着組成物からなる群から選択される請求項1に記載の歯科用組成物。
- 二部式組成物が、修復組成物、歯科矯正組成物および歯内組成物である請求項1に記載の歯科用組成物。
- 施用の直前に2つの部分を混合すること、
この混合組成物を歯科用基質に施用すること、および
自己硬化または自己硬化と光硬化との組合せからなる群から選択される方法により混合組成物を硬化すること
を含み、混合組成物の象牙質基質への接着強度が少なくとも3MPaである方法で使用する請求項1に記載の歯科用組成物。 - 混合された二部式組成物の硬化時間が20分未満である請求項1に記載の歯科用組成物。
- 混合された二部式組成物の硬化時間が10分未満である請求項1に記載の歯科用組成物。
- 2つの部分のそれぞれを37℃で少なくとも5週間エージングした後、混合した二部式組成物の硬化時間が20分未満である請求項1に記載の歯科用組成物。
- 少なくとも1種の酸性化合物の総濃度が、少なくとも10%(w/w)、少なくとも15%(w/w)および少なくとも20%(w/w)からなる群から選択される請求項1に記載の歯科用組成物。
- 充填剤および溶媒を除く、少なくとも1種の酸性化合物の総濃度が、少なくとも10%(w/w)、少なくとも15%(w/w)および少なくとも20%(w/w)からなる群から選択される請求項2に記載の歯科用組成物。
- (a)アクリレート、メタクリレートおよびビニル基からなる群から選択される重合性基を有する少なくとも1種の重合性モノマー;
(b)1-(2-ピリジル)-2-チオ尿素および1-(2-テトラヒドロフルフリル)-2-チオ尿素からなる群から選択される置換チオ尿素;および
(c)微粉砕した充填剤
を含む第一のペースト;
(d)以下からなる群から選択される少なくとも1つの酸性部分を含む少なくとも1種の酸性化合物
(e)アクリレート、メタクリレートおよびビニル基からなる群から選択される重合性基を有するいかなる酸性基も有さない少なくとも1種の重合性モノマー;
(f)第三級炭素に結合した少なくとも1個のヒドロペルオキシド基を有するヒドロペルオキシド化合物;および
(g)微粉砕した充填剤
を含む第二のペースト
を含む二部式ペースト/ペースト自己接着性歯科用組成物。 - 光開始剤、安定化剤、溶媒およびこれらの組合せからなる群から選択される少なくとも1種の成分をさらに含む請求項21に記載の歯科用組成物。
- (c)および/または(g)の充填剤が、無機金属、塩、酸化物、窒化物、ケイ酸塩ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、アルミノホウケイ酸塩ガラス、フルオロアルミノケイ酸塩ガラス、石英、コロイドシリカ、沈降シリカ、ジルコニア-シリカ、高分子充填剤、無機粒子と重合した複合充填剤およびこれらの組合せからなる群から選択される請求項21に記載の歯科用組成物。
- 酸性化合物が、アクリレート、メタクリレートおよびビニル基からなる群から選択される少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する重合性モノマー/ポリマーである請求項21に記載の歯科用組成物。
- 酸性の重合性モノマーが、ヒドロキシエチルメタクリレートホスフェート、グリセリルジメタクリレートホスフェート、ビス(ヒドロキシエチルメタクリレート)ホスフェート、メタクリロイルオキシデシルホスフェート、フェニルメタクリルオキシエチルホスフェートおよびジペンタエリスリトールペンタアクリレートホスフェートからなる群から選択される請求項24に記載の歯科用組成物。
- ヒドロペルオキシド化合物が、t-ブチルヒドロペルオキシド、t-アミルヒドロペルオキシド、p-ジイソプロピルベンゼンヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ピナンヒドロペルオキシド、p-メタンヒドロペルオキシド、1,1,3,3-テトラメチルブチルヒドロペルオキシドおよびこれらの組合せからなる群から選択される請求項21に記載の歯科用組成物。
- 組成物が、充填材料、セメント、ライナー/基剤、穴/裂溝シーラント材または接着組成物である請求項21に記載の歯科用組成物。
- 組成物が、修復組成物、歯科矯正組成物または歯内組成物である請求項21に記載の歯科用組成物。
- 施用の直前に2種のペーストを混合すること、
この混合組成物を歯科用基質に施用すること、および
自己硬化または自己硬化と光硬化との組合せからなる群から選択される方法により混合組成物を硬化すること
を含み、混合組成物の象牙質基質への接着強度が少なくとも3MPaである方法で使用する請求項21に記載の歯科用組成物。 - 二部式組成物の各部分がシリンジにパッケージされている請求項21に記載の歯科用組成物。
- 二部式組成物の各部分がデュアルシリンジ組立品の各シリンジにパッケージされている請求項21に記載の歯科用組成物。
- デュアルシリンジ組立品の各シリンジが、開口部を有し、スタティックミキサーがその開口部に取り付けられて、混合組成物をミキサーの出口開口部から分注したときに均一な混合物を提供する請求項32に記載の歯科用組成物。
- (a)1-(2-ピリジル)-2-チオ尿素および1-(2-テトラヒドロフルフリル)-2-チオ尿素からなる群から選択される置換チオ尿素;および
(b)微粉砕した充填剤
を含む粉末;
(c)以下からなる群から選択される少なくとも1つの酸性部分を含む少なくとも1種の酸性化合物
(d)重合性基がアクリレート、メタクリレートおよびビニル基からなる群から選択される、いかなる酸性基も有さない少なくとも1種の重合性モノマー;および
(e)第三級炭素に結合した少なくとも1個のヒドロペルオキシド基を有するヒドロペルオキシド化合物
を含む液体
を含む二部式粉末/液体自己接着性歯科用組成物。 - 光開始剤、安定化剤、溶媒およびこれらの組合せからなる群から選択される少なくとも1種の成分をさらに含む請求項34に記載の歯科用組成物。
- 充填剤が、無機金属、塩、酸化物、窒化物、ケイ酸塩ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、アルミノホウケイ酸塩ガラス、フルオロアルミノケイ酸塩ガラス、石英、コロイドシリカ、沈降シリカ、ジルコニア-シリカ、高分子充填剤、無機粒子と重合した複合充填剤およびこれらの組合せからなる群から選択される請求項34に記載の歯科用組成物。
- 酸性化合物が、アクリレート、メタクリレートおよびビニル基からなる群から選択される少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する重合性モノマー/ポリマーである請求項34に記載の歯科用組成物。
- 酸性の重合性モノマーが、ヒドロキシエチルメタクリレートホスフェート、グリセリルジメタクリレートホスフェート、ビス(ヒドロキシエチルメタクリレート)ホスフェート、メタクリロイルオキシデシルホスフェート、フェニルメタクリルオキシエチルホスフェートおよびジペンタエリスリトールペンタアクリレートホスフェートからなる群から選択される請求項37に記載の歯科用組成物。
- ヒドロペルオキシド化合物が、t-ブチルヒドロペルオキシド、t-アミルヒドロペルオキシド、p-ジイソプロピルベンゼンヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ピナンヒドロペルオキシド、p-メタンヒドロペルオキシド、1,1,3,3-テトラメチルブチルヒドロペルオキシドおよびこれらの組合せからなる群から選択される請求項34に記載の歯科用組成物。
- 施用の直前に粉末と液体を混合すること、
この混合組成物を歯科用基質に施用すること、および
自己硬化または自己硬化と光硬化との組合せからなる群から選択される方法により混合組成物を硬化すること
を含み、混合組成物の象牙質基質への接着強度が少なくとも3MPaである方法で使用する請求項34に記載の歯科用組成物。
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