JP4288290B2 - 再生できる電極における放電によって極紫外線を発生するための装置 - Google Patents
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Description
(a)円板電極が共に密接して配置されるという事実のため、
電磁波及び粒子放射としてプラズマによって放出されるエネルギの大部分は、電極の比較的小さな体積に吸収され、この結果、これらの電極は著しく加熱される。
(b)溶融金属内の電極の短いドエル期間のため、溶融液内の電極の冷却は不十分であり、電極の内部で追加の液体冷却が必要とされ、このため、回転電極を支持して、駆動するために、限定された寿命時間のみを有する真空フィードスルーを使用しなければならない。
(c)回転電極と、エミッタ材料の質量制限された供給のための放電ゾーン内への液体又は固体材料の注入との組み合わせ(例えば、以前に発行されなかった特許文献2に記載)は、密接に隣接する円板電極間の狭いギャップのため接線軌道によってのみ可能であり、この結果、生じる長い経路は優れたパルス対パルス安定性に有害である。
(d)幾何学的境界条件のため、プラズマから放出される放射線を集束するために、かすめビーム入射による多重入れ子式の反射光学系のみを使用できるに過ぎず、これによって、放出される放射線の使用可能な立体角度が制限される。
2 電極ユニット
21 第1のストリップ電極
22 第2のストリップ電極
23 案内ローラ
24 第1の容器(溶融金属用)
25 第2の容器(溶融金属用)
26 溶融金属/錫溶融液
27 ワイパ
28 テンションローラ
29 案内プレート
3 駆動ユニット
31 回転駆動ユニット
4 パルス発生器
5 エネルギビーム
51 レーザ
52 レーザビーム
53 電子ビーム
6 プラズマ発生の位置
61 (電気)放出
62 小滴流
63 小滴発生器
7 コレクタ光学系
71 光学軸
72 中間焦点
73 皿形の光学系(かすめビーム入射)
74 交互層の光学系
8 冷却装置
Claims (29)
- 放電によって発生されるプラズマに基づき極紫外線放射を発生するための装置であって、エネルギビームと、電極間の放電によるプラズマの引き続く発生とによって誘発されるエミッタ材料の局所的蒸発で少なくとも部分的に犠牲にされる被覆材料で上記電極が被覆されており、上記被覆材料は、被覆を再生するため及び前記電極とパルス化高電圧源とを電気的に接触させるための溶融金属の被覆材料を含有する容器が各電極用に設けられることによって前記電極の連続的な移動により更新可能であるような、装置において、
前記電極が、複数の案内ローラ(23)でエンドレスに循環する2つのストリップ電極(21、22)の形態で配置され、前記プラズマを発生するための放電(61)が行われる小さな間隔の領域を有し、
すべてのストリップ電極が、前記溶融金属で充填された容器内の少なくとも1つの案内ローラに案内され、前記それぞれのストリップ電極(21、22)が、該ストリップ電極の長さの略延長部分だけ、前記溶融金属(26)に浸漬され、前記溶融金属(26)を出た後に、前記ストリップ電極(21、22)の前記被覆材料の所定厚さを生成するために、ワイパ(27)を通して案内され、
各ストリップ電極(21、22)を駆動するための手段(3)が設けられ、各ストリップ電極の回転中に、前記ストリップ電極(21、22)が、溶融金属(26)を含有する容器(24、25)に浸漬され、所望のプラズマ発生が行われる真空チャンバ(1)内の位置(6)を通過し、放電(61)後に前記溶融金属(26)を含有する容器内に案内して戻されることを特徴とする装置。 - 前記ストリップ電極(21、22)が、狭い幅を有するエンドレス平バンドとして形成されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記ストリップ電極(21、22)が、エンドレス丸ワイヤとして形成されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記ストリップ電極(21、22)が、小さな断面積及び任意の凸状断面形状を有するエンドレス押出部分として形成されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 純粋な錫が被覆材料として提供されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 錫化合物又は錫合金が被覆材料として提供されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 純粋な亜鉛が被覆材料として提供されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 亜鉛化合物又は亜鉛合金が被覆材料として提供されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記溶融金属(26)を含む容器(24、25)内で前記ストリップ電極(21、22)が移動する通路を長くするために、前記ストリップ電極(21、22)を案内するための案内ローラ(23)が設けられることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記溶融金属(26)を含有する容器(24、25)内で前記ストリップ電極(21、22)が移動する通路を長くするために、ジグザグ通路に沿って前記ストリップ電極(21、22)を案内するための少なくとも3つの案内ローラ(23)が設けられることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記ストリップ電極(21、22)を追加して冷却するために、冷却装置(8)が、前記溶融金属(26)を含有する容器(24、25)の下流側に配置されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 少なくとも1つの案内ローラ(23)が、前記ストリップ電極(21、22)に張力を加えるためのテンションローラ(28)として調整可能に装着されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記ストリップ電極(21、22)が、回転駆動ユニット(31)を用いて案内ローラ(23)で駆動されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記ストリップ電極(21、22)が電磁結合(32)によって駆動されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記ストリップ電極(21、22)が個々の平面で循環するように、前記ストリップ電極(21、22)の前記案内ローラ(23)が配置されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記ストリップ電極(21、22)の各々が、他のストリップ電極(21、22)の平面と一致する平面に配置され、前記ストリップ電極(21、22)が、反対側に配置された案内ローラ(23)を通した真空チャンバ(1)の領域で、前記所望のプラズマ発生の位置(6)を画定する互いに非常に小さな間隔を有することを特徴とする、請求項15に記載の装置。
- 前記ストリップ電極(21、22)の各々が、他のストリップ電極(21、22)の平面と一致する平面に配置され、前記ストリップ電極(21、22)が、真空チャンバ(1)の所定部分に、小さな間隔で互いに平行に配向され、エミッタ材料の蒸発及び予備イオン化の結果として、エネルギビーム(5)によるエネルギの局所的な導入によって放電(61)を意図的に開始できることによって、前記所望のプラズマ発生の位置(6)が与えられることを特徴とする、請求項15に記載の装置。
- 前記ストリップ電極(21、22)の部分が前記所望のプラズマ発生の位置(6)で互いに斜めに配向されて、最小間隔の点を有するように、前記ストリップ電極(21、22)の各々が、他のストリップ電極(21、22)の平面とは異なる平面に配置されることを特徴とする、請求項15に記載の装置。
- エミッタ材料の前記予備イオン化によって、より高い伝導率の領域により前記2つのストリップ電極(21、22)の間の局所的に限定された放電及びプラズマ形成が得られるように、エミッタ材料の蒸発のためのエネルギビーム(5)が、前記2つのストリップ電極(21、22)の間の前記所望のプラズマ発生位置(6)に方向付けられることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 錫又は錫含有化合物又あるいは合金がエミッタ材料として提供されることを特徴とする、請求項19に記載の装置。
- 前記所望のプラズマ発生位置(6)での前記エネルギビーム(5)が、前記ストリップ電極(21、22)の被覆材料に方向付けられ、金属エミッタ材料が被覆材料として使用されることを特徴とする、請求項20に記載の装置。
- 前記2つのストリップ電極(21、22)の間の前記所望のプラズマ発生位置(6)での前記エネルギビーム(5)が、エミッタ材料の小滴流(62)に方向付けられ、放電によって前記プラズマを発生するために小滴が蒸発されることを特徴とする、請求項19に記載の装置。
- 前記小滴流がキセノンを含むことを特徴とする、請求項22に記載の装置。
- 前記2つのストリップ電極(21、22)の間の前記所望のプラズマ発生位置(6)での前記エネルギビーム(5)が、エミッタ材料の小滴流(62)に方向付けられ、小滴が蒸発され、同時に前記ストリップ電極(21、22)用の被覆材料として前記エミッタ材料が使用されることを特徴とする、請求項19に記載の装置。
- 錫又は錫含有化合物あるいは合金がエミッタ材料として提供されることを特徴とする、請求項24に記載の装置。
- 前記エネルギビーム(5)がレーザビーム(52)であることを特徴とする、請求項19に記載の装置。
- 前記エネルギビーム(5)は電子ビーム(53)であることを特徴とする、請求項19に記載の装置。
- 前記エネルギビーム(5)が、前記ストリップ電極(21、22)の表面の一方に方向付けられることを特徴とする、請求項19に記載の装置。
- 前記エネルギビーム(5)が、前記ストリップ電極(21、22)の間のエミッタ材料の追加小滴流(62)に方向付けられることを特徴とする、請求項19に記載の装置。
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