JP4270121B2 - 光学的測定装置 - Google Patents
光学的測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4270121B2 JP4270121B2 JP2004351336A JP2004351336A JP4270121B2 JP 4270121 B2 JP4270121 B2 JP 4270121B2 JP 2004351336 A JP2004351336 A JP 2004351336A JP 2004351336 A JP2004351336 A JP 2004351336A JP 4270121 B2 JP4270121 B2 JP 4270121B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- diffracted light
- diffraction grating
- particles
- voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 23
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 27
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 83
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 17
- 238000004720 dielectrophoresis Methods 0.000 description 16
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 11
- 229920001222 biopolymer Polymers 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000005653 Brownian motion process Effects 0.000 description 3
- 238000005537 brownian motion Methods 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 238000002060 fluorescence correlation spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 238000002372 labelling Methods 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001506 fluorescence spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
生体高分子を粒子としてみたときの生体高分子の移動しやすさ、すなわち拡散しやすさは、生体高分子の大きさ、形状、結合状態等に依存して変化するので、拡散しやすさを評価することにより、生体高分子に関する種々の情報、例えば粒径や、粒形、結合状態等を知ることができる。
顕微蛍光分光法によれば、計測対象となる粒子(生体高分子)を蛍光分子で標識処理し、顕微鏡視野下でこれを励起照明し、蛍光を発する計測対象粒子のブラウン運動に伴う蛍光強度変化を計測(蛍光粒子の数をカウントする)して、計測対象粒子の拡散係数を求めるものである。
また、顕微蛍光相関分光法により測定すれば、粒子に標識化処理を施してしまうので、粒子を完全な自然状態で測定することはできない。
これに対し、上述した一定周期の回折格子に、所定の交流電圧を印加して粒子に誘電泳動を起こさせることにより、誘電泳動による変形回折光パターンに基づいて液体中の粒子の光学的測定を行う方法では、標識化処理の必要がないので、前処理の煩わしさがなく、また、粒子を完全な自然状態で測定することができる。
例えば、簡便な測定のひとつとして、同じ材料で粒径が異なる粒子が存在する場合に、試料液体中にどの程度の粒径の粒子が存在するかを、迅速かつ簡単に判別することができる光学的測定装置を提供することを目的とする。
そして、交流電源から電極対に交流電圧を印加する。電圧が印加される電極対は、複数の異なる格子周期で間隔を隔てた配置を有している。すなわち、電極間隔が異なる複数の電極対が存在する。
電極間隔(格子周期)が異なる複数の一定周期電極対(回折格子)に交流電圧を印加すると、電極間の電圧勾配はそれぞれ異なり、電極間隔が短いものほど電圧勾配が大きくなる。
一方、電界勾配(電圧勾配)が大きい領域では、誘電泳動力が拡散力を超えるようになり、誘電泳動により粒子を移動させて集中領域を形成することができる。
このことから、電極間隔(格子周期)が異なる複数の一定周期電極対(回折格子)に交流電圧を同時に印加した場合に、電極間隔が短い電極間の電圧勾配は大きくなり、電極間隔が長い電極間の電圧勾配はそれより小さくなるので、1回の電圧印加によって、複数の異なる電圧勾配領域を発生させることができる。したがって、電圧を印加することにより、それぞれの場所での電圧勾配に応じて、粒子に生じる誘電泳動力が異なり、場所によっては誘電泳動力が拡散力に勝って粒子が集中したり、誘電泳動力が拡散力より劣って粒子が移動しなかったりすることになる。
上記発明において、電極対は、交流電圧が印加されたときに正の電極と負の電極とが隣接する部分が、回折格子の格子周期の2倍以上の整数倍の周期で繰り返すように配置されるようにしてもよい。
この発明によれば、変形回折光パターンにおいて、新たに追加された回折光は、基本回折光パターンでは回折光が存在していなかった中間付近の暗い位置(暗部分)に発生するので、明暗のコントラストがはっきりする位置で回折強度を検出することができる。
この実施形態の光学的測定装置は、誘電泳動を行いながら、光学的測定を行うものであり、液体試料を保持する容器11、容器11の底面となる底板12aに形成され、回折格子を形成する一対の電極13、14と、電極13、14に交流電圧を印加する交流電源15と、光源16と、光源光を収束するレンズ光学系17と、回折光を検出する光検出器18とからなる。
第二回折格子については、電極間隔は3d、電極幅3d1とし、格子周期が3L=3d+3d1としている。
レンズ光学系17は、光源光を収束して、電極13、14(回折格子)に照射できるように構成してある。なお、光源光の入射角度を調整できるようにして、測定対象、測定目的に応じて、透過回折光、反射回折光のいずれでも、取得できるようにするのが好ましい。
透過回折光を測定する場合、入射角は、容器底面と液体試料との界面で全反射が生じない条件であればよく、例えば、入射角0度で入射させてもよい。
また、入射光は第一回折格子と第二回折格子とを同時に照射して測定してもよいし、別々に照射してもよい。前者の場合は第一回折格子による回折光と第二回折格子による回折光回折光の角度が異なるものを選び、第一回折格子による回折光と第二回折格子による回折光とを分離する。
(基本回折光パターンという)が発生する。
図4、図5は、交流電圧を印加したときの粒子の状態を説明する概略断面図および上面図である。
図に示すように、正極と負極とが隣接することにより電気力線が集中する領域、すなわち直線状電極片14bと直線状電極片13aとの間、あるいは、直線状電極片13bと直線状電極片14aとの間に、粒子S1が集中するようになる。また、直線状電極片14eと直線状電極片13dとの間、あるいは、直線状電極片13eと直線状電極片14dとの間に、粒子S1が集中するようになる。そして屈折率が高い粒子集中領域P1(第一回折格子側)、P2(第二回折格子側)が形成される。粒子集中領域P1は、格子間隔Lの2倍の周期(2L)で発生しており、粒子集中領域P2は格子間隔3Lの2倍の周期(6L)で発生している。
入射光は、電極13、14による第一回折格子(周期L)、第二回折格子(周期3L)の影響を受けて、基本回折光パターンを発生する。さらに、粒子集中領域P1により形成された回折格子(周期2L)、粒子集中領域P2により形成された回折格子(周期6L)の影響を受けて、図3に破線で示すように、周期2L、6Lの回折条件を満たす角度位置に、−1次、1次、・・・の透過回折光による回折光パターンを形成する。これにより基本回折光パターンに新たに回折光パターンが追加された、変形回折光パターンを発生する。(ただし、0次透過回折光は、基本回折光パターンにおける0次の回折光と重なる)。
この場合は、周期2Lの回折条件を満たす角度位置には追加の回折光パターンが形成されるが、周期6Lの回折条件を満たす角度位置には回折光パターンが追加されない。
この場合は、周期2L、6Lの回折条件を満たす角度位置には追加の回折光パターンが形成されない。
また、印加電圧の設定値を変更すれば、粒子径を判定する閾値を変更することができる。
13、14: 電極
13a、13b、13d、13e、14a、14b、14d、14e: 直線状電極片
13c、13f、14c、14f:電極片偏在領域
13g、13h、14g、14h:電極片不在領域
15: 交流電源
16: 光源
18: 光検出器
Claims (2)
- 光源と、交流電源と、液体試料を保持する容器と、容器内の液体試料と接する位置に形成され、光源から光が照射されることによりそれぞれが基本回折光パターンを生じる複数の異なる格子周期を有する回折格子群と、回折格子群の各回折格子の少なくとも一部を構成するとともに、交流電源から交流電圧を印加することが可能な電極対と、各回折格子による回折光を検出する光検出器とを備え、
電極対に交流電圧を印加して液体試料の屈折率分布を変化することにより、回折格子群による基本回折光パターンとは異なる変形回折光パターンを発生させ、変形回折光パターンに基づいて液体試料に関する情報を計測することを特徴とする光学的測定装置。 - 電極対は、交流電圧が印加されたときに正の電極と負の電極とが隣接する部分が、回折格子の格子周期の2倍以上の整数倍の周期で繰り返すように配置されることを特徴とする請求項1に記載の光学的測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004351336A JP4270121B2 (ja) | 2004-12-03 | 2004-12-03 | 光学的測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004351336A JP4270121B2 (ja) | 2004-12-03 | 2004-12-03 | 光学的測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006162332A JP2006162332A (ja) | 2006-06-22 |
JP4270121B2 true JP4270121B2 (ja) | 2009-05-27 |
Family
ID=36664524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004351336A Expired - Fee Related JP4270121B2 (ja) | 2004-12-03 | 2004-12-03 | 光学的測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4270121B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2042852B1 (en) * | 2006-07-19 | 2017-04-19 | Shimadzu Corporation | Method for evaluating strength of dielectrophoresis of fine particles |
JP2008096191A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Shimadzu Corp | 誘電泳動特性評価方法 |
US8164749B2 (en) * | 2007-08-08 | 2012-04-24 | Shimadzu Corporation | Optical measurement apparatus and electrode pair thereof |
JP5327152B2 (ja) * | 2010-07-05 | 2013-10-30 | 株式会社デンソー | 粒子状物質検出センサ素子及び粒子状物質検出センサ |
JP5542007B2 (ja) * | 2010-08-26 | 2014-07-09 | 日本碍子株式会社 | 粒子状物質検出装置 |
JP5333383B2 (ja) * | 2010-08-31 | 2013-11-06 | 株式会社デンソー | センサ制御装置 |
-
2004
- 2004-12-03 JP JP2004351336A patent/JP4270121B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006162332A (ja) | 2006-06-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7768654B2 (en) | On-chip phase microscope/beam profiler based on differential interference contrast and/or surface plasmon assisted interference | |
JP4375576B2 (ja) | 光学的測定装置および方法並びにナノ粒子測定方法および装置 | |
Ghorbanzadeh et al. | Improvement of sensing and trapping efficiency of double nanohole apertures via enhancing the wedge plasmon polariton modes with tapered cusps | |
US20140211195A1 (en) | Plasmon resonance based strain gauge | |
JP4868190B2 (ja) | ナノ粒子計測装置 | |
Trueb et al. | Robust visualization and discrimination of nanoparticles by interferometric imaging | |
US20100252751A1 (en) | Microelectronic opiacal evanescent field sensor | |
EP3465141B1 (en) | Particle characterisation in open optical resonator cavity | |
Mathai et al. | Optical tracking of nanoscale particles in microscale environments | |
JP4270121B2 (ja) | 光学的測定装置 | |
CN103323428A (zh) | 光子共振器件、光子共振检测系统及其检测方法 | |
JP4270070B2 (ja) | 光学的測定装置 | |
JP5360391B2 (ja) | 粒子測定方法および装置 | |
JP4973728B2 (ja) | 光学的測定方法および装置 | |
JP4517980B2 (ja) | 粒子測定装置 | |
JP4379318B2 (ja) | 光学的測定装置および光学的測定方法 | |
JP2010249607A (ja) | 粒子検出装置 | |
JP2006349386A (ja) | 光学的計測装置 | |
JP2004239715A (ja) | 測定装置 | |
JP4315083B2 (ja) | 光学的測定装置および光学的測定方法 | |
JP4367263B2 (ja) | 拡散計測装置 | |
Lovera et al. | Controlling and utilizing optical forces at the nanoscale with plasmonic antennas | |
JP2011080819A (ja) | 粒子径測定装置 | |
JP4830909B2 (ja) | 粒子測定装置 | |
JP2006220582A (ja) | センシング装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070307 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080912 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090203 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090216 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120306 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4270121 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120306 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130306 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140306 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |