JP4268459B2

JP4268459B2 - SEALING DEVICE AND SHIELD DEVICE USING THE SAME AND WET TREATING DEVICE

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Publication number: JP4268459B2
Application number: JP2003177925A
Authority: JP
Inventors: 健一三森
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 2003-06-23
Filing date: 2003-06-23
Publication date: 2009-05-27
Anticipated expiration: 2023-06-23
Also published as: JP2005013775A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シール装置及びこれを用いたシールド装置とウエット処理装置に係わり、特に、ガラス基板、フィルム等のシート体に外部からの気体の侵入が遮断された空間部内で洗浄等のウエット処理等に用いて好適な技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
金属帯材等のシート状被洗浄物を有機溶剤を用いて脱脂洗浄する工程に用いられる洗浄装置の一種として洗浄室の出入口に液シール構造部（シール装置）を設けたタイプのものが知られている。
図７はこのようなタイプの従来の洗浄装置の例を示す概略構成図である（例えば、特許文献１参照。）。
従来の洗浄装置は、被洗浄物１０１を連続的に有機溶剤で洗浄する洗浄室１０２と、この洗浄室１０２の被洗浄物１０１の出入口に設けられた液貯留槽１０３と、液貯留槽１０３の下方に設けられた液受容器１０６と、液貯留槽１０３の上下に設けられた遮断壁１０７、１０８と、ポンプ１０９が備えられている。液貯溜槽１０３内には液１０５が上部開口部まで満たされている。このような構成により洗浄室１０２の内部と外部１０４の気体が液貯留槽１０３により遮断されている。
【０００３】
遮断壁１０７の下端は液貯溜槽１０３内の上部に配置され、液１０５中に浸漬された状態とされている。また、遮断壁１０８の上端は液貯溜槽１０３の底面に接続され、下端は液受容器１０６に満たされた液１０５中に浸漬した状態とされている。このような構成により液貯溜槽１０３の上方および下方においても洗浄室１０２の内部と外部１０４は気体が連通しないようになっている。
液貯留槽１０３の洗浄室１０２の内側および外側にはそれぞれ被洗浄物１０１の通過のために開口部１０３ａ、１０３ｂが設けられている。
液貯溜槽１０３に満たされている液１０５は上部開口部や開口部１０３ａ、１０３ｂから流出して液受容器１０６に貯まるようになっている。液受容器１０６に貯まった液１０５は、ポンプ１０９によって液貯溜槽１０３に送液されるようになっている。
上記のような構成の洗浄装置を用いて被洗浄物１０１を有機溶剤で洗浄するには、被洗浄物１０１を液貯溜槽１０３の開口部１０３ａ、液１０５、開口部１０３ｂの順に通過することによって洗浄室１０２に搬送し、洗浄室１０２内で有機溶剤により洗浄されるようになっている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平７−６２５８１号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら従来の洗浄装置においては、液貯溜槽１０３に満たされている液１０５は洗浄処理中は上部開口部や開口部１０３ａ、１０３ｂから常時流出するようになっているため、液シール構造部に用いられる液量が多くなってしまう。また、従来の洗浄装置では上記開口部から流出した液１０５を受け取るための液受容器１０６や、液貯溜槽１０３の上下の遮断壁１０７、１０８が設けられているために、洗浄装置が大型なものとなってしまうという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、ガラス基板、フィルム、金属帯材等の比較的厚みが薄いシート体が損傷することなく通過可能で、しかも使用する液量を削減でき、小型化されたシール装置を提供することを課題の一つとする。
また、上記のようなシール装置を用いることにより、シールド装置内の空間部と外部の気体が遮断され、上記空間部内で上記シート体が損傷することなく、しかも汚染されることなく種々の処理が可能で、小型化されたシールド装置を提供することを課題の一つとする。
また、上記のようなシールド装置を用いることにより、シールド装置内の空間部と外部の気体が遮断され、上記空間部内で上記シート体が損傷することなく、しかも汚染されることなく、洗浄、エッチング、現像、剥離等のウエット処理が可能で、小型化されたウエット処理装置を提供することを課題の一つとする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために本発明のウエット処理装置は、内部に空間部が設けられた筐体状の構造体を有し、該構造体にシート体を前記空間部に導入するための導入部と前記空間部に導入されたシート体を外部に導出するための導出部とが設けられ、前記導入部と導出部にそれぞれシール装置が備えられて前記構造体の空間部と外部の気体が遮断可能な構成とされており、前記シール装置が、シート体が通過可能なスリット状開口部が形成された本体部を有し、前記スリット状開口部に液体が充填されて前記構造体の空間部と前記外部の気体が遮断可能な構成とされ、前記液体の圧力が制御されることで前記スリット状開口部から前記液体が漏れない構成とされたものであり、前記構造体の空間部に、前記空間部内に導入されたシート体に対向する対向面を有する処理部と、該処理部の一方に隣接して設けられ、前記シート体と前記対向面との間の隙間にウエット処理液を導入する処理液導入部と、前記処理部の他方に設けられ、前記隙間からのウエット処理液を回収する処理液回収部と、前記処理液回収部に設けられ、前記処理液の圧力を前記構造体の空間部の圧力と均衡させる圧力制御部からなるウエット処理用ノズルが備えられており、前記構造体の空間部の圧力を調整する圧力調整手段が設けられ、前記構造体の空間部の圧力は前記外部の気体の圧力より高くされたことを特徴とする。
本発明のウエット処理装置のシール装置によれば、上記本体部にシート体が通過可能なスリット状開口部が設けられたことにより、ガラス基板、フィルム、金属帯材等の比較的厚みが薄いシート体を傷等の損傷が生じることなく通過させることが可能である。
また、上記スリット状開口部に充填された液体は圧力が制御されることで上記開口部から漏れないようになっているので、従来の液シール構造（シール装置）のように液貯溜槽に形成した開口部から液体を常時流出させ、この液体を液受容器で受け取り、液受容器に貯まった液体をポンプよって液貯溜槽に送液できるような構成としたものに比べて使用する液量を大幅に削減でき、また、上記のような液受容器やポンプを設けなくて済むので、小型化できる。
上記スリット状開口部は幅（高さ方向の寸法あるいは重力と平行する方向）が制御されることで、上記スリット状開口部から上記液体が漏れないように圧力を制御することができる。
上記本体部としては、板状体、箱状体、中空容器のいずれであってもよい。
【０００８】
また、本発明のウエット処理装置によれば、上記スリット状開口部に液供給部を設けたことにより、上記スリット状開口部に新鮮な液体を供給でき、また、上記スリット状開口部に充填された液体量が乾燥等によって減った場合に追加供給し易い。また、上記スリット状開口部に上記液排出部が設けられたことにより、上記スリット状開口部に充填された液体が汚染された場合や充填する液体の種類を変更する場合などにおいて上記液体を回収することができる。
【０００９】
また、本発明のウエット処理装置に設けられているシール装置において、スリット状開口部に新鮮な液体を供給でき、しかも上記スリット状開口部に充填する液体の圧力の制御が容易で、上記スリット開口部からの液漏れの防止効果も大きい。
【００１１】
上記の課題を解決するために本発明のウエット処理装置によれば、シールド装置内の空間部と外部の気体が遮断されているので、上記空間部内で上記シート体に傷等の損傷を生じることなく、しかも汚染されることなく、洗浄、エッチング、現像、剥離等のウエット処理が可能である。また、小型化された本発明のシールド装置が備えられたことにより、小型化されたウエット処理装置を提供できる。
【００１２】
また、上記構成の本発明のウエット処理装置では、構造体の空間部に上記のような構成のウエット処理用ノズルが備えられているので、上記処理液導入部からウエット処理液を上記シート体表面に供給したら、そのウエット処理液を供給した部分以外のシート体表面にウエット処理液を接触させることなく、上記処理液回収部から除去物（シート体から除去したもの）等を含んだウエット処理液を外部に排出できるので、効率良くウエット処理ができる。
また、上記処理液導入部から供給されるウエット処理液の圧力（上記シート体と上記対向面との間の隙間に供給するウエット処理液の圧力）に対して処理液回収部から排出されるウエット処理液の圧力（処理液回収部の吸引力）を制御することでウエット処理液をウエット処理の系外に漏らすことがなく、排出することができるので、少ない処理液で充分なウエット処理ができる。
また、上記のいずれかの構成の本発明のウエット処理装置において、上記ウエット処理が有機溶剤処理であってもよい。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
［第１の実施の形態］
図１は、本発明に係わるシール装置（液シール構造部と呼ぶこともある）が備えられた第１の実施形態のシールド装置の概略構成を示す斜視図である。図２は、図１のシールド装置のＩＩ−ＩＩ線断面図である。なお、図１においてはノズル９（液供給部）を省略して図示している。
第１の実施形態のシールド装置１は、内部に空間部２ａが設けられた筐体状の構造体２を有し、該構造体２の一方の側にシート体３を空間部２ａに導入するための導入部４が設けられ、他方の側に空間部２ａに導入されたシート体３を外部に導出するための導出部５とが設けられ、導入部４と導出部５にそれぞれ液シール構造部６（シール装置）が備えられて構造体２の空間部２ａと外部の気体が遮断可能な構成とされたものである。このシールド装置１は、構造体２の空間部２ａにシート体３を挿通し、空間部２ａでシート体３に種々の処理を施すために用いられるものである。
【００１４】
構造体２は、略直方体状のものである。この構造体２は、図１の二点鎖線で示したように上側と下側に分割可能なものであってもよい。
シート体３は、ガラス基板、樹脂フィルム、金属帯材等の比較的厚みが薄いものが用いられる。
【００１５】
各液シール構造部６は、構造体２の対向する一対の側板２ｂ、２ｂのうち一方の側板（本体部）２ｂと、該側板２ｂに形成され、シート体３が通過可能なスリット状開口部７と、このスリット状開口部７に充填された液体８を有し、上記側板２ｂの内側と外側（一方の側と他方の側）の気体が遮断可能な構成とされ、さらに液体７の圧力が制御されることでスリット状開口部７から液体８が漏れない構成とされたものである。
上記スリット状開口部７に充填される液体８としては、水、純水、有機溶媒等の各種の液体が用いることができるが、特に、水を用いる場合は低コストとすることができる点で好ましく、純水を用いる場合はスリット状開口部７を通過するシート体３を汚染しない点で好ましい。
スリット状開口部７は幅Ｗ（高さ方向の寸法あるいは重力と平行する方向）が制御されることで、このスリット状開口部７から液体８が漏れないように圧力が制御されている。上記幅Ｗは、８ｍｍ未満とされることが、スリット状開口部７に充填する液体８の圧力の制御が容易で、液体８が表面張力によりスリット状開口部７内に保持され、液漏れを防止できる点で好ましい。
【００１６】
構造体２の空間部２ａの圧力Ｐ_１は、構造体外部の圧力Ｐ_０より高くなっていることが、構造体２の内側への液漏れを極めて少なくできる点で好ましい。
構造体２の接液面は液体（処理液）７に親和性のある（親液性）材料から構成されていることが好ましく、それ以外の部分は液体（処理液）７に対して親和性の小さい（疎液性）材料から構成されていてもよく、具体的にはスリット状開口部７の壁面を親液性材料から構成するか、あるいはスリット状開口部７の壁面に新液性材料膜が被覆されていることが好ましく、スリット状開口部７の壁面表面以外の部分は疎液性材料から構成されていてもよい。
上記親液性材料としては、処理液が水溶液の場合にはアルミナ、シリコン酸化物等のセラミックス、表面に親水基を持たせる親水処理を行ったプラスティック、ＴｉＯ₂ のような金属酸化物、親水処理したステンレススチール等の金属が用いられる。上記の場合の疎液性材料としては、四フッ化エチレン樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂、四フッ化エチレン−パーフロロアルキルビニルエーテル共重合樹脂等が用いられる。
【００１７】
また、液体８の種類によっては構造体２の接液面から液体８に構造体材料が溶出することがあるため、それを防止するために上記接液面の最表面がクロム酸化物のみからなる不動態膜面のステンレス、あるいは酸化アルミニウムとクロム酸化物の混合膜を表面に備えたステンレス、あるいは石英から構成することが好ましい。
【００１８】
また、図２に示すように各スリット状開口部７の近傍には、該開口部７に液体８を供給するノズル９（液供給部）が設けられていることが、スリット状開口部７に新鮮な液体８を供給でき、また、スリット状開口部７に充填された液体量が乾燥等によって減った場合に追加供給し易い点で好ましい。
【００１９】
上記構造体２には、空間部２ａの圧力Ｐ_１を測定する圧力測定手段として圧力測定装置（図示略）が設けられている。また、構造体２には、空間部２ａに圧力調整用ガスを供給する圧力調整用ガス供給手段（図示略）と、空間部２ａに供給された圧力調整用ガスを排気するための圧力調整用ガス排出手段（図示略）が設けられている。上記圧力調整用ガス供給手段としては、例えば、構造体２に接続された圧力調整用ガス供給管と、該供給管に接続された圧力調整用ガス供給源と、圧力調整用ガスの流量制御装置を備えたものである。上記圧力調整用ガス排出手段としては、例えば、構造体２に接続された圧力調整用ガス排出管と、該排出管に接続された負圧源を備えたものである。
【００２０】
上記圧力調整用ガス供給手段により供給される圧力調整用ガスとしては、不活性ガスを用いるのが、構造体２内で有機溶剤を使用できる点で好ましく、特に不活性ガスとして窒素ガスを用いる場合には、低コストで構造体２内で有機溶剤を使用できる環境を作製できる点で好ましい。
これらの圧力測定装置と圧力調整用ガス排出手段と圧力調整用ガス排出手段が設けられることで、圧力測定装置により構造体２の空間部２ａの圧力Ｐ_１を測定しながら圧力調整用ガス排出手段により構造体２の空間部２ａ内に圧力調整用ガスを供給し、圧力Ｐ_１が構造体の外部の圧力Ｐ_０より高くなるように制御することができ、また、圧力Ｐ_１が高くなり過ぎた場合には圧力調整用ガス排出手段により圧力調整用ガスを排出することで、空間部２ａの圧力Ｐ_１を調整することができる。
【００２１】
また、上記構造体２には、液体８がスリット状開口部７から構造体２の内側に漏れた場合に、液体８を構造体の外部に排出するためのドレイン管１０が接続されている。
また、上記構造体内に導入したシート体３に種々の処理を施すために、シート体３に施す処理に応じた装置が空間部２ａに設けられ、例えば、シート体３に切削加工を施す場合には空間部２ａにバイト装置や切削用砥石等が配置され、洗浄等のウエット処理を施す場合には空間部２ａにウエット処理手段が配置され、めっき加工を施す場合には空間部２ａにメッキ処理手段等が配置される。なお、構造体２の空間部２ａにウエット処理手段を設けた例については、後述の第４の実施形態で詳しく説明する。
【００２２】
第１の実施形態のシールド装置によれば、筐体状の構造体２に設けられた導入部４と導出部５にそれぞれ上記のような構成のシール装置（液シール構造部）６が備えられたことにより、導入部４側のスリット状開口部７からシート体３を空間部２ａに導入するとともに導出部５側のスリット状開口部７から導出しても、筐体状の構造体２の空間部２ａと外部の気体が遮断されているので、空間部２ａでシート体３に傷等の損傷を生じることなく、しかも汚染されることなく種々の処理が可能である。また、上記スリット状開口部７に充填された液体８は圧力が制御されることで上記開口部７から漏れないようになっているので、液シール構造部に用いる液量が少なくて済む。また、小型化されたシール装置６が備えられたことにより、小型のシールド装置を実現できる。
【００２３】
［第２の実施の形態］
図３は、第２の実施形態のシールド装置の概略構成を示す断面図である。
第２の実施形態のシールド装置１１が、図１に示した第１の実施形態のシールド装置１と異なるところは、各スリット状開口部７に液体８を供給する液供給部１９と開口部７に供給する液体８の圧力を制御するためのバルブ等の圧力制御手段（図示略）が接続されている点である。
【００２４】
液供給部１９は、液供給管１９ａと、液供給源（図示略）からなり、液供給管１９ａの一端部は構造体２の導入部４側又は導出部５側の側板２ｂ上部を通ってスリット状開口部７と連通しており、他端部は上記液供給源と接続されている。
各スリット状開口部７に液供給部１９が設けられたことにより、スリット状開口部７に新鮮な液体を供給でき、また、スリット状開口部７に充填された液体量が乾燥等によって減った場合に追加供給し易い。
【００２５】
上記圧力制御手段は、各液供給管１９ａの途中に設けられている。このような圧力制御手段が設けられたことにより、スリット状開口部７に新鮮な液体８を供給でき、しかもスリット状開口部７に充填する液体８の圧力の制御が容易で、上記スリット開口部７からの液漏れの防止効果も大きい。
【００２６】
［第３の実施の形態］
図４は、第３の実施形態のシールド装置の概略構成を示す断面図である。
第３の実施形態のシールド装置２１が、図１に示した第１の実施形態のシールド装置１と異なるところは、各スリット状開口部７に液体８を供給する液供給部２９と開口部７に供給する液体８の圧力を制御するためのバルブ等の圧力制御手段（図示略）が接続され、さらに各スリット状開口部７に液体８を供給する液供給部２９と液体８を排出する液排出部３０が接続されている点である。
【００２７】
液供給部２９は、スリット状開口部７の上下に設けられた液供給管２９ａ、２９ｂと、これら液供給管２９ａ、２９ｂに接続された液供給源（図示略）からなる。上側の液供給管２９ａの一端部は構造体２の導入部４側又は導出部５側の側板２ｂ上部を通ってスリット状開口部７と連通しており、他端部は上記液供給源と接続されている。下側の液供給管２９ｂの一端部は構造体２の導入部４側又は導出部５側の側板２ｂ下部を通ってスリット状開口部７と連通しており、他端部は上記液供給源と接続されている。
上記圧力制御手段は、各液供給管２９ａの途中に設けられている。
【００２８】
液排出部３０は、液供給部２９に近接して設けられており、スリット状開口部７の上下に設けられた液排出管３０ａ、３０ｂからなる。上側の液排出管３０ａの一端部は構造体２の導入部４側又は導出部５側の側板２ｂ上部を通ってスリット状開口部７と連通しており、下側の液排出管３０ｂの一端部は構造体２の導入部４側又は導出部５側の側板２ｂ下部を通ってスリット状開口部７と連通している。尚、液排出部３０と液供給部２９の設置位置は入れ替わった形態であってもよい。
各スリット状開口部７に液排出部３０が設けられたことにより、スリット状開口部７に充填された液体８が汚染された場合や充填する液体８の種類を変更する場合などにおいて上記液体を回収することができる。
【００２９】
本実施形態のシールド装置によれば、各スリット状開口部７に上側の液供給管２９ａと液排出管３０ａが接続され、また、各スリット状開口部７に下側の液供給管２９ｂと液排出管３０ｂが接続され、さらに液供給管２９ａに圧力制御手段が設けられたことにより、構造体２内にシート体３を挿通している最中においてシート体３の上面とスリット状開口部壁面との隙間と、シート体３の下面とスリット状開口部壁面との隙間にそれぞれ充填されている液体８の圧力をコントロールし易く、各スリット開口部７からの液漏れの防止効果が大きい。
【００３０】
［第４の実施の形態］
図５は、本発明に係わる第４の実施形態のウエット処理装置の概略構成を示す断面図である。
本実施形態のウエット処理装置３１は、図４に示した第３の実施形態のシールド装置２１が備えられ、構造体２の空間部２ａに、上記シート体３にウエット処理を施すウエット処理手段として図５及び図６に示すような上下一対のウエット処理用ノズル（一対のプッシュ・プル型ノズル）４１、４１が設けられ、導入部４側の液シール構造部６とウエット処理用ノズル４１の間に上下一対の乾燥機構４５ａ、４５ｂが設けられ、導出部５側の液シール構造部６とウエット処理用ノズル４１の間に上下一対の乾燥機構４６ａ、４６ｂが設けられ、導出部５の外側に上下一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂが設けられ、構造体２の内側及び外側にはシート体３を搬送するための搬送コロ等の搬送機構（図示略）が設けられた概略構成のものである。なお、図中符号Ｓは、シート体３の搬送方向（移動方向）である。
【００３１】
各ウエット処理用ノズル４１は、図５に示すように空間部２ａに導入されたシート体（被処理物）３に対向する対向面５３ａ（シート体対向面と呼ぶこともある）を有する処理部５３と、該処理部５３の一方に隣接して設けられ、上記シート体３と上記対向面との間の隙間にウエット処理液５０を導入する処理液導入部５１と、上記処理部５３の他方に設けられ、上記隙間からのウエット処理液５０を回収する処理液回収部５２が備えられたものである。
処理液導入部５１は、一端にシート体３に向けて開口する第１の開口部５１ｂが設けられた導入管５１ｃが備えられ、また、この導入管５１ｃの他端にウエット処理液５０を導入するための導入口５１ａが設けられている。
処理液回収部５２は、一端に被処理基板２１に向けて開口する第２の開口部５２ｂが設けられた排出管５２ｃが備えられ、また、この排出管５２ｃの他端にウエット処理後のウエット処理液の排出液を空間２ａの外部（ウエット処理の系外）へ排出するための排出口５２ａが設けられている。
上記導入管５１ｃの他端と排出管５２ｃの他端はそれぞれ構造体２の壁面を貫通して外部に導出されているが、導入管５１ｃの他端と構造体２の壁面との間及び排出管５２ｃの他端と構造体２の壁面との間はそれぞれシール材（図示略）により封止され、構造体２の外部の気体が構造体２内に侵入できないようになっている。
【００３２】
上記第１の開口部５１ｂと第２の開口部５２ｂの間に処理部５３のシート体対向面５３ａが介在され、これら開口部５１ｂ、５２ｂとシート対向面５３ａはほぼ面一に配置されている。
処理部５３のシート体対向面５３ａとシート体３の間の空間には、ウエットエッチング処理（ウエット処理）を行う領域５５が形成されている。
【００３３】
また、処理液回収部５２には圧力制御部（図示略）が設けられている。この圧力制御部は、排出口５２ａ側に設けられた減圧ポンプにより構成されており、シート体３に接触したウエット処理液５０がウエット処理後に排出管５２ｃに流れるように、第１及び第２の開口部で不活性ガス（空間部２ａの雰囲気）と接触しているウエット処理液の圧力（ウエット処理液の表面張力と被処理物の被処理面の表面張力も含む）と空間部２ａの不活性ガスの圧力との均衡がとれるようにするためのものである。
【００３４】
したがって、排出口５２ａ側の圧力制御部に減圧ポンプを用いて、この減圧ポンプで処理部５３のウエット処理液５０を吸引する力を制御して、第１及び第２の開口部で不活性ガスと接触しているウエット処理液５０の圧力（ウエット処理液の表面張力と被処理物の被処理面の表面張力も含む）と不活性ガスの圧力との均衡をとるようになっている。つまり、ウエット処理液の圧力Ｐ_ｗ（ウエット処理液の表面張力とシート体３の被処理面の表面張力も含む）と不活性ガスの圧力Ｐ_ａとの関係をＰ_ｗ≒Ｐ_ａとすることにより、第１の開口部５１ｂを通じてシート体３に供給され、シート体３に接触した処理液は、シート体３上のウエット処理液を供給した部分以外の部分に接触することなく、シート体３上から除去されて、排出管５２ｃに排出される。
【００３５】
このような構成のウエット処理用ノズル４１、４１は、処理部５３、５３が隙間を隔てて対向するように設けられている。このような一対のウエット処理用ノズル４１、４１の処理部５３、５３間の隙間にシート体３が搬送されて、シート体３とウエット処理用ノズル４１、４１との間のウエット処理領域５５、５５でウエット処理が行える、すなわち、シート体３の両面にウエット処理を施すことができる。
【００３６】
各ウエット処理用ノズル４１の接液面は、ＰＦＡ等のフッ素樹脂や、用いるウエット処理液によっては最表面がクロム酸化物のみからなる不動態膜面のステンレス、あるいは酸化アルミニウムとクロム酸化物の混合膜を表面に備えたステンレス、オゾン水に対しては電解研磨表面を備えたチタン等とすることが、ウエット処理液への不純物の溶出がないことから好ましい。接液面を石英により構成すれば、フッ酸を除く全てのウエット処理液の供給に好ましい。
【００３７】
また、一対のウエット処理用ノズル４１、４１のうち一方（図面では上側）のウエット処理用ノズル４１には、図６に示すように処理部５３に、シート体３がウエット処理されている間、上記領域５５内のウエット処理液に超音波振動を付与するための超音波振動子６８が設けられている。超音波振動子６８を設ける場合の処理部５３は、振動板（振動部）としても機能するものが用いられ、超音波振動子６８は処理部５３の周縁部から立ち上がる側板（側壁部）６７の内側の振動板６６の主面上に設けられている。側板６７は処理部５３と一体に形成されている。これら側板６７と処理部５３を構成する材料としては、ステンレス鋼、石英、サファイア、アルミナ等のセラミックスなどのうちから選択されて用いられる。超音波振動子６８は、電源（図示略）に接続されている。
【００３８】
超音波振動子６８は、約２０ｋＨｚ乃至約１０ＭＨｚの範囲の周波数の超音波振動を出力可能なものであることがウエット処理を行う場合に実用的なウエット処理（特に、超音波洗浄）が可能である点で好ましく、特に、保持可能なウエット処理液層（洗浄液層）の厚さの観点から０．２ＭＨｚ以上の周波数が好ましいが、約２０ｋＨｚの周波数の超音波でのウエット処理も可能である。
本実施形態では超音波振動子６８が一方のウエット処理用ノズル４１に設けたが、上下のウエット処理用ノズル４２、４２の両方に設けてもよい。
上記ウエット処理液５０としては、シート体３に施す処理に応じて選択され、例えば、洗浄処理の場合は洗浄液や純水、エッチングの場合にはエッチング液、現像の場合は現像液、剥離の場合には剥離液が用いられ、ウエット処理液５０として有機溶剤を用いる場合は本実施形態のウエット処理装置で施される処理はウエット処理となる。
【００３９】
図５における一対の乾燥機構４５ａ、４５ｂは、導入部４側のスリット状開口部７を通って構造体２の空間部２ａに導入されたシート体３に対して上下方向からそれぞれ不活性ガス等の気体を吹きつけてシート体３を乾燥できるようになっている。このような一対の乾燥機構４５ａ、４５ｂを設けるのは、導入部４側のスリット状開口部７を通って空間部２ａに導入されたシート体３の表面はスリット状開口部７に充填された液体８が付着した状態となっているので、ウエット処理用ノズル４１、４１間で施す処理によってはこれらノズル４１、４１間に導入する前に乾燥処理（第一の乾燥処理と呼ぶこともある）を要するからである。
一対の乾燥機構４６ａ、４６ｂは、ウエット処理用ノズル４１、４１の間から出てくるシート体３に対して上下方向からそれぞれ不活性ガス等の気体を吹きつけてシート体３を乾燥できるようになっている。このような一対の乾燥機構４６ａ、４６ｂを設けるのは、ウエット処理用ノズル４１、４１の間から導出されたシート体３の表面はウエット処理液５０が付着した状態となっているので、導出部５側のスリット状開口部７に充填された液体８の種類やこのウエット処理の後工程等によっては、シート体３を導出部５側のスリット状開口部７に挿通する前に乾燥処理（第二の乾燥処理と呼ぶこともある）を要するからである。
一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂは、導出部５側のスリット状開口部７から導出されたシート体３に対して上下方向からそれぞれ空気等の気体を吹きつけてシート体３を乾燥できるようになっている。ここで用いられる一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂの具体例としては、上下一対のエアカーテンが使用できる。このような一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂを設けるのは、導出部５側のスリット状開口部７を通って導出されたシート体３の表面はスリット状開口部７に充填された液体８が付着した状態となっているので、導出部５側のスリット状開口部７に充填された液体８の種類やこのウエット処理の後工程等によっては、シート体３に乾燥処理（第三の乾燥処理と呼ぶこともある）を施す必要がある。
上記搬送機構は、シート体３をシールド装置２１内を通り、さらに一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂ間を通るように自動的に搬送できるようになっているものである。
【００４０】
上記シールド装置２１内の空間部２ａで、導入部側の側板２ｂと上下一対のウエット処理用ノズル４１、４１間の空間部の圧力Ｐ_２は、シールド装置２１の外部の圧力Ｐ_０より高くなっていることが、シールド装置２１の内側への液漏れを極めて少なくできる点で好ましい。
また、上記シールド装置２１内の空間部２ａで、導出部側の側板２ｂと上下一対のウエット処理用ノズル４１、４１間の空間部の圧力Ｐ_３は、シールド装置２１の外部の圧力Ｐ_０より高くなっていることが、シールド装置２１の内側への液漏れを極めて少なくできる点で好ましい。
【００４１】
図５乃至図６に示したようなウエット処理装置３１を用いてシート体３に第一の乾燥処理、ウエット処理、第二の乾燥処理、第三の乾燥処理を順次施すには以下のように行われる。
搬送機構によりシート体３をシールド装置２１の導入部４側のスリット状開口部７から空間部２ａ内に導入し、一対の乾燥機構４５ａ、４５ｂ間、一対のウエット処理用ノズル４１、４１間、一対の乾燥機構４６ａ、４６ｂ間を順次移動させた後、導出部５側のスリット状開口部７からシールド装置２１外に導出し、次いで一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂ間を移動させる。
【００４２】
上記のようにすると、導入部４側のスリット状開口部７を通ったシート体３は表面に液体８が付着するが、次に一対の乾燥機構４５ａ、４５ｂ間を通ることで第一の乾燥処理が施されてシート体３に付着した液体８は除去され、次に、シート体３は一対のウエット処理用ノズル４１、４１間を通ることで両面にウエット処理が施され、シート体３の両面にウエット処理液５０が付着するが、次にシート体３は一対の乾燥機構４６ａ、４６ｂ間を通ることで第二の乾燥処理が施されてシート体３に付着したウエット処理液５０は除去され、次ぎにシート体３は導出部５側のスリット状開口部７を通ることでシート体３は表面に液体８が付着するが、次にシールド装置２１の外部で一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂ間を通ることで第三の乾燥処理が施されてシート体３に付着した液体８は除去される。
【００４３】
本実施形態のウエット処理装置３１によれば、シールド装置２１内の空間部２ａと外部の気体が遮断されているので、空間部２ａ内でシート体３に傷等の損傷を生じることなく、しかも汚染されることなく、洗浄、エッチング、現像、剥離等のウエット処理が可能である。また、小型化されたシールド装置２１を用いたことにより、このウエット処理装置３１も小型とすることができる。
なお、本実施形態のウエット処理装置３１においては、シールド装置２１の空隙部２ａに上下一対のウエット処理用ノズル４１、４１を一組設けた場合について説明したが、複数組設け、各組で異なる種類のウエット処理を施すようにしてもよく、また、シート体３の一方の面のみにウエット処理を施す場合にはシート体３の一方の面側にのみウエット処理手段を設けるようにしてもよい。
また、シールド装置２１の空隙部２ａに上記のような構成の一対のウエット処理用ノズル４１、４１が備えられたことにより、少ない処理液で効率良くウエット処理ができる。
【００４４】
【発明の効果】
以上説明したように本発明のウエット処理装置によれば、スリット状開口部に液供給部を設けたので、スリット状開口部に新鮮な液体を供給でき、液体量が乾燥等によって減った場合に追加供給し易く、また、スリット状開口部に液排出部を設けたので、スリット状開口部に充填された液体が汚染された場合や充填する液体の種類を変更する場合などにおいて液体を回収することができるとともに、スリット状開口部に充填する液体の圧力の制御が容易で、スリット開口部からの液漏れの防止効果も大きい。
従って、比較的厚みが薄いシート体を損傷することなくスリット状開口部を通過可能で、しかも使用する液量を削減できる。
また、本発明のウエット処理装置によれば、筐体状の構造体の空間部内で上記シート体が損傷することなく、しかも汚染されることなく、洗浄、エッチング、現像、剥離等の種々のウエット処理を実現できる。
特に、構造体の空間部に特別な構成のウエット処理用ノズルを備えたので、処理液導入部からウエット処理液をシート体表面に供給したら、そのウエット処理液を供給した部分以外のシート体表面にウエット処理液を接触させることなく、処理液回収部から除去物等を含んだウエット処理液を外部に排出できるので、効率良くウエット処理ができる。
また、処理液導入部から供給されるウエット処理液の圧力に対して処理液回収部から排出されるウエット処理液の圧力を制御することでウエット処理液をウエット処理の系外に漏らすことがなく、排出することができるので、少ない処理液で充分なウエット処理ができる。
また、本発明のウエット処理装置によれば、シールド装置内の空間部と外部の気体を遮断することができ、上記空間部内で上記シート体が損傷することなく、しかも汚染されることなく、各種のウエット処理が可能で、小型化されたウエット処理装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明のシール装置が備えられた第１の実施形態のシールド装置の概略構成を示す斜視図。
【図２】図２は、図１のシールド装置のＩＩ−ＩＩ線断面図。
【図３】図３は、第２の実施形態のシールド装置の概略構成を示す断面図。
【図４】図４は、第３の実施形態のシールド装置の概略構成を示す断面図。
【図５】図５は、第４の実施形態のウエット処理装置の概略構成を示す断面図。
【図６】図５のウエット処理装置のシールド装置内に備えられた一対のウエット処理用ノズルの構成を示す拡大断面図。
【図７】洗浄室の出入口に液シール構造を設けたタイプの従来の洗浄装置の例を示す概略構成図。
【符号の説明】
１，１１，２１・・・シールド装置、２・・・筐体状の構造体、２ａ・・・空間部、３・・・シート体（被処理物）、４・・・導入部、５・・・導出部、６・・・シール装置（液シール構造部）、７・・・スリット状開口部、８・・・液体、９・・・ノズル（液供給部）、１０・・・ドレイン管、１９・・・液供給部、１９ａ・・・液供給管、２９・・・液供給部、２９ａ・・・上側の液供給管、２９ｂ・・・下側の液供給管、３０・・・液排出部、３０ａ・・・上側の液排出管、３０ｂ・・・下側の液排出管、３１・・・ウエット処理装置、４１・・・ウエット処理用ノズル、４５ａ，４５ｂ，４６ａ，４６ｂ，４７ａ，４７ｂ・・・乾燥機構、５３・・・処理部、５３ａ・・・対向面、５１・・・処理液導入部、５１ａ・・・導入口、５１ｂ・・・第１の開口部、５１ｃ・・・導入管、５２・・・処理液回収部、５２ａ・・・排出口、５２ｂ・・・第２の開口部、５２ｃ・・・排出管、５５・・・領域（ウエット処理領域）、６７・・・側板、６８・・・超音波振動子、Ｐ_１・・・空間部の圧力、Ｐ_０・・・外部の圧力、Ｗ・・・幅。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a sealing device, and a shield device and a wet processing device using the sealing device, and in particular, wet processing such as cleaning in a space where gas intrusion from the outside is blocked into a sheet body such as a glass substrate or a film. The present invention relates to a technique suitable for use.
[0002]
[Prior art]
As a type of cleaning device used in the process of degreasing and cleaning sheet-like objects to be cleaned such as metal strips using an organic solvent, a type in which a liquid seal structure (sealing device) is provided at the entrance and exit of the cleaning chamber is known. ing.
FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing an example of such a conventional cleaning apparatus (see, for example, Patent Document 1).
A conventional cleaning apparatus includes a cleaning chamber 102 that continuously cleans an object to be cleaned 101 with an organic solvent, a liquid storage tank 103 provided at an entrance of the object to be cleaned 101 in the cleaning chamber 102, and a liquid storage tank 103. A liquid receiver 106 provided below, blocking walls 107 and 108 provided above and below the liquid storage tank 103, and a pump 109 are provided. The liquid storage tank 103 is filled with the liquid 105 up to the upper opening. With such a configuration, the gas inside the cleaning chamber 102 and the gas outside 104 are blocked by the liquid storage tank 103.
[0003]
The lower end of the blocking wall 107 is disposed in the upper part of the liquid storage tank 103 and is immersed in the liquid 105. The upper end of the blocking wall 108 is connected to the bottom surface of the liquid storage tank 103, and the lower end is immersed in the liquid 105 filled in the liquid receiver 106. With such a configuration, the gas does not communicate between the inside and the outside 104 of the cleaning chamber 102 above and below the liquid storage tank 103.
Openings 103a and 103b are provided inside and outside the cleaning chamber 102 of the liquid storage tank 103 for the passage of the object to be cleaned 101, respectively.
The liquid 105 filled in the liquid storage tank 103 flows out of the upper opening and the openings 103 a and 103 b and is stored in the liquid receiver 106. The liquid 105 stored in the liquid receiver 106 is sent to the liquid storage tank 103 by a pump 109.
In order to clean the object to be cleaned 101 with an organic solvent using the cleaning apparatus having the above-described configuration, the object to be cleaned 101 is passed through the opening 103a, the liquid 105, and the opening 103b of the liquid storage tank 103 in this order. It is conveyed to the cleaning chamber 102 and cleaned with an organic solvent in the cleaning chamber 102.
[0004]
[Patent Document 1]
JP 7-62581 A
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional cleaning apparatus, since the liquid 105 filled in the liquid storage tank 103 always flows out from the upper opening and the openings 103a and 103b during the cleaning process, it is used for the liquid seal structure. The amount of liquid that is produced increases. Further, in the conventional cleaning apparatus, since the liquid receiver 106 for receiving the liquid 105 flowing out from the opening and the upper and lower blocking walls 107 and 108 of the liquid storage tank 103 are provided, the cleaning apparatus is large. There was a problem of becoming something.
[0006]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and allows a relatively thin sheet body such as a glass substrate, a film, and a metal strip to pass through without being damaged, and can reduce the amount of liquid to be used. An object is to provide an improved sealing device.
Moreover, by using the sealing device as described above, the space portion in the shield device and the external gas are blocked, and the sheet body is not damaged in the space portion, and various processes can be performed without being contaminated. It is an object of the present invention to provide a shield device that is possible and miniaturized.
Further, by using the shield device as described above, the space and the external gas in the shield device are shut off, and the sheet body is not damaged and contaminated in the space, and cleaning and etching are performed. Another object is to provide a wet processing apparatus that is capable of performing wet processing such as development and peeling, and is miniaturized.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, the present inventionThe wet processing apparatus has a housing-like structure body provided with a space portion therein, an introduction portion for introducing a sheet body into the space portion, and a sheet body introduced into the space portion. A lead-out part for leading out the gas to the outside, and a sealing device is provided in each of the introduction part and the lead-out part so that the space part of the structure and the external gas can be shut off. The deviceIt has a main body portion formed with a slit-like opening through which a sheet body can pass, and the slit-like opening is filled with liquid so that the space of the structure and the external gas can be shut off. By controlling the pressure of the liquid, the liquid does not leak from the slit-shaped opening.In the space portion of the structure body, the processing portion having a facing surface facing the sheet body introduced into the space portion, and provided adjacent to one of the processing portions, and facing the sheet body A treatment liquid introduction section that introduces a wet treatment liquid into a gap between the surface, a treatment liquid collection section that is provided on the other side of the treatment section and collects a wet treatment liquid from the gap, and a treatment liquid collection section. Provided with a wet processing nozzle comprising a pressure control unit that balances the pressure of the processing liquid with the pressure of the space of the structure, and pressure adjusting means for adjusting the pressure of the space of the structure The pressure of the space part of the structure is higher than the pressure of the external gas.
  Of the present inventionWet processing equipmentAccording to this sealing device, a slit-like opening through which the sheet body can pass is provided in the main body portion, so that a relatively thin sheet body such as a glass substrate, a film, or a metal strip is damaged. It is possible to pass through without generating.
  In addition, the liquid filled in the slit-shaped opening is prevented from leaking from the opening by controlling the pressure, so it is formed in the liquid storage tank like a conventional liquid seal structure (sealing device) The amount of liquid to be used is smaller than that of a configuration in which liquid is always allowed to flow out from the opened opening, the liquid is received by the liquid receiver, and the liquid stored in the liquid receiver is pumped to the liquid storage tank. It can be greatly reduced and the aboveofSince it is not necessary to provide such a liquid receiver or pump, the size can be reduced.
  The slit-shaped opening is controlled in width (direction in the height direction or direction parallel to gravity) so that the liquid does not leak from the slit-shaped opening.TheCan be controlled.
  As said main-body part, any of a plate-shaped body, a box-shaped body, and a hollow container may be sufficient.
[0008]
  In addition, the present inventionWet processing equipmentAccording to the liquid supply part in the slit-like openingTheSettingKetaAs a result, fresh liquid can be supplied to the slit-shaped opening, and when the amount of liquid filled in the slit-shaped opening is reduced by drying or the like, additional supply is easy. In addition, since the liquid discharge portion is provided in the slit-shaped opening, the liquid is collected when the liquid filled in the slit-shaped opening is contaminated or the type of liquid to be filled is changed. can do.
[0009]
  In addition, the present inventionProvided in wet processing equipmentFor sealing deviceLeaveA fresh liquid can be supplied to the lit-like opening, the pressure of the liquid filling the slit-like opening can be easily controlled, and the effect of preventing liquid leakage from the slit opening is great.
[0011]
  In order to solve the above problems, the wet processing apparatus of the present inventionAccording toSince the space part in the shield device and the external gas are blocked, the sheet body does not cause damage such as scratches in the space part, and without being contaminated, cleaning, etching, development, peeling, etc. Wet processing is possible. Further, the miniaturized shield device of the present invention is provided.ThisThus, a downsized wet processing apparatus can be provided.
[0012]
  In addition, the wet processing apparatus of the present invention having the above-described configurationIn the positionSince the wet processing nozzle having the above-described configuration is provided in the space portion of the structure, when the wet processing liquid is supplied from the processing liquid introducing portion to the surface of the sheet body, the portion other than the portion where the wet processing liquid is supplied Since the wet processing liquid containing the removed material (removed from the sheet body) and the like can be discharged from the processing liquid recovery unit without bringing the wet processing liquid into contact with the surface of the sheet body, the wet processing can be performed efficiently. .
  Further, the wet discharged from the processing liquid recovery unit with respect to the pressure of the wet processing liquid supplied from the processing liquid introduction unit (the pressure of the wet processing liquid supplied to the gap between the sheet body and the facing surface). By controlling the pressure of the treatment liquid (the suction force of the treatment liquid recovery unit), the wet treatment liquid can be discharged without leaking out of the wet treatment system, so that sufficient wet treatment can be performed with a small amount of treatment liquid. .
  Further, in the wet processing apparatus of the present invention having any one of the above structures, the wet processing may be organic solvent processing.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[First Embodiment]
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a shield device according to a first embodiment provided with a seal device (sometimes referred to as a liquid seal structure) according to the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II of the shield device of FIG. In FIG. 1, the nozzle 9 (liquid supply unit) is omitted.
The shield device 1 according to the first embodiment includes a housing-like structure 2 in which a space 2a is provided, and introduces a sheet 3 into the space 2a on one side of the structure 2. And a lead-out portion 5 for leading the sheet body 3 introduced into the space portion 2a to the outside. The lead-in portion 4 and the lead-out portion 5 each have a liquid seal structure. A portion 6 (sealing device) is provided so that the space 2a of the structure 2 and an external gas can be shut off. The shield device 1 is used to insert a sheet body 3 into a space 2a of a structure 2 and perform various processes on the sheet 3 in the space 2a.
[0014]
The structure 2 has a substantially rectangular parallelepiped shape. The structure 2 may be divided into an upper side and a lower side as shown by a two-dot chain line in FIG.
The sheet body 3 is made of a relatively thin material such as a glass substrate, a resin film, or a metal strip.
[0015]
Each liquid seal structure 6 includes one side plate (main body portion) 2b of the pair of side plates 2b and 2b opposed to the structure 2 and a slit-like opening formed on the side plate 2b through which the sheet body 3 can pass. 7 and the liquid 8 filled in the slit-shaped opening 7, and the gas inside and outside (one side and the other side) of the side plate 2 b can be shut off. Is controlled so that the liquid 8 does not leak from the slit-shaped opening 7.
As the liquid 8 filled in the slit-shaped opening 7, various liquids such as water, pure water, and organic solvents can be used. In particular, when water is used, the cost can be reduced. Preferably, when pure water is used, it is preferable in that the sheet body 3 passing through the slit-like opening 7 is not contaminated.
By controlling the width W (the dimension in the height direction or the direction parallel to the gravity) of the slit-shaped opening 7, the pressure is controlled so that the liquid 8 does not leak from the slit-shaped opening 7. When the width W is less than 8 mm, it is easy to control the pressure of the liquid 8 filling the slit-shaped opening 7, and the liquid 8 is held in the slit-shaped opening 7 by surface tension to prevent liquid leakage. It is preferable in that it can be prevented.
[0016]
Pressure P of the space 2a of the structure 2₁Is the pressure P outside the structure₀It is preferable that the height is higher in that liquid leakage to the inside of the structure 2 can be extremely reduced.
The liquid contact surface of the structure 2 is preferably made of a material (affinity) that has affinity for the liquid (treatment liquid) 7, and the other parts have affinity for the liquid (treatment liquid) 7. The wall surface of the slit-shaped opening 7 may be formed of a lyophilic material, or a new liquid material may be formed on the wall surface of the slit-shaped opening 7. The membrane is preferably covered, and the portion other than the wall surface of the slit-like opening 7 may be made of a lyophobic material.
As the lyophilic material, when the treatment liquid is an aqueous solution, ceramics such as alumina and silicon oxide, a plastic subjected to a hydrophilic treatment for imparting a hydrophilic group to the surface, TiO 2₂ A metal oxide such as, or a metal such as stainless steel subjected to hydrophilic treatment is used. As the lyophobic material in the above case, tetrafluoroethylene resin, silicone resin, polyethylene resin, ethylene tetrafluoride-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer resin, or the like is used.
[0017]
Further, depending on the type of the liquid 8, the structure material may be eluted from the liquid contact surface of the structure 2 into the liquid 8. To prevent this, the outermost surface of the liquid contact surface is made of only chromium oxide. It is preferably made of stainless steel having a passive film surface, stainless steel having a mixed film of aluminum oxide and chromium oxide on the surface, or quartz.
[0018]
Further, as shown in FIG. 2, in the vicinity of each slit-like opening 7, a nozzle 9 (liquid supply part) for supplying the liquid 8 to the opening 7 is provided. This is preferable because fresh liquid 8 can be supplied, and when the amount of liquid filled in the slit-like opening 7 is reduced due to drying or the like, additional supply is easy.
[0019]
The structure 2 has a pressure P in the space 2a.₁A pressure measuring device (not shown) is provided as a pressure measuring means for measuring. Further, the structure 2 includes a pressure adjusting gas supply means (not shown) for supplying a pressure adjusting gas to the space 2a, and a pressure adjusting gas for exhausting the pressure adjusting gas supplied to the space 2a. Gas discharge means (not shown) is provided. Examples of the pressure adjustment gas supply means include a pressure adjustment gas supply pipe connected to the structure 2, a pressure adjustment gas supply source connected to the supply pipe, and a pressure control gas flow control device. It is equipped with. The pressure adjusting gas discharge means includes, for example, a pressure adjusting gas discharge pipe connected to the structure 2 and a negative pressure source connected to the discharge pipe.
[0020]
As the pressure adjusting gas supplied by the pressure adjusting gas supply means, it is preferable to use an inert gas from the viewpoint that an organic solvent can be used in the structure 2, and particularly when nitrogen gas is used as the inert gas. Is preferable in that an environment in which an organic solvent can be used in the structure 2 can be produced at low cost.
By providing the pressure measuring device, the pressure adjusting gas discharging means, and the pressure adjusting gas discharging means, the pressure P of the space portion 2a of the structure 2 by the pressure measuring device.₁The pressure adjusting gas is supplied into the space 2a of the structure 2 by the pressure adjusting gas discharge means while measuring the pressure P.₁Is the pressure P outside the structure₀Can be controlled to be higher, and the pressure P₁When the pressure becomes excessively high, the pressure adjusting gas discharging means discharges the pressure adjusting gas, so that the pressure P of the space 2a is increased.₁Can be adjusted.
[0021]
The structure 2 is connected to a drain pipe 10 for discharging the liquid 8 to the outside of the structure when the liquid 8 leaks from the slit-shaped opening 7 to the inside of the structure 2.
In addition, in order to perform various processes on the sheet body 3 introduced into the structure body, a device corresponding to the process performed on the sheet body 3 is provided in the space 2a. For example, when the sheet body 3 is cut. In the space portion 2a, a cutting tool or a grinding wheel is disposed. When wet processing such as cleaning is performed, wet processing means is disposed in the space portion 2a. When plating is performed, the space portion 2a is plated. Means and the like are arranged. An example in which wet processing means is provided in the space 2a of the structure 2 will be described in detail in a fourth embodiment described later.
[0022]
According to the shield device of the first embodiment, the introduction device 4 and the extraction device 5 provided in the housing-like structure 2 are each provided with the sealing device (liquid seal structure portion) 6 configured as described above. As a result, even if the sheet body 3 is introduced into the space 2a from the slit-like opening 7 on the introduction part 4 side and led out from the slit-like opening 7 on the lead-out part 5 side, the housing-like structure 2 Since the space 2a and the external gas are shut off, various processes can be performed without causing damage such as scratches to the sheet body 3 in the space 2a and without being contaminated. Further, since the liquid 8 filled in the slit-shaped opening 7 is prevented from leaking from the opening 7 by controlling the pressure, the amount of liquid used for the liquid seal structure is small. Further, since the miniaturized seal device 6 is provided, a small shield device can be realized.
[0023]
[Second Embodiment]
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of the shield device according to the second embodiment.
The shield device 11 of the second embodiment is different from the shield device 1 of the first embodiment shown in FIG. 1 in that a liquid supply unit 19 and an opening 7 that supply the liquid 8 to each slit-like opening 7. A pressure control means (not shown) such as a valve for controlling the pressure of the liquid 8 to be supplied is connected.
[0024]
The liquid supply unit 19 includes a liquid supply pipe 19a and a liquid supply source (not shown). One end of the liquid supply pipe 19a passes through the upper part of the side plate 2b on the introduction part 4 side or the lead-out part 5 side of the structure 2. The slit-shaped opening 7 communicates with the other end connected to the liquid supply source.
By providing the liquid supply part 19 in each slit-like opening 7, a fresh liquid can be supplied to the slit-like opening 7, and the amount of liquid filled in the slit-like opening 7 is reduced by drying or the like. In some cases, additional supply is easy.
[0025]
The pressure control means is provided in the middle of each liquid supply pipe 19a. By providing such pressure control means, the fresh liquid 8 can be supplied to the slit-like opening 7, and the pressure of the liquid 8 filling the slit-like opening 7 can be easily controlled. The effect of preventing liquid leakage from 7 is also great.
[0026]
[Third Embodiment]
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of the shield device according to the third embodiment.
The shield device 21 of the third embodiment is different from the shield device 1 of the first embodiment shown in FIG. 1 in that a liquid supply unit 29 that supplies the liquid 8 to each slit-like opening 7 and the opening 7. Pressure control means (not shown) such as a valve for controlling the pressure of the liquid 8 supplied to the liquid is connected, and a liquid supply unit 29 for supplying the liquid 8 to each slit-like opening 7 and a liquid for discharging the liquid 8 The discharge part 30 is connected.
[0027]
The liquid supply unit 29 includes liquid supply pipes 29a and 29b provided above and below the slit-shaped opening 7, and a liquid supply source (not shown) connected to the liquid supply pipes 29a and 29b. One end of the upper liquid supply pipe 29a communicates with the slit-shaped opening 7 through the upper part of the side plate 2b on the introduction part 4 side or the lead-out part 5 side of the structure 2, and the other end is connected to the liquid supply source. It is connected. One end of the lower liquid supply pipe 29b communicates with the slit-like opening 7 through the lower portion of the side plate 2b on the introduction part 4 side or the lead-out part 5 side of the structure 2, and the other end is the liquid supply source. Connected with.
The pressure control means is provided in the middle of each liquid supply pipe 29a.
[0028]
The liquid discharge part 30 is provided close to the liquid supply part 29 and includes liquid discharge pipes 30 a and 30 b provided above and below the slit-shaped opening 7. One end of the upper liquid discharge pipe 30a communicates with the slit-like opening 7 through the upper part of the side plate 2b on the introduction part 4 side or the lead-out part 5 side of the structure 2, and one end of the lower liquid discharge pipe 30b. The part communicates with the slit-like opening 7 through the lower part of the side plate 2b on the introduction part 4 side or the lead-out part 5 side of the structure 2. The installation positions of the liquid discharge unit 30 and the liquid supply unit 29 may be switched.
Since the liquid discharge part 30 is provided in each slit-like opening 7, the liquid 8 filled in the slit-like opening 7 is contaminated or the type of the liquid 8 to be filled is changed. It can be recovered.
[0029]
According to the shield device of the present embodiment, the upper liquid supply pipe 29a and the liquid discharge pipe 30a are connected to each slit-like opening 7, and the lower liquid supply pipe 29b and liquid are connected to each slit-like opening 7. Since the discharge pipe 30b is connected and the liquid supply pipe 29a is provided with pressure control means, the upper surface of the sheet body 3 and the wall surface of the slit-shaped opening are inserted while the sheet body 3 is inserted into the structure body 2. And the pressure of the liquid 8 filled in the gap between the lower surface of the sheet body 3 and the wall surface of the slit-like opening are easily controlled, and the effect of preventing liquid leakage from each slit opening 7 is great.
[0030]
[Fourth Embodiment]
FIG. 5 is a sectional view showing a schematic configuration of a wet processing apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.
The wet processing apparatus 31 of the present embodiment is provided with the shield apparatus 21 of the third embodiment shown in FIG. 4, and serves as a wet processing means for applying a wet process to the sheet body 3 in the space 2 a of the structure 2. A pair of upper and lower wet processing nozzles (a pair of push-pull type nozzles) 41 and 41 as shown in FIGS. 5 and 6 are provided, and between the liquid seal structure 6 on the introduction portion 4 side and the wet processing nozzle 41. A pair of upper and lower drying mechanisms 45 a and 45 b are provided, and a pair of upper and lower drying mechanisms 46 a and 46 b are provided between the liquid seal structure 6 on the outlet portion 5 side and the wet processing nozzle 41, and are provided outside the outlet portion 5. A pair of upper and lower drying mechanisms 47 a and 47 b are provided, and a schematic structure is provided in which a transport mechanism (not shown) such as a transport roller for transporting the sheet body 3 is provided inside and outside the structure 2. In addition, the code | symbol S in a figure is the conveyance direction (movement direction) of the sheet | seat body 3. FIG.
[0031]
Each wet processing nozzle 41 has a facing surface 53a (also referred to as a sheet body facing surface) facing the sheet body (object to be processed) 3 introduced into the space 2a as shown in FIG. 53, a treatment liquid introduction part 51 that is provided adjacent to one of the treatment parts 53 and introduces the wet treatment liquid 50 into the gap between the sheet body 3 and the facing surface, and the other of the treatment part 53 And a processing liquid recovery unit 52 that recovers the wet processing liquid 50 from the gap.
The treatment liquid introduction part 51 is provided with an introduction pipe 51c provided with a first opening 51b that opens toward the sheet body 3 at one end, and introduces the wet treatment liquid 50 into the other end of the introduction pipe 51c. Introducing port 51a is provided.
The treatment liquid recovery unit 52 is provided with a discharge pipe 52c provided with a second opening 52b that opens toward the substrate 21 at one end, and the other end of the discharge pipe 52c is wet after wet processing. A discharge port 52a is provided for discharging the discharged liquid of the processing liquid to the outside of the space 2a (outside the wet processing system).
The other end of the introduction pipe 51c and the other end of the discharge pipe 52c pass through the wall surface of the structure 2 and are led out to the outside. The other end of the tube 52c and the wall surface of the structure 2 are each sealed with a sealing material (not shown) so that gas outside the structure 2 cannot enter the structure 2.
[0032]
A sheet body facing surface 53a of the processing unit 53 is interposed between the first opening 51b and the second opening 52b, and the openings 51b and 52b and the sheet facing surface 53a are disposed substantially flush with each other. .
A region 55 for performing a wet etching process (wet process) is formed in a space between the sheet body facing surface 53 a of the processing unit 53 and the sheet body 3.
[0033]
Further, the processing liquid recovery unit 52 is provided with a pressure control unit (not shown). The pressure control unit is configured by a decompression pump provided on the discharge port 52a side, and the first and second pressure control units 50 so that the wet processing liquid 50 in contact with the sheet body 3 flows to the discharge pipe 52c after the wet processing. The pressure of the wet processing liquid (including the surface tension of the wet processing liquid and the surface tension of the surface to be processed) that is in contact with the inert gas (atmosphere of the space 2a) at the opening, and the imperfection of the space 2a This is to balance the pressure of the active gas.
[0034]
Therefore, a decompression pump is used for the pressure control unit on the discharge port 52a side, and the force for sucking the wet treatment liquid 50 of the processing unit 53 is controlled by this decompression pump, so that the inert gas is generated at the first and second openings. The pressure of the wet treatment liquid 50 in contact with the surface of the wet treatment liquid (including the surface tension of the wet treatment liquid and the surface tension of the surface to be treated) and the pressure of the inert gas are balanced. That is, the pressure P of the wet processing liquid_w(Including the surface tension of the wet treatment liquid and the surface tension of the surface to be treated of the sheet body 3) and the pressure P of the inert gas_aRelationship with P_w≒ P_aBy doing so, the processing liquid supplied to the sheet body 3 through the first opening 51b and in contact with the sheet body 3 does not come into contact with any part other than the part supplied with the wet processing liquid on the sheet body 3, It is removed from the sheet body 3 and discharged to the discharge pipe 52c.
[0035]
The wet processing nozzles 41 and 41 having such a configuration are provided such that the processing units 53 and 53 face each other with a gap. The sheet body 3 is conveyed into the gap between the processing units 53 and 53 of the pair of wet processing nozzles 41 and 41, and the wet processing region 55 between the sheet body 3 and the wet processing nozzles 41 and 41, The wet processing can be performed at 55, that is, the wet processing can be performed on both surfaces of the sheet body 3.
[0036]
The wetted surface of each wet processing nozzle 41 is made of a fluororesin such as PFA, or depending on the wet processing solution used, the outermost surface is made of a passive film surface made of only chromium oxide, or a mixture of aluminum oxide and chromium oxide. Stainless steel having a film on the surface, titanium having an electropolishing surface for ozone water, and the like are preferable because impurities are not eluted into the wet treatment liquid. If the liquid contact surface is made of quartz, it is preferable for supplying all wet processing liquids except hydrofluoric acid.
[0037]
Further, in one of the wet processing nozzles 41, 41 (upper side in the drawing), the wet processing nozzle 41 is subjected to wet processing in the processing unit 53 as shown in FIG. An ultrasonic vibrator 68 for applying ultrasonic vibration to the wet processing liquid in the region 55 is provided. In the case where the ultrasonic vibrator 68 is provided, the processing unit 53 that also functions as a vibration plate (vibration unit) is used, and the ultrasonic vibrator 68 is formed on a side plate (side wall portion) 67 that rises from the peripheral edge of the processing unit 53. It is provided on the main surface of the inner diaphragm 66. The side plate 67 is formed integrally with the processing unit 53. The material constituting the side plate 67 and the processing unit 53 is selected from ceramics such as stainless steel, quartz, sapphire, and alumina. The ultrasonic vibrator 68 is connected to a power source (not shown).
[0038]
The ultrasonic vibrator 68 is capable of outputting ultrasonic vibrations having a frequency in the range of about 20 kHz to about 10 MHz, so that practical wet processing (particularly ultrasonic cleaning) is possible when performing wet processing. In terms of the thickness of the wet processing liquid layer (cleaning liquid layer) that can be held, a frequency of 0.2 MHz or higher is preferable, but wet processing with ultrasonic waves having a frequency of about 20 kHz is also possible.
In the present embodiment, the ultrasonic vibrator 68 is provided in one wet processing nozzle 41, but may be provided in both the upper and lower wet processing nozzles 42, 42.
The wet treatment liquid 50 is selected according to the treatment applied to the sheet body 3. For example, in the case of a cleaning process, a cleaning liquid or pure water, in the case of etching, an etching liquid, in the case of development, a developer, in the case of peeling In the case of using an organic solvent as the wet processing liquid 50, the processing performed in the wet processing apparatus of this embodiment is a wet processing.
[0039]
The pair of drying mechanisms 45a and 45b in FIG. 5 are respectively inert gas or the like from the vertical direction with respect to the sheet body 3 introduced into the space 2a of the structure 2 through the slit-like opening 7 on the introduction part 4 side. The sheet body 3 can be dried by blowing the gas. The pair of drying mechanisms 45 a and 45 b is provided because the surface of the sheet body 3 introduced into the space portion 2 a through the slit-like opening 7 on the introduction portion 4 side is filled in the slit-like opening 7. Since the liquid 8 is attached, depending on the process performed between the nozzles 41 and 41 for wet processing, a drying process (sometimes referred to as a first drying process) before being introduced between the nozzles 41 and 41 is performed. It is because it requires.
The pair of drying mechanisms 46 a and 46 b can dry the sheet body 3 by blowing a gas such as an inert gas from above and below the sheet body 3 coming out between the wet processing nozzles 41 and 41. It has become. The pair of drying mechanisms 46a and 46b is provided because the surface of the sheet body 3 led out between the wet processing nozzles 41 and 41 is in a state in which the wet processing liquid 50 is attached. Depending on the type of the liquid 8 filled in the slit-like opening 7 on the 5 side, the post-process of this wet treatment, etc., the sheet 3 is dried before passing through the slit-like opening 7 on the lead-out part 5 side (first process). This is because it may be called a second drying process.
The pair of drying mechanisms 47 a and 47 b can dry the sheet body 3 by blowing a gas such as air from above and below the sheet body 3 led out from the slit-like opening 7 on the lead-out part 5 side. ing. As a specific example of the pair of drying mechanisms 47a and 47b used here, a pair of upper and lower air curtains can be used. The pair of drying mechanisms 47a and 47b is provided because the liquid 8 filled in the slit-like opening 7 adheres to the surface of the sheet body 3 led out through the slit-like opening 7 on the lead-out part 5 side. Therefore, depending on the type of the liquid 8 filled in the slit-like opening 7 on the lead-out portion 5 side and the subsequent process of the wet process, the sheet body 3 is subjected to a drying process (the third drying process and the third drying process). (Sometimes called).
The transport mechanism can automatically transport the sheet body 3 through the shield device 21 and further between the pair of drying mechanisms 47a and 47b.
[0040]
In the space 2a in the shield device 21, the pressure P in the space between the side plate 2b on the introduction side and the pair of upper and lower wet processing nozzles 41, 41₂Is the pressure P outside the shield device 21₀It is preferable that the height is higher in that liquid leakage to the inside of the shield device 21 can be extremely reduced.
Further, in the space portion 2a in the shield device 21, the pressure P in the space portion between the side plate 2b on the lead-out portion side and the pair of upper and lower wet processing nozzles 41, 41 is provided.₃Is the pressure P outside the shield device 21₀It is preferable that the height is higher in that liquid leakage to the inside of the shield device 21 can be extremely reduced.
[0041]
To sequentially perform the first drying process, the wet process, the second drying process, and the third drying process on the sheet body 3 using the wet processing apparatus 31 as shown in FIGS. Done.
The sheet body 3 is introduced into the space 2a from the slit-like opening 7 on the introduction part 4 side of the shield device 21 by the transport mechanism, and between the pair of drying mechanisms 45a and 45b, between the pair of wet processing nozzles 41 and 41, After sequentially moving between the pair of drying mechanisms 46a and 46b, it is led out of the shield device 21 from the slit-like opening 7 on the lead-out part 5, and then moved between the pair of drying mechanisms 47a and 47b.
[0042]
If it carries out as mentioned above, the liquid 8 will adhere to the surface of the sheet | seat body 3 which passed the slit-shaped opening part 7 by the side of the introducing | transducing part 4, However, it passes through between a pair of drying mechanisms 45a and 45b, and it is 1st drying. The liquid 8 adhered to the sheet body 3 is removed by the treatment, and then the sheet body 3 is wet-treated on both sides by passing between the pair of wet processing nozzles 41, 41. The wet processing liquid 50 adheres to both surfaces, but the sheet 3 is then subjected to a second drying process by passing between a pair of drying mechanisms 46a and 46b, and the wet processing liquid 50 adhering to the sheet 3 is removed. Next, the sheet body 3 passes through the slit-shaped opening 7 on the lead-out section 5 side, so that the liquid 8 adheres to the surface of the sheet body 3. Next, a pair of drying mechanisms 47 a and 47 b outside the shield device 21. The third drying process is done by passing between Liquid 8 adhering to the sheet body 3 is are removed.
[0043]
According to the wet processing apparatus 31 of the present embodiment, since the space portion 2a in the shield device 21 and the external gas are blocked, the sheet body 3 is not damaged or damaged in the space portion 2a. Without being contaminated, wet processing such as cleaning, etching, development, and peeling can be performed. In addition, the use of the downsized shield device 21 makes it possible to reduce the size of the wet processing device 31.
In the wet processing apparatus 31 of the present embodiment, a case has been described in which a pair of upper and lower wet processing nozzles 41, 41 are provided in the gap 2a of the shield apparatus 21, but a plurality of sets are provided, and each set differs. Various types of wet processing may be performed, and when wet processing is performed only on one surface of the sheet body 3, wet processing means may be provided only on one surface side of the sheet body 3. .
Further, since the pair of wet processing nozzles 41, 41 having the above-described configuration is provided in the gap 2a of the shield device 21, the wet processing can be efficiently performed with a small amount of processing liquid.
[0044]
【The invention's effect】
  As described above, the present inventionWet processingAccording to the deviceSince the liquid supply part is provided in the slit-shaped opening, fresh liquid can be supplied to the slit-shaped opening, and it is easy to supply additional liquid when the amount of liquid decreases due to drying, etc. The liquid can be recovered when the liquid filled in the slit-shaped opening is contaminated or the type of liquid to be filled is changed, and the pressure of the liquid filled in the slit-shaped opening Is easy to control, and the effect of preventing liquid leakage from the slit opening is great.
  Therefore,Relatively thin sheetTheWithout damageSlit-like openingCan pass through and reduce the amount of liquid usedit can.
  In addition, the present inventionWet processingAccording to the apparatus, the sheet body is not damaged and is not contaminated in the space of the housing-like structure.Cleaning, etching, development, peeling, etc.VariouswetprocessingCan be realized.
  In particular, since a wet processing nozzle having a special configuration is provided in the space portion of the structure, when the wet processing liquid is supplied from the processing liquid introduction unit to the surface of the sheet body, the surface of the sheet body other than the portion supplied with the wet processing liquid Since the wet processing liquid containing the removed material and the like can be discharged from the processing liquid recovery unit without contacting the wet processing liquid with the wet processing liquid, the wet processing can be performed efficiently.
  In addition, the wet processing liquid is not leaked out of the wet processing system by controlling the pressure of the wet processing liquid discharged from the processing liquid recovery unit with respect to the pressure of the wet processing liquid supplied from the processing liquid introducing unit. Therefore, sufficient wet processing can be performed with a small amount of processing liquid.
  Moreover, according to the wet processing apparatus of the present invention, the space inside the shield device and the external gasCan be cut offIn addition, various types of wet processing can be performed without damaging or contaminating the sheet body in the space, and a miniaturized wet processing apparatus can be realized.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a shield device according to a first embodiment provided with a seal device of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the shield device of FIG. 1 taken along the line II-II.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a shield device according to a second embodiment.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a shield device according to a third embodiment.
FIG. 5 is a sectional view showing a schematic configuration of a wet processing apparatus according to a fourth embodiment.
6 is an enlarged cross-sectional view showing a configuration of a pair of wet processing nozzles provided in the shield device of the wet processing apparatus of FIG. 5;
FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing an example of a conventional cleaning apparatus of a type in which a liquid seal structure is provided at the entrance and exit of the cleaning chamber.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,11,21 ... Shield apparatus, 2 ... Case-like structure, 2a ... Space part, 3 ... Sheet body (object to be processed), 4 ... Introduction part, 5. ··· Deriving section, 6 ··· Sealing device (liquid seal structure), 7 ··· slit-shaped opening, 8 ··· Liquid, 9 ··· Nozzle (liquid supply portion), 10 · · · drain , 19 ... Liquid supply part, 19a ... Liquid supply pipe, 29 ... Liquid supply part, 29a ... Upper liquid supply pipe, 29b ... Lower liquid supply pipe, 30 ... Liquid discharge part, 30a ... upper liquid discharge pipe, 30b ... lower liquid discharge pipe, 31 ... wet processing device, 41 ... wet processing nozzle, 45a, 45b, 46a, 46b, 47a, 47b ... drying mechanism, 53 ... processing section, 53a ... facing surface, 51 ... treatment liquid introduction section, 51a ... introduction port, 5 b ... 1st opening part, 51c ... introduction pipe, 52 ... process liquid collection | recovery part, 52a ... discharge port, 52b ... 2nd opening part, 52c ... discharge pipe, 55 ... area (wet processing area), 67 ... side plate, 68 ... ultrasonic transducer, P₁... Space pressure, P₀... External pressure, W ... Width.

Claims

A housing-like structure having a space inside is provided, and an introduction part for introducing a sheet body into the structure and a sheet body introduced into the space are led out to the outside. And a lead-out part for providing a seal device to the introduction part and the lead-out part, respectively, and configured to be able to shut off the space part of the structure and an external gas,
The sealing device has a main body formed with a slit-like opening through which a sheet body can pass, and the slit-like opening is filled with a liquid so that the space of the structure and the external gas can be shut off. It is configured such that the liquid does not leak from the slit opening by controlling the pressure of the liquid ,
A processing section having a facing surface facing the sheet body introduced into the space section in the space portion of the structure, and provided adjacent to one of the processing sections, between the sheet body and the facing surface A treatment liquid introduction part for introducing a wet treatment liquid into the gap, a treatment liquid recovery part for collecting the wet treatment liquid from the gap, provided in the other of the treatment part, and provided in the treatment liquid recovery part, A wet processing nozzle comprising a pressure control unit that balances the pressure of the processing liquid with the pressure of the space of the structure,
A wet processing apparatus comprising pressure adjusting means for adjusting a pressure in a space portion of the structure body, wherein the pressure in the space portion of the structure body is higher than a pressure of the external gas .

The wet processing apparatus according to claim 1, wherein a liquid supply section that supplies the liquid and a liquid discharge section that discharges the liquid are provided in the slit-shaped opening.

Wet treatment apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that the slit-shaped opening, the pressure control means for controlling the pressure of the liquid supply is provided.

The wet processing apparatus according to claim 1, wherein the wet processing is organic solvent processing.

The wet processing apparatus according to claim 1, wherein a drying apparatus is provided between the sealing device and the wet processing nozzle .