JP4268424B2 - ２−オキサゾリジノン類の製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この出願の発明は、２−オキサゾリジノン類の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、この出願の発明は、キラル補助剤をはじめとして、有機合成反応用の試薬や、医薬、農薬、化粧料等の原料もしくは中間体等として有用な２−オキサゾリジノン類の簡便で環境調和型の新しい製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、２−オキサゾリジノン類は、キラル補助剤をはじめとして各種の有機合成に有用なことが知られている化合物群である。
【０００３】
この２−オキサゾリジノン類の製造については、アミノアルコールを出発物質とする方法として、ホスゲンから合成される炭酸ジメチルとの反応や、一酸化炭素による酸化的カルボニル反応等が知られているが、従来では、毒性の高いホスゲンや一酸化炭素という反応剤の使用や高い反応温度条件を必要としている場合が多い。
【０００４】
ホスゲンや一酸化炭素という毒性の高い反応剤に代えて二酸化炭素を用い、その存在下でアジリジンの開環反応による合成法も報告されている。しかし、この場合には、反応剤としてのハライド塩の添加を必要としている。
【０００５】
このため、より毒性が低く、しかもハライド塩のような反応剤を使用せずに、環境調和型の合成法としてより効率的に２−オキサゾリジノン類の製造を可能にする方法の実現は望まれていた。また、２−オキサゾリジノン類として各種の利用が可能とされる修飾誘導体の合成をも可能とする方法が望まれてもいた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、この出願の発明は、上記のような従来の問題点を解決し、効率の良い炭素資源としての二酸化炭素に着目し、この二酸化炭素を用いることによって、より毒性が低く、しかもハライド塩のような反応剤を使用せずに、環境調和型の合成法としてより効率的に２−オキサゾリジノン類の製造を可能にする方法を提供し、また、２−オキサゾリジノン類として各種の利用が可能とされる修飾誘導体の合成をも可能とする方法を提供することを課題としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この出願の発明は、上記の課題を解決するものとして、第１には、次式
【０００８】
【化３】

（式中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、各々同一または別異に、水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基を示す）
で表わされるアミノメチルアレン類を遷移金属触媒の存在下、二酸化炭素の加圧下で、二酸化炭素と反応させ、次式
【０００９】
【化４】

（式中のＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は前記のものを示す）
で表わされる２−オキサゾリジノン類を製造することを特徴とする２−オキサゾリジノン類の製造方法を提供する。
【００１０】
そして、この出願の発明は、上記方法について、第２には、１．０ＭＰａ以上の加圧下で反応させることを特徴とする２−オキサゾリジノン類の製造方法を、第３には、超臨界二酸化炭素下で反応させることを特徴とする２−オキサゾリジノン類の製造方法を提供し、第４には、遷移金属触媒は、第８族〜第１０族金属もしくはその化合物のうちの１種以上であることを特徴とする２−オキサゾリジノン類の製造方法を提供する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
この出願の発明は上記のとおりの特徴をもつものであるが、以下にその実施の形態について説明する。
【００１２】
この出願の発明の２−オキサゾリジノン類の製造方法における出発物質の一つは、前記の式（１）で表わされるようにアミノメチルアレン類である。この化合物では、前記の符号Ｒ¹〜Ｒ⁶のいずれもが、同一または別異に、水素原子または置換基を有してもよい炭化水素基を示している。この場合の炭化水素基は、鎖状または環状で、飽和もしくは不飽和の各種のものであってよく、アルキル基、アルケニル基等の脂肪族基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基等の脂環式基、フェニル基、トリル基等のアリール基、あるいは異種原子を含む複素環基等の各種のものであってよい。
【００１３】
また、これらの炭化水素基は、この出願の発明に寄与する限り、各種の置換基、たとえばアルコキシ基、エステル基、ニトロ基、シアノ基等を有していてもよい。
【００１４】
反応基質としての前記式（１）で表わされるアミノメチルアレン類について、これを具体的に例示すると、たとえば、Ｎ−メチルアミノメチルアレン、Ｎ−エアミノメチルアレン、Ｎ−プロピルアミノメチルアレン類、Ｎ−ベンジルアミノメチルアレンをはじめとするＮ−アルキルアミノメチルアレンやアミノメチルアレン、アレン上にアルキル、フェニル置換基を導入した化合物を挙げることができる。
【００１５】
前記の式（１）で表わされるアミノメチルアレン類は、この出願の発明においては二酸化炭素と反応される。この際の反応は、二酸化炭素の加圧下に行うことが望ましい。
【００１６】
二酸化炭素の圧力を向上させると生成物の収率が増加し、特に超臨界二酸化炭素下（１５．０ＭＰａ、５０℃）で、たとえば７０％以上に達することが確認されている。二酸化炭素の圧力が１．０ＭＰａ未満では二酸化炭素が反応に関与しない生成物である３−ピロリンの副生が増加する傾向にある。このため、実際的には、１．０ＭＰａ以上とすることが好ましい。超臨界二酸化炭素下ではアミンからのカルバミン酸生成が有利になり、反応効率が向上したものと考えられる。
【００１７】
そして、この出願の発明では、上記の反応に遷移金属触媒を用いることを特徴としてもいる。この場合の遷移金属触媒としては、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、白金などの後周期遷移金属またはその化合物を好適に用いることができるが、特にパラジウムが触媒として有効である。なかでも、化合物としての酢酸パラジウムや塩化パラジウムのような有機酸塩や無機酸塩、そして、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）錯体、ジクロロビス（ホスファイト）パラジウム（ＩＩ）錯体、ジクロロビス（ホスフィン）パラジウム（ＩＩ）錯体、ジベンジリデンアセトンパラジウム（Ｏ）錯体、テトラキス（ホスファイト）パラジウム（Ｏ）錯体などの様々なＰｄ（Ｏ）およびＰｄ（ＩＩ）錯体を好適に用いることができる。特に酢酸パラジウムが触媒前駆体としてもっとも活性が高いことも確認されている。
【００１８】
反応基質としての前記のアミノメチルアレン類と触媒との使用割合は、モル比として、一般的には、基質／触媒＝５０〜５００の範囲もしくはその近傍を目安とすることができる。
【００１９】
超臨界二酸化炭素のみを媒体としもよいが、この出願の発明においては、有機溶媒、たとえばトルエン、ジクロロメタン、ＴＨＦ等を溶媒として添加することが有効である。
【００２０】
この出願の発明の方法においては、無毒の二酸化炭素カルボニル源とする反応であり、従来法よりも使用する化学物質の安全性に配慮し、反応に伴う廃棄物を最小限に抑えた環境負荷低減プロセスが実現される。
【００２１】
また、ファインケミカルズをはじめとする各種合成中間体等として有用な前記式（２）で表わされる２−オキサゾリジノン類の製造法として重要となり、生成物の５位のビニル基をさらに修飾、変換することができる点に大きな魅力がある。
【００２２】
そこで以下に実施例を示し、さらに詳しく説明する。もちろん、以下の例によって発明が限定されることはない。
【００２３】
【実施例】
オートクレーブ中に、トルエン（１．５ｍＬ）、酢酸パラジウム（２．２ｍｇ、１．０×１０−２ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルアミノメチルアレン（１２４．７ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を導入し、二酸化炭素を圧入（０．２５．０ＭＰａ）したのち、室温−１００℃で攪拌する。５０℃の二酸化炭素の超臨界状態で、所定の反応時間（１５時間）後、反応容器を冷却し、二酸化炭素を放出した。通常の分離操作により、３−メチル−５−ビニル−２−オキサゾリジノンが収率７３％（１３８．１ｍｇ、１．０９ｍｍｏｌ）で得られた。
【００２４】
【発明の効果】
以上詳しく説明したとおり、この出願の発明によって、より毒性が低く、しかもハライド塩のような反応剤を使用せずに、環境調和型の合成法としてより効率的に２−オキサゾリジノン類の製造を可能にする方法が提供され、また、２−オキサゾリジノン類として各種の利用が可能とされる修飾誘導体の合成をも可能とする方法が提供される。

Claims (4)

1. 次式（１）
   

   

   （式中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、各々同一または別異に、水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基を示す）
   で表わされるアミノメチルアレン類を遷移金属触媒の存在下、二酸化炭素の加圧下で、二酸化炭素と反応させ、次式（２）
   

   

   （式中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は前記のものを示す）
   で表わされる２−オキサゾリジノン類を製造することを特徴とする２−オキサゾリジノン類の製造方法。
2. １．０ＭＰａ以上の加圧下で反応させることを特徴とする請求項１の２−オキサゾリジノン類の製造方法。
3. 超臨界二酸化炭素下で反応させることを特徴とする請求項１または２の２−オキサゾリジノン類の製造方法。
4. 遷移金属触媒は、第８族〜第１０族金属もしくはその化合物のうちの１種以上であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかの２−オキサゾリジノン類の製造方法。