JP4265762B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
12 真空容器
13 放電用ガス導入機構
14 基板ホルダ
15 被処理基板
16 アンテナ
17 高周波電源
18 矩形導波管
19 導波管・同軸型伝送路変換器
20 内部導体
21 導波管プランジャ
22 導波管プランジャ
23 同軸型共振器
Claims (11)
- 排気機構およびガス導入機構を有する真空容器の内部に設けられるアンテナと、このアンテナに電磁波伝送路を介して電磁波を供給する高周波電源とを備え、前記ガス導入機構により前記真空容器の内部に供給されたガスを前記アンテナに供給された前記電磁波による電力により電離してプラズマを生成し、このプラズマによって基板を処理するプラズマ処理装置において、
前記アンテナは、前記真空容器の壁部を貫通して設けられた同軸型伝送路の内部導体を延長して前記真空容器内に突出させた部分として構成され、かつ前記基板に対して垂直な位置関係で配置され、
前記同軸型伝送路における前記アンテナと反対側の端部には同軸型の可動式完全反射終端が設けられ、
前記電磁波は、前記真空容器と前記可動式完全反射終端との間に設置された変換器に供給され、そして、
前記アンテナに対してバイアス電圧を与える電源を備える、
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記基板の処理はスパッタ成膜処理であり、前記アンテナはターゲットとして兼用されることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記同軸型伝送路が同一の前記電磁波伝送路に複数個設置され、かつ、前記複数個の同軸型伝送路のそれぞれの内部導体の一部が前記アンテナとして動作することを特徴とする請求項1または2記載のプラズマ処理装置。
- 前記複数個の同軸型伝送路で、前記真空容器の内部に位置するアンテナがターゲット部材で電気的に接続されていることを特徴とする請求項3記載のプラズマ処理装置。
- 前記アンテナはロッド状形態を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記アンテナは端部に、前記基板に平行な板状ターゲット部を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- ターゲットとして機能する部分の少なくとも下側領域に誘電体が設けられることを特徴とする請求項4または6記載のプラズマ処理装置。
- 前記内部導体および前記アンテナにその軸方向に貫通したガス流路を形成し、前記真空容器の内部空間への放電用ガスの供給に用いることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記真空容器の壁部における前記内部導体の貫通部での前記アンテナと前記同軸型伝送路の間には同軸型共振器が設けられることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- バイアス電圧を与える前記電源は、前記アンテナの材料に応じて直流電源または高周波電源であることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記同軸型伝送路に供給される電磁波の周波数は2.45GHzであることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
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