JP4263292B2 - 金属パラジウム物性を制御した水素添加反応用パラジウム触媒及びその製造法 - Google Patents
金属パラジウム物性を制御した水素添加反応用パラジウム触媒及びその製造法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4263292B2 JP4263292B2 JP00994799A JP994799A JP4263292B2 JP 4263292 B2 JP4263292 B2 JP 4263292B2 JP 00994799 A JP00994799 A JP 00994799A JP 994799 A JP994799 A JP 994799A JP 4263292 B2 JP4263292 B2 JP 4263292B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- palladium
- catalyst
- surface area
- hydrogen
- shows
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 373
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 title claims description 184
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 118
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 title claims description 44
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 26
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 title claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 73
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 73
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 38
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 28
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 17
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 17
- 238000003795 desorption Methods 0.000 claims description 16
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- -1 olefin compound Chemical class 0.000 claims description 13
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 10
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 10
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 46
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 28
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 27
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 25
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 24
- NEHNMFOYXAPHSD-UHFFFAOYSA-N citronellal Chemical compound O=CCC(C)CCC=C(C)C NEHNMFOYXAPHSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 16
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 15
- 239000004280 Sodium formate Substances 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- HLBBKKJFGFRGMU-UHFFFAOYSA-M sodium formate Chemical compound [Na+].[O-]C=O HLBBKKJFGFRGMU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- 235000019254 sodium formate Nutrition 0.000 description 13
- WTEVQBCEXWBHNA-UHFFFAOYSA-N Citral Natural products CC(C)=CCCC(C)=CC=O WTEVQBCEXWBHNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229940043350 citral Drugs 0.000 description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- WTEVQBCEXWBHNA-JXMROGBWSA-N geranial Chemical compound CC(C)=CCC\C(C)=C\C=O WTEVQBCEXWBHNA-JXMROGBWSA-N 0.000 description 11
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229930003633 citronellal Natural products 0.000 description 10
- 235000000983 citronellal Nutrition 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical group CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 6
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical compound C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 6
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 6
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 5
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 4
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical class O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical class COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCKGFTQIICXDQW-ZEQRLZLVSA-N 5-[(1r)-1-hydroxy-2-[4-[(2r)-2-hydroxy-2-(4-methyl-1-oxo-3h-2-benzofuran-5-yl)ethyl]piperazin-1-yl]ethyl]-4-methyl-3h-2-benzofuran-1-one Chemical compound C1=C2C(=O)OCC2=C(C)C([C@@H](O)CN2CCN(CC2)C[C@H](O)C2=CC=C3C(=O)OCC3=C2C)=C1 OCKGFTQIICXDQW-ZEQRLZLVSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- MOOAHMCRPCTRLV-UHFFFAOYSA-N boron sodium Chemical class [B].[Na] MOOAHMCRPCTRLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004230 steam cracking Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
石油化学工業の基礎原料としての各種オレフィン化合物類は、通常ナフサのスチ−ムクラッキングによって製造されるが、その中には高不飽和炭化水素化合物類が含有されており、高分子化学工業用原料として使用するためにはこれら化合物類を除去しなければならない。
【0002】
高不飽和炭化水素化合物類除去方法としては、これら化合物を触媒存在下に水素と選択的に反応させて除去する方法、及び溶剤抽出によって除去する方法等があるが、本発明による触媒は前者の高不飽和炭化水素化合物を選択的に水素添加し、高純度のオレフィン化合物を得るための反応に適用され、その他不飽和アルデヒドの選択的水素化反応及び高級オレフィン類の完全水素添加反応に適用される。
【0003】
【従来の技術】
高不飽和炭化水素化合物類の水素添加反応に対しては多くの金属が活性を有していることが知られているが、石油化学工業の中で行われているオレフィン化合物類を精製するための水素添加反応の場合、副反応としてのオレフィン化合物類水素添加によるオレフィン類の損失を防止するために高選択性を有する触媒が必要で、それに適合したものとしてパラジウム系触媒が使用されている。
【0004】
選択水素添加反応で使用されるパラジウム系触媒は高選択性であるだけでなく活性にも優れているために反応は低温度から開始され、別の副反応として起こる触媒表面への炭素質物質付着等によって活性が低下し、反応効率の低下が認められてきたら徐々に反応温度を上昇させ、高不飽和炭化水素化合物類が未反応のまま生成系に含有されるのを防ぎつつ操業され、オレフィン化合物類の水素添加反応が活発になる限界点付近まで温度が上昇したら反応を中断し、触媒を再生処理した後、再使用される。
【0005】
パラジウム触媒存在下でのオレフィン化合物類とアセチレン化合物類の反応性を比較するとアセチレン化合物類の方が著しく高いが、反応系に通常存在する量はオレフィン化合物類の方が圧倒的に多いので、アセチレン化合物類の水素添加に平行してオレフィン化合物類の水素添加も起こり、この副反応としてのオレフイン化合物類水素添加反応をできるだけ起こさない触媒であることが目的化合物の収率上好ましい。
【0006】
この他に別の副反応としての高不飽和化合物類の重合による炭素質物質の触媒上への析出も起こり、触媒の活性を低下させるので、選択的水素添加反応を長期間、安定的に操業することを困難にし、触媒の再生頻度を高くするので、出来るだけこの物質の析出が少ない触媒であることが好ましく、又不飽和アルデヒド類の選択的水素添加反応においても低副反応触媒が好ましいことは言うまでもない。
【0007】
これら選択性が要求される触媒の場合は金属パラジウム表面積が比較的小さい触媒が好結果を示すのに対し、高級オレフィン類の完全水素添加反応の場合は高活性であることが重要で、金属パラジウム表面積が比較的大きなパラジウム系触媒が使用される。
【0008】
触媒の物性を改善することは副反応を抑制する方法として有力で、その技術も提案されており、例えば米国特許第4762956号明細書にはパラジウム・アルミナ触媒の担体アルミナとして、3種類のアルミナ水和物混合物を高温焼成することが、特公昭58−017835号公報にはパラジウム・アルミナ触媒の担体として表面積が55〜120m2/gのアルミナを使用することが、特公昭63−017813号公報及び特公昭54−135711号公報にはパラジウム・アルミナ触媒のパラジウム結晶の大きさを少なくとも50Å(オングストローム)以上とすることが、欧州特許第64301号明細書中にはパラジウム・アルミナ触媒において、助触媒成分として銀を含有し、担体は表面積が3〜7m2/gのαアルミナで、パラジウム担持層の厚さが300ミクロン以下とすることが開示されている。
【0009】
触媒の物性改善に関するものの中で、有効成分であるパラジウムの物性改善を開示しているものは、パラジウムの結晶子径を50Å(オングストローム)以上とすることのみであり、特定のパラジウム微結晶面を露出させ、担体の表面積を変えることなく金属パラジウム表面積のみを制御する方法は見られず、又不飽和アルデヒドの選択水素添加反応の高活性化に関しては、特開昭51−113801号公報に助触媒成分としてのコバルト及び/又は亜鉛を添加することが開示されているにみで、金属パラジウムの物性改善に関するものは見られない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
アルミナ担持パラジウム触媒において、担体としてのアルミナ表面積を変えることなく、単位重量当たりの金属パラジウム表面積を制御し、かつ特定の結晶面を露出した水素添加反応用触媒及びその製造法を提供する。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明者等はパラジウム触媒について、各種パラジウム原料を使用してアルミナ担体に担持後、乾燥、焼成、還元を行った触媒調製の中で、パラジウム原料の種類、各工程の処理条件の違いにより金属パラジウムの表面積、X線回折法により測定される表面に露出した結晶面、触媒への吸着水素の脱離の様子について研究した結果、パラジウム原料としてジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液を使用したパラジウム触媒は、通常触媒と異なる特異性を有することを発見した。
【0012】
即ち、パラジウム原料としてジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液をアルミナ担体に担持後、直ちに還元するか、室温〜350℃の温度範囲で熱処理後還元すると金属パラジウム表面積が1〜150m2/g・パラジウムであり、パラジウムの結晶面が主として(100)、(110)を示し、水素を吸着させた後加熱脱離させた時、脱離ピーク温度が40〜90℃、及び120〜170℃の温度範囲にあり、後者の温度範囲に於ける水素脱離量が前者の1.5〜2.5倍であり、ジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液をアルミナ担体に担持後、350〜600℃の温度範囲で熱処理し、次いで還元すると金属パラジウム表面積が150〜350m2/g・パラジウムであり、パラジウム結晶面が(111)を示し、水素を吸着させた後加熱脱離させた時、脱離ピーク温度が40〜90℃、及び120〜170℃の温度範囲にあり、前者の温度範囲に於ける水素脱離量が後者の1.5〜2.5倍であるという興味ある現象を示した。
【0013】
この金属パラジウム表面積の処理温度に対する挙動に関しては、驚くべきことに処理温度が高くなる程金属パラジウム表面積が高くなり、しかもその表面積が1〜150m2/g・パラジウムの範囲にある場合はパラジウムの結晶面が主として(100)、(110)からなっており、通常の塩化パラジウム原料で得られるパラジウム物性挙動、即ち処理温度が高くなる程パラジウム表面積は低下し、又パラジウムの結晶面は(111)からなっていることと相違する特異な物性挙動であった。
【0014】
一方、ジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液をアルミナ担体に担持後、350〜600℃の温度範囲で熱処理し、次いで還元した場合にはパラジウム結晶面に関しては(111)を示し、通常触媒と同様であるが、金属パラジウム表面積は150〜350m2/g・パラジウムであり、通常触媒が有する金属パラジウム表面積よりかなり高い。
【0015】
また、その触媒性能に関しては、比較的低金属パラジウム表面積を有する触媒はオレフィン中の高不飽和化合物の選択的水素添加反応及び不飽和アルデヒドの選択的水素添加反応に対し高性能を示し、高表面積を有する触媒は高級オレフィン類の完全水素添加反応に対し高性能を示すことを見出し、更に詳細に検討を加えることにより本発明の目標を達成した。
【0016】
本発明触媒は、ジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液を原料として使用し、これをアルミナ担体に担持させ、次いでそのまま還元するか、熱処理した後還元する方法によって調製される。
【0017】
パラジウム原料を担体上に担持する方法はジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液に担体を加え、担体の吸着作用を利用するソーキング法、担体の細孔容積内にジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液を満たすことにより物理的にジニトロジアンミンパラジウムを担持させる浸漬法、含浸法、及びジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液を担体上にふりかけるスプレー法等によって行われる。
【0018】
本発明にて使用するアルミナ担体表面積は1〜350m2/gであり、パラジウム原料に関してはジニトロジアンミン−硝酸溶液、又はパラジウムのアンミン錯塩類、若しくは有機系パラジウム化合物であることが必要で、他のパラジウム原料では担体表面積を変えずに金属パラジウム表面積のみを制御することは困難であり、特に高表面積アルミナ担体の低金属パラジウム表面積触媒、或いは低表面積アルミナ担体の高金属パラジウム表面積触媒を製造することは困難である。
【0019】
パラジウム原料を担体に担持後、直ちに還元するか又は乾燥、焼成後還元するが、焼成は担体上に担持された金属パラジウム表面積を制御する手段であり、触媒が目的とする反応に適した物性を有するようにするために慎重に焼成温度を選定する必要があり、本発明においては室温〜600℃の範囲で実施される。
【0020】
焼成温度は600℃が限界で、これ以上の温度で熱処理すると金属パラジウム表面積を低下し、原料としてジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液を使用した特徴が失われ、又600℃付近の高温で熱処理する場合は予めアルミナ担体を同等以上の温度で焼成処理しておき、パラジウム原料担持物熱処理時にアルミナ表面積変化が起きないようにしておくことが必要で、そのために高温処理の場合に使用する担体表面積はおよそ150m2/g以下のものでなければならず、低温熱処理の時にだけ350m2/gのような高表面積アルミナを使用することが出来る。
【0021】
熱処理した触媒中間体としてのパラジウム担持物は次いで還元するが、その方法は気相、液相どちらでもよく、気相還元の場合、パラジウムに対し還元性を有するガスであればどのようなガスも使用することが出来るが、実用上から水素が好ましく、又乾燥を含めた熱処理を行なわず直ちに気相還元する場合も同様に行うことが出来る。
【0022】
パラジウム担持物を液相還元する場合もパラジウムに対して還元性を有し、触媒毒となる硫黄、塩素、重金属類を含有しない物質の溶液であれば如何なる溶液も使用可能であるが、実用上の面からヒドラジン、アルコール類、ギ酸のアルカリ塩、ホルマリン、ナトリウムボロンハイドライド等が使用され、又乾燥を含めた熱処理を行なわず直ちに液相還元する場合も同様に行なうことが出来、触媒は液相還元終了後、水洗、乾燥して最終触媒とする。
【0023】
得られた触媒につき、X線回折法により測定される表面に露出した結晶面測定、触媒への水素吸着及び吸着水素の脱離状況測定、一酸化炭素吸着による金属パラジウムの表面積測定を行うことによって確認された本発明触媒の通常触媒と異なる物性上の相違点を以下に示す。
【0024】
先ず、第一の特異性として認められたのは、ジニトロジアンミンパラジウムをアルミナ担体に担持後の熱処理工程における温度の違いによりその後の還元品のパラジウム表面積が大きく変わり、その傾向は600℃付近までは、焼成温度の上昇に伴いパラジウム表面積が直線的に高くなり、一般的に見られる処理温度が高くなるほど表面積は低下する傾向と逆の現象を示しており、その際のパラジウム単位重量当たりの表面積は1〜350m2/g・パラジウムであり、通常触媒のパラジウム表面積では150〜200m2/g・パラジウムが上限値であることから非常に高パラジウム表面積の触媒が得られたことである。
【0025】
第二の特異性として認められたのは、還元法の違いにより得られた触媒のパラジウム表面積が大きく異なり、液相還元でのものに比べ、気相還元の触媒の場合には金属パラジウム表面積が著しく大きくなる特徴を有していることである。
【0026】
第三の特異性としては、パラジウム原料としてジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液をアルミナ担体に担持後、直ちに還元するか、室温〜350℃の温度範囲で熱処理後還元した触媒は金属パラジウム表面積が1〜150m2/g・パラジウムであり、パラジウムの結晶面が主として(100)、(110)を示し、水素を吸着させた後加熱脱離させた時、脱離ピーク温度が40〜90℃、及び120〜170℃の温度範囲にあり、後者の温度範囲に於ける水素脱離量が前者の1.5〜2.5倍であり、ジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液をアルミナ担体に担持後、350〜600℃の温度範囲で熱処理し、次いで還元すると金属パラジウム表面積が150〜350m2/g・パラジウムであり、パラジウム結晶面が(111)を示し、水素を吸着させた後加熱脱離させた時、脱離ピーク温度が40〜90℃、及び120〜170℃の温度範囲にあり、前者の温度範囲に於ける水素脱離量が後者の1.5〜2.5倍であることである。
【0027】
これは通常触媒においてはパラジウム原料を担体に担持後、直ちに還元するか熱処理後還元すると、金属パラジウム表面積は150〜200m2/g・パラジウムを上限として処理温度が高くなるにつれて直線的に減少し、結晶面に関してはすべて(111)を示すのみであることと著しく相違している。
【0028】
これら触媒につき加圧式気相流通式反応装置によりオレフィン中に少量含有される高不飽和炭化水素化合物を選択的に水素添加する反応、例えばC3溜分中のメチルアセチレン、プロパジエンの選択的水素化反応、及び不飽和アルデヒドの選択的水素添加反応、例えばシトラールのシトロネラールへの反応を低パラジウム表面積触媒で行なったところ高性能を示し、又高級オレフィンの完全水素添加反応、例えばC8〜C16オレフィンの水素添加反応を高パラジウム表面積触媒で行なったところ同様に高性能を示すことを確認し、本発明を完成した。
【0029】
【発明の効果】
本発明によって得られるパラジウム/アルミナ触媒は、アルミナ担体表面積を変えることなく金属パラジウム表面積のみが制御され、パラジウム微結晶の露出結晶面が特定化された触媒で、低金属パラジウム表面積触媒はオレフィン中に少量含有される高不飽和炭化水素化合物を選択的に水素添加する反応及び不飽和アルデヒドを選択的に水素添加する反応に対し、高パラジウム表面積触媒は高級オレフィンの完全水素添加反応に高性能を示し、目的に合った金属パラジウム表面積を有する触媒を容易に製造することが出来る実用性の高い触媒製造法である。
【0030】
【実施例】
次に本発明の内容を実施例によって具体的に説明するが、得られた触媒については物性測定として、X線回折によるパラジウム微粒子の結晶面の測定、パラジウムに対する水素吸着、脱離試験による触媒に対する水素の吸着特性測定、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積測定を行ない、性能測定としてはプロピレン中のプロパジエン、メチルアセチレンの選択的水素添加反応を加圧流通式反応装置によって、シトラールのシトロネラールへの選択的水素添加反応を加圧攪拌式オートクレーブによって、又高級オレフィンの完全水素添加反応を加圧流通式反応装置によって行なった。
【0031】
即ち、パラジウム微結晶の結晶面測定は、触媒をX線回折測定し、パラジウムの(200)、(220)、(111)回折ピークの半値幅より(100)、(110)、(111)面の結晶子径を算出し、パラジウムに対する水素の吸着、脱離による脱離水素量の測定は、触媒を110℃で60分水素処理し、次いで30℃に冷却後60分間水素気流中に保存することによって触媒上に水素を吸着させ、次いで吸着された水素を3℃/分で300℃まで加熱し、その間に脱離してきた水素量を測定することによって行い、又パラジウム表面積は触媒を水素還元した後300℃で脱気、次いで0℃で一酸化炭素を吸着させ、求められた吸着量から下記計算式によって算出した。
【数1】
【0032】
触媒の性能測定については、オレフィン中の高不飽和化合物選択的水素添加反応としてのプロピレン中のプロパジエン、メチルアセチレン水素化反応を加圧流通式反応装置によって下記の条件によって行った。
【0033】
プロピレン中のプロパジエン、メチルアセチエレン選択水素添加試験
触媒還元及び試験条件
触媒還元、及び試験条件は以下の通りである。
【0034】
触媒性能算出方法
原料及び生成物の分析結果より出口のメチルアセチレンが5ppmになった時のプロピレン濃度を反応速度式より求め、触媒性能としてプロピレンgainを次の式により求めた。
【数2】
プロピレンgain(mol%)=出口プロピレン濃度(mol%)−入口プロピレン濃度(mol%)
【0035】
別の反応として行なったシトラールのシトロネラールへの選択的水素添加反応を加圧回転式オートクレーブによって次に示す条件で行なった。
【0036】
シトラールのシトロネラールへの選択的水素添加反応試験
触媒還元及び試験条件
触媒還元、及び試験条件は以下の通りである。
【0037】
触媒性能算出法
原料及び生成物中のシトラール、シトロネラール含有量より下記式によってシトラール転化率及びシトロネラールへの選択性をもとめた。
A;原料中のシトラールvol.%
B;生成物中のシトラールvol.%
C;生成物中のシトロネラールvol.%
シトラール転化率(%)=〔(A−B)/A〕×100
シトロネラールへの選択率(%)=〔C/(A−B)〕×100
【0038】
更に、高級オレフィンの完全水素添加反応としてC8〜C16オレフィンの水素添加反応を加圧流通式反応装置によって次に示す条件で行なった。
【0039】
C8〜C16オレフィンの完全水素添加反応試験
触媒還元及び試験条件
触媒還元、及び試験条件は以下の通りである。
【0040】
実施例1
パラジウム含有量が1.8g/Lであるジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液150ccを300ccのビーカーに秤取り、この液に直径1.6mm、表面積100m2/gのアルミナ担体90gを浸漬、1時間保持することによって、担体上にパラジウム化合物を担持させ、中間体としてのジニトロジアンミンパラジウム担持アルミナを得た。
【0041】
この中間体を別に準備しておいた60℃に加温の5%蟻酸ソーダ水溶液に1時間漬けることによってパラジウム還元を行い、次いで水洗、110℃で20時間乾燥することによって実施例1の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0042】
実施例2
実施例1に於ける中間体としてのジニトロジアンミンパラジウム担持アルミナを100℃で20時間空気中で乾燥後、別に準備しておいた60℃に加温の5%蟻酸ソーダ水溶液に1時間漬けることによってパラジウム還元を行い、次いで水洗、110℃で20時間乾燥することによって実施例2の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0043】
実施例3
実施例1に於ける中間体としてのジニトロジアンミンパラジウム担持アルミナを100℃で20時間空気中で乾燥後、更に電気炉内に於いて200℃で5時間空気中で焼成し、次いで別に準備しておいた60℃に加温の5%蟻酸ソーダ水溶液に1時間漬けることによってパラジウム還元を行い、更に水洗、110℃で20時間乾燥することによって実施例3の触媒を調製した。
【0044】
得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示し、加圧流通式反応装置によって行なったプロピレン中のメチルアセチレン、プロパジエンの選択的水素添加反応試験結果を表3に示した。
【0045】
実施例4
実施例1に於ける中間体としてのジニトロジアンミンパラジウム担持アルミナを100℃で20時間空気中で乾燥後、更に電気炉内に於いて350℃で5時間空気中で焼成し、別に準備しておいた60℃に加温の5%蟻酸ソーダ水溶液に1時間漬けることによってパラジウム還元を行い、次いで水洗、110℃で20時間乾燥することによって実施例4の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0046】
実施例5
実施例1に於ける中間体としてのジニトロジアンミンパラジウム担持アルミナを100℃で20時間空気中で乾燥後、更に電気炉内に於いて500℃で5時間空気中で焼成し、別に準備しておいた60℃に加温の5%蟻酸ソーダ水溶液に1時間漬けることによってパラジウム還元を行い、次いで水洗、110℃で20時間乾燥することによって実施例5の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0047】
比較例1
パラジウム含有量が1.8g/Lである塩化パラジウム水溶液150ccを300ccのビーカーに秤取り、この液に直径1.6mm、表面積100m2/gのアルミナ担体90gを浸漬、1時間保持することによって、担体上にパラジウム化合物を担持させ、中間体としての塩化パラジウム担持アルミナを得た。
【0048】
この中間体を別に準備しておいた60℃に加温の5%蟻酸ソーダ水溶液に1時間漬けることによってパラジウム還元を行い、次いで水洗、110℃で20時間乾燥することによって比較例1の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0049】
比較例2
比較例1に於ける中間体としての塩化パラジウム担持アルミナを100℃で20時間空気中で乾燥後、更に電気炉内に於いて200℃で5時間空気中で焼成し、別に準備しておいた60℃に加温の5%蟻酸ソーダ水溶液に1時間漬けることによってパラジウム還元を行い、次いで水洗、110℃で20時間乾燥することによって比較例2の触媒を調製した。
【0050】
得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示し、加圧流通式反応装置によって行なったプロピレン中のメチルアセチレン、プロパジエンの選択的水素添加反応試験結果を表3に示した。
【0051】
比較例3
比較例1に於ける中間体としての塩化パラジウム担持アルミナを100℃で20時間空気中で乾燥し、更に電気炉内に於いて500℃で5時間空気中で焼成後、別に準備しておいた60℃に加温の5%蟻酸ソーダ水溶液に1時間漬けることによってパラジウム還元を行い、次いで水洗、110℃で20時間乾燥することによって比較例3の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0052】
参考例1
実施例2に於ける5%蟻酸ソーダ水溶液によるパラジウム還元に代えて300℃に於ける水素還元を行うことにより、参考例1の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0053】
参考例2
実施例3に於ける5%蟻酸ソーダ水溶液によるパラジウム還元に代えて300℃に於ける水素還元を行うことにより、参考例2の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0054】
実施例8
実施例4に於ける5%蟻酸ソーダ水溶液によるパラジウム還元に代えて300℃に於ける水素還元を行うことにより、実施例8の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0055】
参考例3
実施例5に於ける5%蟻酸ソーダ水溶液によるパラジウム還元に代えて300℃に於ける水素還元を行うことにより、参考例3の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0056】
参考例4
パラジウム含有量が0.27g/45ccであるジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液を、直径1.6mm、表面積220m2/gのアルミナ担体90gにスプレーすることにより担体上にパラジウム化合物を担持させ、中間体としてのジニトロジアンミンパラジウム担持アルミナを得た。
【0057】
この中間体を100℃、20時間乾燥後、60℃に加温の5%ヒドラジン水溶液で1時間処理することによってパラジウムの液相還元を行ない、次いで水洗、110℃、20時間乾燥することによって参考例4の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0058】
参考例5
参考例4において、中間体としてのジニトロジアンミンパラジウム担持アルミナを100℃、20時間乾燥後、350℃、5時間焼成した以外は参考例4と同様にして参考例5の触媒を調製した。
【0059】
得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示し、加圧流通式反応装置で行なったシトラールのシトロネラールへの選択的水素添加反応試験結果を表4に示した。
【0060】
比較例4
参考例4において、ジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液に代えてパラジウム含有量が0.27g/45ccである塩化パラジウム水溶液を使用した以外は参考例4と同様にして比較例4の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0061】
比較例5
参考例5において、ジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液に代えてパラジウム含有量が0.27g/45ccである塩化パラジウム水溶液を使用した以外は参考例5と同様にして比較例5の触媒を調製した。
【0062】
得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示し、加圧流通式反応装置で行なったシトラールのシトロネラールへの選択的水素添加反応試験結果を表4に示した。
【0063】
実施例12
実施例1において、表面積100m2/gのアルミナ担体に代えて34m2/gの担体を、パラジウム含有量1.8g/Lのジニトロジアンミンパラジウム硝酸溶液に代えて含有量4.2g/Lの溶液を、5%ギ酸ソーダに代えて5%ホルマリン溶液を使用した以外は実施例1と同様にして実施例12の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0064】
実施例13
実施例8において、表面積100m2/gのアルミナ担体に代えて34m2/gの担体を、パラジウム含有量1.8g/Lのジニトロジアンミンパラジウム硝酸溶液に代えて含有量0.3g/Lの溶液を使用した以外は実施例8と同様にして実施例13の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0065】
実施例14
実施例12において、パラジウム含有量4.2g/Lのジニトロジアンミンパラジウム硝酸溶液に代えて含有量9.0g/L溶液を使用した以外は実施例12と同様にして実施例14の触媒を調製した。得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示した。
【0066】
参考例6
実施例13において、表面積34m2/gのアルミナ担体に代えて350m2/gの担体を用いた以外は実施例13と同様にして参考例6の触媒を得た。
【0067】
得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表―1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示し、加圧流通式反応装置で行なった高級オレフィンとしてのC8〜C16オレフィンの完全水素添加反応試験結果を表5に示した。
【0068】
比較例6
実施例13において、表面積34m2/gのアルミナ担体に代えて350m2/gの担体を、パラジウム含有量4.2g/Lのジニトロジアンミンパラジウム硝酸溶液に代えてその含有量4.2g/Lの塩化パラジウム水溶液を使用した以外は実施例13と同様にして比較例6の触媒を調製した。
【0069】
得られた触媒について行なったパラジウム含有量、X線回折によるパラジウム結晶面、一酸化炭素吸着によるパラジウム表面積の測定結果を表1に、触媒への吸着水素の脱離水素量測定結果を表2にそれぞれ示し、加圧流通式反応装置で行なった高級オレフィンとしてのC8〜C16オレフィンの完全水素添加反応試験結果を表5に示した。
【0070】
【表1】
【0071】
【表2】
【0072】
【表3】
【0073】
【表4】
【0074】
【表5】
Claims (3)
- ジニトロジアンミンパラジウム−硝酸溶液を原料として用い、ジニトロジアンミンパラジウムをアルミナ担体に担持後、室温〜350℃の温度範囲で熱処理後還元することにより、担体表面積を変えることなく、金属パラジウム表面積が1〜150m 2 /g・パラジウムであり、パラジウムの結晶面が(100)、(110)であり、水素を吸着させた後加熱脱離させた時、脱離ピーク温度が40〜90℃、及び120〜170℃の温度範囲にあり、後者の温度範囲に於ける水素脱離量が前者の1.5〜2.5倍を示し、
また該ジニトロジアンミンパラジウムをアルミナ担体に担持後、350〜600℃の温度範囲で熱処理後還元することにより、金属パラジウム表面積が150〜350m 2 /g・パラジウムであり、パラジウム結晶面が(111)であり、水素を吸着させた後加熱脱離させた時、脱離ピーク温度が40〜90℃、及び120〜170℃の温度範囲にあり、前者の温度範囲に於ける水素脱離量が後者の1.5〜2.5倍を示すことを特徴とする金属パラジウム物性を制御したオレフィン化合物中の高不飽和炭化水素化合物選択水素添加用触媒の製造方法。 - 構成成分としてのパラジウム含有量が0.02〜5wt.%であり、アルミナ担体の表面積が1〜350m2/gである請求項1記載の金属パラジウム物性を制御したオレフィン化合物中の高不飽和炭化水素化合物選択水素添加用触媒の製造方法。
- 請求項1または2記載の方法により製造された金属パラジウム物性を制御したオレフィン化合物中の高不飽和炭化水素化合物選択水素添加用触媒。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00994799A JP4263292B2 (ja) | 1999-01-18 | 1999-01-18 | 金属パラジウム物性を制御した水素添加反応用パラジウム触媒及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00994799A JP4263292B2 (ja) | 1999-01-18 | 1999-01-18 | 金属パラジウム物性を制御した水素添加反応用パラジウム触媒及びその製造法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000202287A JP2000202287A (ja) | 2000-07-25 |
JP2000202287A5 JP2000202287A5 (ja) | 2006-02-02 |
JP4263292B2 true JP4263292B2 (ja) | 2009-05-13 |
Family
ID=11734191
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP00994799A Expired - Lifetime JP4263292B2 (ja) | 1999-01-18 | 1999-01-18 | 金属パラジウム物性を制御した水素添加反応用パラジウム触媒及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4263292B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5001543B2 (ja) * | 2004-11-17 | 2012-08-15 | 三菱レイヨン株式会社 | パラジウム含有担持触媒の製造方法 |
-
1999
- 1999-01-18 JP JP00994799A patent/JP4263292B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000202287A (ja) | 2000-07-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6509292B1 (en) | Process for selective hydrogenation of acetylene in an ethylene purification process | |
KR100333350B1 (ko) | 올레핀 화합물류 중의 고불포화 탄화수소 화합물 선택 수소 첨가용 촉매 | |
EP1773487B1 (en) | Selective hydrogenation catalyst designed for raw gas feed streams | |
JP3939787B2 (ja) | 炭化水素流中のアセチレンの選択的接触水素化のためのパラジウム含有担体付き触媒 | |
JP3831821B2 (ja) | 接触水素化方法およびこの方法において使用可能な触媒 | |
JP5065255B2 (ja) | 触媒の製造方法 | |
JP3978234B2 (ja) | 担持型パラジウム・金触媒を製造する改良された方法 | |
JP4970634B2 (ja) | 有機化合物の変換反応において使用可能な担持触媒 | |
JP5463141B2 (ja) | 銅及び亜鉛を含む触媒での不飽和炭化水素の水素化方法 | |
JP5939485B2 (ja) | 水素化方法 | |
JPH0623269A (ja) | 担体上に担持された第viii族の金属と第iiia族の金属とを含む触媒 | |
JP2004529759A (ja) | アルキン類の選択的水素化方法及びそのための触媒 | |
US4088603A (en) | Catalyst activation process | |
KR101644665B1 (ko) | 알킨의 대응 알켄으로의 선택적 촉매 수소화 | |
US4822936A (en) | Selective hydrogenation of phenylacetylene in the presence of styrene | |
US6936568B2 (en) | Selective hydrogenation catalyst | |
WO2010077262A2 (en) | Catalyst regeneration method | |
JP2018508351A (ja) | 分散した金およびパラジウムを含む触媒、および選択的水素化におけるそれの使用 | |
WO2005044762A1 (en) | Selective hydrogenation catalyst | |
JP4263292B2 (ja) | 金属パラジウム物性を制御した水素添加反応用パラジウム触媒及びその製造法 | |
JP5346030B2 (ja) | 1,3−ブタジエン中のアセチレン類化合物の選択水素化用触媒およびその製造方法並びにその使用方法 | |
RU2772013C1 (ru) | Способ изготовления катализатора селективного гидрирования ППФ | |
AU2002250435A1 (en) | Process for selective hydrogenation of acetylene in an ethylene purification process |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051212 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051212 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080722 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080725 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080924 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090114 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090212 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140220 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |