JP4252939B2 - レーザ加工方法 - Google Patents
レーザ加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4252939B2 JP4252939B2 JP2004203488A JP2004203488A JP4252939B2 JP 4252939 B2 JP4252939 B2 JP 4252939B2 JP 2004203488 A JP2004203488 A JP 2004203488A JP 2004203488 A JP2004203488 A JP 2004203488A JP 4252939 B2 JP4252939 B2 JP 4252939B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductor layer
- hole
- layer
- laser beam
- resin layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
を有するレーザ加工方法が提供される。
2 内層導体層
3 樹脂層
4 穴
5 スミア
L パルスレーザビーム
P1、P2 プラズマ
6 加工基板
Claims (6)
- (a)導体層と樹脂層とが積層された構造を含む加工対象物の、該導体層と該樹脂層とが積層された構造にレーザビームを照射して、該樹脂層を除去し、底面が該導体層に達する穴を形成する工程と、
(b)前記穴の底面に、パルス幅が100nsより長く、前記穴の底面における1パルス当たりのエネルギ密度が1.5J/cm2以上のパルスレーザビームを照射し、前記導体層の表面を溶融させる工程と、
(c)前記工程(b)の後、前記穴の底面に残留したスミアを除去する工程と
を有するレーザ加工方法。 - 前記工程(a)でレーザビームが照射される前記加工対象物において、前記導体層の前記樹脂層と接する表面は粗化処理されている請求項1に記載のレーザ加工方法。
- 前記導体層が銅からなり、前記工程(b)で照射されるレーザビームの波長は、200nm以上700nm以下である請求項1または2に記載のレーザ加工方法。
- 前記工程(a)及び(b)で照射されるレーザビームの、パルス幅、前記加工対象物の表面における1パルス当たりのエネルギ密度、及び波長が等しい請求項1〜3のいずれかに記載のレーザ加工方法。
- 前記工程(c)において、前記穴の底面をプラズマに晒すことによりスミアを除去する請求項1〜4に記載のレーザ加工方法。
- 導体層と樹脂層とが積層された構造を含む加工対象物の、該導体層と該樹脂層とが積層された構造に、パルス幅が100nsより長く、該加工対象物の表面における1パルス当たりのエネルギ密度が1.5J/cm2以上のパルスレーザビームを、該樹脂層が貫通して該導体層の表面の一部が露出し、かつ該導体層の露出した部分の表層が溶融するまで照射する工程と、
前記導体層の露出した表面に残留するスミアを除去する工程と
を有するレーザ加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004203488A JP4252939B2 (ja) | 2004-07-09 | 2004-07-09 | レーザ加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004203488A JP4252939B2 (ja) | 2004-07-09 | 2004-07-09 | レーザ加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006021242A JP2006021242A (ja) | 2006-01-26 |
JP4252939B2 true JP4252939B2 (ja) | 2009-04-08 |
Family
ID=35794891
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004203488A Expired - Fee Related JP4252939B2 (ja) | 2004-07-09 | 2004-07-09 | レーザ加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4252939B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008068266A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ウエハ加工方法及び装置 |
US8288682B2 (en) * | 2007-09-28 | 2012-10-16 | Intel Corporation | Forming micro-vias using a two stage laser drilling process |
JP5454080B2 (ja) * | 2008-10-23 | 2014-03-26 | 住友電気工業株式会社 | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
-
2004
- 2004-07-09 JP JP2004203488A patent/JP4252939B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006021242A (ja) | 2006-01-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8710402B2 (en) | Method of and apparatus for laser drilling holes with improved taper | |
CN101689482B (zh) | 一种提供经布图处理的内嵌导电层的方法 | |
JP4835067B2 (ja) | 回路基板の製造方法、プリント回路板の製造方法およびプリント回路板 | |
JP2009088282A (ja) | プリント配線板の製造方法及びこの製造方法に用いられる電解エッチング処理液 | |
JP2005518945A (ja) | レーザ加工方法 | |
JP2004351513A (ja) | 超短パルスレーザーによる材料加工方法、プリント配線板、及びその製造方法 | |
JP4252939B2 (ja) | レーザ加工方法 | |
KR101942110B1 (ko) | 레이저 가공방법 | |
KR100661108B1 (ko) | 레이저 가공방법 | |
JP2000202664A (ja) | レ―ザ穴あけ加工方法 | |
RU2396738C1 (ru) | Способ изготовления печатных плат | |
JP3830830B2 (ja) | レーザ加工方法 | |
JP5109285B2 (ja) | 多層配線基板の製造方法 | |
JP2004327830A (ja) | プリント基板の製造方法およびプリント基板 | |
JP3583279B2 (ja) | 穴あけ加工方法 | |
JP2004074211A (ja) | レーザ加工方法 | |
JP4502092B2 (ja) | 積層フィルム基材の加工方法 | |
JP3869736B2 (ja) | レーザ加工方法及び多層配線基板 | |
JP2006203074A (ja) | 回路基板の製造方法および回路基板 | |
JP2004031500A (ja) | 多層プリント配線基板の穴あけ加工方法 | |
JP2021089926A (ja) | レーザ加工方法 | |
Brannon | Laser-material processing: an industrial view of packaging applications | |
Häfner et al. | KEINE FREISCHALTUNG-Urheberrecht 0 bei Dokument mit Volltext Picosecond laser microvia drilling of ABF material using MHz burst mode | |
JP2004148344A (ja) | レーザ加工方法 | |
JPH09162519A (ja) | 孔開き基板及びその加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061115 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081217 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090106 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120130 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130130 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |