JP4241518B2 - マルチリーフコリメータ - Google Patents
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Description
すなわち、この発明の請求項1記載のマルチリーフコリメータは、複数枚のリーフで構成されるコリメータブロックを照射線の照射方向に複数段備えたマルチリーフコリメータにおいて、それぞれの段の前記コリメータブロックを前記照射線の照射方向にアイソセンタからの位置を変更可能に構成し、それぞれの段の前記コリメータブロックを構成するリーフを、前記コリメータブロックの位置に応じて頂点から円錐状に広がる前記照射線の広がりに基づき前記アイソセンタ上の照射像で前記段数分の1ずつピッチがずれるように前記リーフのピッチおよび幅を代え、各リーフによる前記照射像の幅が同一となるよう構成したことを特徴とするものである。
また、照射線を、頂点から円錐状に広がるビームで構成し、リーフを、このビームの広がりに基づきアイソセンタ上の照射像で段数分の1ずつピッチがずれるようにしており、照射線が円錐状であっても、多段のリーフを照射像上で段数分の1ずつずれるピッチとすることで、多段のリーフによる照射野の輪郭を最も高精度にできるようにしている。
さらに、リーフのピッチおよび幅を代え、段数分の1ずつピッチをずらすとともに、同一の照射像幅となるようしており、照射線が円錐状であっても、多段のリーフによる照射野の輪郭を最も高精度にできるようにしている。
ここで、リーフピッチとは、隣接するリーフの幅中心間の距離をいい、照射面上のピッチとは、リーフの照射像での幅中心間の距離をいう。
また、照射線を、頂点から円錐状に広がるビームで構成し、リーフを、このビームの広がりに基づきアイソセンタ上の照射像で段数分の1ずつピッチがずれるようにしたので、照射線が円錐状であっても、多段のリーフを照射像上で段数分の1ずつずれるピッチとすることで、多段のリーフによる照射野の輪郭を最も高精度にすることができる。
さらに、リーフのピッチおよび幅を代え、段数分の1ずつピッチをずらすとともに、同一の照射像幅となるようしたので、照射線が円錐状であっても、多段のリーフによる照射野の輪郭を最も高精度にすることができる。
図1および図2はこの発明のマルチリーフコリメータを2段のリーフコリメータブロックで構成した一実施の形態にかかり、図1は照射線の軸直角方向からリーフコリメータブロックの片側のリーフ端面を見た場合の説明図、図2はリーフコリメータブロックの側面から見た(図1の紙面直角方向から両側のリーフを見た)場合を従来例(b)と比較して示す説明図である。
ここでは、粒子ビームの広がり角を考慮し、1/2リーフピッチの投影像を得るための条件を求める。
まず、リーフ配置方法として、ビームBの広がりに対応し、患者照射面(アイソセンタ)15上に形状Aを投影するための条件を求める。
次に、干渉パターンを解析し、アイソセンタ15上の投影像に干渉の起こらない寸法条件を求める。
したがって、
δ=P1−P2
∴P1=P2+δ
となる。
そこで、下記のレイアウト条件のある装置で、干渉の起こるnを求める。
L = 4748.82 mm
l = 4425.82 / 3925.82 mm (MLC位置200/700)
h = 88 mm
p1 = p2 = 4.5mm
ここで、Lはビーム広がりの頂点(下流側電磁石の中心)からアイソセンタまでの距離、
lはビーム広がりの頂点(下流側電磁石の中心)から MLCまでの位置
h は上下間リーフピッチ
p1、p2は上下段それぞれのリーフピッチ、である。
これらの条件を用いるとともに、干渉が生じる条件P1(n)>P2(n)を用いて、nについて解くと、次式4のように求めることができる。
次に、アイソセンタ上で、上下段のリーフの投影ピッチが同じになる条件を干渉が起こらない条件として求める。
干渉の位置は、マルチリーフコリメータ(MLC)の位置により異なるため、図より判断し、干渉の影響が大きいマルチリーフコリメータ(MLC)が700mmの位置の場合で干渉を回避する条件を求める。
アイソセンタ上で1/2ピッチの照射像が得られる条件は、次式5で表すことができる。
11,12 上下リーフコリメータブロック
13,14 上下のリーフ
15 アイソセンタ
16,17 照射像
p1、p2 上下のリーフピッチ
A1、A2 上下のリーフの照射像の大きさ
O ワブラ電磁石の頂点
Claims (2)
- 複数枚のリーフで構成されるコリメータブロックを照射線の照射方向に複数段備えたマルチリーフコリメータにおいて、
それぞれの段の前記コリメータブロックを前記照射線の照射方向にアイソセンタからの位置を変更可能に構成し、それぞれの段の前記コリメータブロックを構成するリーフを、前記コリメータブロックの位置に応じて頂点から円錐状に広がる前記照射線の広がりに基づき前記アイソセンタ上の照射像で前記段数分の1ずつピッチがずれるように前記リーフのピッチおよび幅を代え、各リーフによる前記照射像の幅が同一となるよう構成したことを特徴とするマルチリーフコリメータ。 - 前記コリメータブロックを2段で構成するとともに、前記リーフを、前記アイソセンタ上の照射像で2段のリーフによる照射像が半ピッチずつずれる構成としたことを特徴とする請求項1記載のマルチリーフコリメータ。
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