JP4530032B2 - イオンビーム照射方法およびイオンビーム照射装置 - Google Patents
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Description
Y方向の両端部が、p行(pは1≦p≦(m−2)の整数)の前記セルを挟む二つの行形成分割帯にそれぞれ位置するビーム幅のイオンビームを用いて、
前記基板をX方向に移動させながら当該基板に前記イオンビームを照射して、前記基板上にビーム照射領域を形成するビーム照射工程を複数回実施して、
かつ前記ビーム照射工程の合間であって前記イオンビームが前記基板に当たっていない間に、前記基板の位置を変えて、前記イオンビームを照射する前記セルの行を変更する基板位置変更工程を実施して、
複数の前記ビーム照射領域を連ねて、全ての前記セルに前記イオンビームを照射する方法であり、
しかも前記複数のビーム照射領域を連ねる連ね部を前記行形成分割帯の中央に位置させ、
かつ前記イオンビームのY方向の両端部を、Y方向に可動のマスクでX方向に実質的に平行に整形する、ことを特徴としている。
Y方向のビ−ム幅が、前記m行の半数以上の行の前記セルを含む寸法のイオンビームを用いて、
前記基板をX方向に移動させながら当該基板に前記イオンビームを照射して、前記基板上にビーム照射領域を形成するビーム照射工程を2回実施して、
かつ前記ビーム照射工程の合間であって前記イオンビームが前記基板に当たっていない間に、前記基板の位置を変えて、前記イオンビームを照射する前記セルの行を変更する基板位置変更工程を実施して、
二つの前記ビーム照射領域を連ねて、全ての前記セルに前記イオンビームを照射する方法であり、
しかも前記二つのビーム照射領域を連ねる連ね部を前記行形成分割帯の中央に位置させ、
かつ前記イオンビームのY方向の両端部を、Y方向に可動のマスクでX方向に実質的に平行に整形する、ことを特徴としている。
Y方向のビーム幅が、q行(qは1≦q≦mの整数)の前記セルを含む寸法のイオンビームを発生させるイオンビーム発生装置と、
前記イオンビーム発生装置からのイオンビームを、そのY方向の両端部がX方向に実質的に平行になるように整形すると共に、当該イオンビームのY方向の両端部が、p行(pは1≦p≦qかつp≦(m−2)の整数)の前記セルを挟む二つの行形成分割帯にそれぞれ位置するビーム幅に整形して通過させるものであってY方向に可動のマスクと、
前記基板をX方向およびY方向に移動させる機能を有する基板駆動装置と、
前記基板のY方向の位置を表す情報、当該基板上の前記行形成分割帯のY方向の位置を表す情報および前記マスクを通過したイオンビームのY方向両端部の位置を表す情報が与えられこれらの情報を用いて前記基板駆動装置を制御して、前記基板をX方向に移動させながら当該基板に前記マスクを通過したイオンビームを照射して前記基板上にビーム照射領域を形成するビーム照射工程を複数回実施して、かつ当該ビーム照射工程の合間であって前記イオンビームが前記基板に当たっていない間に、前記基板をY方向に移動させて前記イオンビームを照射する前記セルの行を変更する基板位置変更工程を実施して、複数の前記ビーム照射領域を連ねて、全ての前記セルに前記イオンビームを照射する制御を行う機能と、前記複数のビーム照射領域を連ねる連ね部を前記行形成分割帯の中央に位置させる制御を行う機能とを有している制御装置とを備えていることを特徴としている。
Y方向のビーム幅が、前記m行の半数以上の行の前記セルを含む寸法のイオンビームを発生させるイオンビーム発生装置と、
前記イオンビーム発生装置からのイオンビームを、そのY方向の両端部がX方向に実質的に平行になるように整形すると共に、当該イオンビームのY方向のビーム幅を前記m行の半数以上の行の前記セルを含むビーム幅に保って通過させるものであってY方向に可動のマスクと、
前記基板を、X方向およびY方向に移動させる機能を有する基板駆動装置と、
前記基板のY方向の位置を表す情報、当該基板上の前記行形成分割帯のY方向の位置を表す情報および前記マスクを通過したイオンビームの後述する連ね部側の端部の位置を表す情報が与えられこれらの情報を用いて前記基板駆動装置を制御して、前記基板をX方向に移動させながら当該基板に前記マスクを通過したイオンビームを照射して前記基板上にビーム照射領域を形成するビーム照射工程を2回実施して、かつ当該ビーム照射工程の合間であって前記イオンビームが前記基板に当たっていない間に、前記基板をY方向に移動させて前記イオンビームを照射する前記セルの行を変更する基板位置変更工程を実施して、二つの前記ビーム照射領域を連ねて、全ての前記セルに前記イオンビームを照射する制御を行う機能と、前記二つのビーム照射領域を連ねる連ね部を前記行形成分割帯の中央に位置させる制御を行う機能とを有している制御装置とを備えていることを特徴としている。
しかも、連ね部を行形成分割帯の中央に位置させるので、連ね部によるセルへの影響を避けやすくなる。
更に、マスクをY方向に可動のものにしているので、様々なセルの配列を有する複数種類の基板にも柔軟に対応することができる。
第1の実施形態のイオンビーム照射方法およびイオンビーム照射装置は、簡単に言えば、Y方向の両端部が、1行以上のセルを含む二つの行形成分割帯にそれぞれ位置するビーム幅のイオンビームを用い、ビーム照射工程を複数回行うものである。
e1 =(y3 −y4 )/2
e2 =(y5 −y6 )/2
・・・・
y2 =y1 −c
y3 =y2 −b=y1 −c−b
y4 =y3 −a=y1 −c−b−a
・・・・
第2の実施形態のイオンビーム照射方法およびイオンビーム照射装置は、簡単に言えば、Y方向のビーム幅が、半数以上の行のセルを含む寸法のイオンビームを用い、ビーム照射工程を2回行うものである。
第3の実施形態のイオンビーム照射方法およびイオンビーム照射装置は、簡単に言えば、基板がY方向の中央部に行形成分割帯の一つを有しており、Y方向のビーム幅が、半数以上の行のセルを含む寸法のイオンビームを用い、ビーム照射工程を2回行うものである。
Y方向のビーム幅W1 が前述したような所定寸法のイオンビームを発生させるイオンビーム発生装置は、例えば、(a)上記各実施形態のイオン源2のように、その出口から既に所定のビーム幅W1 のイオンビーム4を発生させるイオン源でも良いし、(b)例えば特開2006−139996号公報に記載されているように、扇状(具体的にはY方向に沿って扇状)に広がるイオンビームを発生させるイオン源と、このイオン源からのイオンビームを電界または磁界によって偏向させることによって当該イオンビームの広がりを抑制して、上記ビーム幅W1 のイオンビームを導出するビーム偏向手段とを備える構成のものでも良いし、(c)例えば特許第3358336号公報に記載されているように、イオンビームを発生させるイオン源と、このイオン源からのイオンビームを電界または磁界によって走査(具体的にはY方向に沿って走査)して、上記ビーム幅W1 のイオンビームを導出するビーム走査手段とを備える構成のものでも良い。
4 イオンビーム
4a、4b 端部
6 マスク
8 マスク駆動装置
10 基板
10a 中心部
12 ホルダ
14 基板駆動装置
16 ビームモニタ
18 制御装置
20 セル
22 行形成分割帯
24 列形成分割帯
30 ビーム照射領域
32 連ね部
Claims (5)
- 互いに直交する2方向をX方向およびY方向とすると、面内に、所定の処理パターンの繰り返しの単位であるセルであって、X方向に伸びている行形成分割帯およびY方向に伸びている列形成分割帯を挟んでm行n列(mは3以上、nは2以上の整数)のマトリックス状に配列された複数のセルが形成されている基板に、X方向の寸法よりもY方向の寸法が大きいイオンビームを照射するイオンビーム照射方法であって、
Y方向の両端部が、p行(pは1≦p≦(m−2)の整数)の前記セルを挟む二つの行形成分割帯にそれぞれ位置するビーム幅のイオンビームを用いて、
前記基板をX方向に移動させながら当該基板に前記イオンビームを照射して、前記基板上にビーム照射領域を形成するビーム照射工程を複数回実施して、
かつ前記ビーム照射工程の合間であって前記イオンビームが前記基板に当たっていない間に、前記基板の位置を変えて、前記イオンビームを照射する前記セルの行を変更する基板位置変更工程を実施して、
複数の前記ビーム照射領域を連ねて、全ての前記セルに前記イオンビームを照射する方法であり、
しかも前記複数のビーム照射領域を連ねる連ね部を前記行形成分割帯の中央に位置させ、
かつ前記イオンビームのY方向の両端部を、Y方向に可動のマスクでX方向に実質的に平行に整形する、ことを特徴とするイオンビーム照射方法。 - 互いに直交する2方向をX方向およびY方向とすると、面内に、所定の処理パターンの繰り返しの単位であるセルであって、X方向に伸びている行形成分割帯およびY方向に伸びている列形成分割帯を挟んでm行n列(m、nは共に2以上の整数)のマトリックス状に配列された複数のセルが形成されている基板に、X方向の寸法よりもY方向の寸法が大きいイオンビームを照射するイオンビーム照射方法であって、
Y方向のビ−ム幅が、前記m行の半数以上の行の前記セルを含む寸法のイオンビームを用いて、
前記基板をX方向に移動させながら当該基板に前記イオンビームを照射して、前記基板上にビーム照射領域を形成するビーム照射工程を2回実施して、
かつ前記ビーム照射工程の合間であって前記イオンビームが前記基板に当たっていない間に、前記基板の位置を変えて、前記イオンビームを照射する前記セルの行を変更する基板位置変更工程を実施して、
二つの前記ビーム照射領域を連ねて、全ての前記セルに前記イオンビームを照射する方法であり、
しかも前記二つのビーム照射領域を連ねる連ね部を前記行形成分割帯の中央に位置させ、
かつ前記イオンビームのY方向の両端部を、Y方向に可動のマスクでX方向に実質的に平行に整形する、ことを特徴とするイオンビーム照射方法。 - 前記基板位置変更工程において、前記基板をY方向に移動させて、前記連ね部が前記行形成分割帯に位置するように前記基板の位置を変える請求項1または2記載のイオンビーム照射方法。
- 互いに直交する2方向をX方向およびY方向とすると、面内に、所定の処理パターンの繰り返しの単位であるセルであって、X方向に伸びている行形成分割帯およびY方向に伸びている列形成分割帯を挟んでm行n列(mは3以上、nは2以上の整数)のマトリックス状に配列された複数のセルが形成されている基板に、X方向の寸法よりもY方向の寸法が大きいイオンビームを照射するイオンビーム照射装置であって、
Y方向のビーム幅が、q行(qは1≦q≦mの整数)の前記セルを含む寸法のイオンビームを発生させるイオンビーム発生装置と、
前記イオンビーム発生装置からのイオンビームを、そのY方向の両端部がX方向に実質的に平行になるように整形すると共に、当該イオンビームのY方向の両端部が、p行(pは1≦p≦qかつp≦(m−2)の整数)の前記セルを挟む二つの行形成分割帯にそれぞれ位置するビーム幅に整形して通過させるものであってY方向に可動のマスクと、
前記基板をX方向およびY方向に移動させる機能を有する基板駆動装置と、
前記基板のY方向の位置を表す情報、当該基板上の前記行形成分割帯のY方向の位置を表す情報および前記マスクを通過したイオンビームのY方向両端部の位置を表す情報が与えられこれらの情報を用いて前記基板駆動装置を制御して、前記基板をX方向に移動させながら当該基板に前記マスクを通過したイオンビームを照射して前記基板上にビーム照射領域を形成するビーム照射工程を複数回実施して、かつ当該ビーム照射工程の合間であって前記イオンビームが前記基板に当たっていない間に、前記基板をY方向に移動させて前記イオンビームを照射する前記セルの行を変更する基板位置変更工程を実施して、複数の前記ビーム照射領域を連ねて、全ての前記セルに前記イオンビームを照射する制御を行う機能と、前記複数のビーム照射領域を連ねる連ね部を前記行形成分割帯の中央に位置させる制御を行う機能とを有している制御装置とを備えていることを特徴とするイオンビーム照射装置。 - 互いに直交する2方向をX方向およびY方向とすると、面内に、所定の処理パターンの繰り返しの単位であるセルであって、X方向に伸びている行形成分割帯およびY方向に伸びている列形成分割帯を挟んでm行n列(m、nは共に2以上の整数)のマトリックス状に配列された複数のセルが形成されている基板に、X方向の寸法よりもY方向の寸法が大きいイオンビームを照射するイオンビーム照射装置であって、
Y方向のビーム幅が、前記m行の半数以上の行の前記セルを含む寸法のイオンビームを発生させるイオンビーム発生装置と、
前記イオンビーム発生装置からのイオンビームを、そのY方向の両端部がX方向に実質的に平行になるように整形すると共に、当該イオンビームのY方向のビーム幅を前記m行の半数以上の行の前記セルを含むビーム幅に保って通過させるものであってY方向に可動のマスクと、
前記基板を、X方向およびY方向に移動させる機能を有する基板駆動装置と、
前記基板のY方向の位置を表す情報、当該基板上の前記行形成分割帯のY方向の位置を表す情報および前記マスクを通過したイオンビームの後述する連ね部側の端部の位置を表す情報が与えられこれらの情報を用いて前記基板駆動装置を制御して、前記基板をX方向に移動させながら当該基板に前記マスクを通過したイオンビームを照射して前記基板上にビーム照射領域を形成するビーム照射工程を2回実施して、かつ当該ビーム照射工程の合間であって前記イオンビームが前記基板に当たっていない間に、前記基板をY方向に移動させて前記イオンビームを照射する前記セルの行を変更する基板位置変更工程を実施して、二つの前記ビーム照射領域を連ねて、全ての前記セルに前記イオンビームを照射する制御を行う機能と、前記二つのビーム照射領域を連ねる連ね部を前記行形成分割帯の中央に位置させる制御を行う機能とを有している制御装置とを備えていることを特徴とするイオンビーム照射装置。
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