JP4239806B2 - マルチモード光ファイバ母材の製造方法、マルチモード光ファイバの製造方法 - Google Patents

マルチモード光ファイバ母材の製造方法、マルチモード光ファイバの製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、バーナにより発生させた火炎によりガラス微粒子を生成し、前記ガラス微粒子を出発材の外側に堆積させた後、堆積したガラス微粒子を加熱して焼結させる、マルチモード光ファイバ母材の製造方法に関する。また、このマルチモード光ファイバ母材の製造方法を用いたマルチモード光ファイバの製造方法に関する。
通信用の光ファイバとして、複数のモードが伝搬するマルチモード光ファイバが用いられている。マルチモード光ファイバの主な屈折率分布の種別は、ステップインデックス(SI)と、グレーテッドインデックス(GI)との2種類がある。このうち、GI型の光ファイバは、コアの中心部が最も高い屈折率を有し、半径方向の外側に向かって次第に低屈折率になる屈折率分布を持っており、伝送する光信号の広がり(モード分散)を抑える構造となっている。
このようなGI型の屈折率分布を得るための光ファイバ母材を製造する方法として、例えばOVD法が用いられている。OVD法は、長尺状の出発材の周囲にガラス微粒子(これをススと呼ぶ)を層状に堆積させ、ガラス微粒子の堆積体を形成するものである。得られたガラス微粒子堆積体は、出発材を除去し、焼結や中実化を行って透明なガラス体とする。このガラス体は、そのまま光ファイバ母材となるか、または、他のガラス体と組み合わせて光ファイバ母材とする。
このOVD法によりGI型の屈折率分布を形成するには、出発材に対してガラス微粒子を堆積させる際に、ガラスの屈折率を高める屈折率調整用添加物(例えばゲルマニウム)をガラス微粒子に含ませ、堆積体の形成に従ってその含有量を次第に少なくしていく。すなわち、出発材に近い箇所では屈折率調整用添加物を多く含ませて高い屈折率のガラス微粒子を堆積させ、遠い箇所では屈折率調整用添加物の含有量を減らして低い屈折率のガラス微粒子を堆積させる。これにより、半径方向の外側に向かって次第に低屈折率になる屈折率分布を形成する。このように、OVD法を用いたGI型のマルチモード光ファイバ母材を製造する方法は、種々の文献に開示されている(例えば、特許文献1,2参照。)。
米国特許第3933454号明細書 米国特許第4125388号明細書
ところで、1Gbpsを超える伝送容量をもつGI型のマルチモード光ファイバが要求されるようになってきている。GI型のマルチモード光ファイバにおいてモード分散を抑えるための理想的な屈折率分布は、コアの中心をピークとしたα乗分布形状をなすものである。そのため、ガラス微粒子を堆積させる際に含有させる屈折率調整用添加物の量を、そのα乗分布に合わせて適切に調節することが重要である。
しかしながら、ガラス微粒子が堆積されていき、ガラス微粒子堆積体の径が徐々に太くなるにつれ、ガラス微粒子を堆積させる反応容器内の気流状態や温度等の製造条件が刻々と変化する。また、OVD法を実施する機材の劣化等により、各ロット間での製造条件も異なってしまう。そのため、バーナに導入する屈折率調整用添加物の量を単純にα乗分布に沿って調節するだけでは、GI型の理想的な屈折率分布を有する光ファイバ母材を安定して得ることが難しかった。
そのため、このような母材から製造されたマルチモード光ファイバは、屈折率分布が理想屈折率分布からずれてしまい、広い伝送帯域が得られにくい状況にあった。
本発明は、GI型のマルチモード光ファイバに要求される屈折率分布を精度良く形成することのできるマルチモード光ファイバ母材の製造方法、マルチモード光ファイバの製造方法を提供することを目的としている。
上記目的を達成することのできる本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法は、
長尺状の出発材をその軸回りに回転させつつ、四塩化ケイ素と屈折率調整用添加物と燃焼ガスをバーナに導入して火炎を発生させ、前記火炎によりガラス微粒子を生成し、前記出発材と前記バーナとを前記出発材の長手方向に複数回相対移動させて、前記ガラス微粒子を前記出発材の外側に堆積させた後、堆積した前記ガラス微粒子を加熱して焼結させ、マルチモード光ファイバ母材を製造する方法であって、
前記ガラス微粒子を堆積させる際に、ガラス微粒子堆積部の表面の温度が母材の有効部全長にわたり目標値に対して、ガラス微粒子の堆積時の温度変動に対する透明化後の光ファイバ母材の比屈折率差の変動が所定の伝送帯域に対応する比屈折率差変動幅の許容値範囲内となる所定範囲内となるように、前記燃焼ガスの流量を制御し、かつ、
前記焼結を行って少なくとも1つのロットを製造した後、
前記ロットにおける、相対移動毎に形成された各箇所の屈折率を測定し、
前記ロットにおける相対移動毎の前記屈折率調整用添加物の導入量及び前記屈折率を基に、次回のロットを製造する時の前記屈折率調整用添加物の導入量を相対移動毎に制御することを特徴としている。
また、本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法において、前記燃焼ガスの流量の制御は、前記表面の温度が、目標値に対して±7℃の範囲内となるように行うことが好ましい。さらに、前記燃焼ガスの流量の制御は、前記表面の温度が、目標値に対して±2℃の範囲内となるように行うとなお良い。
また、本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法において、前記表面の温度として、前記堆積部を含む被温度測定領域内の最高温度を用いることが好ましい。
また、本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法において、前記表面の温度として、前記堆積部を含む被温度測定領域内の平均温度を用いることが好ましい。
また、本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法において、測定された屈折率と、目標とする理想屈折率との差分値を、相対移動毎に形成された箇所毎に算出し、前記屈折率の差分値に基づいて、次回のロットを製造する時の前記屈折率調整用添加物の導入量を相対移動毎に制御することが好ましい。
また、本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法において、前記四塩化ケイ素と前記屈折率調整用添加物のうち、前記バーナへの少なくとも一方の導入量を、相対移動毎の堆積収率を用いて制御することが好ましい。
また、本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法において、前記四塩化ケイ素と前記屈折率調整用添加物のうち、前記バーナへの少なくとも一方の導入量の変動を、当該導入量の設定値に対して±1%以内に制御することが好ましい。
また、本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法において、前記ガラス微粒子の生成と堆積を行う反応容器内の圧力変動を、当該圧力の設定値に対して±13%以内となるように制御することが好ましい。
また、上記目的を達成することのできる本発明に係るマルチモード光ファイバの製造方法は、本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法を用いる、マルチモード光ファイバの製造方法であって、前記ガラス微粒子を焼結させた後、前記出発材を切削加工により除去してガラスパイプを形成し、当該ガラスパイプを中実化してガラスロッドとし、当該ガラスロッドの外側にガラスを設けてマルチモード光ファイバ母材とし、当該マルチモード光ファイバ母材を線引きしてマルチモード光ファイバを製造することを特徴としている
また、上記目的を達成することのできる本発明に係るマルチモード光ファイバの製造方法は、本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法を用いる、マルチモード光ファイバの製造方法であって、前記ガラス微粒子を堆積させた後、前記ガラス微粒子の堆積体から前記出発材を引き抜いてから、前記焼結によりガラスパイプを形成し、当該ガラスパイプを中実化してガラスロッドとし、当該ガラスロッドの外側にガラスを設けてマルチモード光ファイバ母材とし、当該マルチモード光ファイバ母材を線引きしてマルチモード光ファイバを製造することを特徴としている。
また、上記目的を達成することのできる本発明に係るマルチモード光ファイバの製造方法は、本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法を用いる、マルチモード光ファイバの製造方法であって、前記ガラス微粒子を堆積させた後、前記ガラス微粒子の堆積体から前記出発材を引き抜いてから、この引き抜きにより形成された穴を中実化するように前記焼結を行ってガラスロッドを形成し、当該ガラスロッドの外側にガラスを設けてマルチモード光ファイバ母材とし、当該マルチモード光ファイバ母材を線引きしてマルチモード光ファイバを製造することを特徴としている。
また、本発明に係るマルチモード光ファイバの製造方法において、前記出発材の材質は、アルミナ、カーボン、アルミナ上にカーボンをコーティングしたもの、の何れかであることが好ましい。
また、本発明に係るマルチモード光ファイバの製造方法において、前記ガラス微粒子の生成及び堆積以外に用いる加熱源として、無水雰囲気の加熱源を用いることが好ましい。
本発明によれば、GI型のマルチモード光ファイバに要求される屈折率分布を精度良く形成することのできるマルチモード光ファイバ母材の製造方法、マルチモード光ファイバの製造方法を提供することができる。
以下、本発明に係る、マルチモード光ファイバ母材の製造方法、マルチモード光ファイバの製造方法の実施の形態の例を、図面を参照して説明する。
図1に、本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法を実施することのできる製造装置を示す。
図1に示す製造装置1は、所謂OVD法により、反応容器2の内側の空間内でマンドレル4に対してガラス微粒子を堆積させるものである。
反応容器2は、ガラス微粒子を生成して堆積させる際の高温の環境条件においても、塩素ガス等による腐食が極めて起こりにくい、二酸化ケイ素、炭化ケイ素、ニッケル、ニッケル合金等の材料を用いて形成されている。
反応容器2の中には、垂直方向に昇降可能な把持具3が収容されている。この把持具3は、出発材である長尺状のマンドレル4の上端を把持して、マンドレル4を垂直方向に支持している。また、把持具3は、支持したマンドレル4をその軸回りに回転させることができる。マンドレル4は、アルミナ、カーボン、シリカのうち何れかの材質で形成されている。また、マンドレル4は、断面外形は真円に近いことが望ましく、全体構成としては中空の円筒形状であっても中実の円柱形状であっても良い。
また、反応容器2の中には、ガラス微粒子生成用のバーナ5が設けられている。バーナ5は、ガスを吹き出す複数のポートを有しており、そのポートからそれぞれ燃焼ガスとガラス原料ガスを吹き出し、燃焼ガスの燃焼により生じる酸水素火炎中においてガラス原料を加水分解反応させて、ガラス微粒子を生成するものである。また、バーナ5は、生成したガラス微粒子をマンドレル4に堆積させるように、マンドレル4に向けて横方向に配置されている。
燃焼ガスには、水素(H2)と酸素(O2)が含まれる。ガラス原料ガスには、四塩化ケイ素(SiCl4)が含まれ、そこに適宜屈折率調整用添加物を含有させる。屈折率調整用添加物はシリカガラスの屈折率を上げるものが用いられ、例えばゲルマニウム、リン、ボロン等が用いられる。本実施形態では、屈折率調整用添加物としてゲルマニウムを用いるが、これをバーナ5に導入する際には、四塩化ゲルマニウム(GeCl4)のガスを導入する。ガラス原料ガスとして四塩化ケイ素と四塩化ゲルマニウムを用いた場合には、シリカ(SiO2)と二酸化ゲルマニウム(GeO2)を主成分とするガラス微粒子が、バーナ5の火炎中で生成される。
また、反応容器2の中には、ガラス微粒子生成用のバーナ5とは別に、補助バーナ11が2つ設けられている。これらの補助バーナ11は、ガラス微粒子を生成するものではなく、その内部には燃焼ガスのみが導入されて、酸水素火炎を発生させる。補助バーナ11は、マンドレル4に対してそれぞれガラス微粒子を堆積させた部分の上端部分と下端部分を加熱するように配置されている。
さらに、反応容器2は、バーナ5と対向する位置に排気口7を備えており、マンドレル4に堆積されなかった余剰のガラス微粒子を含む内部の排気ガスが排気口7から送り出される。
また、本実施形態の製造装置1は、良好なGI型の屈折率分布を得ることのできる制御を行うための構成を備えている。
反応容器2の内側には、非接触式のサーモトレーサ12が設けられており、バーナ5の火炎が当たってガラス微粒子が堆積しつつある部分6a(これをガラス微粒子堆積部と呼ぶ)の温度を測定できる。サーモトレーサ12は、所望の被温度測定領域のサーモグラフィ画像を得ることができる。このサーモトレーサ12は、制御用コンピュータ13と接続されており、測定した温度データがこのコンピュータ13に送られる。また、コンピュータ13は、バーナ5へ導入するガスの流量を調節する流量調節器(MFC)16に接続されている。
バーナ5は、ガス供給源(図示せず)からガスを導入するガス管14に接続されている。ガス管14には、上記の流量調節器16が設けられ、さらに流量調節器16とバーナ5との間には、流量調節器16によって調節されたガスの流量を計測してコンピュータ13にその流量データを送る流量計15が設けられている。
コンピュータ13は、温度の測定値と設定値とのずれ、及び流量の測定値と設定値とのずれに基づいて、流量調節器16の動作を制御する。なお、このコンピュータ13は、所謂PID制御を行って、極めて精度の高い制御を行うことができる。したがって、四塩化ケイ素と四塩化ゲルマニウムの流量を、設定値に対して±1%以内となるように制御することができる。
また、排気口7から排気ガスを排気する排気管8には、排気圧調節部9が設けられている。排気圧調節部9は、反応容器2の内圧を測定する圧力計10から送られる圧力データに基づいて、反応容器2の内圧が所望の値で一定となるように排気管8内の排気圧を調節する。ここで、反応容器2内の圧力変動が、設定値に対して±13%以内となるように制御すると良い。これにより、ガラス微粒子の堆積状態を安定させることができる。
上記構成の製造装置1によってマルチモード光ファイバ母材を製造する方法について説明する。
まず、把持具3によって反応容器2内に吊り下げたマンドレル4をその軸回りに回転させる。そして、バーナ5に四塩化ケイ素と四塩化ゲルマニウム、水素、酸素を導入し、回転しているマンドレル4に向かって、酸水素火炎を発生させる。酸水素火炎中では、加水分解反応により二酸化ゲルマニウムが含まれたガラス微粒子が生成される。さらに、マンドレル4を、軸回りに回転させながら、長手方向に昇降させて往復運動させる。なお、本実施形態ではバーナ5を固定してマンドレル4を移動させる態様としたが、これとは逆にバーナ5をマンドレル4の長手方向に移動させることで、バーナ5とマンドレル4とを相対移動させても良い。
このように、バーナ5からガラス微粒子を生成して、マンドレル4を回転させつつその長手方向に往復運動させることで、生成されたガラス微粒子をマンドレル4の周囲に層状に堆積させて、ガラス微粒子堆積体6を形成していく。
また、ガラス微粒子堆積体6のうち、後に光ファイバとして製品化できる部分は、マンドレル4の長手方向に外径が一定となった中央の部分(これを有効部と呼ぶ)である。有効部は、バーナ5によって積極的にガラス微粒子を堆積させる箇所であるため、バーナ5の火炎が当たり、温度が保たれやすい。これに対して、ガラス微粒子堆積体6の上端部分と下端部分に位置する非有効部は冷えやすく、ガラス微粒子の堆積密度が低いため、割れ等が生じやすい。そのため、ガラス微粒子堆積体6を形成する際には、上記の補助バーナ11を用いて、非有効部を加熱する。
ガラス微粒子堆積部6aの表面の温度は、火炎の強さによって変化する。すなわちバーナ5に導入する水素ガスの量によって変化する。発明者は、この水素ガスとガラス微粒子堆積部6aの表面の温度との関係について調べ、図2に示す結果を得た。
図2に示すように、バーナ5に導入する水素ガスの流量とガラス微粒子堆積部6aの表面の温度とは、比例関係であることがわかる。
また、発明者は、ガラス微粒子堆積部6aの表面の温度とガラス微粒子堆積体を透明化させて得られるガラス体の屈折率との関係について調べ、図3に示す結果を得た。
図3に示すように、ガラス微粒子堆積部6aの表面の温度と比屈折率差とは、比例関係であることがわかる。なお、グラフの縦軸の変数は、屈折率調整用添加物[D]のガスの流量1slmあたりの比屈折率差であり、グラフのデータは、温度が高いほど屈折率調整用添加物の添加量が多くなることを示している。また、ここで用いた屈折率調整用添加物はゲルマニウムであり、バーナ5に導入した四塩化ゲルマニウムのガス1slm当たりの比屈折率差を示している。なお、比屈折率差とは、純シリカに対する屈折率の差を、純シリカの屈折率で除した値である。
これら図2及び図3に示した結果から、バーナ5に導入する水素ガスの流量を調節することで、ガラス微粒子堆積部6aの温度を調節することができ、得られる光ファイバ母材の屈折率を調節できることがわかる。
また、光ファイバの屈折率分布と伝送帯域の関係について調べると、1Gbpsの伝送容量を持つ光ファイバを得るための基準である、500MHz・kmの伝送帯域を得るための比屈折率差変動幅の許容値は、0.051%であることがわかった。さらに、ガラス微粒子の堆積時の温度変動に対する透明化後の光ファイバ母材の比屈折率差の変動は、0.0034%/℃である。すなわち、目標値に対して実際の温度が±7℃の範囲内であれば良いことがわかった。
本実施形態では、この結果を利用して、水素ガスの流量を調節することで所望の屈折率分布を有する光ファイバ母材を製造する。
バーナ5から火炎を発生させて、マンドレル4の周囲にガラス微粒子を堆積させる際、サーモトレーサ12によりガラス微粒子堆積部6aの表面の温度を測定する。ここでの温度の測定は、例えば図4に示すように、サーモトレーサ12によってバーナ5の火炎が当たってガラス微粒子が堆積している堆積部を含んだ領域(被温度測定領域12a)の温度を測定する。サーモトレーサ12によって測定された温度は、コンピュータ13によって、図4中の枠内に示すように被温度測定領域12aの温度分布を示すサーモグラフィ画像として処理される。そして、被温度測定領域12aのなかで最も高い温度(例えば、図4中の測定点6b)のデータをコンピュータ13が代表値として取り出して行う。
また、温度の代表値は、被温度測定領域12aの平均温度をコンピュータ13により算出して用いても良い。
さらに、測定された温度の代表値と、設定された温度(目標値)との差分をコンピュータ13により算出して、マンドレル4の次回の長手方向への移動の際にその差分が±7℃以下になるように、バーナ5に導入する水素ガスの量を決める。なお、ここでは、四塩化ゲルマニウムの流量は、目標とする屈折率分布である所望のα乗分布に沿って、1回の長手方向への移動ごとに変化させれば良い。
これにより、堆積するガラス微粒子に含まれるゲルマニウムの量を、堆積するガラス微粒子の層毎に適切に制御することができ、GI型の屈折率分布を精度良く得ることができる。
また、本実施形態の製造装置1は、ガスの流量をPID制御によって制御するため、測定された温度の代表値と設定された目標値との差分を±2℃以下とすることもできる。この場合には、屈折率分布をさらに目標とする値に近づけることができる。
また、理想の比屈折率差と実測の比屈折率差との差分を製造ロット毎に算出し、それを用いて次回の製造ロットの製造時の製造条件を補正し、屈折率分布を調節することもできる。
ガラス微粒子堆積体6を形成した後、これを焼結して透明化し、そのガラス体の比屈折率差を、ガラス微粒子を堆積した層毎に、すなわち径方向に沿って測定していく。そして、この測定結果から、マンドレル4を取り除いてガラス体を中実化したときの屈折率分布を算出する。この実測値から近似した屈折率分布(図中A)と、計算により求められたGI型の屈折率分布(図中B)と、これらの差分値(図中C)とを、図5に示す。この図5で示す差分値がゼロに近づくほど、マルチモード光ファイバとしての伝送帯域が広くなる。
一方、図6に示すように、四塩化ゲルマニウムの流量と比屈折率差の関係から得られるグラフの傾きmを用いて、次に示す式(1)を補正式として用い、次回のロットを製造する際の四塩化ゲルマニウムの流量を決めることができる。なお、式(1)において、[D0]は前回ロットの四塩化ゲルマニウムの流量を示し、[D1]は次回ロットの四塩化ゲルマニウムの流量を示す。
[D1]=[D0]+C/m ・・・(1)
この式(1)を用いて、マンドレル4を長手方向へ移動させる毎の四塩化ゲルマニウムの流量を算出し、その流量に従ってガラス微粒子堆積体6を製造する。そして、式(1)による補正前の屈折率の差分C0と、式(1)による補正を行って4回製造した各ロットの屈折率の差分C1〜C4のグラフを、図7に示す。図7に示すように、理想屈折率分布に沿って四塩化ゲルマニウムの流量を変化させたC0の値に対して、補正1回目のC1は値が小さくなり、さらに、2回目のC2、3回目のC3、4回目のC4と回数を重ねるにつれて、差分を小さくできていることがわかる。
また、ガラス原料ガス中の四塩化ケイ素と四塩化ゲルマニウムのうち、少なくともどちらか一方のバーナ5への導入量を、それぞれの堆積収率を用いて制御し、屈折率分布を調節することもできる。
ガラス微粒子を堆積させていく過程では、ガラス微粒子堆積体6が徐々に成長し、その径が太くなり、堆積部の面積も大きくなる。そして、ガラス微粒子堆積部6aがバーナ5に近づいていくため、ガラス微粒子の生成量に対して実際に堆積する量が変化する。すなわち、バーナ5に導入した四塩化ケイ素と四塩化ゲルマニウムの量に対して、堆積されたシリカと二酸化ゲルマニウムの量が変化すると考えられる。
ここで、堆積収率の算出方法について説明する。まず、ガラス微粒子堆積体6の1つのロットを製造し、それを透明化したガラス体の屈折率を径方向に測定する。この測定結果から、マンドレル4の長手方向への移動(トラバース)毎に堆積された箇所毎に含まれる二酸化ゲルマニウムの量を算出する。そして、1回のトラバース毎にガラス微粒子堆積体6が成長した分の体積と、シリカと二酸化ゲルマニウムの各密度から、1回のトラバース毎にシリカと二酸化ゲルマニウムの増加した各重量を算出する。これらの増加重量と、バーナ5に導入していた四塩化ケイ素と四塩化ゲルマニウムの重量から、1回のトラバース毎のシリカの収率k1と二酸化ゲルマニウムの収率k2とが求められる。
このようにして求められた堆積収率の一例を、図8に示す。
この図8のグラフの縦軸は、ガラス微粒子堆積体6を透明化し、マンドレル4を取り除いてガラス体を中実化したときのコア中心から半径方向への距離を示している。なお、グラフの横軸は、コア中心の位置を基準(ゼロ)として、透明化したガラス体の外周部分を1とみなして規格化させたものである。
図8に示すように、シリカの収率k1と二酸化ゲルマニウムの収率k2は、それぞれ異なった堆積収率を示し、径方向の外側に向かって次第に効率が上がる傾向であることがわかる。
図8に示したそれぞれの収率k1,k2と、バーナ5に導入した四塩化ケイ素の流量[S]と四塩化ゲルマニウムの流量[D]とを用いて、ガラス微粒子中の二酸化ゲルマニウムの添加濃度Rを算出することができる。この添加濃度Rを算出する式(2)を、次に示す。
この添加濃度Rに対応する比屈折率差のグラフを、図9に示す。各トラバースにおける理想比屈折率差は、理想屈折率分布から求められ、この図9のグラフから、各トラバースでの添加濃度Rが決まる。ここで、各トラバースにおける堆積収率k1,k2は図8に示す通りであるため、四塩化ゲルマニウムの流量[D]は、四塩化ケイ素の流量[S]を決めることにより求めることができる。
この式(2)を用いて算出されたトラバース毎の四塩化ゲルマニウムの流量[D]を用いて、ガラス微粒子堆積体6を製造する。そして、透明化させたガラス体の比屈折率差を径方向に測定し、理想比屈折率差との差分C5を算出した。この差分C5のグラフを、図7に示す。式(2)を用いた制御により得られた結果は、差分値が極めて小さく、式(1)を用いた制御の結果(差分C1〜C4)と比較しても良好である。
また、水素ガスの流量によってガラス微粒子堆積部の表面の温度を制御する上記の方法と、前回ロットの製造条件や堆積収率に基づいて四塩化ゲルマニウムの流量を制御する上記の方法とを、組み合わせて行っても良い。それにより、さらに精度の高い屈折率の調整を行うことができる。
また、上述した水素ガスや四塩化ゲルマニウムの流量の制御は、マンドレル4の長手方向の移動毎にその制御値を設定して行う場合について説明したが、さらに、その1回の長手方向の移動のうち、マンドレル4の長手方向に沿った複数の箇所において制御値を設定すると、長手方向に均一な光ファイバ母材を精度良く得ることができる。
以上説明した方法により製造したガラス微粒子堆積体6を用いて、マルチモード光ファイバを製造する方法について説明する。
まず、マンドレル4の材質がシリカである場合には、ガラス微粒子堆積体6を焼結させて透明化し、マンドレル4の部分をドリル等で切削して穴あけを行う。マンドレル4の材質が、アルミナ、カーボン、アルミナ上にカーボンをコーティングしたもの、の何れかである場合には、ガラス微粒子堆積体6からマンドレル4を引き抜き、焼結を行って透明化する。マンドレルの材質が、アルミナ、カーボン、アルミナ上にカーボンをコーティングしたものの何れかであると、ガラス微粒子堆積体から引き抜くことが容易である。
これらの何れかの方法により、ガラスパイプが形成される。
次に、このガラスパイプを加熱して、コラプス法により中実化させ、ガラスロッドとする。さらに、このガラスロッドの外側にガラス微粒子を堆積させて透明化させるか、もしくはガラスパイプを被せてロッドインコラプス法により一体化させることにより、クラッドとなるガラスを作製し、マルチモード光ファイバ母材とする。そして、このマルチモード光ファイバ母材を線引きしてマルチモード光ファイバを製造することができる。
なお、アルミナ、カーボン、アルミナ上にカーボンをコーティングしたもの、の何れかの材質で形成されたマンドレル4が細径である場合には、ガラス微粒子堆積体6からマンドレル4を引き抜いた後に、引き抜きにより形成された穴を埋めて中実化するように焼結を行って透明化し、ガラスロッドとしても良い。
また、ガラス微粒子堆積体を焼結する際や、コラプス法を行う際や、線引きを行う際等には、熱源を使用するが、その際、酸水素火炎を発生させるバーナを用いた場合には、その加熱雰囲気の中にOH基が存在し、ガラスの中にOH基を侵入させてしまうことが考えられる。そのため、このような加工を行う際には、加熱雰囲気の中にOH基を発生させない、無水雰囲気の加熱源を用いると良い。ここで使用できる無水加熱源としては、誘導加熱炉、抵抗加熱炉、プラズマバーナ等が挙げられる。
また、上記のマルチモード光ファイバの製造方法により製造されたマルチモード光ファイバは、良好なGI型の屈折率分布が得られている。そのため、波長0.85μm帯または波長1.3μm帯での少なくとも1つの波長における伝送帯域を1GHz・km以上とすることができる。
さらに、1つの母材から得られたマルチモード光ファイバのうち、その長手方向の任意の2点での伝送帯域の変動が±5%以内であると良い。
また、マルチモード光ファイバのコアの非円率が全長に渉って1%以下であると良い。
なお、非円率は、光ファイバの断面外形を楕円に近似して長径と短径を求め、次式(3)によって計算する。
非円率(%)={(長径−短径)/中心値}×100 …(3)
式(3)の中心値は、次式(4)によって計算する。
中心値=[{(長径)2+(短径)2}/2]1/2 …(4)
以上説明した実施の形態により、マルチモード光ファイバ母材及びマルチモード光ファイバを製造した例について説明する。
まず、ガラス微粒子堆積部の表面の温度を図2で求めた傾きの関係を使って目標値の±7℃の範囲に入るよう調整しつつ、上記の式(1)を用いて四塩化ゲルマニウムの流量を算出し、その流量に従ってガラス微粒子堆積体6を製造した。マンドレル4は、シリカを主成分とする、直径23mm、把持された部分を除く長さが900mmのものを使用した。そして、マンドレル4のバーナ5に対する移動速度は200mm/分とし、その長手方向の往復運動の幅は540mmとした。ここで得られたガラス微粒子堆積体は、その有効部の長さが200mmであり、外径が137mmφであった。
このガラス微粒子堆積体6を、1150℃の塩素雰囲気で65分滞留させる条件で脱水し、続いて焼結させた後、その透明化したガラス体の有効部の長さは115mmとなり、外径は65mmφとなった。このガラス体を、有効部の長さ240mm、外径45mmφとなるように延伸した。この延伸後、長手方向に均一な外径となるように、外周部分を4mm研削した。さらに、焼結の長手方向の収縮によりその直径が26mmφとなっていたマンドレル4を、ドリルによって切削加工(穴あけ)して除去した。また、この穴あけは、マンドレル4の外周部分を若干量だけ残して行い、その残った部分は、フッ素ガスによる気相エッチングにより除去した。マンドレル4が除去されて穴が形成されたガラスパイプを、コラプス法により中実化し、ガラスロッドとした。このガラスロッドは、マルチモード光ファイバのコアとなる部分の母材である。
さらに、マルチモード光ファイバのクラッドとなる部分を形成するために、得られたガラスロッドの外周にガラス微粒子を堆積させ、それを焼結して透明化した。これにより、マルチモード光ファイバ母材が製造された。
このマルチモード光ファイバ母材を線引きしてマルチモード光ファイバを製造した。このマルチモード光ファイバの伝送帯域を調べたところ、0.85μmの波長で520MHz・kmであり、1.30μmの波長で390MHz・kmであった。
次に、図10を参照して、上記の実施形態によりマルチモード光ファイバ母材及びマルチモード光ファイバを製造した例について説明する。
まず、ガラス微粒子堆積部の表面の温度を図2で求めた傾きの関係を使って目標値の±7℃の範囲に入るよう調整しつつ、四塩化ゲルマニウムの流量を前回ロットの屈折率分布から算出し、その流量に従ってガラス微粒子堆積体6を製造した。マンドレル4はカーボンを主成分とする、直径20mm、把持された部分を除く長さが900mmのものを使用した。また、図10に示すように、マンドレル4はガラス製のパイプ17にピン18で固定されている。そして、マンドレル4のバーナ5に対する移動速度は200mm/分とし、その長手方向の往復運動の幅は540mmとした。ここで得られたガラス微粒子堆積体は、その有効部の長さが200mmであり、外径が115mmφであった。
このガラス微粒子堆積体6からマンドレル4を引き抜き、ガラス微粒子堆積体6の上部がパイプ17に固着されている状態とする。この状態のガラス微粒子堆積体6を外側と内側の全ての表面が1150℃の塩素雰囲気で130分滞留させる条件で脱水し、続いて焼結させた後、その透明化したガラス体の有効部の長さは95mmとなり、外径は65mmφ、内径は15mmφとなった。このガラス体の内面をフッ素ガスによる気相エッチングで洗浄し、コラプス法により中実化し、ガラスロッドとした。このガラスロッドは、マルチモード光ファイバのコアとなる部分の母材である。
さらに、マルチモード光ファイバのクラッドとなる部分を形成するために、得られたガラスロッドの外周にガラス微粒子を堆積させ、それを焼結して透明化した。これにより、マルチモード光ファイバ母材が製造された。
このマルチモード光ファイバ母材を線引きしてマルチモード光ファイバを製造した。このマルチモード光ファイバの伝送帯域を調べたところ、0.85μmの波長で1156MHz・kmであり、1.30μmの波長で2355MHz・kmであった。
本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法を実施することのできる製造装置である。 水素流量とガラス微粒子堆積部の温度の関係を示すグラフである。 ガラス微粒子堆積部の温度と比屈折率差の関係を示すグラフである。 ガラス微粒子堆積部の温度測定を行う様子を示す模式図である。 径方向の位置と比屈折率差との関係を示すグラフである。 四塩化ゲルマニウムの流量と比屈折率差との関係を示すグラフである。 比屈折率差の差分を示すグラフである。 シリカと二酸化ゲルマニウムの堆積収率を示すグラフである。 添加濃度Rに対する比屈折率差の関係を示すグラフである。 本発明に係るマルチモード光ファイバ母材の製造方法を実施することのできる製造装置である。
符号の説明
1 製造装置
2 反応容器
3 把持具
4 マンドレル(出発材)
5 バーナ
6 ガラス微粒子堆積体
6a ガラス微粒子堆積部
7 排気口
8 排気管
9 排気圧調節部
10 圧力計
11 補助バーナ
12 サーモトレーサ
13 コンピュータ
14 ガス管
15 流量計
16 流量調節器

Claims (14)

  1. 長尺状の出発材をその軸回りに回転させつつ、四塩化ケイ素と屈折率調整用添加物と燃焼ガスをバーナに導入して火炎を発生させ、前記火炎によりガラス微粒子を生成し、前記出発材と前記バーナとを前記出発材の長手方向に複数回相対移動させて、前記ガラス微粒子を前記出発材の外側に堆積させた後、堆積した前記ガラス微粒子を加熱して焼結させ、マルチモード光ファイバ母材を製造する方法であって、
    前記ガラス微粒子を堆積させる際に、ガラス微粒子堆積部の表面の温度が母材の有効部全長にわたり目標値に対して、ガラス微粒子の堆積時の温度変動に対する透明化後の光ファイバ母材の比屈折率差の変動が所定の伝送帯域に対応する比屈折率差変動幅の許容値範囲内となる所定範囲内となるように、前記燃焼ガスの流量を制御し、かつ、
    前記焼結を行って少なくとも1つのロットを製造した後、
    前記ロットにおける、相対移動毎に形成された各箇所の屈折率を測定し、
    前記ロットにおける相対移動毎の前記屈折率調整用添加物の導入量及び前記屈折率を基に、次回のロットを製造する時の前記屈折率調整用添加物の導入量を相対移動毎に制御することを特徴とするマルチモード光ファイバ母材の製造方法。
  2. 請求項1に記載のマルチモード光ファイバ母材の製造方法であって、
    前記燃焼ガスの流量の制御は、前記表面の温度が、目標値に対して±7℃の範囲内となるように行うことを特徴とするマルチモード光ファイバ母材の製造方法。
  3. 請求項1に記載のマルチモード光ファイバ母材の製造方法であって、
    前記燃焼ガスの流量の制御は、前記表面の温度が、目標値に対して±2℃の範囲内となるように行うことを特徴とするマルチモード光ファイバ母材の製造方法。
  4. 請求項1から3の何れか1項に記載のマルチモード光ファイバ母材の製造方法であって、
    前記表面の温度として、前記堆積部を含む被温度測定領域内の最高温度を用いることを特徴とするマルチモード光ファイバ母材の製造方法。
  5. 請求項1から3の何れか1項に記載のマルチモード光ファイバ母材の製造方法であって、
    前記表面の温度として、前記堆積部を含む被温度測定領域内の平均温度を用いることを特徴とするマルチモード光ファイバ母材の製造方法。
  6. 請求項1から5の何れか1項に記載のマルチモード光ファイバ母材の製造方法であって、
    測定された屈折率と、目標とする理想屈折率との差分値を、相対移動毎に形成された箇所毎に算出し、前記屈折率の差分値に基づいて、次回のロットを製造する時の前記屈折率調整用添加物の導入量を相対移動毎に制御することを特徴とするマルチモード光ファイバ母材の製造方法。
  7. 請求項1から5の何れか1項に記載のマルチモード光ファイバ母材の製造方法であって、
    前記四塩化ケイ素と前記屈折率調整用添加物のうち、前記バーナへの少なくとも一方の導入量を、相対移動毎の堆積収率を用いて制御することを特徴とするマルチモード光ファイバ母材の製造方法。
  8. 請求項1からの何れか1項に記載のマルチモード光ファイバ母材の製造方法であって、
    前記四塩化ケイ素と前記屈折率調整用添加物のうち、前記バーナへの少なくとも一方の導入量の変動を、当該導入量の設定値に対して±1%以内に制御することを特徴とするマルチモード光ファイバ母材の製造方法。
  9. 請求項1からの何れか1項に記載のマルチモード光ファイバ母材の製造方法であって、
    前記ガラス微粒子の生成と堆積を行う反応容器内の圧力変動を、当該圧力の設定値に対して±13%以内となるように制御することを特徴とするマルチモード光ファイバ母材の製造方法。
  10. 請求項1からの何れか1項に記載のマルチモード光ファイバ母材の製造方法を用いる、マルチモード光ファイバの製造方法であって、
    前記ガラス微粒子を焼結させた後、前記出発材を切削加工により除去してガラスパイプを形成し、当該ガラスパイプを中実化してガラスロッドとし、当該ガラスロッドの外側にガラスを設けてマルチモード光ファイバ母材とし、当該マルチモード光ファイバ母材を線引きしてマルチモード光ファイバを製造することを特徴とするマルチモード光ファイバの製造方法。
  11. 請求項1からの何れか1項に記載のマルチモード光ファイバ母材の製造方法を用いる、マルチモード光ファイバの製造方法であって、
    前記ガラス微粒子を堆積させた後、前記ガラス微粒子の堆積体から前記出発材を引き抜いてから、前記焼結によりガラスパイプを形成し、当該ガラスパイプを中実化してガラスロッドとし、当該ガラスロッドの外側にガラスを設けてマルチモード光ファイバ母材とし、当該マルチモード光ファイバ母材を線引きしてマルチモード光ファイバを製造することを特徴とするマルチモード光ファイバの製造方法。
  12. 請求項1からの何れか1項に記載のマルチモード光ファイバ母材の製造方法を用いる、マルチモード光ファイバの製造方法であって、
    前記ガラス微粒子を堆積させた後、前記ガラス微粒子の堆積体から前記出発材を引き抜いてから、この引き抜きにより形成された穴を中実化するように前記焼結を行ってガラスロッドを形成し、当該ガラスロッドの外側にガラスを設けてマルチモード光ファイバ母材とし、当該マルチモード光ファイバ母材を線引きしてマルチモード光ファイバを製造することを特徴とするマルチモード光ファイバの製造方法。
  13. 請求項10から12の何れか1項に記載のマルチモード光ファイバの製造方法であって、
    前記出発材の材質は、アルミナ、カーボン、アルミナ上にカーボンをコーティングしたもの、の何れかであることを特徴とするマルチモード光ファイバの製造方法。
  14. 請求項10から13の何れか1項に記載のマルチモード光ファイバの製造方法であって、
    前記ガラス微粒子の生成及び堆積以外に用いる加熱源として、無水雰囲気の加熱源を用いることを特徴とするマルチモード光ファイバの製造方法。
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