JP4235071B2 - Method and apparatus for duplicating fine uneven pattern - Google Patents

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Description

本発明は、レリーフホログラムや回折格子等が記録された微細な凹凸パターンを大量に複製する方法および複製装置に関する。   The present invention relates to a method and an apparatus for replicating a large number of fine uneven patterns on which relief holograms, diffraction gratings and the like are recorded.

レリーフホログラムや回折格子は、レーザー光を干渉させて発生する干渉縞が微細凹凸パターンとして記録されている。この微細凹凸パターンは、長さ1mmあたり数百から数千本の微細な凸条として形成されている。   In the relief hologram and diffraction grating, interference fringes generated by interference of laser light are recorded as a fine uneven pattern. This fine concavo-convex pattern is formed as hundreds to thousands of fine ridges per 1 mm in length.

微細凹凸パターンを複製する場合、レーザー光の干渉縞が直接記録された原版から複製版材を作成し、該複製版材の凹凸パターンを樹脂材料に賦型することで微細凹凸パターンを複製することができる。   When duplicating a fine concavo-convex pattern, copy the fine concavo-convex pattern by creating a duplicate plate material from the original plate on which the interference fringes of the laser beam are directly recorded, and shaping the concavo-convex pattern of the duplicate plate material into a resin material. Can do.

従来の微細凹凸パターンの複製方法として、例えば基材フィルム上に熱可塑性を有し固体状の紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂層が設けられたホログラム形成用フィルムと、表面に物体からの光の波面に相当する干渉縞が凹凸の形でホログラムに形成されているホログラム原版とを、前記ホログラム形成用フィルムの硬化樹脂が前記原版に接するように圧接して、硬化樹脂に凹凸を形成した後、紫外線または電子線を照射して硬化樹脂を硬化させる方法が公知である(例えば、特許文献1参照。)。   As a conventional method for replicating a fine uneven pattern, for example, a hologram-forming film in which a thermoplastic and solid ultraviolet curable resin or electron beam curable resin layer is provided on a base film, and light from an object on the surface is provided. After the hologram original plate in which the interference fringes corresponding to the wavefront are formed on the hologram in the form of irregularities are pressed so that the cured resin of the hologram forming film is in contact with the original plate, to form irregularities on the cured resin, A method of curing a cured resin by irradiating with ultraviolet rays or an electron beam is known (see, for example, Patent Document 1).

またこのような微細凹凸パターンの複製装置として、基材フィルム上に熱成形性を有する固体状の紫外線硬化性樹脂が設けられてなるホログラム形成用フィルムの巻取ロールを装着する給紙装置と、該給紙装置より繰り出されるホログラム形成用フィルムを加熱して該樹脂を軟化させる加熱装置と、該加熱装置により加熱されるホログラム形成用フィルムを加熱する一対のニップローラーで構成されている転写装置であって、前記一対のニップローラーが押し付けローラーと表面にホログラム原版が設けられたエンボスローラーとからなる転写装置と、ニップローラーより送り出されるホログラム形成用フィルムに電離放射線を照射して該樹脂を硬化させる照射装置と、ホログラム形成用フィルムを巻取る巻取り装置を配設してなる装置が公知である(例えば、特許文献2参照。)。   Moreover, as a copying apparatus for such a fine concavo-convex pattern, a paper feeding device for mounting a winding roll of a film for forming a hologram formed by providing a solid ultraviolet curable resin having thermoformability on a base film, and A transfer device comprising a heating device for heating the hologram forming film fed from the paper feeding device to soften the resin, and a pair of nip rollers for heating the hologram forming film heated by the heating device; The pair of nip rollers is a pressing device and a transfer device composed of an embossing roller provided with a hologram master on the surface, and a hologram forming film fed from the nip roller is irradiated with ionizing radiation to cure the resin. An apparatus comprising an irradiation device and a winding device for winding a hologram forming film is publicly available. Is (e.g., see Patent Document 2.).

また上記微細凹凸パターンの複製に用いられる樹脂フィルムとして、基材フィルム上に常温で固体状態の加熱圧接で凹凸模様を形成するための電離放射線硬化樹脂が設けられており、前記基材フィルムと前記硬化樹脂との間に剥離性を与える剥離層が設けられている電離放射線硬化樹脂フィルムがホログラム形成用フィルムとして公知である(例えば、特許文献3参照。)。   In addition, as a resin film used for replication of the fine uneven pattern, an ionizing radiation curable resin for forming an uneven pattern by heating and pressing in a solid state at room temperature is provided on the base film, and the base film and the An ionizing radiation curable resin film provided with a release layer that gives peelability to a curable resin is known as a hologram forming film (see, for example, Patent Document 3).

従来の常温で固体状態である樹脂を用いて、レリーフホログラムの凹凸パターンを複製する方法について、特許文献2に記載された図4を用いて説明する。同図に示すように、ホログラム形成用フィルム101は、ポリエチレンテレフタレート等の基材フィルム102上に熱成形性を有する紫外線または電子線硬化性の樹脂層103が設けられている。熱成形性を有する樹脂103は、常温で固体状であり基材フィルム102上に設けられた場合に、表面がべたつくことなく巻取り可能である。またホログラム原版104は凹凸によりホログラムの情報を記録したものであり、エンボスローラー105の表面に形成されている。エンボスローラー105には、押し付けローラー106が加圧機構によりエンボスローラー106側に押し付けられるように形成されている。押し付けローラー106は加熱装置を具備する。   A conventional method of replicating the relief concavo-convex pattern using a resin that is in a solid state at room temperature will be described with reference to FIG. 4 described in Patent Document 2. As shown in the figure, the hologram-forming film 101 is provided with a UV- or electron-beam curable resin layer 103 having thermoformability on a base film 102 such as polyethylene terephthalate. The resin 103 having thermoformability is solid at room temperature and can be wound up without sticking to the surface when provided on the base film 102. Further, the hologram master 104 records hologram information by unevenness, and is formed on the surface of the embossing roller 105. The embossing roller 105 is formed such that a pressing roller 106 is pressed against the embossing roller 106 side by a pressurizing mechanism. The pressing roller 106 includes a heating device.

ホログラム形成用フィルム101は、押し付けローラー106とガイドローラー107によりテンションが加えられた状態でエンボスローラー105に案内され一定圧で押し付けられている。押し付けローラー106の表面は加熱されているため、樹脂層103が軟化しホログラム原版104の凹凸が樹脂層103に転写される。エンボスローラー31は回転しているから、樹脂層103がホログラム原版104に密着した状態でガイドローラー107の近傍まできて、ホログラム原版104より凹凸の賦型された樹脂層103が剥離する。エンボスローラ107は冷却されている為に、軟化状態にある樹脂層103がある程度固まり、ホログラム原版104より剥離した状態で転写時の凹凸が賦型され他状態を維持できる。その後、この凹凸が賦型された樹脂層103を有するホログラム形成用フィルム1は、紫外線または電子線を照射して凹凸の形成された樹脂層103を硬化させ、ホログラムの凹凸パターンが複製されたホログラム形成用フィルムが得られる。   The hologram forming film 101 is guided to the embossing roller 105 and pressed with a constant pressure while being tensioned by the pressing roller 106 and the guide roller 107. Since the surface of the pressing roller 106 is heated, the resin layer 103 is softened and the unevenness of the hologram master 104 is transferred to the resin layer 103. Since the embossing roller 31 is rotating, the resin layer 103 with the unevenness is peeled off from the hologram master 104 in the vicinity of the guide roller 107 with the resin layer 103 in close contact with the hologram master 104. Since the emboss roller 107 is cooled, the resin layer 103 in a softened state is hardened to some extent, and unevenness at the time of transfer is formed in a state where the resin layer 103 is peeled off from the hologram master 104, so that the other state can be maintained. Thereafter, the hologram-forming film 1 having the resin layer 103 with the irregularities formed thereon is cured by irradiating ultraviolet rays or an electron beam to cure the resin layer 103 with the irregularities formed thereon, thereby reproducing the hologram irregularity pattern. A forming film is obtained.

特公平6-85103号公報(特許請求の範囲)Japanese Patent Publication No. 6-85103 (Claims) 特公平6-85103号公報(特許請求の範囲)Japanese Patent Publication No. 6-85103 (Claims) 特公平7-104600号公報(特許請求の範囲)Japanese Patent Publication No.7-104600 (Claims)

上記従来の複製方法は、複製の速度を上げることが困難であるという問題があった。すなわち、押し付けロール106により複製用の樹脂層103を加熱・圧接して賦型している為、ラインのスピードを上げて高速に複製しようとすると、押し付けロール106と樹脂層が接触する時間が短くなる為に、樹脂層103に加える加熱量を大きくして短時間に押し付けロール106から樹脂層を加熱する必要が有る。   The conventional duplication method has a problem that it is difficult to increase the duplication speed. In other words, since the duplication resin layer 103 is heated and pressed by the pressing roll 106, the time required for the pressing roll 106 and the resin layer to contact is shortened when the line speed is increased and the duplication is performed at high speed. Therefore, it is necessary to increase the amount of heating applied to the resin layer 103 and heat the resin layer from the pressing roll 106 in a short time.

この加熱量を大きくする為には、押し付けロール106の温度を上げる必要がある。しかし、押し付けロール106の温度を高くすると、該ロールに直接接触しているホログラム形成用フィルム101の基材フィルム102の熱によるダメージが大きくなる。基材フィルムの熱によるダメージは、基材フィルムが変形し外観上の不具合となるため、押し付けロール106加熱温度を高くするには限界がある。   In order to increase this heating amount, it is necessary to raise the temperature of the pressing roll 106. However, when the temperature of the pressing roll 106 is increased, damage to the base film 102 of the hologram forming film 101 in direct contact with the roll is increased. The damage caused by heat of the base film has a limit in increasing the heating temperature of the pressing roll 106, since the base film is deformed to cause an appearance defect.

ホログラム形成用樹脂層103を加熱する為に、エンボスローラー105側を加熱する手段も考えられる。しかしながら、ホログラム原版104が加熱された状態になり、凹凸形成後の樹脂層103がガイドロール107付近でホログラム原版104から剥離する際に、十分冷却されない状態になる為、樹脂層103の軟化状態が固定されず、ホログラム原版104から剥離しなくなってしまうという問題がある。   In order to heat the hologram forming resin layer 103, a means for heating the embossing roller 105 side is also conceivable. However, since the hologram master 104 is in a heated state, and the resin layer 103 after the formation of the unevenness is peeled off from the hologram master 104 in the vicinity of the guide roll 107, the resin layer 103 is not cooled sufficiently, There is a problem in that it is not fixed and does not peel off from the hologram master 104.

また、ホログラム形成用フィルム101の基材フィルム102の厚みを薄くして、押し付けロール106からホログラム形成樹脂103に対する熱伝導を改良して、加熱を効率良く行うことも考えられるが、基材フィルム102の厚みを薄くするには限界があり、それだけで複製を高速に行うには不十分である。   Further, it is conceivable to reduce the thickness of the base film 102 of the hologram forming film 101 to improve the heat conduction from the pressing roll 106 to the hologram forming resin 103, and to efficiently heat the base film 102. There is a limit to reducing the thickness of the sheet, and that alone is not sufficient for high-speed replication.

本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたものであり、複製速度を上げて高速な複製が可能な凹凸パターンの複製方法を提供することを目的とする。また本発明は上記高速な複製を確実に行うことが可能な凹凸パターンの複製装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, and an object of the present invention is to provide a method for duplicating a concave / convex pattern capable of high-speed duplication by increasing duplication speed. It is another object of the present invention to provide a concavo-convex pattern duplicating apparatus capable of reliably performing the above-described high-speed duplication.

本発明は、
(1)複製用原版の凹凸パターンに対応するレリーフ層が設けられ該レリーフ層の下層に光熱変換層が設けられている複製版材を用い、該複製版材のレリーフ層の表面に、基材フィルムに常温で固体状であり熱成形性を有する賦型樹脂層が設けられた凹凸パターン形成用フィルムの賦型樹脂層を密着させ、複製版材の光熱変換層に光を照射して熱に変換することで凹凸パターン形成用フィルムの賦型樹脂層を加熱して、該賦型樹脂層に前記レリーフ層の凹凸パターンを賦型して複製用原版の凹凸パターンを複製することを特徴とする凹凸パターンの複製方法、
(2)賦型樹脂層が電離放射線硬化性を有し、複製した賦型樹脂層に電離放射線を照射して凹凸パターンを硬化させる上記(1)記載の凹凸パターンの複製方法、
(3)基材フィルムに常温で固体状であり熱成形性を有する賦型樹脂層が設けられた凹凸パターン形成用フィルムを供給するための凹凸パターン形成用フィルム供給装置、複製用の凹凸パターンに対応するレリーフ層が設けられ該レリーフ層の下層に光熱変換層が設けられていると共に、前記凹凸パターン形成用フィルムが前記レリーフ層に密着可能に形成されている複製版材と、前記光熱変換層に光を照射する為の光照射装置とからなる賦型装置、および凹凸パターン形成用フィルムを巻取る為の巻取り装置を備えることを特徴とする凹凸パターンの複製装置、
(4)賦型樹脂層が電離放射線硬化性を有し、複製した賦型樹脂層に電離放射線を照射する為の電離放射線照射装置を備える上記(3)記載の凹凸パターンの複製装置、
を要旨とするものである。
The present invention
(1) Using a replication plate material provided with a relief layer corresponding to the concavo-convex pattern of the replication original plate, and having a photothermal conversion layer provided below the relief layer, a substrate is formed on the surface of the relief layer of the replication plate material Adhering the shaping resin layer of the concavo-convex pattern forming film provided with the shaping resin layer that is solid at room temperature and having thermoformability to the film, and irradiates the photothermal conversion layer of the duplicate plate material with light to heat Heating the shaping resin layer of the concavo-convex pattern forming film by converting, and shaping the concavo-convex pattern of the relief layer on the shaping resin layer to replicate the concavo-convex pattern of the original for duplication Reproduction method of uneven pattern,
(2) The concavo-convex pattern replication method according to (1) above, wherein the shaping resin layer has ionizing radiation curability, and the concavo-convex pattern is cured by irradiating the duplicated shaping resin layer with ionizing radiation,
(3) A concavo-convex pattern forming film supply device for supplying a concavo-convex pattern forming film provided with a base resin film that is solid at room temperature and has a moldable resin layer having thermoformability. A corresponding relief layer, a photothermal conversion layer provided below the relief layer, and the concavo-convex pattern forming film formed so as to be in close contact with the relief layer; and the photothermal conversion layer A concavo-convex pattern duplicating apparatus comprising: a shaping apparatus comprising a light irradiation apparatus for irradiating light; and a winding apparatus for winding the concavo-convex pattern forming film;
(4) The concavo-convex pattern duplicating device according to (3) above, wherein the shaping resin layer has ionizing radiation curability and includes an ionizing radiation irradiating device for irradiating the duplicated shaping resin layer with ionizing radiation,
Is a summary.

本発明複製方法は、凹凸パターン形成用フィルムの賦型樹脂層を加熱するのに、複製版材のレリーフ層の下層にある光熱変換層に光を照射してレリーフ層側から賦型樹脂層を加熱する為、従来の押し付けローラー等を用いて凹凸パターン形成用フィルムの基材シート側から賦型樹脂層を加熱する方法と比較して、熱を効率良く利用して賦型樹脂層の十分な加熱が可能となり、複製の高速化が可能である。すなわち光熱変換層はレリーフ層の下層に設けられていて、該光熱変換層にスポット的に光を照射した部分のみが選択的に高温に加熱されるから、レリーフ層の微小部分を選択的に高温に加熱することができる。その結果、ラインスピードを上げて複製を高速に行った場合でも、賦型樹脂層に凹凸パターンを確実に賦型することができる。さらに賦型装置のレリーフ層に熱が加わる時間を短かくすることができる為、版離れが良好になる。   In the replication method of the present invention, in order to heat the shaping resin layer of the film for forming an uneven pattern, the photothermal conversion layer under the relief layer of the duplicate plate material is irradiated with light to form the shaping resin layer from the relief layer side. Compared with the method of heating the shaping resin layer from the substrate sheet side of the film for forming an uneven pattern using a conventional pressing roller or the like, the heating resin is efficiently used to sufficiently heat the shaping resin layer. Heating is possible, and the speed of replication can be increased. That is, the light-to-heat conversion layer is provided below the relief layer, and only the portion of the light-to-heat conversion layer irradiated with spot light is selectively heated to a high temperature. Can be heated. As a result, even when the line speed is increased and duplication is performed at a high speed, the uneven pattern can be reliably formed on the forming resin layer. Furthermore, since the time during which heat is applied to the relief layer of the shaping apparatus can be shortened, the plate separation is improved.

さらに本発明複製方法は、レリーフ層側から賦型樹脂層が加熱され基材フィルムが加熱されないので、従来の押し付けロール等で基材フィルム側から加熱する方法の様に、基材フィルムに対して熱によるダメージを与える虞がない。また基材フィルムの厚みを厚くしても、賦型樹脂層を十分に加熱可能である。その結果、基材フィルムの安定性を向上させることができ、精度良く凹凸パターンの複製を行うことができる。   Furthermore, since the molding resin layer is heated from the relief layer side and the base film is not heated, the replication method of the present invention is applied to the base film like the conventional method of heating from the base film side with a pressing roll or the like. There is no risk of heat damage. Moreover, even if the thickness of the base film is increased, the shaping resin layer can be sufficiently heated. As a result, the stability of the base film can be improved, and the concave / convex pattern can be duplicated with high accuracy.

さらに本発明複製方法は、凹凸パターン形成用フィルムの賦型樹脂層が複製版材のレリーフ層と密着していればよく、従来の様な加圧は不要である。従って凹凸パターン形成用フィルムの基材フィルムに不要な圧力が加わらない為に、圧力によるダメージを与えることがない。してみれば従来の複製方法では使用できなかった熱や圧力に弱い材料であっても凹凸パターン形成用フィルムの基材フィルムとして利用可能であり、基材フィルムの選択の幅が広がる。   Further, in the duplication method of the present invention, it is only necessary that the shaping resin layer of the film for forming a concavo-convex pattern is in close contact with the relief layer of the duplication plate material, and no conventional pressurization is required. Accordingly, since unnecessary pressure is not applied to the base film of the film for forming an uneven pattern, no damage is caused by pressure. Accordingly, even a material that is weak to heat and pressure that could not be used in the conventional duplication method can be used as a base film for a film for forming an uneven pattern, and the range of selection of the base film is widened.

また本発明複製方法は、押し付けローラーに加圧装置や加熱装置を設ける必要がないから、装置を簡略化することができる。また電機ヒーター等で加熱した押し付けローラーを接触させて加熱する従来の方法では、ヒーターに常時通電して加熱している必要が有る為、電力消費量が膨大である。これに対し本願発明では、光照射を停止すれば直ちに加熱を停止することができる為、加熱する時だけ通電して光を照射すれば事足りるからエネルギー効率が良く、省エネルギー効果が期待できる。   Further, the duplication method of the present invention can simplify the apparatus because it is not necessary to provide a pressing device or a heating device on the pressing roller. Further, in the conventional method of heating by pressing a pressing roller heated by an electric heater or the like, it is necessary to energize the heater constantly to heat it, so that the power consumption is enormous. On the other hand, in the present invention, if the light irradiation is stopped, the heating can be stopped immediately. Therefore, it is sufficient to energize and irradiate the light only when heating, so that energy efficiency is good and an energy saving effect can be expected.

光熱変換層はカーボンブラック等が用いられる為濃色に着色される。本発明では光熱変換層はレリーフ層側に設けられ賦型樹脂層には光熱変換層が設けられていない。そのため賦型樹脂層は濃色に着色されないから、複製した製品が濃色系に限定されることがなく、淡色系まで幅広い製品に利用可能である。   The photothermal conversion layer is colored dark because carbon black or the like is used. In the present invention, the photothermal conversion layer is provided on the relief layer side, and the photothermal conversion layer is not provided on the shaping resin layer. Therefore, since the shaping resin layer is not colored in a dark color, the replicated product is not limited to a dark color system, and can be used for a wide range of products up to a light color system.

また、光を照射して光熱変換層を発熱させて加熱する際に、この光の照射をパターン状に照射して光熱変換層をパターン状に発熱させレリーフ層をパターン状に加熱することで、凹凸パターンを大量複製すると同時に、オンデマンド情報を記録可能である。   Also, when heating the light-to-heat conversion layer by irradiating light, this light irradiation is irradiated in a pattern to heat the light-to-heat conversion layer in a pattern and heat the relief layer in a pattern, On-demand information can be recorded at the same time as the concavo-convex pattern is copied in large quantities.

本発明複製装置は、上記構成を採用したことにより、凹凸パターンの複製を高速に行なう場合、確実に複製を行なうことができる。   By adopting the above configuration, the replication apparatus of the present invention can reliably perform replication when the concavo-convex pattern is replicated at high speed.

以下、図面を用いて本発明を詳細に説明する。本発明凹凸パターンの複製方法は、図1に示すように、表面に原版の凹凸パターンに対応するレリーフ層1が設けられ、該レリーフ層1の下層に光熱変換層2が設けられた複製版材3、および基材フィルム4の表面に熱成形性を有する常温で固体状の電離放射線硬化性樹脂からなる賦型樹脂層5が設けられた凹凸パターン形成用フィルム6が用いられる。また複製版材3の光熱変換層2に光8を照射するための光照射装置7が設けられている。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the method for duplicating the concavo-convex pattern of the present invention is a duplication plate material in which a relief layer 1 corresponding to the concavo-convex pattern of the original plate is provided on the surface, and a photothermal conversion layer 2 is provided below the relief layer 1. 3 and a concavo-convex pattern forming film 6 in which a shaping resin layer 5 made of an ionizing radiation curable resin that is thermoformable at room temperature is provided on the surface of the base film 4 is used. In addition, a light irradiation device 7 for irradiating the photothermal conversion layer 2 of the duplicate plate material 3 with light 8 is provided.

図2は本発明複製装置の一例の概略を示す説明図である。図2に示す複製装置は、基材フィルム4の表面に常温で固体状であり電離放射線硬化性を有する賦型樹脂層4が設けられた凹凸パターン形成用フィルム6を供給する凹凸パターン形成用フィルム供給装置20、表面に複製用の凹凸パターンに対応するレリーフ層1が設けられ該レリーフ層1の下層に光熱変換層2が設けられ前記凹凸パターン形成用フィルム6が前記レリーフ層1に密着可能に形成されている複製版材3および前記光熱変換層2に光8を照射する為の光照射装置7からなる賦型装置30、凹凸パターンを賦型した凹凸パターン形成用フィルムの賦型樹脂層2に電離放射線を照射して賦型樹脂層を硬化させるための電離放射線照射装置50、および凹凸パターン形成用フィルムを巻取る為の巻取り装置60を備える。   FIG. 2 is an explanatory diagram showing an outline of an example of the replication apparatus of the present invention. The duplicating apparatus shown in FIG. 2 is a concavo-convex pattern forming film that supplies a concavo-convex pattern forming film 6 provided with a shaping resin layer 4 that is solid at room temperature and has ionizing radiation curability on the surface of a base film 4 Supply device 20, relief layer 1 corresponding to the concave / convex pattern for replication is provided on the surface, photothermal conversion layer 2 is provided under the relief layer 1, and the concave / convex pattern forming film 6 can be in close contact with the relief layer 1 Forming device 30 comprising a replica plate material 3 formed and a light irradiation device 7 for irradiating the photothermal conversion layer 2 with light 8, a forming resin layer 2 of a film for forming a concavo-convex pattern formed with a concavo-convex pattern Are provided with an ionizing radiation irradiation device 50 for irradiating ionizing radiation to cure the shaping resin layer, and a winding device 60 for winding up the film for forming an uneven pattern.

なお賦型装置30の複製版材3は、円筒状のシリンダとしてに形成され、レリーフ層1がシリンダの表面にロール状に巻きつけられて形成されている。また賦型装置30では、レリーフ層1に凹凸パターン形成用フィルム6を接触させて密着させる為のガイドローラー9、10を備えるものである。また複賦型装置30の複製版材3は、凹凸パターン供給装置20の送り出し速度と巻取り装置60の巻取り速度に合わせて回転するように構成されている。   The duplicate plate material 3 of the shaping apparatus 30 is formed as a cylindrical cylinder, and the relief layer 1 is formed in a roll shape around the surface of the cylinder. Further, the shaping apparatus 30 includes guide rollers 9 and 10 for bringing the uneven pattern forming film 6 into contact with the relief layer 1 so as to be in close contact therewith. In addition, the duplicate plate material 3 of the compounding device 30 is configured to rotate in accordance with the feeding speed of the uneven pattern supply device 20 and the winding speed of the winding device 60.

賦型樹脂層に複製用原版の凹凸パターンを形成するには、まず図2に示すように凹凸パターン形成用フィルム供給装置20から凹凸パターン形成用フィルム6を繰り出して賦型装置30に送る。次いで図1に示すように、凹凸パターン形成用フィルム6の賦型樹脂層5を賦型装置3のレリーフ層1に接触させて、ガイドロール9、10などにより凹凸パターン形成用フィルム6に弱くテンションがかかるようにして、賦型樹脂層5がレリーフ層1に密着した状態とする。   In order to form the concave / convex pattern of the replication master on the shaping resin layer, first, the concave / convex pattern forming film 6 is fed out from the concave / convex pattern forming film supply device 20 and sent to the shaping device 30 as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 1, the shaping resin layer 5 of the concavo-convex pattern forming film 6 is brought into contact with the relief layer 1 of the shaping apparatus 3, and the concavo-convex pattern forming film 6 is weakly tensioned by the guide rolls 9 and 10, etc. In this way, the shaping resin layer 5 is brought into close contact with the relief layer 1.

このとき賦型樹脂層5はレリーフ層3に対して接触して密着した状態であればよく、加圧する必要はない。ただし賦型樹脂層5とレリーフ層3との間に空気が存在すると、空気が断熱層となって、賦型樹脂層5にレリーフ層3から熱が伝わらない虞が有る為に、空気が入らないように注意する。そのために、賦型樹脂層5とレリーフ層3との間の空気を真空装置等により吸引することは好ましい手段である。   At this time, the shaping resin layer 5 may be in a state of being in close contact with the relief layer 3, and need not be pressurized. However, if air exists between the shaping resin layer 5 and the relief layer 3, the air becomes a heat insulating layer, and heat may not be transferred from the relief layer 3 to the shaping resin layer 5. Be careful not to. Therefore, it is a preferable means to suck the air between the shaping resin layer 5 and the relief layer 3 with a vacuum device or the like.

ついで図1に示すように、賦型樹脂層5がレリーフ層1に密着している状態で、複製版材3の光熱変換層2に光照射装置7から光8を照射する。光熱変換層2では照射した光が熱エネルギーに変換され発熱する。光熱変換層2の発熱は該光熱変換層に積層されているレリーフ層1を加熱する。レリーフ層1が加熱されると、その熱がレリーフ層1に接触している賦型樹脂層5に伝わり、該賦型樹脂層5を熱軟化させる。軟化した賦型樹脂層5に接触しているレリーフ層1の凹凸パターンが賦型される。   Next, as shown in FIG. 1, the light-heat conversion layer 2 of the duplicate plate material 3 is irradiated with light 8 from the light irradiation device 7 while the shaping resin layer 5 is in close contact with the relief layer 1. In the photothermal conversion layer 2, the irradiated light is converted into heat energy and generates heat. The heat generation of the photothermal conversion layer 2 heats the relief layer 1 laminated on the photothermal conversion layer. When the relief layer 1 is heated, the heat is transmitted to the shaping resin layer 5 in contact with the relief layer 1, and the shaping resin layer 5 is thermally softened. The uneven pattern of the relief layer 1 in contact with the softened shaping resin layer 5 is shaped.

光照射装置7の光源から発射される光8は、例えば直径100μm以下のスポット状の光を複製版材3の幅方向を一端部から他端部までライン状にスキャンすると、レリーフ層1は複製版材3が回転しているので、レリーフ層全体を加熱することができる。複製版材3の光熱変換層2にライン状に照射された光は、光熱変換層2を極めて幅の狭い線状に発熱させることができる。そして光熱変換層2に接触するレリーフ層1は幅の狭い線状に加熱され、該レリーフ層1と密着している賦型樹脂層5を幅の狭い線状の領域を熱変形可能とする温度まで瞬時に加熱する。このように光熱変換層に光を照射して発熱させ、その熱により隣接したレリーフ層を加熱することで、レリーフ層の極めて狭い領域のみを加熱可能であり、光が照射されない部分は加熱されないので、照射部分をすぎると温度が低下して賦型状態がすぐに固定される。   The light 8 emitted from the light source of the light irradiation device 7 is, for example, when the spot-like light having a diameter of 100 μm or less is scanned in a line shape from one end to the other end in the width direction of the duplicate plate material 3, the relief layer 1 is duplicated. Since the printing plate 3 is rotating, the entire relief layer can be heated. The light irradiated in a line on the photothermal conversion layer 2 of the duplicate plate material 3 can cause the photothermal conversion layer 2 to generate heat in a very narrow line. The relief layer 1 in contact with the light-to-heat conversion layer 2 is heated to a narrow linear shape, and the molding resin layer 5 in close contact with the relief layer 1 can be thermally deformed into a narrow linear region. Heat up to instant. In this way, the light-to-heat conversion layer is irradiated with light to generate heat, and the adjacent relief layer is heated by the heat, so that only a very narrow area of the relief layer can be heated, and the portion not irradiated with light is not heated. If the irradiated part is passed, the temperature is lowered and the shaping state is fixed immediately.

光照射装置7は、光源として例えばパルス発振炭酸ガスレーザー等のレーザー光発生装置、ハロゲンヒーター等の光照射源を備えている。また光照射装置7には、光源の出力エネルギーを調節したりオンオフさせることができる制御機構や、光源から発射された光の光路や焦点を調整する為のミラーやレンズ等の光学系、光源を移動させるための駆動装置等を設けることができる。光照射装置7としては、例えばレーザーマーカー等が利用できる。   The light irradiation device 7 includes, as a light source, a laser light generation device such as a pulsed carbon dioxide laser, and a light irradiation source such as a halogen heater. The light irradiation device 7 includes a control mechanism that can adjust or turn on the output energy of the light source, an optical system such as a mirror and a lens for adjusting the optical path and focus of the light emitted from the light source, and a light source. A driving device or the like for movement can be provided. As the light irradiation device 7, for example, a laser marker or the like can be used.

通常、光照射装置7は凹凸パターン形成用フィルム6側から光熱変換層2に光8を照射するように配置される。そのため、基材フィルムを通過する際にダメージを与えないように、基材フィルムに対して透過率の高い光の波長を適宜選択するのが好ましい。例えば、光としてレーザ光を用い基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルム(PETと記載することもある)を用いた場合には、PETに対して透過率の高い波長である可視光に近いレーザ光を適宜選択すればよい。   Usually, the light irradiation device 7 is arranged so as to irradiate the light-heat conversion layer 2 with light 8 from the uneven pattern forming film 6 side. Therefore, it is preferable to appropriately select a wavelength of light having a high transmittance with respect to the base film so as not to cause damage when passing through the base film. For example, when a laser beam is used as the light and a polyethylene terephthalate film (sometimes referred to as PET) is used as the base film, a laser beam close to visible light having a high transmittance with respect to PET is appropriately used. Just choose.

また、光を照射して光熱変換層を発熱させて加熱する際に、この光の照射をパターン状に照射して光熱変換層をパターン状に発熱させレリーフ層をパターン状に加熱することで、オン・デマンド情報を記録することができる。オン・デマンド情報としては、例えば、個人のID番号等の固有情報を利用できる。すなわち、賦型樹脂層全体に会社名等の一般情報あるいは共通情報からなる凹凸パターンを記録し、その凹凸パターンが設けられた領域以外の隙間の部分、或いは前記凹凸パターンの上から、固有情報の文字や記号等を凹凸パターンとなるようにレーザ光のスキャンニングによりダイレクトに描画して記録する。このようにして共通情報の凹凸パターンを大量複製すると同時に、オンデマンド情報を記録可能である。このようにして形成した固有情報が記録された複製物は、IDカード等のセキュリティカードとした場合にセキュリティの安全性を向上させることができる。   Also, when heating the light-to-heat conversion layer by irradiating light, this light irradiation is irradiated in a pattern to heat the light-to-heat conversion layer in a pattern and heat the relief layer in a pattern, On-demand information can be recorded. As on-demand information, for example, unique information such as an individual ID number can be used. That is, a concave / convex pattern consisting of general information such as a company name or common information is recorded on the entire shaping resin layer, and the unique information is recorded from the gap portion other than the region where the concave / convex pattern is provided or from above the concave / convex pattern. Characters, symbols, and the like are directly drawn and recorded by laser beam scanning so as to form an uneven pattern. In this way, on-demand information can be recorded at the same time as copying a large number of concave and convex patterns of common information. The copy in which the unique information formed in this way is recorded can improve the security safety when it is used as a security card such as an ID card.

図1に示すように、凹凸パターンが賦型された凹凸パターン形成用フィルム6は、複製版材3が回転してガイドロール10の近傍でレリーフ層1の表面から剥離する。複製版材3と接触して密着している状態の賦型樹脂層5は、光熱変換層2の光8が照射されている部分がせまい幅の領域であるから、その加熱されている部分はすぐに通過してしまう。賦型樹脂層が加熱領域を通過すると直ちに賦型樹脂層の温度が下がり熱可塑性が失われて賦型された凹凸パターンは固定される。しそしてガイドローラ10の付近のレリーフ層3は、光8の照射部分から遠く離れていて十分に冷却された状態にある。その結果、賦型樹脂層5が可塑性を失い十分硬くなっていて、賦型された凹凸パターンが確実に保持されると共に、賦型樹脂層5は複製版材3から良好に剥離するから、版ばなれも良好である。   As shown in FIG. 1, the concavo-convex pattern forming film 6 formed with the concavo-convex pattern is peeled off from the surface of the relief layer 1 in the vicinity of the guide roll 10 as the duplicate plate material 3 rotates. In the molding resin layer 5 in contact with and closely contacting the duplicate plate material 3, the portion of the photothermal conversion layer 2 that is irradiated with the light 8 is a narrow width region. It passes immediately. As soon as the shaping resin layer passes through the heating region, the temperature of the shaping resin layer is lowered, the thermoplasticity is lost, and the shaped uneven pattern is fixed. The relief layer 3 in the vicinity of the guide roller 10 is far from the irradiated portion of the light 8 and is sufficiently cooled. As a result, the shaping resin layer 5 loses plasticity and is sufficiently hard, and the shaped uneven pattern is securely held, and the shaping resin layer 5 peels well from the duplicate plate material 3, so that the plate It's also good.

ガイドロール10を通過した凹凸パターン形成用フィルム6は、図2に示すように、電離放射線硬化装置50に送られる。電離放射線硬化装置50は照射源51と冷却ロール52から構成される。電離放射線硬化装置50では、凹凸パターン形成用フィルム6上に照射源51から電離放射線53を照射して、凹凸パターンが賦型された賦型樹脂層5を硬化させる。その後、凹凸パターン形成用フィルム6は巻取り装置によってロール状に巻取られる。   The uneven pattern forming film 6 that has passed through the guide roll 10 is sent to an ionizing radiation curing device 50 as shown in FIG. The ionizing radiation curing device 50 includes an irradiation source 51 and a cooling roll 52. The ionizing radiation curing device 50 irradiates the uneven pattern forming film 6 with ionizing radiation 53 from the irradiation source 51 to cure the shaping resin layer 5 on which the uneven pattern is shaped. Thereafter, the concavo-convex pattern forming film 6 is wound into a roll by a winding device.

また特に図示しないが、凹凸パターン形成用フィルム6に電離放射線を照射して賦型樹脂層5を硬化させたのちに、基材フィルム4を剥離させ、再度電離放射線を照射して硬化を完全に行ない、凹凸パターン形成用フィルムの賦型樹脂層のみを巻きとることもできる。この際、電離放射線の照射量は使用する樹脂により適宜決めることができる。   Although not specifically shown, after the ion-implanted radiation 6 is irradiated to the uneven pattern forming film 6 to cure the shaping resin layer 5, the base film 4 is peeled off, and then the ionizing radiation is irradiated again to completely cure. It is also possible to wind only the shaping resin layer of the concavo-convex pattern forming film. At this time, the dose of ionizing radiation can be appropriately determined depending on the resin used.

また賦型樹脂層5を硬化させる時期は、凹凸パターン形成後、直ちに行っても、あるいは、一旦、凹凸パターン形成用フィルムをロール状に巻取る等して保存した後、適当な時期に賦型樹脂層4に電離放射線を照射して該樹脂層5を硬化させてもよい。   The timing of curing the shaping resin layer 5 may be performed immediately after the formation of the concavo-convex pattern, or once the concavo-convex pattern forming film is wound and stored in a roll shape, the mold is molded at an appropriate time. The resin layer 4 may be cured by irradiating the resin layer 4 with ionizing radiation.

凹凸パターン形成用フィルム6の基材フィルム4、賦型樹脂層5、およびレリーフ層1等の、光照射装置7と光熱変換層8との間に位置する材料は、実質的に光照射装置7から照射した光が光熱変換層8に達するように透過可能な材料であればよい。   The material located between the light irradiation device 7 and the photothermal conversion layer 8, such as the base film 4, the shaping resin layer 5, and the relief layer 1 of the uneven pattern forming film 6, is substantially the light irradiation device 7. Any material can be used as long as it can transmit light so that the light irradiated from the light reaches the photothermal conversion layer 8.

複製版材3のレリーフ層1は、複製しようとする凹凸パターンが形成された複製用原版から、既知の手法によって前記凹凸パターンに対応する凹凸パターンとして形成することができる。複製を行う凹凸パターンとしては、レリーフホログラム、回折格子などの光回折構造、ヘアライン等の微細な凹凸パターンが用いられる。なお複製用原版からレリーフ層1を作成する方法および複製を行なう凹凸パターンの詳細は後述する。   The relief layer 1 of the duplication plate material 3 can be formed as a concavo-convex pattern corresponding to the concavo-convex pattern by a known method from a replication original plate on which the concavo-convex pattern to be duplicated is formed. As the concavo-convex pattern to be replicated, a light diffractive structure such as a relief hologram or a diffraction grating, or a fine concavo-convex pattern such as a hairline is used. The details of the method of creating the relief layer 1 from the replica master and the uneven pattern for replicating will be described later.

光熱変換層2は、光照射装置7より照射され凹凸パターン形成用フィルム6およびレーフ層1を透過したた光8を吸収してこれを熱に変換して発熱するものである。この光熱変換層2は、カーボンブラック等の色素を熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂等のバインダー樹脂中に溶解、もしくは分散させた層より構成することができる。   The photothermal conversion layer 2 absorbs the light 8 irradiated from the light irradiation device 7 and transmitted through the concavo-convex pattern forming film 6 and the reef layer 1 and converts it into heat to generate heat. This photothermal conversion layer 2 can be composed of a layer in which a pigment such as carbon black is dissolved or dispersed in a binder resin such as a thermoplastic resin or a thermosetting resin.

光熱変換層2の厚さは、通常1〜5μmであり、好ましくは2μmである。   The thickness of the photothermal conversion layer 2 is usually 1 to 5 μm, preferably 2 μm.

光熱変換層2に用いられる色素としては、カーボンブラック以外に使用する光に応じて種々のものを用いることができる。例えば半導体レーザに適合するものとして、シアニン系やピリリウム系等のポリメチン系色素、銅フタロシアニン等のフタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ジチオール金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、トリフェニルメタン系色素、アルミニウム系色素、ジインモニウム系色素等が挙げられる。光熱変換層2は、公知の塗工手段等によりに形成することができる。   As the dye used in the photothermal conversion layer 2, various pigments other than carbon black can be used depending on the light used. For example, those suitable for semiconductor lasers include cyanine and pyrylium polymethine dyes, phthalocyanine dyes such as copper phthalocyanine, naphthalocyanine dyes, dithiol metal complex dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, triphenylmethane System dyes, aluminum dyes, diimonium dyes, and the like. The photothermal conversion layer 2 can be formed by a known coating means or the like.

光熱変換層2に用いられるバインダー樹脂としては、ポリエステル、アクリル、エポキシ、ブチラール、アセタール、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、ウレタン、フェノキシ等が挙げられる。好ましい樹脂は、ポリエステルである。   Examples of the binder resin used for the photothermal conversion layer 2 include polyester, acrylic, epoxy, butyral, acetal, vinyl chloride vinyl acetate copolymer, urethane, and phenoxy. A preferred resin is polyester.

凹凸パターン形成用フィルム6は、基材フィルム4の表面に既知の手段により賦型樹脂層5を形成することにより得られる。また基材フィルム4と賦型樹脂層5との間には剥離層(図示せず)が設けられていてもよい。   The uneven pattern forming film 6 is obtained by forming the shaping resin layer 5 on the surface of the base film 4 by a known means. A release layer (not shown) may be provided between the base film 4 and the shaping resin layer 5.

凹凸パターン形成用フィルム6の基材フィルム4としては、フィルム状の材料をであれば特に限定されずに用いることができる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート-イソフタレート共重合体、テレフタル酸-シクロヘキサンジメタノール-エチレングリコール共重合体、ポリエチレンテレフタレート/ポリエチレンナフタレートの共押出しフィルムなどのポリエステル系樹脂、ナイロン6、ナイロン6,6、ナイロン610などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリアクリレート、ポリメタアクリレート、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリアリレート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリアラミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルファイドなどのエンジニアリングプラスチック、ポリカーボネート、ABS樹脂などのスチレン系樹脂、セロファン、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート、ニトロセルロースなどのセルロース系フィルムなどの重合体フィルム(プラスチックフィルム)が挙げられる。上記プラスチックフィルムは、延伸フィルムでも未延伸フィルムでもよいが、強度が向上するという点からは一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。   As the base film 4 of the concavo-convex pattern forming film 6, a film-like material can be used without particular limitation as long as it is a film material. Specifically, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate-isophthalate copolymer, terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer, polyethylene terephthalate / polyethylene naphthalate co-extruded film, etc. Polyester resins, nylon resins such as nylon 6, nylon 6,6, nylon 610, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene, vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyacrylate, polymethacrylate, poly Acrylic resins such as methyl methacrylate, imide resins, polyarylate, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene ether, polyphenylene Engineering plastics such as polysulfide (PPS), polyaramid, polyetherketone, polyethernitrile, polyetheretherketone, polyethersulfide, styrene resins such as polycarbonate, ABS resin, cellophane, cellulose triacetate, cellulose diacetate, nitrocellulose And polymer films (plastic film) such as cellulose film. The plastic film may be a stretched film or an unstretched film, but a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction is preferable from the viewpoint of improving strength.

また基材フィルム4としては、プラスチックフィルム以外に、紙、合成紙、鉄、アルミニウムなどの金属フィルムなどを用いることもできる。なお光透過性という点からは、プラスチックフィルムが好ましい。上記のフィルムは単独或いは2種以上の積層体が用いられる。基材フィルム4の膜厚は、通常5〜2000μm程度のものが使用できる。基材フィルム4は、通常は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系のフィルムが、耐熱性、寸法安定性、耐電離放射線性を有することから好適に使用され、ポリエチレンテレフタレートが最適である。   In addition to the plastic film, the base film 4 can be a metal film such as paper, synthetic paper, iron, or aluminum. A plastic film is preferable from the viewpoint of light transmittance. The above film may be used alone or as a laminate of two or more. The film thickness of the base film 4 can usually be about 5 to 2000 μm. As the base film 4, a polyester film such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate is preferably used because it has heat resistance, dimensional stability, and ionizing radiation resistance, and polyethylene terephthalate is most suitable.

また基材フィルム4には、賦型樹脂層の塗布に先立って、塗布面にコロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー(アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる)処理、予熱処理、除塵埃処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行なってもよい。また基材フィルム4には必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤等の添加剤を加えてもよい。   In addition, the base film 4 is subjected to corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer treatment (also referred to as an anchor coat, adhesion promoter, or easy adhesive) on the coated surface prior to application of the shaping resin layer. Further, easy adhesion treatment such as pre-heat treatment, dust removal treatment, and alkali treatment may be performed. In addition, additives such as a filler, a plasticizer, a colorant, and an antistatic agent may be added to the base film 4 as necessary.

賦型樹脂層5に用いられる、常温で固体状であり熱成形性を有する電離放射線硬化樹脂は、ラジカル重合性不飽和基を有する熱可塑性物質から構成される。具体的には、次の(1)、(2)に示す2種類のものがある。   The ionizing radiation curable resin that is solid at room temperature and has thermoformability used for the shaping resin layer 5 is composed of a thermoplastic substance having a radical polymerizable unsaturated group. Specifically, there are the following two types (1) and (2).

(1)ガラス転移温度が0〜250℃のポリマー中にラジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具体的には、ポリマーとしては以下の化合物i)〜viii)を重合もしくは共重合させたものに対し、後述する方法(イ)〜(ニ)によりラジカル重合性不飽和基を導入したもの。 (1) Those having a radical polymerizable unsaturated group in a polymer having a glass transition temperature of 0 to 250 ° C. More specifically, the polymer is a polymer obtained by polymerizing or copolymerizing the following compounds i) to viii) and introducing a radically polymerizable unsaturated group by the methods (a) to (d) described later.

i)水酸基を有する単量体:N-メチロールアクリルアミド、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレートなど。
ii)カルボキシル基を有する単量体:アクリル酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネートなど。
iii)エポキシ基を有する単量体:グリシジルメタクリレートなど。
iv)アジリジニル基を有する単量体:2-アジリジニルエチルメタクリレート、2-アジリジニルプロピオン酸アリルなど。
v)アミノ基を有する単量体:アクリルアミド、メタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレートなど。
vi)スルフォン基を有する単量体:2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルフォン酸など。
vii)イソシアネート基を有する単量体:2,4-トルエンジイソシアネートと2-ヒドロキシエチルアクリレートの1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活性水素を有するラジアル重合性単量体の付加物など。
viii)さらに、上記の重合体または共重合体のガラス転移点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体とを共重合させることもできる。このような共重合可能な単量体としては、たとえばメチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t-ブチルアクリレート、t-ブチルメタクリレート、イソアミルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレートなどが挙げられる。
i) Monomers having a hydroxyl group: N-methylolacrylamide, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, and the like.
ii) Monomers having a carboxyl group: acrylic acid, methacrylic acid, acryloyloxyethyl monosuccinate and the like.
iii) Monomers having an epoxy group: glycidyl methacrylate and the like.
iv) Monomers having an aziridinyl group: 2-aziridinylethyl methacrylate, allyl 2-aziridinylpropionate, and the like.
v) Monomers having an amino group: acrylamide, methacrylamide, diacetone acrylamide, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate and the like.
vi) Monomers having a sulfonic group: 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid and the like.
vii) Monomer having an isocyanate group: an adduct of a radial polymerizable monomer having an active hydrogen and a diisocyanate such as a 1 mol to 1 mol adduct of 2,4-toluene diisocyanate and 2-hydroxyethyl acrylate.
viii) Further, in order to adjust the glass transition point of the above-mentioned polymer or copolymer, or to adjust the physical properties of the cured film, the above-mentioned compound can be copolymerized with this compound as shown below. A monomer can also be copolymerized. Examples of such copolymerizable monomers include methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl acrylate, t -Butyl methacrylate, isoamyl acrylate, isoamyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate and the like.

上記の重合体にラジカル重合性不飽和基を導入する方法を以下の(イ)〜(ニ)に示す。
(イ)水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を有する単量体などを縮合反応させる。
(ロ)カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。
(ハ)エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。
(ニ)水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいはジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量体の1対1モルの付加物を付加反応させる。
上記反応を行うには、微量のハイドロキノンなどの重合禁止剤を加え乾燥空気を送りながら行うことが好ましい。
The following methods (a) to (d) show methods for introducing a radical polymerizable unsaturated group into the above polymer.
(A) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group such as acrylic acid or methacrylic acid is subjected to a condensation reaction.
(B) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a carboxyl group or a sulfone group, the aforementioned monomer having a hydroxyl group is subjected to a condensation reaction.
(C) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having an epoxy group, an isocyanate group or an aziridinyl group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group or monomer having a carboxyl group is subjected to an addition reaction.
(D) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group or a carboxyl group, a monomer having an epoxy group, a monomer having an aziridinyl group or a diisocyanate compound and a hydroxyl group-containing acrylate ester Addition reaction of 1 to 1 mole adduct of the body.
In order to perform the above reaction, it is preferable to add a trace amount of a polymerization inhibitor such as hydroquinone and feed dry air.

(2)融点が0〜250℃でありラジカル重合性不飽和基を有する化合物。具体的にはステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、シクロヘキサンジオールジメタクリレート、スピログリコールジアクリレート、スピログリコールジメタクリレートなどが挙げられる。 (2) A compound having a melting point of 0 to 250 ° C. and having a radically polymerizable unsaturated group. Specific examples include stearyl acrylate, stearyl methacrylate, triacryl isocyanurate, cyclohexanediol diacrylate, cyclohexanediol dimethacrylate, spiroglycol diacrylate, and spiroglycol dimethacrylate.

また、賦型樹脂層5の樹脂として、前記(1)、(2)を混合して用いることもでき、さらに、それらに対してラジカル重合性不飽和単量体を加えることもできる。このラジカル重合性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度を向上させ耐熱性を向上させるものであって、前述の単量体の他にエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチルロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジグリジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレングリコールジグリジルエーテルジメタクリレート、ソルビトールテトラグリジルエーテルテトラアクリレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラメタクリレートなどを用いることができ、前記した共重合体混合物の固型分100質量部に対して、0.1〜100質量部で用いることが好ましい。   In addition, as the resin for the shaping resin layer 5, the above (1) and (2) can be mixed and used, and a radical polymerizable unsaturated monomer can be added to them. This radically polymerizable unsaturated monomer improves crosslink density and improves heat resistance upon irradiation with ionizing radiation, and in addition to the aforementioned monomers, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, Polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, hexanediol diacrylate, hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, penta Erythritol tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipenta Lithritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, propylene glycol diglycidyl ether diacrylate , Propylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether diacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, sorbitol tetraglycidyl ether tetraacrylate, sorbitol tetraglycidyl ether tetramethacrylate, etc. Come against solid content 100 parts by weight of the copolymer mixture described above, it is preferable to use at 0.1 parts by weight.

また、上記電離放射線硬化性樹脂は電子線により十分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合には、光重合開始剤、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α-アミノキシムエステル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン類などの光重合開始剤と、必要に応じて光増感剤、例えば、n-ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ-n-ブチルホスフィンなどを添加する。   The ionizing radiation curable resin can be sufficiently cured by an electron beam. However, when it is cured by ultraviolet irradiation, a photopolymerization initiator such as acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amino is used. A photopolymerization initiator such as oxime ester, tetramethylmeurum monosulfide, or thioxanthone, and a photosensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine are added as necessary.

また、上記電離放射線硬化性樹脂は、適正な触媒が存在すれば熱エネルギーによっても硬化させることができる。   The ionizing radiation curable resin can also be cured by heat energy if an appropriate catalyst is present.

賦型樹脂層5に用いられる、常温で固体状であり熱成形性を有する電離放射線硬化性樹脂は、例えば凹凸パターンとしてホログラムを複製する場合には、基材フィルム4上に、通常0.1〜50μm、望ましくは0.5〜5μmの膜厚で形成される。なおこの膜厚は、複製しようとする凹凸パターンの使用目的によって異なる。   The ionizing radiation curable resin which is used for the shaping resin layer 5 and is solid at room temperature and has thermoformability is usually 0.1 to 50 μm on the base film 4 when replicating a hologram as an uneven pattern, for example. Preferably, it is formed with a film thickness of 0.5 to 5 μm. This film thickness varies depending on the intended use of the uneven pattern to be replicated.

賦型樹脂層5は、例えばスピンコート、ナイフコート、ロールコート、バーコート等既知の塗布方法により、基材フィルム2上に形成することができる。また賦型樹脂層5を支持体上に部分的に形成しようとする場合には、スクリーン印刷、グラビア印刷等の一般的な印刷技術を用いるか、或いは転写方法を用いることができる。   The shaping resin layer 5 can be formed on the base film 2 by a known coating method such as spin coating, knife coating, roll coating, or bar coating. Moreover, when it is going to form the shaping resin layer 5 partially on a support body, general printing techniques, such as screen printing and gravure printing, can be used, or a transfer method can be used.

上記基材フィルム4に賦型樹脂層5を形成した凹凸パターン形成用フィルム6は、賦型樹脂層5が常温で固体状に形成されていて、見かけ上は指触乾燥状態に形成されているから、該フィルム6を一旦ロール状に巻取った場合に賦型樹脂層5がべたついたりすることなく良好に保存することが可能である。そしてこの保存しておいたフィルム6を、必要に応じ凹凸パターンフィルム供給装置20に設置して使用する。   The concavo-convex pattern-forming film 6 in which the shaping resin layer 5 is formed on the base film 4 is formed so that the shaping resin layer 5 is formed in a solid state at room temperature, and is apparently formed in a dry touch state. Therefore, when the film 6 is once wound up in a roll shape, it can be stored well without sticking the shaping resin layer 5. The stored film 6 is installed and used in the uneven pattern film supply device 20 as necessary.

凹凸パターン形成用フィルム6に、基材フィルム4と賦型樹脂層5との間に剥離層を形成すると、該剥離層により基材フィルム4と賦型樹脂層5との間の剥離性、耐摩性および印刷適性などを与えることができる。剥離層としては、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、オレフィン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂などの従来既知のものが広く使用できる。この剥離層の膜厚は、通常0.05〜10μm、望ましくは0.2〜2μmであることが好ましい。   When a release layer is formed between the base film 4 and the shaping resin layer 5 on the concavo-convex pattern forming film 6, the release layer between the base film 4 and the shaping resin layer 5 can be peeled off and wear resistant. And printability can be provided. As the release layer, conventionally known ones such as acrylic resins, cellulose resins, vinyl resins, polyester resins, urethane resins, olefin resins, amide resins, and epoxy resins can be widely used. The thickness of the release layer is usually 0.05 to 10 μm, preferably 0.2 to 2 μm.

図2に示すように凹凸パターンが形成された賦型樹脂層5は、ガイドロール10の付近で複製版材3のレリーフ層1から剥離して、次に凹凸パターン形成用フィルム6は電離放射線照射装置50に送られ、照射源51から賦型樹脂層5に電離放射線を照射して該賦型樹脂層5を三次元架橋硬化させる。凹凸パターンが形成された賦型樹脂層5には、耐熱性および耐溶剤性が付与される。電離放射線を照射して賦型樹脂層を硬化させた凹凸パターン形成用フィルム6から基材フィルム4を剥離することで、凹凸パターンの複製物が得られる。   As shown in FIG. 2, the shaping resin layer 5 on which the concave / convex pattern is formed peels off from the relief layer 1 of the duplicate plate material 3 in the vicinity of the guide roll 10, and then the concave / convex pattern forming film 6 is irradiated with ionizing radiation. It is sent to the apparatus 50, and the shaping resin layer 5 is irradiated with ionizing radiation from the irradiation source 51 to cure the shaping resin layer 5 three-dimensionally. The shaping resin layer 5 on which the concavo-convex pattern is formed is imparted with heat resistance and solvent resistance. A replica of the concavo-convex pattern is obtained by peeling the substrate film 4 from the concavo-convex pattern forming film 6 which has been irradiated with ionizing radiation to cure the shaping resin layer.

また、必要であれば剥離後にさらに紫外線あるいは電子線を照射することができる。その場合、十分に賦型樹脂層を硬化させることができ、硬度、耐熱性、耐溶剤性などを一層向上させることができる。   Further, if necessary, ultraviolet rays or electron beams can be further irradiated after peeling. In that case, the shaping resin layer can be sufficiently cured, and the hardness, heat resistance, solvent resistance and the like can be further improved.

賦型樹脂層5を硬化させる電離放射線としては、すべての紫外線(UV-A、UV-B、UV-C)、可視光線、ガンマー線、X線、電子線などを用いることができるが、紫外線または電子線が好適である。電離放射線照射装置50としては、電離放射線として紫外線を照射する場合光源として、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、ブラックライトランプ、メタルハライドランプ等の紫外線ランプが用いられる。紫外線の波長は、通常200〜400nm程度であり、樹脂層の組成に応じて波長を選択すればよい。またその照射量も、樹脂層の組成や紫外線ランプの出力と加工速度に応じて照射することができる。   As the ionizing radiation for curing the shaping resin layer 5, all ultraviolet rays (UV-A, UV-B, UV-C), visible rays, gamma rays, X-rays, electron beams, etc. can be used. Or an electron beam is suitable. As the ionizing radiation irradiation device 50, an ultraviolet lamp such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a black light lamp, or a metal halide lamp is used as a light source when ultraviolet rays are irradiated as ionizing radiation. The wavelength of the ultraviolet light is usually about 200 to 400 nm, and the wavelength may be selected according to the composition of the resin layer. Moreover, the irradiation amount can also be irradiated according to the composition of the resin layer, the output of the ultraviolet lamp and the processing speed.

また電離放射線として電子線を照射する場合には、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器等を用いて、エレクトロカーテン方式、ビームスキャン方式などで電子線を照射可能な装置が用いられる。好ましくは、線状のフィラメントからカーテン式に均一な電子線を照射可能な「エレクトロカーテン」(商品名)が挙げられる。尚、電子線の照射量は、通常100〜1,000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを持つ電子を、0.5〜20Mrad程度の照射量で照射する。また照射の際の雰囲気は、酸素濃度500ppm以下で行われ、通常は200ppm程度で行なうのが好ましい。   When irradiating an electron beam as ionizing radiation, various electron beam accelerators such as Cockloft Walton type, Bande graph type, resonant transformer type, insulated core transformer type, linear type, dynamitron type, high frequency type, etc. A device capable of irradiating an electron beam by an electro curtain method, a beam scanning method, or the like is used. Preferably, an “electro curtain” (trade name) capable of irradiating a uniform electron beam in a curtain form from a linear filament can be used. The electron beam is irradiated with electrons having an energy of 100 to 1,000 keV, preferably 100 to 300 keV, with an irradiation amount of about 0.5 to 20 Mrad. The atmosphere during irradiation is performed at an oxygen concentration of 500 ppm or less, and it is usually preferable to perform the irradiation at about 200 ppm.

凹凸パターンが形成された複製用原版から、複製版材3のレリーフ層1を形成するには、従来既知の方法を用いることができる。例えば、まず凹凸パターンが形成された複製用原版(親)から、数世代次の中間版材を造り、該中間版材の適次なものを複製版材(刷版、スタンパともいう)をレリーフ層1として用いることができる。複製版材の基材を樹脂製とし、シリンダ状に形成されている複製機のシリンダ表面に巻きつけることで、長尺な凹凸パターン形成用フィルムの賦型樹脂層に連続して複製を行うことが可能であり、商業的な大量複製作業を安価且つ簡便に行うことができる。   In order to form the relief layer 1 of the duplication plate material 3 from the duplication master on which the concavo-convex pattern is formed, a conventionally known method can be used. For example, first of all, an intermediate plate material of several generations is made from a replication master plate (parent) on which a concavo-convex pattern is formed, and an appropriate one of the intermediate plate material is relieved as a copy plate material (also called a printing plate or a stamper). It can be used as layer 1. The replica plate material is made of resin, and is continuously wound on the shaping resin layer of the film for forming a concavo-convex pattern by winding it around the cylinder surface of a duplicating machine formed in a cylinder shape. It is possible to carry out commercial large-scale duplication work inexpensively and easily.

レリーフ層1の製造は、特公平6-85103号公報に記載されている電離放射線硬化性樹脂の表面に複製用原版の凹凸パターンを圧着して賦型した後、或いは賦型と同時に、電離放射線を照射して剥離するホログラムの複製方法(セミドライ複製法と言う)や、複製用原版の表面に液状の電離放射線硬化性樹脂を塗布し、押し伸ばして賦型した後に、電離放射線を照射して硬化させ、複製用原版から剥離してスタンパを得るPhoto Polymerization法(2P法と言う)等を用いることができる。   The relief layer 1 is produced by ionizing radiation after pressing the concave / convex pattern of the replication master on the surface of the ionizing radiation curable resin described in JP-B-6-85103, or simultaneously with the forming. A hologram duplication method (called semi-dry duplication method) that peels off by irradiating and applying a liquid ionizing radiation curable resin to the surface of the original for duplication, and after stretching and shaping, it is irradiated with ionizing radiation For example, a photopolymerization method (referred to as 2P method) in which a stamper is obtained by curing and peeling from a replica master can be used.

レリーフ層1は、例えば図3に示すように、基材11の表面にプライマー層12および電離放射線硬化性樹脂層13とを順次積層し、該電離放射線硬化性樹脂層13に複製用原版の凹凸パターンに対応した凹凸パターンを形成して構成することができる。前記基材11の材質は、金属、ガラス、プラスチックフィルム等が利用できるが、賦型装置が図1に示すように円筒状シリンダーとして形成された賦型ロールの場合、該賦型ロールの表面にレリーフ層1を巻き付けることができ、光照射装置から照射された光を実質的に透過させることが容易である点から、プラスチックフィルムが好適に用いられる。   For example, as shown in FIG. 3, the relief layer 1 is formed by sequentially laminating a primer layer 12 and an ionizing radiation curable resin layer 13 on the surface of a substrate 11, and the ionizing radiation curable resin layer 13 is provided with unevenness of an original for duplication. An uneven pattern corresponding to the pattern can be formed and configured. The material of the substrate 11 can be metal, glass, plastic film, etc., but when the shaping apparatus is a shaping roll formed as a cylindrical cylinder as shown in FIG. 1, the surface of the shaping roll is Since the relief layer 1 can be wound and it is easy to substantially transmit the light irradiated from the light irradiation device, a plastic film is preferably used.

基材11に用いられるプラスチックフィルムとしては、例えば、凹凸パターン形成用フィルム6の基材フィルム4として例示したプラスチックフィルムが利用できる。   As the plastic film used for the substrate 11, for example, the plastic film exemplified as the substrate film 4 of the uneven pattern forming film 6 can be used.

上記電離放射線硬化性樹脂層13は、電離放射線の照射により重合(硬化)する、ラジカル重合性不飽和二重結合を有する化合物を含む、既知の樹脂を用いることができる。   For the ionizing radiation curable resin layer 13, a known resin containing a compound having a radical polymerizable unsaturated double bond that is polymerized (cured) by irradiation with ionizing radiation can be used.

本発明複製方法により複製しようとする、ホログラムおよび回折格子などの各種凹凸パターンについて説明する。ホログラムの画像としては実物を撮影した画像以外に、記号、文字、数字、イラスト等が利用できる。ホログラム画像自体は、実物の撮影以外に、ホログラム回折格子を計算で求めたり、デジタルカメラで取り込んだデジタル画像、コンピュータグラフィックスから得られる2次元あるいは3次元の画像データから、ホログラフィックステレオグラムなどの適宜な手段により、作成することもできる。回折格子は、その輪郭により文字等の画像を表現できる。   Various uneven patterns such as holograms and diffraction gratings to be replicated by the replication method of the present invention will be described. As an image of a hologram, symbols, letters, numbers, illustrations, etc. can be used in addition to an image obtained by photographing the actual object. The hologram image itself can be used to calculate hologram diffraction gratings, calculate digital images captured with digital cameras, 2D or 3D image data obtained from computer graphics, holographic stereograms, etc. It can also be created by an appropriate means. The diffraction grating can express an image such as a character by its outline.

レリーフホログラムは、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞の光の強度分布が凹凸模様で記録されたホログラムや回折格子が適用できる。該レリーフホログラムとしては、フレネルホログラム、フラウンホーファーホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザー再生ホログラム、およびレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらにそれらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックステレオグラム、ホログラフィック回折格子などがある。   As the relief hologram, a hologram or diffraction grating in which the intensity distribution of the interference fringe light due to the interference between the object beam and the reference beam is recorded in a concavo-convex pattern can be applied. Examples of the relief hologram include Fresnel holograms, Fraunhofer holograms, lensless Fourier transform holograms, laser reproduction holograms such as image holograms, and white light reproduction holograms such as rainbow holograms, color holograms utilizing these principles, computer holograms, There are hologram displays, multiplex holograms, holographic stereograms, holographic diffraction gratings, and the like.

回折格子としては、ホログラム記録手段を用いたホログラフィック回折格子、の他に精密旋盤や電子線描画装置等を用いて、機械的、描画的に回折格子を作成することにより、計算に基づいて任意の回折格子が得られる回折格子を上げることができる。   As a diffraction grating, in addition to a holographic diffraction grating using a hologram recording means, a precision lathe, an electron beam drawing apparatus, etc. are used to create a diffraction grating mechanically and in a drawing manner. It is possible to increase the diffraction grating from which the diffraction grating can be obtained.

これらのホログラム、回折格子は単一に記録しても、あるいは多重に記録しても、組合わせて記録しても何れでもよい。また回折格子は峰の方向および/または峰の間隔および/または凹凸の形状および/または凹凸の高さが、異なる複数の領域を有する集合体、即ち、回折方向の異なる複数の領域を、規則的またはランダムに組合わせると、意匠性のある特異な光輝性が得られる。   These holograms and diffraction gratings may be recorded singly, in multiple recordings, or in combination. In addition, the diffraction grating is an assembly having a plurality of regions having different peak directions and / or peak intervals and / or uneven shape and / or uneven height, that is, a plurality of regions having different diffraction directions are regularly arranged. Or, when combined in a random manner, unique glitter with a design property can be obtained.

本発明複製方法の一例の概略を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the outline of an example of this invention replication method. 本発明複製装置の一例の概略を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the outline of an example of this invention duplication apparatus. レリーフ層の一態様を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the one aspect | mode of a relief layer. 従来の複製方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the conventional replication method.

符号の説明Explanation of symbols

1 レリーフ層
2 光熱変換層
3 複製版材
4 基材フィルム
5 賦型樹脂層
6 凹凸パターン形成用フィルム
7 光照射装置
8 光
20 凹凸パターン形成用フィルム供給装置
30 賦型装置
60 巻取り装置
1 Relief layer
2 Photothermal conversion layer
3 Duplicate plate material
4 Base film
5 Molding resin layer
6 Uneven pattern forming film
7 Light irradiation device
8 light
20 Film supply device for forming uneven patterns
30 Molding equipment
60 Winding device

Claims (4)

複製用原版の凹凸パターンに対応するレリーフ層が設けられ該レリーフ層の下層に光熱変換層が設けられている複製版材を用い、該複製版材のレリーフ層の表面に、基材フィルムに常温で固体状であり熱成形性を有する賦型樹脂層が設けられた凹凸パターン形成用フィルムの賦型樹脂層を密着させ、複製版材の光熱変換層に光を照射して熱に変換することで凹凸パターン形成用フィルムの賦型樹脂層を加熱して、該賦型樹脂層に前記レリーフ層の凹凸パターンを賦型して複製用原版の凹凸パターンを複製することを特徴とする凹凸パターンの複製方法。   Using a replication plate material provided with a relief layer corresponding to the concavo-convex pattern of the replication original plate and provided with a photothermal conversion layer under the relief layer, the surface of the relief layer of the replication plate material has a normal temperature on the substrate film In the solid state, the molding resin layer of the film for forming a concavo-convex pattern provided with a molding resin layer having thermoformability is adhered, and the photothermal conversion layer of the duplicate plate material is irradiated with light and converted into heat. The concavo-convex pattern of the concavo-convex pattern is characterized by: heating the shaping resin layer of the concavo-convex pattern forming film at, and shaping the concavo-convex pattern of the relief layer on the shaping resin layer to replicate the concavo-convex pattern of the original for duplication. Duplication method. 賦型樹脂層が電離放射線硬化性を有し、複製した賦型樹脂層に電離放射線を照射して凹凸パターンを硬化させる請求項1記載の凹凸パターンの複製方法。   2. The method for replicating a concavo-convex pattern according to claim 1, wherein the shaping resin layer has ionizing radiation curability, and the concavo-convex pattern is cured by irradiating the duplicated shaping resin layer with ionizing radiation. 基材フィルムに常温で固体状であり熱成形性を有する賦型樹脂層が設けられた凹凸パターン形成用フィルムを供給するための凹凸パターン形成用フィルム供給装置、複製用の凹凸パターンに対応するレリーフ層が設けられ該レリーフ層の下層に光熱変換層が設けられていると共に、前記凹凸パターン形成用フィルムが前記レリーフ層に密着可能に形成されている複製版材と、前記光熱変換層に光を照射する為の光照射装置とからなる賦型装置、および凹凸パターン形成用フィルムを巻取る為の巻取り装置を備えることを特徴とする凹凸パターンの複製装置。   An uneven pattern forming film supply device for supplying an uneven pattern forming film provided with a moldable resin layer that is solid at room temperature and has thermoformability on a base film, and a relief corresponding to an uneven pattern for duplication And a light-to-heat conversion layer is provided below the relief layer, and the concavo-convex pattern forming film is formed so as to be in close contact with the relief layer, and light is applied to the light-to-heat conversion layer. An apparatus for duplicating a concavo-convex pattern, comprising: a shaping apparatus comprising a light irradiation apparatus for irradiating; 賦型樹脂層が電離放射線硬化性を有し、複製した賦型樹脂層に電離放射線を照射する為の電離放射線照射装置を備える請求項3記載の凹凸パターンの複製装置。
4. The concavo-convex pattern duplicating device according to claim 3, wherein the shaping resin layer has ionizing radiation curability, and includes an ionizing radiation irradiating device for irradiating the duplicated shaping resin layer with ionizing radiation.
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