JP4951873B2 - Method for producing relief formed body - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the manufacturing method of a matte film for forming emboss, in which the design (pattern) and the function (glossiness) of the surface of a photographic printed matter can be easily controlled. <P>SOLUTION: In order to manufacture a relief forming body for manufacturing the matte film for forming emboss, a base and a relief forming material 3 equipped with a relief forming layer 2, which is formed on the base and made of a thermoplastic resin, are used for forming a laser uneven pattern 5 on the relief forming layer 2 by irradiating laser over the relief forming layer 2. The resultant relief forming body and a base material and a raw material film equipped with an emboss forming layer formed on the base material are employed so as to pile up the emboss forming layer and the relief forming layer in order to shape a curable resin. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、皺形成用マットフィルムを製造するために用いられるレリーフ形成体の製造方法、および上記レリーフ形成体を用いた皺形成用マットフィルムの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a relief forming body used for producing a wrinkle forming mat film, and a method for producing a wrinkle forming mat film using the relief forming body.

表面に樹脂層等を有する印画物等の上記表面を粗面化(マット化)する方法として、上記印画物の表面と、皺形成用マットフィルムとを重ね合わせ、エネルギーを照射することによって、印画物の表面を軟化させ、上記表面に凹凸パターンを賦型する方法がある。このような方法を用いて、印画物の表面に凹凸パターン(皺(しぼ)とも言う。)を形成することにより、上記表面の反射光を散乱させることができ、印画物等の表面に高級感等を出すことができる。   As a method for roughening (matting) the surface of a printed material having a resin layer or the like on the surface, the surface of the printed material and a mat film for wrinkle formation are overlaid and irradiated with energy. There is a method of softening the surface of an object and shaping an uneven pattern on the surface. By using such a method, by forming a concavo-convex pattern (also referred to as wrinkles) on the surface of the printed material, the reflected light from the surface can be scattered, and the surface of the printed material has a high-class feeling. Etc. can be issued.

皺形成用マットフィルムを製造するために用いられる原料フィルムに、皺を形成する方法としては、従来、砂等を噴射して物理的に表面を荒らすサンドブラスト処理(特許文献1参照)、薬品処理を施すケミカルエッチング処理(特許文献2参照)、平滑なフィルム表面に微粒子を含む液をコーティングして粗面化する方法、また原料フィルムの少なくとも表層に粒子(例えば不活性粒子、無機粒子)を添加して延伸し、表面に突起を形成する方法(特許文献3参照)、原料フィルムを溶融押出ししてエンボス加工することにより凹凸のあるフィルムを製膜し、これを延伸する方法(特許文献4参照)等が用いられてきた。   As a method of forming a cocoon on a raw film used for producing a mat film for forming a cocoon, conventionally, sandblasting (see Patent Document 1) for physically roughing the surface by spraying sand or the like, and chemical treatment are performed. Chemical etching treatment to be applied (see Patent Document 2), a method of coating a smooth film surface with a liquid containing fine particles and roughening, and adding particles (for example, inert particles, inorganic particles) to at least the surface layer of the raw material film A method of forming protrusions on the surface (see Patent Document 3), a method of forming an uneven film by melt-extrusion and extruding a raw material film, and stretching this (see Patent Document 4) Etc. have been used.

しかしながら、上記方法は、意図した微細な皺模様等を容易に形成することができないという問題があった。例えば、上記サンドブラスト処理、および表面に微粒子を形成する方法においては、皺模様等をコントロールして形成することは困難であった。また、これらの方法にマスクパターンを併用したり、エッチング処理をすることにより、皺模様等をコントロールして形成することは可能であったが、工程が複雑であり、皺模様等を容易に形成することが困難であった。   However, the above-described method has a problem that an intended fine wrinkle pattern cannot be easily formed. For example, in the above sandblasting process and the method of forming fine particles on the surface, it is difficult to form by controlling the wrinkle pattern or the like. In addition, it was possible to control and form a wrinkle pattern by using a mask pattern in combination with these methods or by performing an etching process, but the process is complicated and a wrinkle pattern or the like can be easily formed. It was difficult to do.

特公昭58−39453号公報Japanese Patent Publication No.58-39453 特公昭38−13784号公報Japanese Patent Publication No. 38-13784 特公昭52−4308号公報Japanese Patent Publication No.52-4308 特公昭51−28360号公報Japanese Patent Publication No.51-28360

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、印画物の表面の意匠(模様)や機能(光沢度)を容易にコントロールすることができる皺形成用マットフィルムの製造方法を提供することを主目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a method for manufacturing a wrinkle-forming mat film that can easily control the design (pattern) and function (glossiness) of the surface of a printed material. Is the main purpose.

本発明においては、皺形成用マットフィルムを製造するために用いられるレリーフ形成体の製造方法であって、熱可塑性を有する樹脂からなるレリーフ形成層を備えたレリーフ形成材を用い、上記レリーフ形成層にレーザー照射を行うことにより、上記レリーフ形成層にレーザー凹凸パターンを形成することを特徴とするレリーフ形成体の製造方法を提供する。   In the present invention, there is provided a method for producing a relief forming body used for producing a wrinkle-forming mat film, wherein a relief forming material comprising a relief forming layer made of a thermoplastic resin is used and the relief forming layer is used. The method for producing a relief forming body is characterized in that a laser concavo-convex pattern is formed on the relief forming layer by irradiating with laser.

本発明によれば、皺形成用マットフィルムを製造するために用いられるレリーフ形成体であって、デジタルデータに対応した皺模様等を有するレリーフ形成体を得ることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is a relief forming body used in order to manufacture the mat | matte film for wrinkle formation, Comprising: The relief forming body which has a wrinkle pattern etc. corresponding to digital data can be obtained.

また、上記発明においては、表面に微細凹凸パターンに対応するレリーフパターンを有するレリーフパターンシートを用い、光照射により発熱する光熱変換層が上記レリーフ形成材または上記レリーフパターンシートに設けられ、上記レーザー凹凸パターンを形成する前または後に、上記レリーフ形成層と上記レリーフパターンとが接するように上記レリーフ形成材と上記レリーフパターンシートとを接触させた状態で、上記光熱変換層に光照射を行うことにより、上記レリーフ形成層に上記微細凹凸パターンを賦型することが好ましい。上記微細凹凸パターンを有するレリーフ形成体を用いて皺形成用マットフィルムを製造し、さらにその皺形成用マットフィルムを用いて、印画物表面の粗面化を行った場合に、印画物表面の光沢度を低下させることができるからである。   In the above invention, a relief pattern sheet having a relief pattern corresponding to a fine uneven pattern on the surface is used, and a photothermal conversion layer that generates heat by light irradiation is provided on the relief forming material or the relief pattern sheet, and the laser unevenness Before or after the pattern is formed, in the state where the relief forming material and the relief pattern sheet are in contact with each other so that the relief forming layer and the relief pattern are in contact with each other, by performing light irradiation on the photothermal conversion layer, It is preferable to mold the fine concavo-convex pattern on the relief forming layer. When a mat film for wrinkle formation is produced using the relief forming body having the fine uneven pattern, and the surface of the printed product is roughened using the mat film for wrinkle formation, the gloss of the surface of the print product This is because the degree can be lowered.

また、本発明においては、上記レリーフ形成体の製造方法により得られるレリーフ形成体と、基材と上記基材上に形成された皺形成層とを備えた原料フィルムとを用い、上記皺形成層と、上記レリーフ形成層とを重ね合わせ、上記皺形成層に上記レリーフ形成層の凹凸パターンの逆像を賦型することを特徴とする皺形成用マットフィルムの製造方法を提供する。   In the present invention, the wrinkle-forming layer is obtained by using a relief-forming body obtained by the method for producing a relief-forming body, and a raw material film provided with a base material and a wrinkle-forming layer formed on the base material. And a relief forming layer, and a reverse image of the concavo-convex pattern of the relief forming layer is formed on the wrinkle forming layer.

本発明によれば、上記レリーフ形成体を用いることにより、所望の皺、文字、記号等の模様を有する皺形成用マットフィルムを容易に得ることができる。   According to the present invention, by using the relief forming body, it is possible to easily obtain a wrinkle forming mat film having a desired pattern such as wrinkles, characters and symbols.

本発明においては、印画物の表面の意匠(模様)や機能(光沢度)を容易にコントロールすることができる皺形成用マットフィルムを得られるという効果を奏する。   In the present invention, there is an effect that it is possible to obtain a wrinkle-forming mat film that can easily control the design (pattern) and function (glossiness) of the surface of the printed material.

以下、本発明のレリーフ形成体の製造方法、および皺形成用マットフィルムの製造方法について詳細に説明する。   Hereafter, the manufacturing method of the relief forming body of this invention and the manufacturing method of the mat | matte film for wrinkle formation are demonstrated in detail.

A.レリーフ形成体の製造方法
まず、本発明のレリーフ形成体の製造方法について説明する。本発明のレリーフ形成体の製造方法は、皺形成用マットフィルムを製造するために用いられるレリーフ形成体の製造方法であって、熱可塑性を有する樹脂からなるレリーフ形成層を備えたレリーフ形成材を用い、上記レリーフ形成層にレーザー照射を行うことにより、上記レリーフ形成層にレーザー凹凸パターンを形成することを特徴とするものである。
A. First, the manufacturing method of the relief forming body of this invention is demonstrated. The method for producing a relief-forming body of the present invention is a method for producing a relief-forming body used for producing a mat film for wrinkle formation, comprising a relief-forming material provided with a relief-forming layer made of a thermoplastic resin. The laser relief pattern is formed on the relief forming layer by irradiating the relief forming layer with laser.

本発明によれば、皺形成用マットフィルムを製造するために用いられるレリーフ形成体であって、デジタルデータに対応した皺模様等を有するレリーフ形成体を得ることができる。さらに、本発明によれば、デジタルデータに対応してレーザーを照射することにより皺模様等を形成する方法であるので、デジタルデータ上でパターン形状と面積率(所定の面積の範囲で、レーザーを照射する面積の割合)を規定して凹凸を形成することができる。また、本発明によれば、デジタルデータでデザインを決定することができるので、設計時間の短縮ができるという利点を有する。さらに、レリーフ形成層に形成する模様としては、皺のような抽象柄のみならず、文字や記号のような模様を極めて容易に形成することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is a relief forming body used in order to manufacture the mat | matte film for wrinkle formation, Comprising: The relief forming body which has a wrinkle pattern etc. corresponding to digital data can be obtained. Furthermore, according to the present invention, since the pattern is formed on the digital data by irradiating a laser corresponding to the digital data, the pattern shape and the area ratio (with a predetermined area range) Irregularities can be formed by defining the ratio of the area to be irradiated). In addition, according to the present invention, since the design can be determined by digital data, there is an advantage that the design time can be shortened. Furthermore, as a pattern to be formed on the relief forming layer, not only an abstract pattern such as a wrinkle but also a pattern such as a character or a symbol can be formed very easily.

次に、本発明のレリーフ形成体の製造方法について図を用いて説明する。図1は、本発明のレリーフ形成体の製造方法の一例を示す工程図である。本発明のレリーフ形成体の製造方法は、基体1と、上記基体1上に形成され、熱可塑性を有する樹脂からなるレリーフ形成層2とを備えたレリーフ形成材3を用い、上記レリーフ形成層2にレーザー照射4を行うことにより、上記レリーフ形成層2にレーザー凹凸パターン5を形成(図1(b))し、レリーフ形成体を得る方法である。
以下、本発明に用いられるレリーフ形成材等の各構成について詳細に説明する。
Next, the manufacturing method of the relief forming body of this invention is demonstrated using figures. FIG. 1 is a process diagram showing an example of a method for producing a relief forming body of the present invention. The method for producing a relief-forming body of the present invention uses a relief-forming material 3 comprising a substrate 1 and a relief-forming layer 2 formed on the substrate 1 and made of a thermoplastic resin. This is a method in which a laser concavo-convex pattern 5 is formed on the relief forming layer 2 by performing laser irradiation 4 (FIG. 1B) to obtain a relief formed body.
Hereinafter, each structure of the relief forming material used in the present invention will be described in detail.

1.レリーフ形成材
まず、本発明に用いられるレリーフ形成材について説明する。本発明に用いられるレリーフ形成材は、少なくとも、基体と、熱可塑性を有する樹脂からなるレリーフ形成層とを備えたものである。なお、上記レリーフ形成層に、後述する微細凹凸パターンを形成する場合は、基体とレリーフ形成層との間に光熱変換層が形成される場合がある。
1. Relief-forming material First, the relief-forming material used in the present invention will be described. The relief forming material used in the present invention comprises at least a base and a relief forming layer made of a thermoplastic resin. In addition, when forming the fine uneven | corrugated pattern mentioned later in the said relief forming layer, a photothermal conversion layer may be formed between a base | substrate and a relief forming layer.

(1)基体
本発明に用いられる基体としては、フィルム状(シート状も含む)の材料であれば特に限定されずに用いることができる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート-イソフタレート共重合体、テレフタル酸-シクロヘキサンジメタノール-エチレングリコール共重合体、ポリエチレンテレフタレート/ポリエチレンナフタレートの共押出しフィルムなどのポリエステル系樹脂、ナイロン6、ナイロン6,6、ナイロン610などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリアクリレート、ポリメタアクリレート、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリアリレート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリアラミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルファイドなどのエンジニアリングプラスチック、ポリカーボネート、ABS樹脂などのスチレン系樹脂、セロファン、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート、ニトロセルロースなどのセルロース系フィルムなどの重合体フィルム(プラスチックフィルム)が挙げられる。上記プラスチックフィルムは、延伸フィルムでも未延伸フィルムでもよいが、強度が向上するという点からは一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。本発明に用いられる基体は、通常は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系のフィルムが、耐熱性、寸法安定性、耐電離放射線性を有することから好適に使用され、ポリエチレンテレフタレートが最適である。さらに、上記のフィルムは単独或いは2種以上の積層体が用いられる。
(1) Substrate The substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it is a film-like (including sheet-like) material. Specifically, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate-isophthalate copolymer, terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer, polyethylene terephthalate / polyethylene naphthalate co-extruded film, etc. Polyester resins, polyamide resins such as nylon 6, nylon 6,6 and nylon 610, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene, vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyacrylate, polymethacrylate, poly Acrylic resins such as methyl methacrylate, imide resins, polyarylate, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene ether, polyethylene Engineering plastics such as rephenylene sulfide (PPS), polyaramid, polyetherketone, polyethernitrile, polyetheretherketone, polyethersulfide, styrene resins such as polycarbonate and ABS resin, cellophane, cellulose triacetate, cellulose diacetate, nitro Examples thereof include polymer films (plastic films) such as cellulose-based films such as cellulose. The plastic film may be a stretched film or an unstretched film, but a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction is preferable from the viewpoint of improving strength. The substrate used in the present invention is usually suitably used because polyester films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate have heat resistance, dimensional stability, and resistance to ionizing radiation, and polyethylene terephthalate is most suitable. is there. Further, the above film may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明に用いられる基体としては、プラスチックフィルム以外に、紙、合成紙、鉄、アルミニウムなどの金属フィルムなどを用いることもできる。なお光透過性という点からは、プラスチックフィルムが好ましい。また、上記基材には必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤等の添加剤を加えてもよい。また、本発明に用いられる基体の膜厚は、通常5〜2000μm程度のものが使用できる。   Moreover, as a base | substrate used for this invention, metal films, such as paper, a synthetic paper, iron, aluminum, etc. other than a plastic film can also be used. A plastic film is preferable from the viewpoint of light transmittance. Moreover, you may add additives, such as a filler, a plasticizer, a coloring agent, and an antistatic agent, to the said base material as needed. In addition, the film thickness of the substrate used in the present invention is usually about 5 to 2000 μm.

また、本発明に用いられる基体には、後述するレリーフ形成層の組成物の塗布に先立って、塗布面にコロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー(アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる)処理、予熱処理、除塵埃処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行なってもよい。   In addition, prior to the application of the composition of the relief forming layer described later, the substrate used in the present invention is subjected to corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer (anchor coat, adhesion promoter, Easy adhesion treatment such as treatment (also called easy adhesive), pre-heat treatment, dust removal treatment, and alkali treatment may be performed.

(2)レリーフ形成層
次に、本発明に用いられるレリーフ形成層について説明する。本発明に用いられるレリーフ形成層は、熱可塑性を有する樹脂からなるものである。上記熱可塑性を有する樹脂としては、後述するレーザー凹凸パターンを形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、熱可塑性樹脂、および成形性を有し固体状の硬化性樹脂原料組成物等が挙げられ、中でも成形性を有し固体状の硬化性樹脂原料組成物が好ましい。なお、上記硬化性樹脂原料組成物は、電離放射線、熱などにより硬化し、硬化性樹脂となる。
(2) Relief formation layer Next, the relief formation layer used for this invention is demonstrated. The relief forming layer used in the present invention is made of a resin having thermoplasticity. The thermoplastic resin is not particularly limited as long as it can form a laser uneven pattern, which will be described later. For example, a thermoplastic resin, and a solid curable resin having moldability. Examples thereof include a resin raw material composition, and among them, a solid curable resin raw material composition having moldability is preferable. In addition, the said curable resin raw material composition hardens | cures with ionizing radiation, a heat | fever, etc., and becomes curable resin.

また、上記硬化性樹脂原料組成物としては、例えば、電離放射線硬化性樹脂原料組成物等が挙げられる。このような電離放射線硬化性樹脂原料組成物としては、例えば、ラジカル重合性不飽和基を有する化合物から構成されるものを挙げることができる。具体的には、次の(a)、(b)に示す2種類のものがある。   Examples of the curable resin raw material composition include an ionizing radiation curable resin raw material composition. As such an ionizing radiation curable resin raw material composition, what is comprised from the compound which has a radically polymerizable unsaturated group can be mentioned, for example. Specifically, there are two types shown in the following (a) and (b).

(a)ガラス転移温度が0〜250℃のポリマー中にラジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具体的には、ポリマーとしては以下の化合物i)〜viii)を重合もしくは共重合させたものに対し、後述する方法(イ)〜(ニ)によりラジカル重合性不飽和基を導入したもの。   (A) Those having a radically polymerizable unsaturated group in a polymer having a glass transition temperature of 0 to 250 ° C. More specifically, the polymer is a polymer obtained by polymerizing or copolymerizing the following compounds i) to viii) and introducing a radically polymerizable unsaturated group by the methods (a) to (d) described later.

i)水酸基を有する単量体:N-メチロールアクリルアミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレートなど。
ii)カルボキシル基を有する単量体:アクリル酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネートなど。
iii)エポキシ基を有する単量体:グリシジルメタクリレートなど。
iv)アジリジニル基を有する単量体:2-アジリジニルエチルメタクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸アリルなど。
v)アミノ基を有する単量体:アクリルアミド、メタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレートなど。
vi)スルフォン基を有する単量体:2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルフォン酸など。
vii)イソシアネート基を有する単量体:2,4-トルエンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレートの1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活性水素を有するラジアル重合性単量体の付加物など。
viii)さらに、上記の重合体または共重合体のガラス転移点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体とを共重合させることもできる。このような共重合可能な単量体としては、たとえばメチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、イソアミルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレートなどが挙げられる。
i) Monomers having a hydroxyl group: N-methylolacrylamide, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, and the like.
ii) Monomers having a carboxyl group: acrylic acid, methacrylic acid, acryloyloxyethyl monosuccinate and the like.
iii) Monomers having an epoxy group: glycidyl methacrylate and the like.
iv) Monomers having an aziridinyl group: 2-aziridinylethyl methacrylate, allyl 2-aziridinylpropionate, and the like.
v) Monomers having an amino group: acrylamide, methacrylamide, diacetone acrylamide, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate and the like.
vi) Monomers having a sulfonic group: 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid and the like.
vii) Monomer having an isocyanate group: an adduct of a radial polymerizable monomer having an active hydrogen and a diisocyanate such as a 1 to 1 mol adduct of 2,4-toluene diisocyanate and 2-hydroxyethyl acrylate.
viii) Further, in order to adjust the glass transition point of the above-mentioned polymer or copolymer, or to adjust the physical properties of the cured film, the above-mentioned compound can be copolymerized with this compound as shown below. A monomer can also be copolymerized. Examples of such copolymerizable monomers include methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl acrylate, t -Butyl methacrylate, isoamyl acrylate, isoamyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate and the like.

上記の重合体にラジカル重合性不飽和基を導入する方法を以下の(イ)〜(ニ)に示す。
(イ)水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を有する単量体などを縮合反応させる。
(ロ)カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。
(ハ)エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。
(ニ)水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいはジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量体の1対1モルの付加物を付加反応させる。
上記反応を行うには、微量のハイドロキノンなどの重合禁止剤を加え乾燥空気を送りながら行うことが好ましい。
The following methods (a) to (d) show methods for introducing a radical polymerizable unsaturated group into the above polymer.
(A) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group such as acrylic acid or methacrylic acid is subjected to a condensation reaction.
(B) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a carboxyl group or a sulfone group, the aforementioned monomer having a hydroxyl group is subjected to a condensation reaction.
(C) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having an epoxy group, an isocyanate group or an aziridinyl group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group or monomer having a carboxyl group is subjected to an addition reaction.
(D) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group or a carboxyl group, a monomer having an epoxy group, a monomer having an aziridinyl group or a diisocyanate compound and a hydroxyl group-containing acrylate ester Addition reaction of 1 to 1 mole adduct of the body.
In order to perform the above reaction, it is preferable to add a trace amount of a polymerization inhibitor such as hydroquinone and feed dry air.

(b)融点が0〜250℃でありラジカル重合性不飽和基を有する化合物。具体的にはステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、シクロヘキサンジオールジメタクリレート、スピログリコールジアクリレート、スピログリコールジメタクリレートなどが挙げられる。   (B) A compound having a melting point of 0 to 250 ° C. and having a radically polymerizable unsaturated group. Specific examples include stearyl acrylate, stearyl methacrylate, triacryl isocyanurate, cyclohexanediol diacrylate, cyclohexanediol dimethacrylate, spiroglycol diacrylate, and spiroglycol dimethacrylate.

また、レリーフ形成層の樹脂として、前記(a)、(b)を混合して用いることもでき、さらに、それらに対してラジカル重合性不飽和単量体を加えることもできる。このラジカル重合性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度を向上させ耐熱性を向上させるものであって、前述の単量体の他にエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチルロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジグリジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレングリコールジグリジルエーテルジメタクリレート、ソルビトールテトラグリジルエーテルテトラアクリレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラメタクリレートなどを用いることができ、前記した共重合体混合物の固形分100質量部に対して、0.1〜100質量部で用いることが好ましい。   Further, as the resin for the relief forming layer, the above (a) and (b) can be mixed and used, and further, a radical polymerizable unsaturated monomer can be added thereto. This radically polymerizable unsaturated monomer improves crosslink density and improves heat resistance upon irradiation with ionizing radiation, and in addition to the aforementioned monomers, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, Polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, hexanediol diacrylate, hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, penta Erythritol tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipenta Lithritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, propylene glycol diglycidyl ether diacrylate , Propylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether diacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, sorbitol tetraglycidyl ether tetraacrylate, sorbitol tetraglycidyl ether tetramethacrylate, etc. Can, with respect to 100 parts by weight of the solid content of the copolymer mixture described above, it is preferable to use at 0.1 parts by weight.

また、上記電離放射線硬化性樹脂原料組成物は電子線により十分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合には、光重合開始剤、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミノキシムエステル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン類などの光重合開始剤と、必要に応じて光増感剤、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィンなどを添加する。   The ionizing radiation curable resin raw material composition can be sufficiently cured by an electron beam, but when cured by ultraviolet irradiation, a photopolymerization initiator such as acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, Add a photopolymerization initiator such as α-aminoxime ester, tetramethylmeuram monosulfide, and thioxanthone, and a photosensitizer such as n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine as necessary. .

また、上記電離放射線硬化性樹脂原料組成物は、適正な触媒が存在すれば熱エネルギーによっても硬化させることができる。   Further, the ionizing radiation curable resin material composition can be cured by heat energy if an appropriate catalyst is present.

また、本発明に用いられるレリーフ形成層の膜厚としては、所望のレーザー凹凸パターンを形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、通常0.1〜50μmの範囲内、中でも0.5〜5μmの範囲内であることが好ましい。   In addition, the thickness of the relief forming layer used in the present invention is not particularly limited as long as a desired laser uneven pattern can be formed. It is preferably in the range of 50 μm, particularly in the range of 0.5 to 5 μm.

また、本発明に用いられるレリーフ形成層は、例えばスピンコート、ナイフコート、ロールコート、バーコート等既知の塗布方法により、基体上に形成することができる。またレリーフ形成層を基体上に部分的に形成しようとする場合には、スクリーン印刷、グラビア印刷等の一般的な印刷技術を用いるか、或いは転写方法を用いることができる。   The relief forming layer used in the present invention can be formed on the substrate by a known coating method such as spin coating, knife coating, roll coating, bar coating, or the like. When a relief forming layer is to be partially formed on the substrate, a general printing technique such as screen printing or gravure printing or a transfer method can be used.

また、本発明に用いられるレリーフ形成層が、上記電離放射線硬化性樹脂原料組成物からなる場合は、見かけ上は指触乾燥状態に形成されているため、重ねて保存することが可能である。   Further, when the relief forming layer used in the present invention is made of the ionizing radiation curable resin raw material composition, it is apparently formed in a dry-to-touch state, and thus can be stored repeatedly.

2.レーザー凹凸パターンの形成方法
次に、本発明におけるレーザー凹凸パターンの形成方法について説明する。本発明のレリーフ形成体の製造方法は、上記レリーフ形成材のレリーフ形成層に対してレーザー照射を行うことにより、レリーフ形成層にレーザー凹凸パターンを形成し、レリーフ形成体を得る方法である。
2. Next, a method for forming a laser uneven pattern according to the present invention will be described. The manufacturing method of the relief forming body of the present invention is a method for obtaining a relief forming body by forming a laser uneven pattern on the relief forming layer by irradiating the relief forming layer of the relief forming material with laser.

本発明に用いられるレーザーの種類としては、所望のレーザー凹凸パターンを形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えばルビーレーザー、YAGレーザー、半導体レーザー、ヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、炭酸ガスレーザー、エキシマーレーザー等を挙げることができる。   The type of laser used in the present invention is not particularly limited as long as a desired laser uneven pattern can be formed. For example, ruby laser, YAG laser, semiconductor laser, helium-neon laser, An argon laser, a carbon dioxide laser, an excimer laser, etc. can be mentioned.

また、本発明に用いられるレーザーの発振波長としては、100nm付近の紫外線から約2mmまで、紫外・可視・赤外領域にわたって広く利用することができ、特に限定されるものではない。半導体レーザーを用いた場合における発振波長としては、例えば500〜1500nmの範囲内、中でも600〜1000nmの範囲内であることが好ましい。   The oscillation wavelength of the laser used in the present invention is not particularly limited, and can be widely used in the ultraviolet, visible, and infrared regions from ultraviolet rays around 100 nm to about 2 mm. The oscillation wavelength when a semiconductor laser is used is, for example, preferably in the range of 500 to 1500 nm, and more preferably in the range of 600 to 1000 nm.

また、本発明に用いられるレーザーの強度としては、発振波長と照射される材料によって大きく異なるものであり、特に限定されるものではない。半導体レーザーを用いた場合におけるレーザー強度としては、例えば0.5〜1.5Wの範囲内、中でも0.7〜1.1Wの範囲内であることが好ましい。   Further, the intensity of the laser used in the present invention varies greatly depending on the oscillation wavelength and the irradiated material, and is not particularly limited. The laser intensity when a semiconductor laser is used is, for example, preferably in the range of 0.5 to 1.5 W, and more preferably in the range of 0.7 to 1.1 W.

また、本発明に用いられるレーザーのスポット径としては、所望のレーザー凹凸パターンを形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には1〜80μmの範囲内であることが好ましい。   In addition, the spot diameter of the laser used in the present invention is not particularly limited as long as a desired laser uneven pattern can be formed, but specifically, it is in the range of 1 to 80 μm. It is preferable.

また、上記レーザー照射により得られるレーザー凹凸パターンの表面粗さRaとしては、形成される皺模様等の用途により異なるものであるが、例えば0.02〜50μmの範囲内、中でも0.05〜5μmの範囲内であることが好ましい。   Further, the surface roughness Ra of the laser concave / convex pattern obtained by the laser irradiation is different depending on the use such as a wrinkle pattern to be formed. For example, it is in the range of 0.02 to 50 μm, especially 0.05 to 5 μm. It is preferable to be within the range.

上記のレーザーを発生させるレーザー発生装置としては、特に限定されるものではなく、市販のレーザー発生装置を用いることができる。   The laser generator for generating the laser is not particularly limited, and a commercially available laser generator can be used.

また、上記レーザー凹凸パターンの形成方法に用いられる装置の一例を図2に示す。図2に示す装置は、光照射源としてレーザーヘッド21と、照射位置を制御する為のXYステージ22とから構成される。レーザーヘッド21には、光源の出力エネルギーを調節したりオンオフさせることができる制御機構としてのレーザードライバ25が設けられ、PC24により制御可能に形成されている。また、レーザーヘッド21には、レーザー光源と発射された光の光路や焦点を調整するためのミラーやレンズ等の光学系が設けられている。XYステージ22には、レリーフ形成材23がレリーフ形成層を上側となるように載置され、XYステージ22の動きをコントロールするXYステージコントローラ26が、PC24により制御するように接続されている。   Moreover, an example of the apparatus used for the formation method of the said laser uneven | corrugated pattern is shown in FIG. The apparatus shown in FIG. 2 includes a laser head 21 as a light irradiation source and an XY stage 22 for controlling the irradiation position. The laser head 21 is provided with a laser driver 25 as a control mechanism that can adjust or turn on or off the output energy of the light source, and is configured to be controllable by the PC 24. In addition, the laser head 21 is provided with an optical system such as a mirror and a lens for adjusting the laser light source and the optical path and focus of the emitted light. On the XY stage 22, the relief forming material 23 is placed so that the relief forming layer is on the upper side, and an XY stage controller 26 that controls the movement of the XY stage 22 is connected to be controlled by the PC 24.

また、上記レーザー発生装置等を用いて、レーザー照射を行う際、光が基体を通過する際にダメージを与えないようにするため、基体に対する透過率の高い光の波長を適宜選択するのが好ましい。例えば、レーザー光を用い基体にポリエチレンテレフタレートフィルム(PETと記載することもある)を用いた場合には、PETに対して透過率の高い波長である可視光に近いレーザー光を適宜選択することが好ましい。   In addition, when performing laser irradiation using the above laser generator or the like, it is preferable to appropriately select a wavelength of light having a high transmittance with respect to the substrate in order to prevent damage when the light passes through the substrate. . For example, when a polyethylene terephthalate film (which may be referred to as PET) is used for the substrate using laser light, it is possible to appropriately select laser light close to visible light having a wavelength with a high transmittance with respect to PET. preferable.

また、上記レーザー装置などを用いて形成されるレーザー凹凸パターンの形状としては、特に限定されるものではないが、例えば皺等の抽象柄、文字や記号などの模様等を挙げることができる。また、本発明においては、所望の柄や模様などをPCを用いて作成し、そのデジタルデータに対応してレーザーを照射することにより、任意の面積率を有する柄等を作成することができるが、このような面積率としては、パターンの認識という観点からは20%〜80%であることが好ましい。   In addition, the shape of the laser concave / convex pattern formed by using the above laser device or the like is not particularly limited, and examples thereof include an abstract pattern such as a collar and a pattern such as a character and a symbol. In the present invention, a desired pattern or pattern can be created using a PC, and a pattern having an arbitrary area ratio can be created by irradiating a laser corresponding to the digital data. The area ratio is preferably 20% to 80% from the viewpoint of pattern recognition.

3.微細凹凸パターンの形成方法
次に、本発明における微細凹凸パターンの形成方法について説明する。本発明においては、表面に微細凹凸パターンに対応するレリーフパターンを有するレリーフパターンシートを用い、光照射により発熱する光熱変換層が上記レリーフ形成材または上記レリーフパターンシートに設けられ、上記レーザー凹凸パターンを形成する前または後に、上記レリーフ形成層と上記レリーフパターンとが接するように上記レリーフ形成材と上記レリーフパターンシートとを接触させた状態で、上記光熱変換層に光照射を行うことにより、上記レリーフ形成層に上記微細凹凸パターンを賦型することが好ましい。上記微細凹凸パターンを有するレリーフ形成体を用いて皺形成用マットフィルムを製造し、さらにその皺形成用マットフィルムを用いて、印画物表面の粗面化を行った場合に、印画物表面の光沢度を低下させることができるからである。
3. Next, a method for forming a fine uneven pattern according to the present invention will be described. In the present invention, a relief pattern sheet having a relief pattern corresponding to a fine concavo-convex pattern on the surface is used, and a photothermal conversion layer that generates heat by light irradiation is provided on the relief forming material or the relief pattern sheet. Before or after the formation, the light-heat conversion layer is irradiated with light in a state where the relief forming material and the relief pattern sheet are in contact with each other so that the relief forming layer and the relief pattern are in contact with each other. It is preferable to mold the fine concavo-convex pattern on the forming layer. When a mat film for wrinkle formation is produced using the relief forming body having the fine uneven pattern, and the surface of the printed product is roughened using the mat film for wrinkle formation, the gloss of the surface of the print product This is because the degree can be lowered.

すなわち、本発明においては、上記レーザー凹凸パターンを形成する前または後に、レリーフパターンシートを用いて、上記レリーフ形成層上に微細凹凸パターンを形成することが好ましい。この際、微細凹凸パターンを形成するために、光照射により発熱する光熱変換層が、上記レリーフ形成材または上記レリーフパターンシートのいずれかに設置される。上記光熱変換層がレリーフ形成材に設置される場合は、通常、基体とレリーフ形成層との間に設置され、上記光熱変換層がレリーフパターンシートに設置される場合は、通常、支持体とレリーフパターンとの間に設置される。   That is, in the present invention, it is preferable to form a fine uneven pattern on the relief forming layer using a relief pattern sheet before or after forming the laser uneven pattern. At this time, in order to form a fine concavo-convex pattern, a photothermal conversion layer that generates heat by light irradiation is placed on either the relief forming material or the relief pattern sheet. When the photothermal conversion layer is installed on the relief forming material, it is usually installed between the substrate and the relief forming layer. When the photothermal conversion layer is installed on the relief pattern sheet, the support and the relief are usually used. Installed between the pattern.

以下、本発明に用いられるレリーフパターンシートおよび光熱変換層について説明し、次いで、上記レリーフパターンシートを用いた微細凹凸パターンの形成方法について説明する。   Hereinafter, the relief pattern sheet and the photothermal conversion layer used in the present invention will be described, and then a method for forming a fine uneven pattern using the relief pattern sheet will be described.

(1)レリーフパターンシート
まず、本発明に用いられるレリーフパターンシートについて説明する。本発明に用いられるレリーフパターンシートは、通常、支持体と、レリーフパターンを有するレリーフパターン層とを備えたものである。なお、本発明において、後述する光熱変換層がレリーフパターンシートに設置される場合、上記光熱変換層は、通常支持体とレリーフパターン層との間に設置される。
(1) Relief Pattern Sheet First, the relief pattern sheet used in the present invention will be described. The relief pattern sheet used in the present invention usually comprises a support and a relief pattern layer having a relief pattern. In addition, in this invention, when the photothermal conversion layer mentioned later is installed in a relief pattern sheet, the said photothermal conversion layer is normally installed between a support body and a relief pattern layer.

本発明に用いられる支持体としては、特に限定されるものではないが、例えば、金属、ガラス、プラスチックフィルム等が挙げられ、光透過性の観点から、プラスチックフィルムが好ましい。このようなプラスチックフィルムとしては、例えば、上述したレリーフ形成材の基体に用いられるプラスチックフィルムと同様のものを挙げることができる。   Although it does not specifically limit as a support body used for this invention, For example, a metal, glass, a plastic film etc. are mentioned, A plastic film is preferable from a light-transmissive viewpoint. As such a plastic film, the same thing as the plastic film used for the base | substrate of the relief forming material mentioned above can be mentioned, for example.

また、本発明に用いられる上記レリーフパターン層の材料としては、特に限定されるものではないが、例えば、上述した電離放射線硬化性樹脂原料組成物等を挙げることができる。   Further, the material of the relief pattern layer used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include the ionizing radiation curable resin raw material composition described above.

また、上記レリーフパターン層に形成されるレリーフパターンは、レリーフ形成層に形成される微細凹凸パターンとは逆像のパターンである。上記レリーフパターンの表面粗さRaとしては、特に限定されるものではないが、具体的には、0.01〜50μmの範囲内、中でも、0.05〜5μmの範囲内であることが好ましい。   Further, the relief pattern formed on the relief pattern layer is a pattern opposite to the fine concavo-convex pattern formed on the relief forming layer. The surface roughness Ra of the relief pattern is not particularly limited, but specifically, it is preferably in the range of 0.01 to 50 μm, and more preferably in the range of 0.05 to 5 μm.

また、このようなレリーフパターンの製造方法としては、特に限定されるものではないが、(a)特公平6−85103号に記載されている電離放射線硬化性樹脂原料組成物の表面に複製用原版の微細凹凸パターンを圧着して賦型した後、あるいは賦型と同時に、電離放射線を照射して剥離する方法(セミドライ複製法)、(b)複製用原版の表面に液状の電離放射線硬化性樹脂原料組成物を塗布し、押し伸ばして賦型した後に、電離放射線を照射して硬化させ、複製用原版から剥離するPhoto Polymerization法(2P法)等が挙げられる。   Further, the method for producing such a relief pattern is not particularly limited, but (a) an original for duplication on the surface of the ionizing radiation curable resin raw material composition described in JP-B-6-85103. A method of irradiating and peeling ionizing radiation after forming by pressing and bonding the fine concavo-convex pattern (semi-dry replication method), (b) a liquid ionizing radiation curable resin on the surface of the replica master Examples thereof include a photopolymerization method (2P method) in which a raw material composition is applied, stretched, shaped, irradiated with ionizing radiation, cured, and peeled off from a replica master.

以下、上記(b)の2P法について説明する。図3は2P法により原版からレリーフパターンシートを形成する方法の一例を示す工程図である。まず図3(a)に示すように、微細凹凸パターンと同一のパターンが形成された原版31を用い、同図(b)に示すように原版31に電離放射線硬化性樹脂原料組成物32を滴下する。次いで同図(c)、(d)に示すように、その上に支持体34を積置し押圧して電離放射線硬化性樹脂原料組成物32を押し広げて凹部内に均一に充填された状態とする。次いで同図(e)に示すように、原版31側或いは支持体34側から紫外線などの電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂原料組成物32を硬化させる。同図(f)に示すように、硬化して一体化した硬化性樹脂(レリーフパターン層)33と支持体34とを原版31から剥離することで、支持体34上に、硬化性樹脂33が形成され、さらにレリーフパターン35を有するレリーフパターンシート36が得られる。   Hereinafter, the 2P method (b) will be described. FIG. 3 is a process diagram showing an example of a method for forming a relief pattern sheet from an original plate by the 2P method. First, as shown in FIG. 3 (a), an original plate 31 on which the same pattern as the fine concavo-convex pattern was formed, and an ionizing radiation curable resin raw material composition 32 was dropped on the original plate 31 as shown in FIG. 3 (b). To do. Next, as shown in FIGS. 3C and 3D, the support 34 is placed thereon and pressed to spread the ionizing radiation curable resin raw material composition 32 so as to be uniformly filled in the recesses. And Next, as shown in FIG. 3E, ionizing radiation curable resin raw material composition 32 is cured by irradiating ionizing radiation such as ultraviolet rays from the original 31 or the support 34 side. As shown in FIG. 5F, the curable resin 33 is cured on the support 34 by peeling the cured curable resin (relief pattern layer) 33 and the support 34 from the original plate 31. A relief pattern sheet 36 which is formed and further has a relief pattern 35 is obtained.

(2)光熱変換層
次に、本発明に用いられる光熱変換層について説明する。本発明に用いられる光熱変換層は、光照射により発熱する性質を有するものである。上記光熱変換層は、光照射によって発熱し、レリーフ形成層およびレリーフパターン層等を軟化溶融させ、レリーフ形成層に微細凹凸パターンを形成する。また、本発明において、上記光熱変換層は、上記レリーフ形成材またはレリーフパターンシートのいずれかに設置される。
(2) Photothermal conversion layer Next, the photothermal conversion layer used for this invention is demonstrated. The photothermal conversion layer used in the present invention has a property of generating heat by light irradiation. The photothermal conversion layer generates heat by light irradiation, softens and melts the relief forming layer, the relief pattern layer, and the like, thereby forming a fine uneven pattern in the relief forming layer. In the present invention, the photothermal conversion layer is disposed on either the relief forming material or the relief pattern sheet.

本発明に用いられる光熱変換層は、少なくとも光吸収性色素およびバインダー樹脂を含有するものである。上記光吸収性色素としては、特に限定されるものではないが、例えば、カーボンブラック、シアニン系やピリリウム系等のポリメチン系色素、銅フタロシアニン等のフタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ジチオール金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、トリフェニルメタン系色素、アルミニウム系色素、ジインモニウム系色素等が挙げられる。
また、上記バインダー樹脂しては、上記光吸収性色素を保持できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂、熱可塑性高分子量エポキシ等が挙げられる。本発明においては、中でも、ポリエステル樹脂が好適に用いられる。
The photothermal conversion layer used in the present invention contains at least a light absorbing dye and a binder resin. The light absorbing dye is not particularly limited. For example, carbon black, polymethine dyes such as cyanine and pyrylium, phthalocyanine dyes such as copper phthalocyanine, naphthalocyanine dyes, dithiol metal complex salts Examples thereof include dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, triphenylmethane dyes, aluminum dyes, and diimmonium dyes.
The binder resin is not particularly limited as long as it can hold the light-absorbing dye. For example, polyester resin, acrylic resin, epoxy resin, butyral resin, acetal resin, vinyl chloride- Examples include vinyl acetate copolymer, polyurethane resin, and thermoplastic high molecular weight epoxy. In the present invention, among them, a polyester resin is preferably used.

(3)微細凹凸パターンの形成方法
次に、上記レリーフパターンシートを用いて、レリーフ形成材のレリーフ形成層に微細凹凸パターンを形成する方法について説明する。上記微細凹凸パターンは、上記レーザー凹凸パターンを形成する前または後に形成されるものである。
(3) Method for forming fine uneven pattern Next, a method for forming a fine uneven pattern on the relief forming layer of the relief forming material using the relief pattern sheet will be described. The fine concavo-convex pattern is formed before or after the laser concavo-convex pattern is formed.

ここで、本発明における微細凹凸パターンの形成方法について、上記光熱変換層がレリーフパターンシートに設けられ、上記レーザー凹凸パターンの形成前に微細凹凸パターンを形成する場合を用いて説明する。例えば、図4(a)に示すように、ポリエチレンテレフタレートフィルム等からなる基体1の表面に、電離放射線硬化性樹脂原料組成物からなるレリーフ形成層2を備えるレリーフ形成材3と、ポリエチレンテレフタレートフィルム等からなる支持体6、該支持体6上に形成された光熱変換層7、および該光熱変換層7上に形成され、レリーフパターン8を有するレリーフパターン層9を備えたレリーフパターンシート10と、を準備する。   Here, the method for forming a fine uneven pattern in the present invention will be described using the case where the photothermal conversion layer is provided on a relief pattern sheet and the fine uneven pattern is formed before the laser uneven pattern is formed. For example, as shown in FIG. 4A, a relief forming material 3 having a relief forming layer 2 made of an ionizing radiation curable resin raw material composition on the surface of a substrate 1 made of a polyethylene terephthalate film or the like, a polyethylene terephthalate film or the like A support 6 comprising: a photothermal conversion layer 7 formed on the support 6; and a relief pattern sheet 10 having a relief pattern layer 9 formed on the photothermal conversion layer 7 and having a relief pattern 8. prepare.

次に図4(b)に示すように、レリーフ形成層2とレリーフパターン8とが密着するようにレリーフ形成材3とレリーフパターンシート10とを接触させた状態で、レリーフパターンシート10の支持体6側から光熱変換層7に向けてレーザー光等の光11を照射する。光熱変換層7は、光の照射された部分が発熱する。光熱変換層7の熱は該光熱変換層の発熱部分に接触しているレリーフ形成層2の部分に伝わり、レリーフ形成層2が加熱溶融する。溶融あるいは軟化したレリーフ形成層2において、該レリーフ形成層2にレリーフパターン8が接触して密着しているので、レリーフパターン8に対応する微細凹凸パターン12がレリーフ形成層2に賦型される(図4(c))。   Next, as shown in FIG. 4B, the support for the relief pattern sheet 10 in a state where the relief forming material 3 and the relief pattern sheet 10 are in contact with each other so that the relief forming layer 2 and the relief pattern 8 are in close contact with each other. The light 11 such as laser light is irradiated from the 6 side toward the photothermal conversion layer 7. In the photothermal conversion layer 7, the portion irradiated with light generates heat. The heat of the photothermal conversion layer 7 is transmitted to the portion of the relief forming layer 2 that is in contact with the heat generating portion of the photothermal conversion layer, and the relief forming layer 2 is heated and melted. In the molten or softened relief forming layer 2, the relief pattern 8 is in contact with and in close contact with the relief forming layer 2, so that the fine uneven pattern 12 corresponding to the relief pattern 8 is formed on the relief forming layer 2 ( FIG. 4 (c)).

上記方法においては、レリーフ形成層にレリーフパターンが接触して密着している状態であればよく、レリーフ形成材とレリーフパターンシートとを加圧する必要はない。ただし、レリーフ形成層とレリーフパターンとの密着状態を良好に保持するために、レリーフ形成材とレリーフパターンシートとを積層した積層体を、ガラス板等で挟んで積層体を固定保持してもよい。   In the above method, the relief pattern may be in a state where the relief pattern is in contact with and in close contact with the relief forming layer, and it is not necessary to pressurize the relief forming material and the relief pattern sheet. However, in order to satisfactorily maintain the close contact state between the relief forming layer and the relief pattern, a laminate obtained by laminating a relief forming material and a relief pattern sheet may be sandwiched between glass plates or the like, and the laminate may be fixedly held. .

また、上記方法においては、レリーフパターンとレリーフ形成層との間に空気が存在すると、空気が断熱層となって、レリーフ形成層にレリーフパターンから熱が伝わらない虞が有るために、空気が入らないように注意する必要がある。レリーフ形成層とレリーフパターンの間に空気が入らないように密着させる方法としては、例えば、真空ポンプ等によりレリーフ形成層とレリーフパターンの間の空気を吸引して排気する真空吸着による方法等を挙げることができる。   Further, in the above method, if air exists between the relief pattern and the relief forming layer, air becomes a heat insulating layer, and heat may not be transferred from the relief pattern to the relief forming layer. Care must be taken not to. Examples of the method of closely contacting the relief forming layer and the relief pattern so that air does not enter include, for example, a vacuum adsorption method in which air between the relief forming layer and the relief pattern is sucked and exhausted by a vacuum pump or the like. be able to.

また、上記方法において、光熱変換層に光を照射する方法としては、例えばレーザー光を発生する装置が用いる方法等を挙げることができる。光熱変換層に対して光を照射する際に、照射源からスポット状に光を照射すると共に、スポットを移動させて所定の領域をスキャンし、所望の部分が照射することができる。このように光を照射することで、光熱変換層における発熱を必要部分のみに必要最適量だけ加えることができ、熱による影響を最少に抑えることができる。   In the above method, examples of the method of irradiating the light-heat conversion layer with light include a method used by an apparatus that generates laser light. When irradiating light to the photothermal conversion layer, it is possible to irradiate a desired part by irradiating light from an irradiation source in a spot shape and moving a spot to scan a predetermined region. By irradiating light in this way, heat generation in the light-to-heat conversion layer can be applied only to a necessary portion by a necessary optimum amount, and the influence of heat can be minimized.

また、本発明における微細凹凸パターンを形成するために用いられる装置としては、特に限定されるものではないが、具体的には、「2.レーザー凹凸パターンの形成方法」において説明した図2で表される装置等を挙げることができる。   Further, the apparatus used for forming the fine concavo-convex pattern in the present invention is not particularly limited, but specifically, it is shown in FIG. 2 described in “2. Method for forming laser concavo-convex pattern”. And the like.

図2に示す装置を用いてスポット状の光をスキャンして光照射を行なう場合、レリーフ形成体とレリーフパターンシートとを密着させた積層体を、XYステージ22表面の所定の位置に載置する。この状態で、PC24から照射パターンを指示すると、レーザーヘッド21が開始位置となるように配置され、XYステージ22を動かして、レーザーヘッド21のレーザー光の照射をオン/オフし、所定のパターンに照射する。   When the spot-shaped light is scanned using the apparatus shown in FIG. 2, the laminated body in which the relief forming body and the relief pattern sheet are in close contact with each other is placed at a predetermined position on the surface of the XY stage 22. . In this state, when an irradiation pattern is instructed from the PC 24, the laser head 21 is placed at the start position, the XY stage 22 is moved, and the laser light irradiation of the laser head 21 is turned on / off to form a predetermined pattern. Irradiate.

また、レーザーヘッド21から発射される光は、例えば直径100μm以下のスポット状とし、XYステージ22を駆動させて上記積層体をXY方向に所定のスキャンニングパターンでスキャンして、積層体の全体が照射されるようにする。上記積層体の光熱変換層に照射されたレーザー光は、光熱変換層に微小なスポットとして照射され、該レーザー光のスポットはスキャンにより次々に移動して行く為、レーザー光が照射される時間は極めて短時間で済む。その結果、光熱変換層に接触するレリーフ形成層またはレリーフパターンは、スポット状の極めて狭い領域のみが短時間加熱され、レリーフ形成層の樹脂が溶融して賦型されるとすぐに冷却され賦型状態が直ちに固定される。   Further, the light emitted from the laser head 21 is, for example, in a spot shape having a diameter of 100 μm or less, and the XY stage 22 is driven to scan the laminated body with a predetermined scanning pattern in the XY direction. Let it be irradiated. The laser light irradiated on the light-to-heat conversion layer of the laminate is irradiated as a minute spot on the light-to-heat conversion layer, and the laser light spots move one after another by scanning. It takes very short time. As a result, the relief forming layer or relief pattern in contact with the light-to-heat conversion layer is heated only for a very short spot-like area for a short time, and is cooled and shaped as soon as the resin in the relief forming layer is melted and shaped. The state is fixed immediately.

また、光熱変換層に光を照射し、光が支持体および基体等を通過する際にそれらにダメージを与えないように、これらの材料に対する透過率の高い光の波長を適宜選択するのが好ましい。例えば、レーザー光を用い、支持体および基体にPETを用いた場合には、PETに対して透過率の高い波長である可視光に近いレーザー光を適宜選択することが好ましい。   Further, it is preferable to appropriately select the wavelength of light having high transmittance for these materials so that the light-to-heat conversion layer is irradiated with light and the light does not damage the light when passing through the support and the substrate. . For example, when laser light is used and PET is used for the support and the substrate, it is preferable to appropriately select laser light close to visible light having a wavelength that has a high transmittance with respect to PET.

また、光熱変換層に光を照射する際に、全体に照射せずに、任意のパターン状に照射して、光熱変換層をパターン状に発熱させてレリーフ形成層またはレリーフパターンを任意の形状に加熱することで、オン・デマンド情報を記録することができる。オン・デマンド情報としては、例えば、個人のID番号等の固有情報を利用できる。   Also, when irradiating the light-to-heat conversion layer with light, irradiate the entire pattern without irradiating the light-to-heat conversion layer, and heat the light-to-heat conversion layer into a pattern to form the relief forming layer or relief pattern into an arbitrary shape. By heating, on-demand information can be recorded. As on-demand information, for example, unique information such as an individual ID number can be used.

次に、上記微細凹凸パターンを有するレリーフ形成体の製造方法について説明する。上記微細凹凸パターンを有するレリーフ形成体の製造方法は、光熱変換層が設置される場所および微細凹凸パターンを形成する時期によって異なるものである。上記微細凹凸パターンを有するレリーフ形成体の製造方法の例として、例えば、光熱変換層がレリーフパターンシートに設置された場合を用いて説明する。この場合、微細凹凸パターンを形成する時期によって、以下の2つの大別することができる。   Next, the manufacturing method of the relief forming body which has the said fine uneven | corrugated pattern is demonstrated. The manufacturing method of the relief forming body which has the said fine concavo-convex pattern changes with the place where a photothermal conversion layer is installed, and the time of forming a fine concavo-convex pattern. As an example of the manufacturing method of the relief forming body which has the said fine uneven | corrugated pattern, it demonstrates using the case where a photothermal conversion layer is installed in the relief pattern sheet, for example. In this case, the following two broad classifications can be made depending on the time of forming the fine uneven pattern.

(i)微細凹凸パターンがレーザー凹凸パターンの形成より前に形成される場合
この場合におけるレリーフ形成体の製造方法としては、例えば図5(a)に示すように、基体1およびレリーフ形成層2を備えたレリーフ形成材3と、支持体6、光熱変換層7、およびレリーフパターン8を有するレリーフパターン層9をこの順に備えたレリーフパターンシート10とを準備する。次に図5(b)に示すように、レリーフ形成層2とレリーフパターン8とが密着するようにレリーフ形成材3とレリーフパターンシート10とを接触させた状態で、レリーフパターンシート10の支持体6側から光熱変換層7に向けてレーザー光等の光11を照射する。次に図5(c)に示すように、レリーフパターンシート10を剥離し、形成された微細凹凸パターン12に対して、レーザー照射4を行い、図5(d)に示すように、レーザー凹凸パターン5および微細凹凸パターン12を備えたレリーフ形成体を得る方法が挙げられる。
(I) When the fine concavo-convex pattern is formed before the formation of the laser concavo-convex pattern In this case, as a method for producing a relief formed body, for example, as shown in FIG. A relief forming material 3 provided, and a relief pattern sheet 10 provided with a support 6, a photothermal conversion layer 7, and a relief pattern layer 9 having a relief pattern 8 in this order are prepared. Next, as shown in FIG. 5B, the support for the relief pattern sheet 10 in a state where the relief forming material 3 and the relief pattern sheet 10 are in contact with each other so that the relief forming layer 2 and the relief pattern 8 are in close contact with each other. The light 11 such as laser light is irradiated from the 6 side toward the photothermal conversion layer 7. Next, as shown in FIG. 5 (c), the relief pattern sheet 10 is peeled off, and laser irradiation 4 is performed on the formed fine uneven pattern 12, and as shown in FIG. 5 (d), the laser uneven pattern 5 and a method for obtaining a relief-formed body provided with the fine concavo-convex pattern 12.

(ii)微細凹凸パターンがレーザー凹凸パターンの形成より後に形成される場合
この場合におけるレリーフ形成体の製造方法としては、例えば図6(a)に示すように、基体1およびレリーフ形成層2を備えたレリーフ形成材3に対して、レーザー照射4を行い、レーザー凹凸パターンを形成し、次に図6(b)に示すように、支持体6、光熱変換層7、およびレリーフパターン8を有するレリーフパターン層9をこの順に備えたレリーフパターンシート10を用い、図6(c)に示すように、レリーフ形成層2とレリーフパターン8とが密着するようにレリーフ形成材3とレリーフパターンシート10とを接触させた状態で、レリーフパターンシート10の支持体6側から光熱変換層7に向けてレーザー光等の光11を照射する。次に図6(d)に示すように、レリーフパターンシート10を剥離し、レーザー凹凸パターン5および微細凹凸パターン12を備えたレリーフ形成体を得る方法が挙げられる。
(Ii) When the fine concavo-convex pattern is formed after the formation of the laser concavo-convex pattern In this case, as a method for producing the relief formed body, for example, as shown in FIG. 6 (a), a substrate 1 and a relief forming layer 2 are provided. The relief forming material 3 is irradiated with laser 4 to form a laser uneven pattern, and then a relief having a support 6, a photothermal conversion layer 7, and a relief pattern 8 as shown in FIG. 6 (b). Using the relief pattern sheet 10 provided with the pattern layer 9 in this order, as shown in FIG. 6C, the relief forming material 3 and the relief pattern sheet 10 are attached so that the relief forming layer 2 and the relief pattern 8 are in close contact with each other. In the contact state, light 11 such as laser light is irradiated from the support 6 side of the relief pattern sheet 10 toward the photothermal conversion layer 7. Next, as shown in FIG. 6 (d), there is a method in which the relief pattern sheet 10 is peeled off to obtain a relief forming body provided with the laser uneven pattern 5 and the fine uneven pattern 12.

3.レリーフ形成層の硬化
本発明において、レリーフ形成層が上記電離放射線硬化性樹脂原料組成物等からなる場合は、レーザー凹凸パターン等、あるいはレーザー凹凸パターンおよび微細凹凸パターンが形成された後に、電離放射線を照射し、レリーフ形成層を完全に硬化させることが好ましい。このような電離放射線としては、すべての紫外線(UV−A、UV−B、UV−C)、可視光線、ガンマー線、X線、電子線等を用いることができるが、紫外線または電子線が好適である。電離放射線照射装置としては、電離放射線として紫外線を照射する場合光源として、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、ブラックライトランプ、メタルハライドランプ等の紫外線ランプが用いられる。紫外線の波長は、通常200〜400nm程度であり、樹脂層の組成に応じて波長を選択すればよい。またその照射量も、樹脂層の組成や紫外線ランプの出力と加工速度に応じて照射することができる。
3. Curing of relief forming layer In the present invention, when the relief forming layer is made of the ionizing radiation curable resin raw material composition or the like, the ionizing radiation is applied after the laser uneven pattern or the laser uneven pattern and the fine uneven pattern are formed. Irradiation is preferable to completely cure the relief forming layer. As such ionizing radiation, all ultraviolet rays (UV-A, UV-B, UV-C), visible rays, gamma rays, X-rays, electron beams and the like can be used, but ultraviolet rays or electron beams are preferable. It is. As the ionizing radiation irradiation device, an ultraviolet lamp such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a black light lamp, a metal halide lamp is used as a light source in the case of irradiating ultraviolet rays as ionizing radiation. The wavelength of ultraviolet rays is usually about 200 to 400 nm, and the wavelength may be selected according to the composition of the resin layer. Moreover, the irradiation amount can also be irradiated according to the composition of the resin layer, the output of the ultraviolet lamp and the processing speed.

また、電離放射線として電子線を照射する場合には、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器等を用いて、エレクトロカーテン方式、ビームスキャン方式などで電子線を照射可能な装置が用いられる。好ましくは、線状のフィラメントからカーテン式に均一な電子線を照射可能な「エレクトロカーテン」(商品名)が挙げられる。尚、電子線の照射量は、通常100〜1,000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを持つ電子を、0.5〜20Mrad程度の照射量で照射する。また照射の際の雰囲気は、酸素濃度500ppm以下で行われ、通常は200ppm程度で行なうのが好ましい。   When irradiating an electron beam as ionizing radiation, various electron beam accelerators such as Cockloft Walton type, Bande graph type, resonant transformer type, insulated core transformer type, linear type, dynamitron type, high frequency type, etc. A device capable of irradiating an electron beam by an electro curtain method, a beam scanning method, or the like is used. Preferably, an “electro curtain” (trade name) capable of irradiating a uniform electron beam in a curtain form from a linear filament can be used. In addition, the irradiation amount of an electron beam is normally irradiated with electrons having an energy of 100 to 1,000 keV, preferably 100 to 300 keV, with an irradiation amount of about 0.5 to 20 Mrad. Further, the atmosphere during irradiation is performed at an oxygen concentration of 500 ppm or less, and it is usually preferable to perform the irradiation at about 200 ppm.

4.その他
また、本発明においては、仮のレリーフ形成体および2P法を用いてレリーフ形成体を形成することもできる。このような方法としては、例えば、まず、レリーフ形成材に対して、レーザー照射等を行うことにより、レーザー凹凸パターン等を有する仮のレリーフ形成体を作成し、次いで、仮のレリーフ形成体に対して上述した2P法を2回繰り返すことによりレリーフ形成体を得る方法等を挙げることができる。すなわち、上記方法においては、レリーフ形成材は仮のレリーフ形成体を形成するために用いられる部材となる。従って、本発明のレリーフ形成体の製造方法は、レリーフ形成材にレーザー凹凸パターンを付与することによって、直接レリーフ形成体を得る方法であっても良く、レリーフ形成材にレーザー凹凸パターンを付与することによって、仮のレリーフ形成体を形成し、仮のレリーフ形成体を用いて、レリーフ形成体を得る方法であっても良い。
4). Others In the present invention, a relief forming body can be formed using a temporary relief forming body and the 2P method. As such a method, for example, first, a temporary relief forming body having a laser concavo-convex pattern or the like is created by performing laser irradiation or the like on the relief forming material, and then the temporary relief forming body. And a method of obtaining a relief formed body by repeating the 2P method described above twice. That is, in the above method, the relief forming material is a member used to form a temporary relief forming body. Therefore, the method for producing a relief forming body of the present invention may be a method of directly obtaining a relief forming body by imparting a laser uneven pattern to the relief forming material, or providing a laser uneven pattern to the relief forming material. Alternatively, a temporary relief forming body may be formed, and a relief forming body may be obtained using the temporary relief forming body.

B.皺形成用マットフィルムの製造方法
次に、本発明の皺形成用マットフィルムの製造方法について説明する。本発明の皺形成用マットフィルムの製造方法は、上記レリーフ形成体の製造方法により得られるレリーフ形成体と、基材と上記基材上に形成された皺形成層とを備えた原料フィルムとを用い、上記皺形成層と、上記レリーフ形成層とを重ね合わせ、上記皺形成層に上記レリーフ形成層の凹凸パターンの逆像を賦型することを特徴とするものである。なお、本発明において、凹凸パターンとは、レーザー凹凸パターン、あるいはレーザー凹凸パターンおよび微細凹凸パターンをいうものである。
B. Next, a method for producing a wrinkle-forming mat film of the present invention will be described. The method for producing a wrinkle-forming mat film of the present invention comprises: a relief-forming body obtained by the method for producing a relief-forming body; and a raw material film comprising a base material and a wrinkle-forming layer formed on the base material. The wrinkle forming layer is superimposed on the relief forming layer, and a reverse image of the concavo-convex pattern of the relief forming layer is formed on the wrinkle forming layer. In the present invention, the uneven pattern means a laser uneven pattern, or a laser uneven pattern and a fine uneven pattern.

本発明によれば、上記レリーフ形成体を用いることにより、所望の皺、文字、記号等の模様を有する皺形成用マットフィルムを得ることができる。さらに、本発明により得られる皺形成用マットフィルムを用いて印画物の表面を粗面化することにより、結果として、印画物の表面の意匠(模様)や機能(光沢度)を容易にコントロールできる。   According to the present invention, it is possible to obtain a wrinkle-forming mat film having a desired pattern such as wrinkles, characters and symbols by using the relief forming body. Furthermore, by roughening the surface of the printed matter using the wrinkle forming mat film obtained by the present invention, as a result, the design (pattern) and function (glossiness) of the surface of the printed matter can be easily controlled. .

次に、本発明の皺形成用マットフィルムの製造方法について図を用いて説明する。図7は、本発明の皺形成用マットフィルムの製造方法の一例を示す工程図である。基体1と、上記基体1上に形成され、レーザー凹凸パターン5および微細凹凸パターン12を有するレリーフ形成層2とを備えたレリーフ形成体3´と、基材13および皺形成層14を備えた原料フィルム15とを用い、上記皺形成層14と、上記レリーフ形成層2とを重ね合わせ、上記皺形成層14に上記レリーフ形成層2の凹凸パターンの逆像を賦型することにより、皺形成用マットフィルムを得る方法である。
以下、本発明に用いられる原料フィルム等の各構成について詳細に説明する。
Next, the manufacturing method of the mat | matte film for wrinkle formation of this invention is demonstrated using figures. FIG. 7 is a process diagram showing an example of a method for producing a wrinkle forming mat film of the present invention. A base material, a relief forming body 3 ′ formed on the base body 1 and provided with a relief forming layer 2 having a laser concavo-convex pattern 5 and a fine concavo-convex pattern 12, and a raw material comprising a base material 13 and a wrinkle forming layer 14 By using the film 15, the wrinkle forming layer 14 and the relief forming layer 2 are overlapped, and a reverse image of the concavo-convex pattern of the relief forming layer 2 is formed on the wrinkle forming layer 14. This is a method for obtaining a matte film.
Hereafter, each structure of the raw material film etc. which are used for this invention is demonstrated in detail.

1.原料フィルム
まず、本発明に用いられる原料フィルムについて説明する。本発明に用いられる原料フィルムは、少なくとも、基材と、上記基材上に形成された皺形成層とを備えるものである。
1. Raw Material Film First, the raw material film used in the present invention will be described. The raw material film used in the present invention comprises at least a base material and a wrinkle forming layer formed on the base material.

(1)皺形成層
本発明に用いられる皺形成層は、基材上に形成され、少なくとも熱可塑性を有する樹脂を含有するものである。このような樹脂としては、所望の皺形成用マットフィルムを形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、「A.レリーフ形成体の製造方法」に記載したレリーフ形成層に用いられる材料と同様のものを挙げることができるので、ここでの説明は省略する。
(1) Wrinkle forming layer The wrinkle forming layer used in the present invention is formed on a substrate and contains at least a resin having thermoplasticity. Such a resin is not particularly limited as long as it can form a desired wrinkle-forming mat film. Specifically, it is described in “A. Relief Forming Method”. Since the same materials as those used for the relief forming layer can be mentioned, description thereof is omitted here.

また、本発明に用いられる皺形成層の膜厚としては、通常0.1〜10μmの範囲内、中でも0.3〜5μmの範囲内であることが好ましい。   Moreover, as a film thickness of the wrinkle formation layer used for this invention, it is preferable to exist in the range of 0.1-10 micrometers normally, especially in the range of 0.3-5 micrometers.

(2)基材
次に、本発明に用いられる基材について説明する。本発明に用いられる基材の材料としては、フィルム状(シート状も含む)の材料であれば特に限定されるものではないが、具体的には、上記「A.レリーフ形成体の製造方法」で説明した基体と同様のものを挙げることができるので、ここでの説明は省略する。
(2) Substrate Next, the substrate used in the present invention will be described. The material of the base material used in the present invention is not particularly limited as long as it is a film-like (including sheet-like) material, but specifically, the above-mentioned “A. Relief forming body production method” Since the same substrate as that described in (1) can be given, description thereof is omitted here.

2.レリーフ形成体
次に、本発明に用いられるレリーフ形成体について説明する。本発明に用いられるレリーフ形成体は、上記「A.レリーフ形成体の製造方法」により得られるものである。レリーフ形成体の各構成については、上記「A.レリーフ形成体の製造方法」と同様であるので、ここでの説明は省略する。
2. Relief forming body Next, the relief forming body used in the present invention will be described. The relief forming body used in the present invention is obtained by the above-mentioned “A. Manufacturing method of relief forming body”. Each configuration of the relief forming body is the same as that of the “A. Relief forming body manufacturing method” described above, and thus the description thereof is omitted here.

3.皺等の模様の形成方法
次に、本発明における皺等の模様の形成方法について説明する。本発明においては、上記原料フィルムの皺形成層と、上記レリーフ形成体のレリーフ形成層とを重ね合わせ、上記レリーフ形成層の凹凸パターンの逆像を賦型することにより、皺形成用マットフィルムを作成する。
3. Next, a method for forming a wrinkle pattern in the present invention will be described. In the present invention, the wrinkle-forming mat film is formed by superimposing the wrinkle-forming layer of the raw material film and the relief-forming layer of the relief-forming body, and shaping a reverse image of the concavo-convex pattern of the relief-forming layer. create.

上記凹凸パターンの逆像を賦型する方法としては、上記皺形成層に所望の皺模様等を形成することができる方法であれば、特に限定されるものではないが、例えば、ヒートローラー、加圧ローラー等を用いる方法等を挙げることができ、中でもヒートローラーを用いる方法が好ましい。さらに、本発明において、皺形成層が上記電離放射線硬化性樹脂原料組成物からなる場合は、凹凸パターンが形成された後に、電離放射線を照射し、皺形成層を完全に硬化させることが好ましい。この際、用いられる電離放射線としては、上記「A.レリーフ形成体の製造方法」に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。   The method for shaping the reverse image of the concavo-convex pattern is not particularly limited as long as it can form a desired wrinkle pattern on the wrinkle forming layer. The method using a pressure roller etc. can be mentioned, The method using a heat roller is especially preferable. Furthermore, in this invention, when a wrinkle formation layer consists of the said ionizing radiation curable resin raw material composition, after forming an uneven | corrugated pattern, it is preferable to irradiate ionizing radiation and to harden a wrinkle formation layer completely. At this time, the ionizing radiation used is the same as that described in the above-mentioned “A. Relief forming body manufacturing method”, and therefore the description thereof is omitted here.

4.皺形成用マットフィルム
次に、本発明により得られる皺形成用マットフィルムについて説明する。本発明により得られる皺形成用マットフィルムは、印画物等の表面を粗面化するために用いられるものである。
4). Next, the wrinkle forming mat film obtained by the present invention will be described. The wrinkle-forming mat film obtained by the present invention is used for roughening the surface of a printed material or the like.

本発明により得られる皺形成用マットフィルムの表面粗さRaとしては、特に限定されるものではないが、具体的には0.05μm〜3μmの範囲内であることが好ましい。本発明において、表面粗さRaは、3次元表面粗さ形状測定機(サーフコム570A-3DF、東京精密製、)を用いて測定する。   The surface roughness Ra of the wrinkle-forming mat film obtained according to the present invention is not particularly limited, but specifically it is preferably in the range of 0.05 μm to 3 μm. In the present invention, the surface roughness Ra is measured using a three-dimensional surface roughness shape measuring instrument (Surfcom 570A-3DF, manufactured by Tokyo Seimitsu).

また、本発明により得られる皺形成用マットフィルムが、上述した微細凹凸パターンを有する場合は、粗面化する印画物の光沢度を低くすることができる。すなわち、粗面化する印画物の光沢度を高くしたい場合は、上述したレーザー凹凸パターンのみを有するレリーフ形成体を用いて、皺形成用マットフィルムを形成することが好ましく、粗面化する印画物の光沢度を低くしたい場合は、上述したレーザー凹凸パターンおよび微細凹凸パターンを有するレリーフ形成体を用いて、皺形成用マットフィルムを形成することが好ましい。さらに、レーザー凹凸パターンおよび微細凹凸パターンの形状、深さ等を調節することにより、所望の皺形成用マットフィルムを得ることができる。また、上記皺形成用マットフィルムに形成される模様の面積率の適性範囲は、パターンによっても異なり、最終印画物として好適な表面が得られれば限定されるものではない。光沢度のコントロールだけであれば、面積率は0〜100%の範囲で任意に設定可能である。パターンの認識という観点では、面積率が20%より小さかったり、80%より大きかったりすると、かすれた感じになったり、つぶれた感じになり好ましくない。   Moreover, when the wrinkle-forming mat film obtained by the present invention has the fine uneven pattern described above, the glossiness of the printed material to be roughened can be lowered. That is, when it is desired to increase the glossiness of the roughened print, it is preferable to form a wrinkle-forming mat film using the relief forming body having only the laser uneven pattern described above. When it is desired to reduce the glossiness of the film, it is preferable to form a mat-forming mat film using the relief forming body having the laser uneven pattern and the fine uneven pattern described above. Furthermore, a desired wrinkle-forming mat film can be obtained by adjusting the shape and depth of the laser uneven pattern and the fine uneven pattern. Further, the appropriate range of the area ratio of the pattern formed on the wrinkle-forming mat film varies depending on the pattern, and is not limited as long as a surface suitable as a final printed matter can be obtained. If only the gloss level is controlled, the area ratio can be arbitrarily set in the range of 0 to 100%. From the viewpoint of pattern recognition, if the area ratio is smaller than 20% or larger than 80%, it is not preferable because it becomes a faint or crushed feeling.

また、本発明により得られる皺形成用マットフィルムは、表面に樹脂層を有する印画物に対して特に効果を発揮することができる。このような樹脂層を構成する樹脂としては、例えば、従来公知の各種耐久性および透明性に優れた樹脂等を挙げることができ、具体的には、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等が挙げられる。   The wrinkle forming mat film obtained according to the present invention is particularly effective for a printed material having a resin layer on the surface. Examples of the resin constituting such a resin layer include conventionally known various resins having excellent durability and transparency. Specifically, acrylic resins, cellulose resins, polyvinyl acetal resins, Examples thereof include polyester resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polystyrene resin, polyamide resin, polyimide resin, and polyamideimide resin.

また、上記樹脂のガラス転移温度としては80〜120℃であることが好ましい。ガラス転移温度が80℃未満である場合、粗面化の際に、皺形成用マットフィルムに樹脂が融着し易くなり、ガラス転移温度が120℃を超える場合は、皺等の模様を賦型し難くなるからである。また、上記樹脂は単独で、あるいは混合して使用することができる。   Moreover, it is preferable that it is 80-120 degreeC as a glass transition temperature of the said resin. When the glass transition temperature is less than 80 ° C., the resin is easily fused to the mat film for wrinkle formation during roughening, and when the glass transition temperature exceeds 120 ° C., a pattern such as wrinkles is formed. Because it becomes difficult. Moreover, the said resin can be used individually or in mixture.

一方、印画物の基材としては、例えば天燃パルプ紙、コート紙、トレーシングペーパー、粗面化する際の熱と圧で変形しないプラスチックフィルム、ガラス、金属、セラミックス、木材、布等を挙げることができる。上記天然パルプ紙としては、特に限定されず、例えば、上質紙、アート紙、軽量コート紙、微塗工紙、コート紙、キャストコート紙、合成樹脂又はエマルジョン含浸紙、合成ゴムラテックス含浸紙、合成樹脂内添紙、熱転写用紙等が挙げられる。   On the other hand, examples of the substrate of the printed material include natural pulp paper, coated paper, tracing paper, plastic film that does not deform by heat and pressure when roughening, glass, metal, ceramics, wood, cloth, etc. be able to. The natural pulp paper is not particularly limited. For example, fine paper, art paper, lightweight coated paper, fine coated paper, coated paper, cast coated paper, synthetic resin or emulsion impregnated paper, synthetic rubber latex impregnated paper, synthetic paper Examples thereof include resin-added paper and thermal transfer paper.

本発明により得られる皺形成用マットフィルムにより粗面化された印画物の表面粗さRaとしては、特に限定されるものではないが、具体的には0.05μm〜3μmの範囲内であることが好ましい。   The surface roughness Ra of the printed material roughened by the wrinkle-forming mat film obtained according to the present invention is not particularly limited, but is specifically in the range of 0.05 μm to 3 μm. Is preferred.

また、本発明により得られる皺形成用マットフィルムは、上述した微細凹凸パターンを有している場合、印画物の光沢度を低下させることができる。上記微細凹凸パターンを有する皺形成用マットフィルムを用いて粗面化された印画物においては、入射角60度における鏡面光沢度が40以下であることが好ましい。本発明において、鏡面光沢度は、JISZ8741に基づき、光沢計(VG2000、日本電色工業(株)製)を用いて、入射角60度における鏡面光沢度を測定して得られるものである。なお、印画物の下地の色や模様などにより光沢度の測定値が影響を受けるため、上記光沢度の測定においては、印画物の下地を全面黒色無地に統一した。また、上記微細凹凸パターンを有しない皺形成用マットフィルムを用いて粗面化された印画物においては、入射角60度における鏡面光沢度が40以上であることが好ましい。   Moreover, the mat | matte film for wrinkle formation obtained by this invention can reduce the glossiness of a printed matter, when it has the fine uneven | corrugated pattern mentioned above. In a printed product roughened using a mat film for forming wrinkles having the fine concavo-convex pattern, the specular gloss at an incident angle of 60 degrees is preferably 40 or less. In the present invention, the specular gloss is obtained by measuring the specular gloss at an incident angle of 60 degrees using a gloss meter (VG2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) based on JISZ8741. In addition, since the measured value of the glossiness is affected by the color or pattern of the background of the printed material, the entire background of the printed material is unified with a black solid color in the measurement of the glossiness. Moreover, in the printed material roughened by using the wrinkle forming mat film having no fine uneven pattern, the specular gloss at an incident angle of 60 degrees is preferably 40 or more.

また、本発明により得られる皺形成用マットフィルムにより粗面化される印画物の形状、用途についても、特に限定されるものではなく、例えば株券、証券、証書、通帳類、乗車券、車馬券、印紙、切手、鑑賞券、入場券、チケット等の金券類、キャッシュカード、クレジットカード、プリペイドカード、メンバーズカード、グリーティングカード、ハガキ、名刺、運転免許証、ICカード、光カードなどのカード類、カートン、容器等のケース類、バッグ類、帳票類、封筒、タグ、OHPシート、スライドフィルム、しおり、カレンダー、ポスター、パンフレット、メニュー、パスポート、POP用品、コースター、ディスプレイ、ネームプレート、キーボード、化粧品、腕時計、ライター等の装身具、文房具、レポート用紙など文具類、建材、パネル、エンブレム、キー、布、衣類、履物、ラジオ、テレビ、電卓、OA機器等の装置類、各種見本帳、アルバム、また、コンピュータグラフィックスの出力、医療画像出力等が挙げられる。   Further, the shape and use of the printed material roughened by the mat-forming mat film obtained by the present invention are not particularly limited, and for example, stock certificates, securities, certificates, passbooks, boarding tickets, car betting tickets. Cards such as stamps, stamps, admission tickets, admission tickets, tickets, cash cards, credit cards, prepaid cards, members cards, greeting cards, postcards, business cards, driver's licenses, IC cards, optical cards, etc. Cases such as cartons, containers, bags, forms, envelopes, tags, OHP sheets, slide films, bookmarks, calendars, posters, brochures, menus, passports, POP supplies, coasters, displays, nameplates, keyboards, cosmetics, Accessories such as wristwatches, lighters, stationery, report paper, Wood, panel, emblem, key, cloth, clothing, footwear, radio, television, calculators, devices such as OA equipment, various types of sample book, album, In addition, the output of computer graphics, medical image output, and the like.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.

[実施例1]
(1)レリーフ形成体の作成
(レリーフ形成材の作成)
まず、レリーフ形成層を作成するために、下記の配合割合の紫外線硬化性樹脂原料組成物をメチルエチルケトン(MEK)で希釈して組成物の固形分を50%に調整したインキを用意した。
紫外線硬化性樹脂原料組成物の組成を以下に示す(単位は質量部)
・ウレタン変性アクリレート(A) 100
・シリコーン(トリメチルシロキシケイ酸含有メチルポリシロキサン、信越化学社製商品名:KF−7312) 1
・多官能ウレタンアクリレート(日本合成化学工業社製商品名:紫光UV−1700B)
25
・光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製商品名:イルガキュア907)
[Example 1]
(1) Creation of relief forming body (creation of relief forming material)
First, in order to prepare a relief forming layer, an ultraviolet curable resin raw material composition having the following blending ratio was diluted with methyl ethyl ketone (MEK) to prepare an ink in which the solid content of the composition was adjusted to 50%.
The composition of the ultraviolet curable resin raw material composition is shown below (unit: parts by mass).
-Urethane-modified acrylate (A) 100
Silicone (methylpolysiloxane containing trimethylsiloxysilicate, trade name: KF-7312 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1
・ Polyfunctional urethane acrylate (Nippon Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd., trade name: Violet UV-1700B)
25
-Photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
5

また、上記ウレタン変性アクリレート(A)は下記の方法により製造した。
冷却器、滴下ロートおよび温度計付きの2リットルの四つ口フラスコに、トルエン40gおよびメチルエチルケトン(MEK)40gをアゾ系の開始剤と共に仕込み、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)24.6g、メチルメタクリレート(MMA)73.7g、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート24.6g、トルエン20g、およびMEK20gの混合液を滴下ロートを経て、約2時間かけて滴下させながら100〜110℃の温度下で8時間反応させた後、室温まで冷却した。これに、2−イソシアネートエチルメタクリレート(昭和電工社製:カレンズMOI)27.8g、トルエン20gおよびMEK20gの混合液を加えて、ラウリン酸ジブチル錫を触媒として付加反応させた。反応生成物をIR分析し、イソシアネート基の2200cm−1の吸収ピークの消失を確認して反応を終了させた。得られたウレタン変性アクリレートの溶液は、不揮発分が41.0%、該アクリレートのGPC分析(溶剤THF、標準ポリスチレン換算)による分子量は3万、ポリマー1分子中の二重結合の平均個数は13.0モル%であった。
The urethane-modified acrylate (A) was produced by the following method.
A 2-liter four-necked flask equipped with a condenser, dropping funnel and thermometer was charged with 40 g of toluene and 40 g of methyl ethyl ketone (MEK) together with an azo-based initiator, and 24.6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), methyl methacrylate. (MMA) 73.7 g, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate 24.6 g, toluene 20 g, and MEK 20 g mixed via a dropping funnel over a period of about 2 hours, reacted at a temperature of 100 to 110 ° C. for 8 hours. And then cooled to room temperature. A mixed liquid of 27.8 g of 2-isocyanatoethyl methacrylate (manufactured by Showa Denko: Karenz MOI), 20 g of toluene and 20 g of MEK was added thereto, and an addition reaction was carried out using dibutyltin laurate as a catalyst. The reaction product was subjected to IR analysis, and the disappearance of the absorption peak at 2200 cm −1 of the isocyanate group was confirmed to complete the reaction. The obtained urethane-modified acrylate solution had a non-volatile content of 41.0%, a molecular weight of 30,000 by GPC analysis (solvent THF, standard polystyrene conversion) of the acrylate, and the average number of double bonds in one polymer molecule was 13. 0.0 mol%.

次に、上記インキを用い、ポリエチレンテレフタレート(PET)シートからなる基体の表面に、グラビアコーティング法で塗工(塗工量:2g/m)することにより、レリーフ形成材を得た。 Next, a relief forming material was obtained by coating the surface of a substrate composed of a polyethylene terephthalate (PET) sheet with the above-described ink by a gravure coating method (coating amount: 2 g / m 2 ).

(レリーフパターンシートの作成)
まず、易接着PETシートの表面に対して、下記の光熱変換層塗工液をグラビアコーティング法で塗工(塗工量:0.5g/m)することにより、上記易接着PETシートに光熱変換層を設けた。
光熱変換層塗工液の組成を以下に示す(単位は質量部)。
・カーボンブラック(三善化学:#258) 1
・バインダー樹脂(ポリエステル樹脂、東洋紡バイロン200) 1
・UV硬化剤(三井武田ケミカル社:タケネートA10) 0.1
・溶剤(MEK/トルエン=1/1) 8
(Create relief pattern sheet)
First, the following photothermal conversion layer coating solution is applied to the surface of the easy-adhesion PET sheet by a gravure coating method (coating amount: 0.5 g / m 2 ). A conversion layer was provided.
The composition of the photothermal conversion layer coating solution is shown below (unit: parts by mass).
・ Carbon black (Sanzen Chemical: # 258) 1
・ Binder resin (polyester resin, Toyobo Byron 200) 1
UV curing agent (Mitsui Takeda Chemical Company: Takenate A10) 0.1
・ Solvent (MEK / toluene = 1/1) 8

次いで、上記光変換層の上に版材用UV硬化性樹脂(ザ・インクテック社製:UV−SELクリヤーOPニス)を滴下し、レリーフパターン用樹脂原版にラミネートし、紫外線を仮照射した後、レリーフパターン用樹脂原版を剥離し、紫外線を再照射してレリーフパターンを本硬化させて、PETシート、光熱変換層、レリーフパターンが順次形成されたレリーフパターンシートを得た。得られたレリーフパターンの表面粗さRaは0.153μmであった。   Next, a UV curable resin for a plate material (manufactured by The Inktec Co., Ltd .: UV-SEL clear OP varnish) is dropped onto the light conversion layer, laminated on a relief pattern resin original plate, and temporarily irradiated with ultraviolet rays. Then, the relief pattern resin original plate was peeled off, and ultraviolet rays were re-irradiated to fully cure the relief pattern to obtain a relief pattern sheet in which a PET sheet, a photothermal conversion layer, and a relief pattern were sequentially formed. The surface roughness Ra of the obtained relief pattern was 0.153 μm.

(微細凹凸パターンの作成)
上記方法により得られたレリーフ形成材およびレリーフパターンシートを用いて、レリーフ形成材のレリーフ形成層に微細凹凸パターンを作成した。具体的には、まず、上記レリーフ形成層と、上記レリーフパターンとを真空吸着法により密着させて積層体を形成した。次いで、レーザーとして波長808.5nmの半導体レーザーを使用し、上記積層体を基体側がレーザー照射側となるようにXYステージ上に載置し、図2に示すXYステージを移動させて積層体の全面をレーザー照射した。この際、XYステージは20mm/secの速度で移動させ、レーザースポット径は72μm、レーザー出力は0.935W、1ドット(直径72μm)当たりの照射エネルギーは、9350×(0.072/20)=33.7mJ、単位長さあたりの照射量は、33.7×(1/0.072)=468mJであった。その後、レリーフパターンシートを剥離することにより、微細凹凸パターンが形成されたレリーフ形成層を得た。
(Creation of fine uneven patterns)
Using the relief forming material and the relief pattern sheet obtained by the above method, a fine uneven pattern was created on the relief forming layer of the relief forming material. Specifically, first, the relief forming layer and the relief pattern were brought into close contact with each other by a vacuum adsorption method to form a laminate. Next, a semiconductor laser having a wavelength of 808.5 nm is used as the laser, and the laminate is placed on the XY stage so that the substrate side is the laser irradiation side, and the XY stage shown in FIG. Was irradiated with a laser. At this time, the XY stage is moved at a speed of 20 mm / sec, the laser spot diameter is 72 μm, the laser output is 0.935 W, the irradiation energy per dot (diameter 72 μm) is 9350 × (0.072 / 20) = The irradiation amount per unit length was 33.7 × (1 / 0.072) = 468 mJ. Then, the relief formation sheet in which the fine unevenness pattern was formed was obtained by peeling a relief pattern sheet.

(レーザー凹凸パターンの作成)
次に、PCを用いて面積率29%、49%および66%の抽象柄パターンを作成し、このデジタルデータに対応したレーザー照射を、微細凹凸パターンが形成されたレリーフ形成層に対して行い、レーザー凹凸パターンを得た。この際、波長808.5nmの半導体レーザーを用い、レーザー強度は0.935W、レーザーのスポット径は20μmであった。また、XYステージ等は、微細凹凸パターンを作成した時と同様の装置を用いた。最後に、レーザー凹凸パターンおよび微細凹凸パターンが形成されたレリーフ形成層に対して、紫外線を照射し、レリーフ形成層の未硬化部分を完全に硬化させ、レリーフ形成体を得た。なお、用いた抽象柄パターンを図8に示す。
(Create laser uneven pattern)
Next, an abstract pattern having an area ratio of 29%, 49%, and 66% is created using a PC, and laser irradiation corresponding to the digital data is performed on the relief forming layer on which the fine concavo-convex pattern is formed, A laser uneven pattern was obtained. At this time, a semiconductor laser having a wavelength of 808.5 nm was used, the laser intensity was 0.935 W, and the laser spot diameter was 20 μm. Moreover, the XY stage etc. used the apparatus similar to the time of producing a fine uneven | corrugated pattern. Finally, the relief forming layer on which the laser concavo-convex pattern and the fine concavo-convex pattern were formed was irradiated with ultraviolet rays, and the uncured portion of the relief forming layer was completely cured to obtain a relief formed body. The abstract pattern used is shown in FIG.

(2)皺形成用マットフィルムの作成
ポリエチレンテレフタレート(PET)シートからなる基材の表面に、紫外線硬化性樹脂原料組成物が溶解した実施例1と同様のインキをグラビアコーティング法で塗工(塗工量:2g/m)することにより、基材および皺形成層を備えた原料フィルムを得た。
次に、上述した方法により得られたレリーフ形成体を用い、レーザー凹凸パターンおよび微細凹凸パターンが形成されたレリーフ形成層と、上記原料フィルムの皺形成層とを重ね合わせ、ヒートローラー(195℃、10mm/sec)で圧着することにより、上記レーザー凹凸パターン等の逆像を、皺形成層上に形成した。次に、上記皺形成層に対して、紫外線を照射することにより、皺形成層の未硬化部分を完全に硬化させ、皺形成層マットフィルムを得た。
(2) Creation of wrinkle-forming mat film On the surface of a base material made of a polyethylene terephthalate (PET) sheet, the same ink as in Example 1 in which the ultraviolet curable resin raw material composition was dissolved was applied by gravure coating (coating coating amount: by 2 g / m 2) to give the film material having a substrate and a wrinkle formed layer.
Next, using the relief forming body obtained by the method described above, the relief forming layer on which the laser uneven pattern and the fine uneven pattern were formed and the wrinkle forming layer of the raw material film were overlaid, and a heat roller (195 ° C., A reverse image such as the laser uneven pattern was formed on the wrinkle forming layer by pressure bonding at 10 mm / sec. Next, the uncured portion of the wrinkle forming layer was completely cured by irradiating the wrinkle forming layer with ultraviolet rays to obtain a wrinkle forming layer mat film.

(3)印画物の粗面化
まず、0.3mm厚のPET基材に対して、全面黒色無地画像を形成し、その上にアクリル樹脂からなる樹脂層を形成し、印画物を得た。次に、上記方法により得られた皺形成用マットフィルムを用い、上記皺形成層と、上記樹脂層とを重ね合わせ、ヒートローラー(195℃、10mm/sec)で圧着することにより、上記樹脂層の表面を粗面化した。このようにして粗面化された印画物の光沢度を、光沢計(VG2000、日本電色工業(株)製)を用い、JISZ 8741に基づく入射角60℃における鏡面光沢度として測定した。その結果を表1に示す。
(3) Surface roughening of printed matter First, a black plain image was formed on the entire surface of a PET substrate having a thickness of 0.3 mm, and a resin layer made of an acrylic resin was formed thereon to obtain a printed matter. Next, by using the mat film for wrinkle formation obtained by the above method, the wrinkle forming layer and the resin layer are overlapped and pressure-bonded with a heat roller (195 ° C., 10 mm / sec), thereby the resin layer The surface of was roughened. The gloss of the printed material roughened in this way was measured as a specular gloss at an incident angle of 60 ° C. based on JISZ 8741 using a gloss meter (VG2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). The results are shown in Table 1.

Figure 0004951873
Figure 0004951873

[実施例2]
(1)レリーフ形成体の作成
レリーフ形成材としては、実施例1と同様のものを使用した。次に、PCを用いて面積率28%、52%および69%の文字パターンを作成し、このデジタルデータに対応したレーザー照射を、上記レリーフ形成層に対して行い、レーザー凹凸パターンを得た。この際、レーザー照射の条件等は実施例1と同様であった。次に、実施例1と同様の方法により、表面粗さRaが0.170μmのレリーフパターンを有するレリーフパターンシートを用意し、その後、上記レリーフパターンと上記レリーフ形成層とを真空吸着法により密着させて積層体を形成し、実施例1と同様の方法により、レリーフ形成層に微細凹凸パターンを得た。最後に、レーザー凹凸パターンおよび微細凹凸パターンが形成されたレリーフ形成層に対して、紫外線を照射し、レリーフ形成層の未硬化部分を完全に硬化させ、レリーフ形成体を得た。なお、用いた文字パターンを図9に示す。
[Example 2]
(1) Preparation of relief forming body The same relief forming material as in Example 1 was used. Next, character patterns having an area ratio of 28%, 52%, and 69% were created using PC, and laser irradiation corresponding to the digital data was performed on the relief forming layer to obtain a laser uneven pattern. At this time, the laser irradiation conditions and the like were the same as in Example 1. Next, a relief pattern sheet having a relief pattern with a surface roughness Ra of 0.170 μm is prepared by the same method as in Example 1, and then the relief pattern and the relief forming layer are brought into close contact with each other by a vacuum adsorption method. A laminate was formed, and a fine uneven pattern was obtained on the relief forming layer by the same method as in Example 1. Finally, the relief forming layer on which the laser concavo-convex pattern and the fine concavo-convex pattern were formed was irradiated with ultraviolet rays, and the uncured portion of the relief forming layer was completely cured to obtain a relief formed body. The used character pattern is shown in FIG.

(2)皺形成用マットフィルムの作成
上記方法により得られたレリーフ形成体を用い、実施例1と同様にして皺形成用マットフィルムを得た。
(2) Preparation of wrinkle forming mat film A wrinkle forming mat film was obtained in the same manner as in Example 1 using the relief forming body obtained by the above method.

(3)印画物の粗面化
上記方法により得られた皺形成用マットフィルムを用い、実施例1と同様にして、樹脂層の表面が粗面化された印画物を得た。また、粗面化された印画物の光沢度の結果を表2に示す。
(3) Roughening of printed matter Using the wrinkle-forming mat film obtained by the above method, a printed matter in which the surface of the resin layer was roughened was obtained in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results of the glossiness of the roughened printed material.

Figure 0004951873
Figure 0004951873

[実施例3]
(1)レリーフ形成体の作成
レリーフ形成材としては、実施例1と同様のものを使用した。次に、PCを用いて面積率29%、49%および66%の抽象柄パターンを作成し、このデジタルデータに対応したレーザー照射を、上記レリーフ形成層に対して行い、レーザー凹凸パターンを得た。この際、レーザー照射の条件等は実施例1と同様であった。レーザー凹凸パターンが形成されたレリーフ形成層に対して、紫外線を照射し、レリーフ形成層の未硬化部分を完全に硬化させ、レリーフ形成体を得た。なお、用いた抽象柄パターンは実施例1と同様である。
[Example 3]
(1) Preparation of relief forming body The same relief forming material as in Example 1 was used. Next, abstract pattern patterns with an area ratio of 29%, 49%, and 66% were created using PC, and laser irradiation corresponding to the digital data was performed on the relief forming layer to obtain a laser uneven pattern. . At this time, the laser irradiation conditions and the like were the same as in Example 1. The relief forming layer on which the laser concavo-convex pattern was formed was irradiated with ultraviolet rays, and the uncured portion of the relief forming layer was completely cured to obtain a relief forming body. The used abstract pattern is the same as that in the first embodiment.

(2)皺形成用マットフィルムの作成
上記方法により得られたレリーフ形成体を用い、実施例1と同様にして皺形成用マットフィルムを得た。
(2) Preparation of wrinkle forming mat film A wrinkle forming mat film was obtained in the same manner as in Example 1 using the relief forming body obtained by the above method.

(3)印画物の粗面化
上記方法により得られた皺形成用マットフィルムを用い、実施例1と同様にして、樹脂層の表面が粗面化された印画物を得た。また、粗面化された印画物の光沢度の結果を表3に示す。
(3) Roughening of printed matter Using the wrinkle-forming mat film obtained by the above method, a printed matter in which the surface of the resin layer was roughened was obtained in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the results of the glossiness of the roughened printed material.

Figure 0004951873
Figure 0004951873

[実施例4]
PCを用いて面積率30%、46%および64%の記号パターンを作成し、このデジタルデータに対応したレーザー照射を行ったこと以外、実施例3と同様にしてレリーフ形成体および皺形成用マットフィルムを得た。用いた記号パターンを図10に示す。
さらに、上記皺形成用マットフィルムを用い、実施例3と同様にして、樹脂層の表面が粗面化された印画物を得た。また、粗面化された印画物の光沢度の結果を表4に示す。
[Example 4]
A relief forming body and a wrinkle forming mat were prepared in the same manner as in Example 3 except that symbol patterns having an area ratio of 30%, 46% and 64% were prepared using a PC, and laser irradiation corresponding to the digital data was performed. A film was obtained. The symbol pattern used is shown in FIG.
Further, using the above-described mat film for forming wrinkles, a printed material having a roughened resin surface was obtained in the same manner as in Example 3. Table 4 shows the results of the glossiness of the roughened printed material.

Figure 0004951873
Figure 0004951873

本発明のレリーフ形成体の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the relief formation body of this invention. 本発明のレリーフ形成体の製造方法に用いられる装置の一例の概略を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the outline of an example of the apparatus used for the manufacturing method of the relief forming body of this invention. 本発明に用いられるレリーフパターンシートの製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the relief pattern sheet used for this invention. 微細凹凸パターンの製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of a fine uneven | corrugated pattern. 本発明のレリーフ形成体の製造方法の他の例を示す工程図である。It is process drawing which shows the other example of the manufacturing method of the relief formation body of this invention. 本発明のレリーフ形成体の製造方法の他の例を示す工程図である。It is process drawing which shows the other example of the manufacturing method of the relief formation body of this invention. 本発明の皺形成用マットフィルムの製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the mat film for wrinkle formation of this invention. 本発明に用いられる抽象柄パターンの一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the abstract pattern used for this invention. 本発明に用いられる文字パターンの一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the character pattern used for this invention. 本発明に用いられる記号パターンの一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the symbol pattern used for this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 … 基体
2 … レリーフ形成層
3 … レリーフ形成材
3´ … レリーフ形成体
4 … レーザー
5 … レーザー凹凸パターン
6 … 支持体
7 … 光熱変換層
8 … レリーフパターン
9 … レリーフパターン層
10 … レリーフパターンシート
11 … 光
12 … 微細凹凸パターン
13 … 基材
14 … 皺形成層
15 … 原料フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base | substrate 2 ... Relief formation layer 3 ... Relief formation material 3 '... Relief formation body 4 ... Laser 5 ... Laser uneven | corrugated pattern 6 ... Support body 7 ... Photothermal conversion layer 8 ... Relief pattern 9 ... Relief pattern layer 10 ... Relief pattern sheet DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Light 12 ... Fine uneven | corrugated pattern 13 ... Base material 14 ... Wrinkle formation layer 15 ... Raw material film

Claims (2)

皺形成用マットフィルムを製造するために用いられるレリーフ形成体の製造方法であって、
熱可塑性を有する樹脂からなるレリーフ形成層を備えたレリーフ形成材を用い、前記レリーフ形成層にレーザー照射を行うことにより、前記レリーフ形成層にレーザー凹凸パターンを形成する工程と、
表面に、前記皺形成用マットフィルムを用いた印画物表面の光沢度を低下させることが可能な微細凹凸パターンに対応するレリーフパターンを有するレリーフパターンシートを用い、光照射により発熱する光熱変換層が前記レリーフ形成材または前記レリーフパターンシートに設けられ、前記レーザー凹凸パターンを形成する前または後に、前記レリーフ形成層と前記レリーフパターンとが接するように前記レリーフ形成材と前記レリーフパターンシートとを接触させた状態で、前記光熱変換層に光照射を行うことにより、前記レリーフ形成層に前記微細凹凸パターンを賦型する工程と、を有し、
前記レーザー凹凸パターンは前記微細凹凸パターンよりも凹凸が大きいことを特徴とするレリーフ形成体の製造方法。
A method for producing a relief forming body used for producing a mat-forming mat film,
Using a relief forming material provided with a relief forming layer made of a resin having thermoplasticity, and performing laser irradiation on the relief forming layer, thereby forming a laser uneven pattern on the relief forming layer;
Using a relief pattern sheet having a relief pattern corresponding to a fine concavo-convex pattern capable of lowering the glossiness of the surface of the printed material using the matting film for forming a wrinkle on the surface, a photothermal conversion layer that generates heat by light irradiation is provided Provided on the relief forming material or the relief pattern sheet, before or after forming the laser uneven pattern, the relief forming material and the relief pattern sheet are brought into contact so that the relief forming layer and the relief pattern are in contact with each other. In this state, by irradiating the photothermal conversion layer with light, forming the fine uneven pattern on the relief forming layer ,
The method for producing a relief forming body, wherein the laser concavo-convex pattern has larger concavo-convex portions than the fine concavo-convex pattern .
請求項1に記載のレリーフ形成体の製造方法により得られるレリーフ形成体と、基材と前記基材上に形成された皺形成層とを備えた原料フィルムとを用い、前記皺形成層と、前記レリーフ形成層とを重ね合わせ、前記皺形成層に前記レリーフ形成層の凹凸パターンの逆像を賦型することを特徴とする皺形成用マットフィルムの製造方法。   Using the relief forming body obtained by the method for producing a relief forming body according to claim 1 and a raw material film comprising a base material and a wrinkle forming layer formed on the base material, the wrinkle forming layer, A method for producing a wrinkle-forming mat film, comprising: overlaying the relief forming layer; and forming a reverse image of the concavo-convex pattern of the relief forming layer on the wrinkle forming layer.
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