JP2000038000A - Embossed decoration material - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、薄手のエンボス基
材シートの使用を可能とするエンボス化粧材に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an embossed decorative material capable of using a thin embossed base sheet.
【0002】[0002]
【従来の技術】合成樹脂シート等の基材表面にエンボス
加工等を施すことによって多数の凹陥部を形成し、質
感、高級感、意匠性を高めたエンボス化粧材は、家具、
家電製品のキャビネット表面材等に多用されている。エ
ンボス絵柄パターン、すなわち凹凸模様は、木質系柄、
石材系柄、繊維系柄、抽象柄等にわたるが、代表的なも
のは、天然木材の有する木目導管断面パターンである。
従来の木目導管断面パターンを対象とするエンボス化粧
材30は、その基材面において、平面視が、図7(a)
に示すような木目導管断面パターンP(実際には図1の
如く複雑な変形長楕円状であるがここでは説明の都合
上、簡略化して長楕円形で示している)に相当する部分
を図7(b)の断面図に示すように溝状にエンボス加工
して得られる多数の凹陥部F’を形成したものであっ
て,図7(c)の斜視図に示すように、その底面には、
特に微細な凹凸形状等の賦型は行われていない。この方
法で、天然の木材板の木目導管溝の深みを再現しようと
すると、木目柄にもよるが、凹陥部F’の深度はかなり
深いものとなり、それを実現するためには厚みのあるエ
ンボス基材シートの使用が必要になる。一般に、エンボ
ス化粧材の製造に使用される従来のエンボス版の版深
は、天然の木目導管溝の外観を再現するため100〜1
50μmを必要としている。従ってエンボス時に使用さ
れる基材シート(一般に透明な賦型用のシート)の厚み
は少なくともこの範囲を越える必要がある。また、さら
に木目導管溝の深度変化をリアルに再現しようとする
と、木目柄によっては、凹陥部の深度は150〜180
μmとなり、この範囲を越える厚みの基材シートを使用
しなければならない場合もある。一方、限られた厚みの
エンボス基材シートにおいて天然の木目導管溝をその実
際の深さ以上に深く見せて、リアルに再現するため、特
公昭58−14312号公報等では、ワイピングによっ
て凹陥部に黒色、褐色等の高濃度のインキを充填する方
法が開示されている。さらに、近年、所謂、ダブリング
エンボス(着色ベース基材シート上に透明トップ基材シ
ートを熱融着で積層すると同時に透明トップ基材シート
にエンボスする方法)が多用されるようになり、しか
も、それに使用される透明トップ基材シートを熔融押出
し成型すると同時に冷却ローラーをエンボス版としてエ
ンボス加工を行う製造方法が実施されるようになってき
ている。2. Description of the Related Art An embossed cosmetic material having a number of recesses formed by embossing a surface of a base material such as a synthetic resin sheet to enhance texture, luxury, and design is used for furniture,
It is often used for cabinet surface materials of home appliances. The embossed pattern, that is, the concavo-convex pattern is a wooden pattern,
The pattern includes a stone pattern, a fiber pattern, an abstract pattern, and the like. A typical example is a wood grain conduit cross-sectional pattern of natural wood.
The embossed decorative material 30 for the conventional wood grain conduit cross-sectional pattern has a plan view on the base material surface as shown in FIG.
A portion corresponding to a wood grain conduit cross-sectional pattern P shown in FIG. 1 (actually a complicated deformed elliptical shape as shown in FIG. 1, but for simplicity of description here is simplified and shown as an elliptical shape) is shown in FIG. As shown in the cross-sectional view of FIG. 7 (b), a number of recesses F ′ obtained by embossing in a groove shape are formed, and as shown in the perspective view of FIG. Is
In particular, shaping of fine irregularities and the like is not performed. In this method, when trying to reproduce the depth of the wood grain conduit groove of a natural wood board, the depth of the recessed portion F 'becomes considerably deep, depending on the wood grain pattern. Use of a base sheet is required. Generally, the depth of a conventional embossing plate used for manufacturing embossed decorative materials is 100 to 1 to reproduce the appearance of a natural wood grain conduit groove.
50 μm is required. Therefore, the thickness of the substrate sheet (generally a transparent shaping sheet) used at the time of embossing needs to exceed at least this range. Further, in order to realistically reproduce the depth change of the wood grain conduit groove, depending on the wood grain pattern, the depth of the recessed portion is 150 to 180.
μm, and in some cases, it is necessary to use a base sheet having a thickness exceeding this range. On the other hand, in the embossed base sheet having a limited thickness, the natural wood grain conduit groove can be shown deeper than its actual depth and realistically reproduced. A method of filling a high concentration ink such as black or brown is disclosed. Furthermore, in recent years, so-called doubling embossing (a method of laminating a transparent top substrate sheet on a colored base substrate sheet by heat fusion and embossing the transparent top substrate sheet at the same time) has been frequently used. A manufacturing method has been implemented in which a transparent top substrate sheet to be used is melt-extruded and molded, and at the same time, an embossing process is performed using a cooling roller as an embossing plate.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ワイピングによれば木
目導管断面の深さ、荒びた感じを再現することができ、
また使用するワイピングインキに低光沢のものを用いる
ことによって凹陥部の光沢を非凹陥部よりも低くするこ
とはできるが、各凹陥部は全て略同一の光沢を有してい
て、光沢という点では単調な意匠表現にならざるをえな
いという問題がある。また、ワイピングはインキコスト
がかかり、また工程数が増えるので手間がかかり、製造
コストの増加、納期の遅延に繋がるという問題がある。
一方、ワイピングを行わず、深い導管溝のエンボス版を
用い、エンボス凹陥部の深さ以上の厚さの基材シートを
用いて前記の如く充分な深さの導管溝を再現しようとす
ると、基材シートの厚さは150μm以上必要となる
が、この場合材料コストが高くなるのに加えて、化粧シ
ートにラッピング加工、Vカット加工等の曲げ加工を施
す際に、その加工適性が低下してしまうという不都合を
生じる。特に、熔融押し出し成形とインラインでエンボ
ス加工が施される基材シートには、押出し成型時の効率
性、材料コストの低減を図ることから、80μm以下の
厚みが望まれている。従ってエンボス版の版深も80μ
m以下にせざるを得ないが、単に版深を下げたのでは、
エンボスによる意匠効果が弱まってしまうという問題が
ある。この傾向は、オーク系等の木目導管柄の場合に特
に顕著である。本発明は、前述の問題点に鑑みてなされ
たもので、従来よりも薄手の基材シートを用いて、比較
的浅い深度のエンボスであっても視覚的に深みを感じさ
せ、しかも立体的で、質感のある、高度な意匠表現を可
能とするエンボス化粧材の提供を目的とする。According to the wiping, it is possible to reproduce the depth and rough feeling of the wood grain conduit section,
Also, by using a low-gloss wiping ink to be used, the gloss of the recessed portion can be made lower than that of the non-depressed portion, but all the recessed portions have substantially the same gloss, and in terms of gloss, There is a problem that the design must be monotonous. In addition, wiping has a problem that it requires ink cost and requires more steps because of an increase in the number of steps, leading to an increase in manufacturing cost and a delay in delivery.
On the other hand, if it is attempted to reproduce the conduit groove having a sufficient depth as described above without using wiping, using an embossed plate having a deep conduit groove, and using a base sheet having a thickness equal to or greater than the depth of the embossed concave portion, The thickness of the material sheet is required to be 150 μm or more. In this case, in addition to increasing the material cost, when performing a bending process such as a wrapping process and a V-cut process on the decorative sheet, the workability thereof is reduced. This causes inconvenience. In particular, a thickness of 80 μm or less is desired for a base material sheet to be embossed in-line with the melt extrusion molding in order to reduce the efficiency and material cost during extrusion molding. Therefore, the depth of the embossed plate is also 80μ.
m or less, but simply lowering the plate depth
There is a problem that the design effect by embossing is weakened. This tendency is particularly remarkable in the case of a wood grain conduit pattern such as oak. The present invention has been made in view of the above-described problems, and uses a base sheet that is thinner than in the past, allows the user to visually sense the depth even when embossing at a relatively shallow depth, and furthermore, is three-dimensional. The purpose of the present invention is to provide an embossed decorative material that enables a high-quality design expression with a texture.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
になされた本発明によるエンボス化粧材は、基材表面に
複数の凹陥部を有するエンボス化粧材において、前記凹
陥部の底面が、微細な凹凸形状を変えることによって、
少なくとも2種以上の互いに異なる所定の光沢を示す領
域に区劃され、隣接する前記領域同志の境界で光沢が異
なることを構成とするものである。The embossed decorative material according to the present invention, which has been made to solve the above-mentioned problems, comprises an embossed decorative material having a plurality of concave portions on the surface of a base material, wherein the bottom surface of the concave portion is fine. By changing the uneven shape,
At least two or more types of regions each having a predetermined gloss different from each other are defined, and gloss is different at boundaries between adjacent regions.
【0005】[0005]
【発明の実施の形態】エンボス化粧材とは、基材表面に
エンボス加工等により凹凸模様が表面に施されたシート
或いは板である。基材の材料としては、通常、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、オレフィン系熱可塑性エラスト
マー等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、アク
リル樹脂、熱可塑性ポリエステル樹脂、熱可塑性ウレタ
ン樹脂、ABS,ポリスチレン等の熱可塑性樹脂、メラ
ミン樹脂、不飽和(熱硬化性)ポリエステル樹脂、2液
硬化(熱硬化)型ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、ラジ
カル重合型不飽和アクリレート、カチオン重合型エポキ
シ樹脂を電離放射線(紫外線、電子線等)で架橋させて
なる電離放射線硬化性樹脂等が用いられる。また、用途
としては、壁、床、天井等の建築物の内装材、扉、窓
枠、扉枠、手摺等の建具の表面材、テレビジョン受像機
等の家電製品の筐体の表面材、箪笥等の家具の表面材、
箱等の容器の表面材、車両等の内装材、船舶内装材等で
あって、必要に応じて更に任意の素材が裏打ちして使用
される。本発明が対象とするエンボス絵柄には、木目導
管断面パターンを有する天然木材板を再現した木目柄、
トラバーチン大理石板の表面凹凸、タイル貼りや煉瓦積
みの表面の目地溝、不定型な独立凹陥部からなる各種パ
ターン等が含まれるが、中でも木目導管断面パターンが
重要なモチーフとなっている木目柄に対して、本発明は
効果的に適用できるので、以下の説明は、主として木目
導管断面パターン(以下導管パターンという)のある木
目柄の場合について行う。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embossed decorative material is a sheet or plate having an uneven pattern formed on its surface by embossing or the like. As the material of the base material, usually, polyethylene, polypropylene, polyolefin resin such as olefin thermoplastic elastomer, polyvinyl chloride, acrylic resin, thermoplastic polyester resin, thermoplastic urethane resin, ABS, thermoplastic resin such as polystyrene, Thermosetting resins such as melamine resins, unsaturated (thermosetting) polyester resins, two-pack curing (thermosetting) urethane resins, radical polymerizable unsaturated acrylates, and cationic polymerizable epoxy resins are used for ionizing radiation (ultraviolet rays, electron beams). Etc.), and an ionizing radiation-curable resin or the like cross-linked is used. In addition, as applications, interior materials of buildings such as walls, floors, ceilings, doors, window frames, door frames, surface materials of fittings such as handrails, surface materials of housings of home appliances such as television receivers, Surface materials for furniture such as chests,
A surface material of a container such as a box, an interior material of a vehicle or the like, an interior material of a marine vessel, and the like. The embossed pattern targeted by the present invention has a woodgrain pattern reproducing a natural wood board having a woodgrain conduit cross-sectional pattern,
Includes surface irregularities on travertine marble boards, joint grooves on tiled and brickwork surfaces, and various patterns consisting of irregular, independent recesses. On the other hand, since the present invention can be effectively applied, the following description will be made mainly on the case of a wood grain pattern having a wood grain pipe cross-sectional pattern (hereinafter, referred to as a pipe pattern).
【0006】図1は、天然木材柄から抽出された導管パ
ターンの一例である。図1で示すように、個々の導管パ
ターンPは、一見不規則に見えるが、略同一方向に延び
る長楕円形を変形したものであるので、以下の説明図で
は、導管パターンPを長楕円形のパターンモデルをもっ
て示すことにする。FIG. 1 is an example of a conduit pattern extracted from a natural wood pattern. As shown in FIG. 1, each conduit pattern P looks irregular at first glance, but is a modification of a long elliptical shape extending in substantially the same direction. Will be shown with a pattern model of
【0007】図2は、本発明によるエンボス化粧材の導
管パターンを対象とした凹陥部の説明図である。図2
(a)は、凹陥部Fの平面図、図2(b)は、図2
(a)のx−x断面図、図2(c)は、凹陥部Fの斜視
図である。本発明によるエンボス化粧材20の基材(エ
ンボス基材シート4)表面に形成される個々の凹陥部F
の底面には、図2(a)、(1)に示すように、凹陥部
Fの長手方向(y軸方向)に凹陥部Fの中央を過る境界
線C1を介してのその両側に光沢が明らかに異なって見
える領域R1,R2が区劃形成されている。さらに、図
2(a)、(2)に示すように、凹陥部Fの長手方向
(y軸方向)の境界線C2,C3で凹陥部Fがx軸方向
に3分割され、あるいは、図示は略すが、それ以上に分
割されて縞状に複数の領域R1,R2−−−Rnが区劃
されるようにしてもよい。そして、これらの領域R1,
R2−−−Rnには、それぞれ固有の表面粗さを有する
微細な凹凸形状が形成され、境界線の両側の各領域それ
ぞれが、互いに異なる光沢を有している。その模様は、
図2(b)の断面図と図2(c)の斜視図においてさら
に分かり易く示されている。この領域Rの区劃数nは、
再現しようとする木目導管溝のある木目柄に応じて適宜
定めればよいが、2〜4程度が実用上からいって好まし
い。FIG. 2 is an explanatory view of a recess for a conduit pattern of an embossed decorative material according to the present invention. FIG.
FIG. 2A is a plan view of the recess F, and FIG.
2A is a cross-sectional view taken along the line xx, and FIG. Individual depressions F formed on the surface of the base material (embossed base sheet 4) of the embossed decorative material 20 according to the present invention.
As shown in FIGS. 2 (a) and (1), the bottom surface has a gloss on both sides thereof via a boundary line C1 passing through the center of the recess F in the longitudinal direction (y-axis direction) of the recess F. Are apparently different, and regions R1 and R2 are defined. Further, as shown in FIGS. 2A and 2B, the concave portion F is divided into three in the x-axis direction at boundary lines C2 and C3 in the longitudinal direction (y-axis direction) of the concave portion F. Although not shown, a plurality of regions R1, R2 ---- Rn may be divided into stripes so as to form a stripe. And these regions R1,
R2 ---- Rn is formed with fine irregularities each having a unique surface roughness, and each region on both sides of the boundary has a different gloss. The pattern is
This is shown more clearly in the sectional view of FIG. 2B and the perspective view of FIG. 2C. The number of partitions n of this region R is
It may be appropriately determined according to the wood grain pattern having a wood grain conduit groove to be reproduced, but about 2 to about 4 is preferable from a practical viewpoint.
【0008】図3は、本発明によるエンボス化粧材のタ
イル貼り、煉瓦積み模様の目地溝を対象とした凹陥部の
斜視図である。図3に示すように、目地に相当する凹陥
部Fには、凹陥部Fの長手方向(y軸方向)の境界線C
1,C2によってx軸方向に分割される領域R1,R
2,R3が区劃形成され、それぞれに固有の表面粗さを
有する微細な凹凸形状が形成され、それぞれが異なる光
沢が付与されている。FIG. 3 is a perspective view of the embossed decorative material according to the present invention, which is tiled and has a concave portion intended for a joint groove of a brickwork pattern. As shown in FIG. 3, a concave portion F corresponding to the joint has a boundary line C in the longitudinal direction (y-axis direction) of the concave portion F.
1, R2 divided in the x-axis direction by C2
2, R3 are partitioned and formed, each having a fine irregular shape having a unique surface roughness, and each having different gloss.
【0009】図4は、本発明によるエンボス化粧材のト
ラバーチン大理模様の不定型な、孤立した陥没部を対象
とした凹陥部の斜視図である。トラバーチン大理模様の
中の不定型な、孤立した陥没部を再現した本発明による
エンボス化粧材の凹陥部Fには、中心部の領域R3とそ
れを取り巻く変形環状の領域R1,R2が区劃され、各
領域に固有の表面粗さを有する微細な凹凸形状が形成さ
れ、それぞれに異なる光沢が付与されている。FIG. 4 is a perspective view of a travertine marble pattern of the embossed decorative material according to the present invention, which is intended for an irregular, isolated depression. The recessed portion F of the embossed decorative material according to the present invention, which reproduces an irregular, isolated depression in the travertine pattern, is divided into a central region R3 and deformed annular regions R1 and R2 surrounding the central region R3. In each of the regions, a fine uneven shape having a unique surface roughness is formed, and each region is given a different gloss.
【0010】本発明によるエンボス化粧材20は、図2
〜図4に示すように、凹陥部Fに設けられている各領域
R1,R2−−,Rnに、それぞれ異なる光拡散性の微
細な凹凸形状が形成されることによって、それぞれに異
なる固有の光沢が付与されて、凹陥部Fの見かけの深さ
を強調することができる。その強調の仕方としては、図
2(a)に示すように、凹陥部Fの幅方向の1方から他
方(図では左右方向)に順次凹凸形状を粗くしたり、あ
るいは細かくしたりすることによって、幅方向の一方向
に向かって、例えば、図2(a)では右方向に向かって
視覚的に深くなるようにすることができる。あるいは、
図3のように、目地溝を対象とする凹陥部Fの場合に
は、凹陥部Fの幅方向(x軸方向)の両端部領域R1,
R3の凹凸形状を細かくし、中央の領域R2の凹凸形状
を粗くすることによって、視覚的に中央部を深く見せる
ことができる。さらに、図4のような孤立した陥没部を
対象とする凹陥部Fの場合は、中心部に向かうに従っ
て、順次凹凸形状が粗くなり、中心部に行く程視覚的に
深く見せることができる。なお、これら各領域R1,R
2−−,Rnの隣接する領域同志は、互いに光沢(微細
凹凸の粗さ)が異なるようにするが、その変化の仕方
は、図2〜図4の場合のように、領域間の境界線を境に
して不連続的に変化させてもよいし、あるいは、図示は
略すが連続的に変化させてもよい。The embossed decorative material 20 according to the present invention is shown in FIG.
As shown in FIGS. 4A to 4C, different irregularities having different light diffusing properties are formed in the respective regions R1, R2,. Is given to emphasize the apparent depth of the concave portion F. As shown in FIG. 2 (a), the emphasis may be made by gradually increasing or decreasing the shape of the concavo-convex shape from one side in the width direction of the recess F to the other side (in the left-right direction in the figure). 2A, for example, it can be visually deeper toward the right in FIG. 2A. Or,
As shown in FIG. 3, in the case of the concave portion F targeting the joint groove, both end regions R <b> 1 in the width direction (x-axis direction) of the concave portion F.
By making the uneven shape of R3 fine and roughening the uneven shape of the central region R2, it is possible to visually show the center part deeply. Further, in the case of the concave portion F which targets the isolated concave portion as shown in FIG. 4, the concave and convex shape gradually becomes coarser toward the center portion, and the visual appearance becomes deeper toward the central portion. Note that these regions R1, R
2--, adjacent regions of Rn have different gloss (roughness of fine unevenness) from each other, and the manner of the change is as shown in FIG. 2 to FIG. May be changed discontinuously at the boundary, or may be changed continuously (not shown).
【0011】以上のように、凹陥部Fの底面を構成する
各領域R1,R2−−−Rnに、それぞれ固有の微細な
凹凸形状をエンボス加工によって賦型するには、エンボ
ス版の版面に、凹陥部Fを賦型する凸状部とその凸状部
のトップ面内の前記領域相当部に微細な逆の凹凸形状を
フォトエッチング法(パターンニングとエッチングから
なる)で形成することが必要となり、パターンニングを
行う際のマスクパターンMPが必要になる。このマスク
パターンMPは、2値化された導管パターンPの画像と
導管パターンP内部において前記各凹陥部Fの領域R
1,R2−−−Rnに対応するように特定された領域r
1,r2−−−rnにそれぞれ割当られる微細凹凸形状
パターンp1、p2−−−pn画像とから構成される。
図6、に従って、マスクパターンMPの最も簡単なケ
ースについて説明すると、マスクパターンMPは2値化
された導管パターンPと同一形状のマスクパターンMP
1(作図の都合上、長楕円形の下半分は省力されてい
る)とその長手方向の中央の境界線Cの両側の領域r
1,r2に対して振り分けられた配列ピッチは同じであ
るが、面積%の異なるオフセット印刷網点状の微細凹凸
形状パターンp1、p2からなるマスクパターンMP2
とによって構成されている。この2種の微細凹凸形状パ
ターンp1、p2は、一般に、出力スキャナーのドット
ジェネレーターによる網点出力レベルを適宜に変えるこ
とによって、容易に得ることができる。また、微細凹凸
形状パターンp1、p2をあらかじめ画像データとして
コンピュータに記憶させておき、マスクパターンMP1
の指定領域r1,r2に対して微細凹凸形状パターンp
1、p2をマッピング(貼り込み)させるコンピュータ
グラフィック的手法を用いてもよい。以上の微細凹凸形
状パターンp1、p2は、最終製品である本発明による
エンボス化粧材の基材表面に形成される凹陥部F内の隣
接する領域R1,R2間で明らかに目視によって光沢差
が識別できるように選択する必要がある。また、当然な
がら、これらの微細凹凸形状パターンp1、p2から形
成される凹陥部F底面の微細な凹凸形状の平面視も異な
ったものになる。本発明によるエンボス版20に適用さ
れる微細な凹凸形状の粗さは、中心線平均粗さ(JIS
−B0601)で0.1〜50μm程度とすることが好
ましい。As described above, in order to form a unique fine unevenness in each of the regions R1, R2-Rn forming the bottom surface of the concave portion F by embossing, the plate surface of the embossing plate must be formed by embossing. It is necessary to form a fine reverse uneven shape by photo-etching (consisting of patterning and etching) on the convex portion for shaping the concave portion F and the portion corresponding to the region in the top surface of the convex portion. In addition, a mask pattern MP for performing patterning is required. The mask pattern MP includes a binarized image of the conduit pattern P and a region R of each of the recesses F inside the conduit pattern P.
1, a region r specified to correspond to R2 ---- Rn
1, r2 --- rn, which are respectively assigned to the fine uneven pattern p1 and p2 --- pn image.
The simplest case of the mask pattern MP will be described with reference to FIG. 6. The mask pattern MP has the same shape as the binarized conduit pattern P.
1 (the lower half of the elliptical shape is omitted for the sake of drawing) and the regions r on both sides of the central boundary C in the longitudinal direction.
The mask pattern MP2 composed of offset printing halftone fine uneven patterns p1 and p2 having the same arrangement pitch but different in area% for 1 and r2.
And is constituted by. In general, these two types of fine uneven patterns p1 and p2 can be easily obtained by appropriately changing the halftone dot output level by the dot generator of the output scanner. The computer stores the fine uneven pattern p1 and p2 as image data in advance, and stores the mask pattern MP1 in the computer.
For the specified regions r1 and r2
1, a computer graphic method of mapping (pasting) p2 may be used. The fine uneven patterns p1 and p2 are clearly distinguished in gloss between the adjacent regions R1 and R2 in the recessed portion F formed on the surface of the base material of the embossed decorative material according to the present invention as a final product. You need to make a choice. Naturally, the fine irregularities on the bottom surface of the concave portion F formed by these fine irregularities patterns p1 and p2 are also different in plan view. The roughness of the fine concavo-convex shape applied to the embossing plate 20 according to the present invention is the center line average roughness (JIS).
-B0601) is preferably about 0.1 to 50 μm.
【0012】図5は、本発明によるエンボス化粧材の微
細凹凸形状パターンの平面視形状の説明図である。微細
凹凸形状パターンpは、凹陥部Fの底面を粗面化し、固
有の光沢を持たせるために使用されるものであって、図
5に示すような極めて広範囲のパターンが使用可能であ
る。例えば、凹凸が規則的に配列するものとしては、図
5(a)に示すような、グラビア印刷のセル配列パター
ン(通常はこの図の如き4角形のセルであるが、その他
にも3角形、6角形等他の形状のセルでもよい。)、あ
るいは図5(b)に示すようなオフセット印刷の網点配
列パターンであってもよく、図5(c)に示すような特
開平8−146594公報記載のFM(Frequency Modu
ration) スクリーンによって形成される所定の大きさの
網点がランダムに分布する網点パターン、図5(d)に
示すような砂目スクリーンによるパターン、また、図5
(e)に示すようなコンピュータグラフィック的に作成
された不定型なパターンであってもよい。さらに、図示
はされていないが、万線パターン、格子パターンも好適
に適用できる。FIG. 5 is an explanatory view of a plan view shape of the fine uneven pattern of the embossed decorative material according to the present invention. The fine concavo-convex pattern p is used to roughen the bottom surface of the recessed portion F to give it a unique gloss, and an extremely wide range of patterns as shown in FIG. 5 can be used. For example, as a pattern in which irregularities are regularly arranged, a cell array pattern of gravure printing as shown in FIG. 5A (usually a square cell as shown in FIG. Cells having other shapes such as hexagons may be used.) Alternatively, a halftone dot array pattern of offset printing as shown in FIG. 5B may be used, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-146594 as shown in FIG. Publication of FM (Frequency Modu)
5) A halftone dot pattern in which halftone dots of a predetermined size formed by the screen are randomly distributed, a pattern formed by a grain screen as shown in FIG.
An irregular pattern created by computer graphic as shown in (e) may be used. Further, although not shown, a line pattern and a lattice pattern can be suitably applied.
【0013】図6は、本発明によるエンボス化粧材の製
造方法の一例を示す説明図である。本発明によるエンボ
ス化粧材10の製造工程は、次の3工程からなるもので
ある。 1)マスクパターンの画像データ作成工程 2)エンボス版のフォトエッチング工程(パターンニン
グとエッチング) 3)エンボス加工工程 マスクパターンMPの画像データ作成は次の方法で行わ
れる。銀塩写真法等により天然木材板原稿を一旦銀塩感
光性フィルムに撮影し、次いで製版スキャナによってス
キャニングして光電変換し、デジタル信号化して読み取
り、CEPS(COLOR ELECTRONIC PREPRESS SYSTEM)の
ハードディスクに記憶させる。あるいは、デジタルカメ
ラを用いて撮影し、CCD(荷電結合素子)撮像素子に
分け、光電変換し、デジタル信号化して得たデジタル画
像データを直接CEPSに入力してもよい。次に、この
画像データから図1に示すような導管パターンPのみを
2値化画像としてディスプレー画面に抽出し、エンボス
版シリンダーの円周長に合わせたエンドレス修正等を行
った上で、導管パターン画像ファイルを作成する。ま
た、図5に示すような微細凹凸形状パターンpのいずれ
かを選択し、微細凹凸形状パターン画像をコンピュータ
に記憶させておく。これ以降は全てこの導管パターンP
と微細凹凸形状パターンpの入力データをベースとした
コンピュータによる画像処理によって,図6、に示す
よマスクパターンMPの画像データを作成することがで
きる。その具体的な方法としては、例えば、国際公開W
O95/21060号公報に開示の如き手法を一部流用
することができる。すなわち、変形長楕円形である導管
パターンPを一旦近似長楕円モデルに変換し、この長楕
円画像情報から各導管パターンの境界線C1を近似楕円
の長軸(長手径)として求め、この中心の境界線C1の
両側の領域r1,r2を特定して、長楕円モデルを変形
長楕円に逆変換した導管パターンPの画像データを作成
し、画像ファイルとする。さらに、導管パターンPの特
定領域r1,r2に対して出力する網点形状と、その出
力レベルを定めておくか、あるいは、領域r1,r2に
マッピングさせるための微細凹凸形状パターンp1、p
2を選択し、それらの画像データをコンピュータに入力
させておく。以上の各パターンの画像データを用いてパ
ターンニング用のマスクパターンMPを作成することが
できる。その一つの方法として、CEPSの出力スキャ
ナーから導管パターンPの画像データのみを感光性フィ
ルムに出力(露光)して、図6、に示すような、マス
クパターンMP1を作成し、また導管パターンPの特定
領域r1,r2に対して、出力レベルを変えて網点出力
を行い、面積が異なるの2種の網点からなる無地網状の
微細凹凸形状パターンp1、p2が導管パターンP内に
組み込まれてなるマスクパターンMP2を作成する。こ
のマスクパターンMP1,MP2は従来から使用されて
いるフォトマスク(遮光用のマスク)として機能する。
別の方法としては、以上の各パターンの画像データをレ
ーザー光ビーム走査による直接露光装置を用いて、エン
ボス版面に設けられているレジスト感光膜に対して直接
出力して、フォトマスクの場合と略同じ平面形状のレジ
ストパターンを直接エンボス版面に形成する方法であ
る。以上のいずれを使用してもよいが、後者のフィルム
レスの製造工程のほうが効率的であるので、後者の場合
について図6、〜に従ってさらに詳しく説明する。
先ず、2値化された導管パターンPの画像データをレー
ザー光ビーム走査による直接露光装置によって、あらか
じめ、ネガ型レジスト感光膜を形成したエンボス版基材
1の銅メッキ層上に出力して、表面を走査する光ビーム
を焼付けパターン画像データで変調しつつ露光し、焼き
付け、現像し、非露光部の感光膜を洗浄除去すると、
に示すような導管パターンPに相当するレジスト層2−
1を有するエンボス版基材1面が得られる。このエンボ
ス版面の非レジスト面を塩化第2鉄水溶液等の腐食液で
点線で示す所定の深さd1に至まで腐食、蝕刻する。次
いで、で得られたエンボス版面に、再度全面にレジス
ト感光膜を形成し、においてレジストで保護されて突
出している版面凸状部に対して、前記微細凹凸形状パタ
ーンp画像データを各導管パターンP内の領域r1,r
2に対して指定された出力(露光)レベルで網点出力を
行って焼き付け、現像し,非露光部の感光膜を洗浄除去
すると、に示すような微細凹凸パターンp1,p2に
相当するレジスト層2−2を有するエンボス版基材1面
が得られる。この突出している版面の小さく開口してい
る非レジスト面を塩化第2鉄水溶液等の腐食液で点線で
示す所定の深さd2,d3に至まで腐食、蝕刻して、レ
ジスト膜を除去すると、で示すような凸状部3に領域
r1,r2毎に異なる微細凹凸形状が形成されたエンボ
ス版Eが得られる。最後に、エンボス版Eの表面全体に
クロムメッキを施して仕上げる。メッキは、好ましく
は、マット(艶消)メッキとするか、あるいはエンボス
版表面全面をサンドブラスト加工で粗面としてからメッ
キすることによりエンボス版表面(特に、木目導管断面
パターン以外の面)を艶消し粗面とする。なお、本発明
に使用するエンボス版は、円筒状(シリンダー状)で
も、平板状であってもよい。FIG. 6 is an explanatory view showing an example of a method for producing an embossed decorative material according to the present invention. The manufacturing process of the embossed decorative material 10 according to the present invention includes the following three steps. 1) Step of creating image data of a mask pattern 2) Step of photo-etching an emboss plate (patterning and etching) 3) Step of embossing Image data of a mask pattern MP is created by the following method. A natural wood board original is once photographed on a silver halide photosensitive film by silver halide photography, etc., then scanned by a plate making scanner, photoelectrically converted, digitized and read, and stored on a hard disk of CEPS (COLOR ELECTRONIC PREPRESS SYSTEM). . Alternatively, digital image data obtained by taking an image using a digital camera, dividing the image into a CCD (charge-coupled device) image sensor, performing photoelectric conversion, and converting it into a digital signal may be directly input to the CEPS. Next, from the image data, only the conduit pattern P as shown in FIG. 1 is extracted as a binarized image on a display screen, and after endless correction or the like according to the circumferential length of the emboss plate cylinder, the conduit pattern P is extracted. Create an image file. Further, one of the fine concavo-convex shape patterns p as shown in FIG. 5 is selected, and the fine concavo-convex shape pattern image is stored in the computer. From now on, this conduit pattern P
As shown in FIG. 6, image data of the mask pattern MP can be created by image processing by a computer based on the input data of the fine uneven pattern p. As a specific method, for example, international publication W
The technique disclosed in O95 / 21060 can be partially used. That is, the conduit pattern P, which is a deformed elliptical shape, is once converted into an approximate elliptical model, and the boundary line C1 of each conduit pattern is determined as the major axis (longitudinal diameter) of the approximate ellipse from the elliptical image information. The regions r1 and r2 on both sides of the boundary line C1 are specified, and image data of the conduit pattern P obtained by inversely converting the long ellipse model into a deformed long ellipse is created as an image file. Further, the halftone dot shapes to be output to the specific regions r1 and r2 of the conduit pattern P and the output levels thereof are defined, or the fine irregular shape patterns p1 and p for mapping to the regions r1 and r2.
2 is selected, and those image data are input to the computer. A mask pattern MP for patterning can be created using the image data of each pattern described above. As one of the methods, only the image data of the conduit pattern P is output (exposed) from a CEPS output scanner to a photosensitive film to create a mask pattern MP1 as shown in FIG. For the specific regions r1 and r2, halftone output is performed by changing the output level, and the fine uneven pattern p1 and p2 of the plain net shape composed of two types of halftone dots having different areas are incorporated in the conduit pattern P. The following mask pattern MP2 is created. The mask patterns MP1 and MP2 function as conventionally used photomasks (light shielding masks).
As another method, the image data of each of the above patterns is directly output to the resist photosensitive film provided on the embossing plate surface by using a direct exposure apparatus by laser beam scanning, which is substantially similar to the case of a photomask. This is a method in which a resist pattern having the same planar shape is directly formed on the embossing plate surface. Any of the above may be used, but since the latter filmless manufacturing process is more efficient, the latter case will be described in more detail with reference to FIGS.
First, the image data of the binarized conduit pattern P is output by a direct exposure apparatus using laser light beam scanning onto a copper plating layer of an embossed plate base material 1 on which a negative resist photosensitive film has been formed in advance. Exposure while modulating the light beam that scans with the printing pattern image data, printing, developing, washing and removing the photosensitive film of the non-exposed part,
A resist layer 2 corresponding to the conduit pattern P as shown in FIG.
1 is obtained. The non-resist surface of the embossed plate surface is corroded and etched to a predetermined depth d1 indicated by a dotted line with a corrosive solution such as an aqueous ferric chloride solution. Next, a resist photosensitive film is formed again on the entire surface of the embossed printing plate obtained in step 1. Then, the fine uneven pattern p image data is applied to each of the conduit patterns P with respect to the protruding plate surface projections protected by the resist. Regions r1, r in
2 are printed at the specified output (exposure) level, and baked and developed, and the photosensitive film in the non-exposed area is removed by washing. The resist layer corresponding to the fine uneven patterns p1 and p2 shown in FIG. One embossed plate substrate having 2-2 is obtained. When the small opening non-resist surface of the projecting plate surface is corroded and etched to a predetermined depth d2, d3 shown by a dotted line with a corrosive solution such as an aqueous ferric chloride solution, and the resist film is removed. As a result, an embossing plate E in which different fine irregularities are formed in the convex portions 3 in the regions r1 and r2 is obtained. Finally, the entire surface of the embossing plate E is finished by chrome plating. The plating is preferably mat (matte) plating, or the entire surface of the embossed plate is roughened by sandblasting and then plated to matte the surface of the embossed plate (particularly the surface other than the wood grain conduit cross-sectional pattern). The surface is rough. The embossing plate used in the present invention may be cylindrical (cylindrical) or flat.
【0014】次に、図6、に示すように、以上の製造
方法で作成されたエンボス版Eを用いてトップ基材シー
ト4にエンボス加工を行い、あらかじめグラビア印刷等
で木目柄が印刷されてインキ層5が形成されたベース基
材シート5をラミネートするとエンボス化粧シート10
が得られる。エンボス基材シート10の代表的な製造方
法としては、ポリオレフィン系樹脂あるいはポリ塩化ビ
ニル等の熱可塑性樹脂からなるエンボス基材シート10
を加熱軟化せしめ、その表面にエンボス版Eを押圧する
方法がある。この方法についてさらに類別すると、
(1)単層シート(トップ基材シートのみ)を加熱軟化
させ、エンボス版Eを押圧するか、(2)トップ基材シ
ート4にエンボスを行い、それをベース基材シート6に
接着剤でドライラミネートして2層積層体の基材シート
とするか、あるいは,(3)エンボス版押圧時の熱圧で
トップ基材シート4とベース基材シート6とを熱融着す
ることにより、エンボスとラミネートを同時に行うダブ
リングエンボスにより2層積層体とするか、或いは、ト
ップ基材シート4をTダイから熔融押し出しして冷却ロ
ールを兼ねるエンボス版シリンダー上に接触させてエン
ボスすると共に、トップ基材シート4の裏面に挿入した
ベース基材シート6と熱融着させてダブリングエンボス
をインラインで行って2層積層体とする方法がある。こ
のダブリングエンボスをインラインで行う場合に、本発
明が最も有効に活用される。また、別の方法として、特
開昭57−87318号公報、特開平7−32476号
公報等に開示の如く、エンボス版E表面に電離放射線硬
化性樹脂の未硬化液状物を塗工し、その更に上にベース
基材6を重ねた状態で電離放射線を照射して該液状物を
硬化せしめトップ基材4とすると共にベース基材シート
6と接着せしめた後、エンボス版から離型し、トップ基
材シート4に版の凹凸を賦型する方法を用いてもよい。
あるいは、また、別の方法として、チタン紙等の紙に木
目印刷柄を形成し、メラミン樹脂、ジアリルフタレート
樹脂等の熱硬化性樹脂の未硬化物を含浸せしめ、次いで
含浸紙をコアー紙、木材合板等の基材上に載置し、熱プ
レス成形を行う際に、該含浸紙表面にエンボス版を挿入
することによって、熱硬化性樹脂が含浸硬化された化粧
板表面に熱プレスと同時に凹凸を賦型する方法を用いて
もよい。Next, as shown in FIG. 6, the top substrate sheet 4 is embossed using the embossing plate E prepared by the above-described manufacturing method, and the grain pattern is printed in advance by gravure printing or the like. When the base substrate sheet 5 on which the ink layer 5 is formed is laminated, the embossed decorative sheet 10
Is obtained. As a typical method for producing the embossed base sheet 10, an embossed base sheet 10 made of a thermoplastic resin such as a polyolefin resin or polyvinyl chloride is used.
Is heated and softened, and the embossing plate E is pressed against the surface. To further categorize this method,
(1) The single-layer sheet (only the top substrate sheet) is heated and softened, and the embossing plate E is pressed, or (2) the top substrate sheet 4 is embossed, and the embossed plate is applied to the base substrate sheet 6 with an adhesive. Embossing is performed by dry laminating the base sheet into a two-layer laminate, or (3) heat-sealing the top base sheet 4 and the base base sheet 6 with hot pressure at the time of pressing the embossing plate. And lamination at the same time to form a two-layer laminate, or by extruding the top substrate sheet 4 by melting and extruding it from a T-die and bringing it into contact with an embossing plate cylinder also serving as a cooling roll, and embossing. There is a method in which doubling embossing is performed in-line with a base substrate sheet 6 inserted on the back surface of the sheet 4 to form a two-layer laminate. When the doubling embossing is performed in-line, the present invention is most effectively utilized. As another method, as disclosed in JP-A-57-87318, JP-A-7-32476, and the like, an uncured liquid material of an ionizing radiation-curable resin is applied to the surface of an embossing plate E, and Further, after the base material 6 is overlaid thereon, the liquid material is irradiated with ionizing radiation to cure the liquid material to form the top material 4 and adhere to the base material sheet 6, and then release from the embossing plate. A method of shaping the plate on the substrate sheet 4 may be used.
Alternatively, as another method, a wood grain print pattern is formed on paper such as titanium paper and impregnated with an uncured thermosetting resin such as melamine resin and diallyl phthalate resin. When placed on a substrate such as plywood and subjected to hot press molding, by inserting an embossing plate into the surface of the impregnated paper, the surface of the decorative board impregnated and cured with the thermosetting resin is simultaneously pressed with irregularities. May be used.
【0015】本発明によるエンボス化粧材20の製造方
法の最後の仕上げ工程は、に示すように、エンボス化
粧シート10に対して、さらに最終用途に応じて裏打ち
材7、例えばドアーに加工する場合にはハニカムボード
等を貼り合わせる等の方法によって、最終的に本発明に
よるエンボス化粧材20が得られる。The final finishing step of the method for manufacturing the embossed decorative material 20 according to the present invention is, as shown in the following, when the embossed decorative sheet 10 is further processed into a backing material 7, for example, a door according to the final use. Finally, the embossed decorative material 20 according to the present invention is obtained by a method such as bonding a honeycomb board or the like.
【0016】レジスト感光膜には露光部が硬化するネガ
型と露光部が現像されて溶出するポジ型とがあるが、エ
ッチングの表面保護機能があればいずれを使用してもよ
い。また、レジストの製膜方法は、金属基材面に直接塗
布しても、カーボンチッシュのように転写方式によって
もよい。ネガ型のレジスト膜としては、重クロム酸ゼラ
チンのほか、アクリル基またはメタアクリル基を有する
アクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジ
ドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系
化合物等を用いることができる。The resist photosensitive film is classified into a negative type in which the exposed portion is cured and a positive type in which the exposed portion is developed and eluted. Any type may be used as long as it has a surface protecting function for etching. The resist may be formed directly on the metal substrate surface or by a transfer method such as carbon tissue. As the negative resist film, besides dichromated gelatin, a monomer or prepolymer of an acrylate having an acryl group or a methacryl group, a mixture of a bisazide and a diene rubber, a polyvinyl cinnamate compound, or the like is used. Can be.
【0017】[0017]
【実施例】本発明によるエンボス化粧材20の実施例サ
ンプルを次に方法で製造し、従来のエンボス化粧材と比
較した。木目導管溝が比較的密集している樫(オーク)
材の板目をデジタルカメラを使用して撮影した。このデ
ジタルカメラには4500万画素の固体撮像素子(CC
D)が搭載され、CCDからの信号を、濃度については
8ビット(256段階)階調にAD変換してデジタル画
像情報とし、ハードディスクに記録させた。このハード
ディスクにダウンロードされたデジタル画像から導管パ
ターンPを2値化画像としSCITEX社製、PRIS
MAXディスプレーに抽出し、エンボスシリンダーの円
周長(930mm)に合わせたエンドレス処理を施し、
図1の如き導管パターンPの画像ファイルを作成した。
次に、この導管パターン画像をベースにしたコンピュー
タ画像処理によって、近似長楕円形に変換し、長径に相
当する境界線の両側を特定してから、元の長楕円形に逆
変換した画像データを作成した。また、領域r1,r2
それぞれにオフセット網点面積が10%と45%となる
ような網点出力レベルを指定した。次に、鉄芯の表面に
銅メッキ層を設けたエンボス用シリンダー表面に重クロ
ム酸ゼラチンからなるネガ型レジスト感光膜をが塗布
し、該塗布面に対して、移動するアルゴンイオンレーザ
ービーム走査制御装置(シンク・ラボラトリー社製)を
用いて、先ず上記の方法で用意された導管パターン画像
を出力し、温水で現像して非露光部を除去後、非レジス
ト面を塩化第二鉄水溶液を用いて約70μmの深さに腐
食、蝕刻した。(図6、)続いて、同様の装置を用い
て、シリンダー全面に再度形成されたレジスト感光膜に
対して各導管パターンPの各領域r1,r2ごとに網点
面積が10%と45%になるように150線/インチの
オフセット印刷網点出力を行い、現像後(図6、)、
各領域r1,r2の非レジスト面をそれぞれ3〜5μ
m、10〜15μmの深度に腐食、蝕刻して、微細凹凸
を形成してエンボス版Eを作成した。(図6、) 最
後に、別途用意しておいた梨地模様のパターン画像を用
いて版面全体のフォトエッチングを行い粗面化加工を行
ってから、クロムメッキを施しエンボス版を完成させこ
れをクーリングローラーとして次のエンボス加工を行っ
た。プロピレンを90重量%含有するエチレン−プロピ
レン−ブテン3元共重合体にベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤8000ppm,ヒンダードアミン系ラジカル
補足剤4000ppm,エルカ酸アミド500ppmを
添加したブレンド材をTダイから熔融押し出しを行っ
て、厚み80μmのポリオレフィン系熱可塑性エラスト
マーの基材シート4を製膜すると同時にクーリングロー
ルとニップロールによる基材シート4へのエンボス加工
と別途供給されるラミネート基材シート6に対してラミ
ネートを同時に行い、本発明によるエンボス化粧シート
10を作成した。なお、ラミネート基材シートには、あ
らかじめ、2液効果型アクリルウレタン樹脂をバインダ
ーとし、弁柄、黄鉛、カーボンブラックを主体とする顔
料を含んだインキで木目柄がグラビア印刷されて印刷イ
ンキ層5が形成された高密度ポリエチレン55重量部
に、水素添加スチレン−ブタジエンゴム30重量部、炭
酸カルシュウム粉末からなる無機充填材10重量部及び
チタン白、弁柄、カーボンブラック、黄鉛からなる顔料
5重量部を混合してなるポリオレフィン系熱可塑性エラ
ストマーのブレンド材からなる着色シートを使用し、印
刷インキ層5側でラミネートを行った。このようにして
得られたエンボス化粧シート10を、さらに裏打ち材
(ハードボード)7によって裏打ちし、実施例サンプル
を完成させた。このようにして製造された、実施例サン
プルの表面の風合いを実施例のエンボス版の微細凹凸形
状形成工程を省いて製造されたエンボス版を用い、10
0μmの深度にエンボス加工を行った以外は実施例の場
合と全く同じ天然木材板(オーク)、材料、工程で製造
されたエンボス化粧材30(比較例サンプル、図7)と
比較したところ、実施例サンプルではエンボス深度が7
0μmしかないのに、比較例サンプルの100μmの深
度を有するものと同等の深度が視覚的に感じられ、さら
に、木目導管溝の表現において、これまでのような単調
さがなくなり、凹陥部に陰影のある、趣のある風合いと
高度な意匠表現を有することが明らかになった。EXAMPLE An example of an embossed decorative material 20 according to the invention was produced in the following manner and compared with a conventional embossed decorative material. Oak with a relatively dense wood grain conduit groove
The grain of the material was photographed using a digital camera. This digital camera has a 45 million pixel solid-state image sensor (CC
D), the signal from the CCD was A / D-converted to 8-bit (256 steps) gradation in terms of density to obtain digital image information, which was recorded on a hard disk. From the digital image downloaded to the hard disk, the conduit pattern P is converted into a binarized image.
Extracted on a MAX display, and subjected to endless processing according to the circumference of the embossed cylinder (930 mm).
An image file of the conduit pattern P as shown in FIG. 1 was created.
Next, by computer image processing based on this conduit pattern image, it was converted into an approximate elliptical shape, and both sides of the boundary line corresponding to the major axis were specified. Created. Also, the regions r1, r2
The halftone output levels are specified so that the offset halftone areas are 10% and 45%, respectively. Next, a negative resist photosensitive film made of dichromated gelatin is applied to the surface of the embossing cylinder provided with a copper plating layer on the surface of the iron core, and the argon ion laser beam scanning control for moving the applied surface is performed. First, the conduit pattern image prepared by the above method is output using an apparatus (manufactured by Sink Laboratory Co., Ltd.), developed with warm water to remove the non-exposed portions, and then the non-resist surface is treated with an aqueous ferric chloride solution. To a depth of about 70 μm. (FIG. 6) Subsequently, using the same apparatus, the halftone dot area is reduced to 10% and 45% for each region r1 and r2 of each conduit pattern P with respect to the resist photosensitive film formed again on the entire surface of the cylinder. The halftone dot output of 150 lines / inch is output as shown in FIG.
Each of the non-resist surfaces of the regions r1 and r2 is 3 to 5 μm.
m, corrosion and etching to a depth of 10 to 15 μm to form fine irregularities, thereby producing an embossed plate E. (Fig. 6,) Finally, the surface of the printing plate is photo-etched and roughened using a separately prepared pear-skinned pattern image, and then chrome-plated to complete the embossed plate and then cooled. The following embossing was performed as a roller. A blend material obtained by adding 8000 ppm of a benzotriazole ultraviolet absorber, 4000 ppm of a hindered amine radical scavenger, and 500 ppm of erucamide to a terpolymer of ethylene-propylene-butene containing 90% by weight of propylene was melt-extruded from a T-die. Then, at the same time as forming a base sheet 4 of a polyolefin-based thermoplastic elastomer having a thickness of 80 μm, embossing of the base sheet 4 by a cooling roll and a nip roll and lamination on a separately supplied base sheet 6 are simultaneously performed. The embossed decorative sheet 10 according to the present invention was produced. The laminate base sheet is gravure-printed in advance with a two-component effect type acrylic urethane resin as a binder, and a gravure print with an ink containing a pigment mainly composed of red iron oxide, graphite, and carbon black. 55 parts by weight of the high-density polyethylene having 5 formed thereon, 30 parts by weight of hydrogenated styrene-butadiene rubber, 10 parts by weight of an inorganic filler composed of calcium carbonate powder, and a pigment 5 composed of titanium white, red iron oxide, carbon black, and graphite Lamination was performed on the printing ink layer 5 side using a colored sheet composed of a blended material of a polyolefin-based thermoplastic elastomer obtained by mixing parts by weight. The embossed decorative sheet 10 thus obtained was further backed with a backing material (hardboard) 7 to complete an example sample. The texture of the surface of the example sample manufactured as described above was measured by using the embossed plate manufactured by omitting the step of forming the fine unevenness of the embossed plate of the example.
Except that embossing was performed at a depth of 0 μm, the embossed decorative material 30 (comparative sample, FIG. 7) manufactured by the same natural wood board (oak), material, and process as in the example was used. Example sample has emboss depth of 7
Although there is only 0 μm, the depth equivalent to that of the comparative example sample having a depth of 100 μm is visually felt. It has become clear that it has a quaint texture and sophisticated design expression.
【0018】[0018]
【発明の効果】本発明によれば、木目導管溝、目地溝等
を再現する凹陥部において、凹陥部の底面の区劃された
領域に、それぞれ固有の微細な凹凸形状を形成し、異な
る光沢を持たせることによって、これら凹陥部が実際の
深度より深く見える視覚効果を奏するので、薄手のエン
ボス基材シート4の使用が可能となり、材料コストの軽
減は無論のこと、特にトップ基材シート4の押し出し成
形とエンボスをインラインで同時に行うダブリングエン
ボスの場合に生産効率の向上を図ることができる。ま
た、木目導管溝に相当する凹陥部において、あたかも一
方から光が照射されているような陰影を感じさせ、ある
いは、不定型の凹陥部の中心部ほど深くなっているよう
な視覚効果をもたらすので、風合いに単調さがなくな
り、高度な意匠性のあるエンボス化粧材を提供すること
がとができる。また、ワイピングを省くことによって製
造コストの低減、納期の短縮を実現することができる。According to the present invention, in a concave portion for reproducing a wood grain conduit groove, a joint groove, or the like, a unique fine uneven shape is formed in each of the divided areas on the bottom surface of the concave portion, thereby providing different gloss. , The concave portion has a visual effect that looks deeper than the actual depth, so that a thin embossed base sheet 4 can be used. In the case of doubling embossing in which extrusion molding and embossing are simultaneously performed in-line, production efficiency can be improved. Also, at the recess corresponding to the wood grain conduit groove, a shadow is felt as if light is irradiated from one side, or a visual effect such that the center of the irregular shaped recess is deeper is brought about. In addition, it is possible to provide an embossed decorative material having a high degree of design and a monotonous texture. Further, by eliminating the wiping, it is possible to reduce the manufacturing cost and the delivery time.
【図1】天然木材柄から抽出された導管パターンの一例FIG. 1 is an example of a conduit pattern extracted from a natural wood pattern
【図2】本発明によるエンボス化粧材の導管パターンを
対象とした凹陥部の説明図FIG. 2 is an explanatory view of a concave portion for a conduit pattern of an embossed decorative material according to the present invention.
【図3】本発明によるエンボス化粧材のタイル貼り、煉
瓦積み模様の目地溝を対象とした凹陥部の斜視図FIG. 3 is a perspective view of a recessed portion intended for a joint groove in a tiled and brickwork pattern of an embossed decorative material according to the present invention.
【図4】本発明によるエンボス化粧材のトラバーチン大
理模様の孤立した不定型な陥没部を対象とした凹陥部の
斜視図FIG. 4 is a perspective view of an embossed cosmetic material according to the present invention, which is intended for an isolated irregular shaped travertine depression.
【図5】本発明によるエンボス化粧材のマスクパターン
作成に使用される基本凹凸形状パターンの説明図FIG. 5 is an explanatory view of a basic concavo-convex pattern used for creating a mask pattern of an embossed decorative material according to the present invention.
【図6】本発明によるエンボス化粧材の製造方法の一例
を示す説明図FIG. 6 is an explanatory view showing one example of a method for producing an embossed decorative material according to the present invention.
【図7】従来の木目導管断面パターンを対象とするエン
ボス化粧材の説明図FIG. 7 is an explanatory view of a conventional embossed decorative material for a wood grain conduit cross-sectional pattern.
1 エンボス版基材 2−1 レジスト層 2−2 レジスト層 3 凸状部 4 トップ基材シート 5 印刷インキ層 6 ベース基材シート 7 裏打ち材 10 エンボス化粧シート 20 本発明によるエンボス化粧材 30 従来のエンボス化粧材 C 境界、境界線 E エンボス版 F,F’ 凹陥部 MP マスクパターン p 微細凹凸形状パターン P 導管パターン R 領域(凹陥部) r 領域(導管パターン) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Emboss plate base material 2-1 Resist layer 2-2 Resist layer 3 Convex part 4 Top base sheet 5 Printing ink layer 6 Base base sheet 7 Backing material 10 Emboss decorative sheet 20 Emboss decorative material according to the present invention 30 Conventional Embossed decorative material C Boundary, boundary line E Embossed plate F, F 'Depressed portion MP Mask pattern p Fine unevenness pattern P Conduit pattern R region (recessed portion) r region (conduit pattern)
フロントページの続き Fターム(参考) 2E110 AA57 AA70 AB03 AB04 AB05 AB23 AB46 BA02 BA12 BB22 BB23 DA06 DC21 EA05 EA09 GA03W GA04W GA05W GA23W GA32W GA33W GA33X GA37X GB43W GB44W GB46W GB49W GB52W GB54W GB62W GB63W 2E162 CC01 CC06 CD04 CD06 CD07 CD09 CD10 CE10 EA18 FD04Continued on front page F-term (reference) 2E110 AA57 AA70 AB03 AB04 AB05 AB23 AB46 BA02 BA12 BB22 BB23 DA06 DC21 EA05 EA09 GA03W GA04W GA05W GA23W GA32W GA33W GA33X GA37X GB43W GB44W GB46W GB49W GB52W GB54W CD62 CD06 CD63 CD06 CD06 EA18 FD04
Claims (1)
ス化粧材において、前記凹陥部の底面が、微細な凹凸形
状を変えることによって、少なくとも2種以上の互いに
異なる所定の光沢を示す領域に区劃され、隣接する前記
領域同志の境界で光沢が異なることを特徴とするエンボ
ス化粧材。1. An embossed decorative material having a plurality of recesses on a surface of a base material, wherein a bottom surface of the recesses is formed in a region showing at least two or more different predetermined glosses by changing a fine uneven shape. An embossed decorative material which is demarcated and has different gloss at boundaries between adjacent areas.
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