JP4232253B2 - 微細パターンの製造装置及びホログラフィックメモリ記録再生装置 - Google Patents
微細パターンの製造装置及びホログラフィックメモリ記録再生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4232253B2 JP4232253B2 JP01836799A JP1836799A JP4232253B2 JP 4232253 B2 JP4232253 B2 JP 4232253B2 JP 01836799 A JP01836799 A JP 01836799A JP 1836799 A JP1836799 A JP 1836799A JP 4232253 B2 JP4232253 B2 JP 4232253B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- recording
- fine pattern
- photosensitive material
- adjusting means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学的情報処理に用いる微細構造を感光性材料中へ任意のピッチおよび傾きで形成する微細パターン製造装置、および、空間的情報を感光性材料中に記録するホログラムメモリ記録再生装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
光情報処理や微細加工の分野において、周期的な微細構造を製造する手段として、コヒーレントな2つの光束を干渉させたときに生じる干渉縞を利用する二光束干渉露光法がよく用いられている。また、光情報処理の分野において、少なくとも一方に空間的な変調をかけたコヒーレントな2つの光束を感光性材料中で干渉させ空間的情報を記録するホログラムメモリ記録再生装置が開発されている。まず、二光束干渉露光装置の従来の構成を図6,図7にもとづいて説明する。
【0003】
図6に従来の二光束干渉露光装置を示す。同図に示すように、この装置は、レーザー1、レーザー光2をON/OFFするシャッタ3、レーザー光2の光路を変換するための全反射ミラー4、レーザー光2のビームパワーを可変に減光する可変アッテネータ5、レーザー光2を二つの光束に分離するビームスプリッタ6、この二つの光束をそれぞれ反射する反射ミラー7、これらの反射光のノイズ除去をする空間フィルタ用のピンホール9およびビーム径の拡大のためのビームエキスパンダを構成する対物レンズ8およびコリメータレンズ10を有し、拡大させたレーザー光束11、12を基板14上に形成された感光性材料13に照射し、干渉させることにより周期的な微細パターンの露光を行う。
【0004】
また、図7は露光用プリズムを用いた従来の二光束干渉露光装置を示すものである。この装置は、レーザー1、レーザー光2をON/OFFするシャッタ3、レーザー光2の光路を変換するための全反射ミラー4、レーザー光2のビームパワーを可変に減光する可変アッテネータ5、レーザー光2の光ビーム径の拡大のためのビームエキスパンダを構成する対物レンズ8およびコリメータレンズ10、ビームのノイズ除去をする空間フィルタ用のピンホール9を有し、拡大したレーザー光束を開口17により二つのレーザー光束11、12に分離し、プリズム18での屈折により偏向を行い二つの光束に角度を持たせ、基板14上に形成された感光性材料13に照射し、周期的な微細パターンの露光を行う。
【0005】
図6,図7において、基板の傾き角度や基板への入射光の入射角を変え露光することにより、所望のピッチ及び傾きの周期的な微細パターンを製造することができる。
【0006】
次に、ホログラムメモリ記録再生装置の従来の構成を図8にもとづいて説明する。
【0007】
この装置は空間光変調器22、フォトリフラクティブ材料25、レンズ23および28、二次元受光器29、回転ステージ25から構成されており、レーザー光21を空間光変調器22により変調し、このレーザー光をレンズ23で記録媒体であるフォトリフラクティブ材料25に集光、照射し、同時にレーザー光21に対してコヒーレントな参照光26を照射することにより記録を行う。また、このフォトリフラクティブ材料25に参照光26を照射し、レンズ28で二次元受光器29に再生光27を結像し、記録された空間情報を検出することができる。さらに、記録時に回転ステージ24でフォトリフラクティブ材料25の方向を変えれば、3次元的に光情報を多重記録することができる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
感光性媒質へ2つの光束を入射させ干渉させる場合、干渉縞の露光コントラストを示すビジビリティの値は、媒質内部での2つのレーザー光の強度が等しくなるとき最大となり、最もコントラストが良くなるが、感光性媒質へ入射するレーザー光の入射角が異なる場合、感光性媒質表面での電界振幅透過係数は入射角の関数となるので、感光性媒質内部での2つのレーザー光の干渉に寄与する光の強度が異なり、干渉縞のビジビリティが低下するという問題が生じる。これにより、二光束干渉露光の場合、コントラストの高い微細パターンを作製することができず、また、ホログラムメモリ記録再生装置の場合、記録媒体内での物体光と参照光との干渉縞のコントラストの低下により、良好な記録が困難となるという問題点を有していた。
【0009】
本発明は、上記問題点を解決するもので、任意のピッチおよび傾きを持つ周期的な微細パターンを高いコントラストで製造することができる二光束干渉露光装置を提供することを目的とする。
【0010】
また、本発明は、空間的情報を高いコントラストで感光性材料中に記録するホログラムメモリ記録再生装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するため、感光性媒質へ入射した二つのレーザー光束の媒質内での光強度比を、ビジビリティVの値がV≧0.8となるように光量調整手段を用いて光強度を調整する。これにより、干渉縞のビジビリティを増大させることができ、干渉光のコントラストを改善することができる。これにより、周期的な微細パターンを高いコントラストで製造することや、空間的情報を高いコントラストで感光性材料中に記録することが可能となる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図1を参照して本発明の第1の実施の形態を示す。図1は本発明における二光束干渉露光装置を示す。同図に示すように、この装置は、防震台16上に構成されており、レーザー1、レーザー光2をON/OFFするシャッタ3、レーザー光2の光路を変換するための全反射ミラー4、レーザー光2のビームパワーを可変に減光する可変アッテネータ5、レーザー光2を2つの光束に分離するビームスプリッタ6、このビームスプリッタ6で分離された二つの光束をそれぞれ反射する反射ミラー7、これら反射ミラー7で反射された光ビームのノイズ除去をするための空間フィルタ用のピンホール9およびビーム径の拡大のためのビームエキスパンダを構成する対物レンズ8およびコリメータレンズ10、光強度比調整用の可変アッテネータ30を有し、拡大したレーザー光束11、12を基板14上に形成された、たとえばフォトレジストやフォトポリマーといった感光性材料13に照射、干渉させ露光を行い、グレーテイングやレリーフ型ホログラム、ボリュームホログラムなどの素子を作製する。この時、良好なコントラストを得るためレーザー光1は感光性媒質の入射面に対してS偏光になるように配置する。反射ミラー7の角度や、回転ステージ15により基板14の傾き角を変更すれば、所望のピッチ及び傾きの微細な周期パターンを製造することができる。この際、感光性媒質内において、前記周期パターンのコントラストを表すビジビリティVの値が大きくなるように、レーザー光11とレーザー光12の干渉に寄与する光強度比を可変アッテネータ30を用いて調整することにより露光コントラストを向上させることができる。上記(数1)において、t1、t2はそれぞれレーザー光11、レーザー光12における空気中と感光性材料中の電界振幅の大きさの比を表す電界振幅透過係数、I1、I2はそれぞれレーザー光11、レーザー光12の光強度を示し、ビジビリティVは、干渉縞の光強度の最大値と最小値の和に対する干渉縞の光強度の最大値と最小値の差の割合で定義される。例えば感光性媒質としてフォトポリマーを用い、波長658nmの光において光の進行方向に対し45度に光を回折する回折素子を作製した場合、感光性媒質内でのレーザー光11、レーザー光12による干渉縞のビジビリティが0.7より小さい時、最適な作製条件下でも回折効率が70%以下しかとれなかったが、前記ビジビリティが0.8以上になるようにレーザー光11とレーザー光12の干渉に寄与する光強度比を可変アッテネータ30を用いて調整すれば、95%以上の高い回折効率を得ることができた。この場合、上記手段により感光性媒質内での2つのレーザー光による干渉縞のビジビリティが0.8以上となるような条件で露光を行えば高コントラストの2光束干渉露光を行うことができる。本実施の形態では、レーザー光束11、12の光強度比調整手段として可変アッテネータ30を用いたが、アッテネータは固定型でも良く、また光アッテネータのかわりに検光子、液晶、音響光学変調器やNDフィルタを用いることもできる。さらに、前記回転ステージの回転角に応じて前記光強度比調整手段が動的に変化するように構成しても良い。また、本実施の形態では2つの光束による干渉縞を用いて露光を行っているが、3光束以上での干渉縞により露光を行う場合においても同様な方法を用いることにより露光コントラストの改善を得ることができる。また、少なくとも1つ以上の光束に凹レンズ、凸レンズまたはシリンドリカルレンズを挿入することによりチャープ微細パターンを製造することができるが、この場合においても同様の方法を用いることにより露光コントラストの改善を得ることができる。
【0013】
図3は本発明の第2の実施の形態を示したもので、図3においてレーザー光11およびレーザー光12の光量比を調整する手段として、ビームスプリッタ6を用いた例である。何種類かの分岐比のビームスプリッタを用意し、感光性媒質内における上記数(1)でのビジビリティの値が1に近づくような適当なものと交換するようにしておけば、所望の作製条件下での露光コントラストを向上させることができる。本実施の形態ではレーザー光11およびレーザー光12の光量比を調整する手段として、ビームスプリッタ6を用いたが、反射型のNDフィルタを用いても良い。また、図1での反射ミラー7の少なくとも一方のかわりとして適当な反射率を持つ反射型のNDフィルタ20(図2)を用いて光強度比を調整しても良い。その他については第1の実施の形態と同様である。
【0014】
図4は本発明の第3の実施の形態を示したもので、本発明におけるプリズムを用いた二光束干渉露光装置を示す。同図に示すように、この装置はレーザー1、レーザー光2をON/OFFするシャッタ3、レーザー光2の光路を変換するための全反射ミラー4、レーザー光2のビームパワーを可変に減光する可変アッテネータ5、レーザー光2の光ビーム径の拡大のためのビームエキスパンダを構成する対物レンズ8およびコリメータレンズ10、ビームのノイズ除去をするための空間フィルタ用のピンホール9を有し、拡大したレーザー光束を開口17により二つのレーザー光束11、12に分離し、プリズム18での屈折により偏向を行い二つの光束に角度を持たせ、基板14上に形成された感光性材料13に照射するようになっている。基板14の傾き角を回転ステージ15により変更したり、プリズム18を適当な頂角のプリズムと交換することにより、所望のピッチ及び傾きの周期的な微細パターンを製造することができる。この場合も第一の実施の形態と同様に可変アッテネータ30により、感光性媒質内において、上記数(1)におけるビジビリティVの値がV≧0.8となるようにレーザー光11とレーザー光12の光強度比を調整すれば、露光コントラストを向上させることができる。
【0015】
図4は本発明の第4の実施の形態を示したもので、本発明におけるホログラフィックメモリ記録再生装置を示す。同図に示すように、この装置では、レーザー光21を空間光変調器22により空間的に変調して信号光とし、この信号光をレンズ23で記録媒体であるフォトリフラクティブ材料25に集光、照射し、同時にレーザー光21に対してコヒーレントな参照光26を照射することによりこれらの2つの光を干渉させ記録を行う。フォトリフラクティブ材料25としてはニオブ酸リチウム結晶やチタン酸バリウム結晶などを用いる。また、このフォトリフラクティブ材料25に参照光26を照射し、レンズ28で二次元受光器29に再生光27を結像させることにより、記録された空間情報を再生することができる。この際、感光性媒質内において、上記数(1)におけるビジビリティVの値がV≧0.8となるように、レーザー光11とレーザー光12の光強度比を可変アッテネータ30を用いて調整し記録時の物体光と参照光による干渉縞のコントラストを向上させ記録を行う。また、このとき干渉縞の光強度を一定にするため、同時に光アッテネータ31で全体の光量を調整する。本実施の形態では、レーザー光束11、12の光強度比を可変アッテネータ30を用いて調整したが、アッテネータは固定型でも良く、また光アッテネータの代わりに液晶、検光子、音響光学変調器やNDフィルタを用いても良い。
【0016】
次に、図5にホログラフィックメモリ記録再生装置を情報処理装置の記憶装置へ応用した例を示す。図5において、まず中央処理装置33のデータバス35からのディジタルデータに従い、空間光変調器22およびその制御回路32によりレーザー光21を空間的に変調し物体光とする。次に、前記中央処理装置33からのアドレス信号34に応じて制御回路32を用いて回転ステージ24を回転させることによりフォトリフラクティブ材料25の方向を変える。そして、前記物体光と参照光26をフォトリフラクティブ材料25内で干渉させることにより、3次元的に光情報を多重記録する。この際、前記アドレス信号34に同期して可変アッテネータ30の透過率を感光性媒質内における上記数(1)でのビジビリティVの値がV≧0.8となるように、制御バス36からの制御信号を制御回路32に与えることにより電気的に調整すれば、記録時の物体光と参照光による干渉縞のコントラストを向上させ良好な記録を行うことができる。このとき干渉縞の光強度を一定にするため、同時に光アッテネータ31で全体の光量を電気的に調整する。そして、このフォトリフラクティブ材料25に参照光26を照射し、レンズ28で二次元受光器29に再生光27を結像させることにより記録された2次元のディジタル情報を再生し、電気信号に変換して制御回路32を介して中央処理装置33のデーターバス35へデータを転送する。各アドレスに対するデータは、2次元配列であるため、一度に大量のデータを記録再生することができ、大容量の記憶装置を実現することができる。
【0017】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、二光束干渉露光において、光強度比調整用のアッテネータ等の調整をするだけで、任意のピッチ及び傾きを有する周期的な微細パターンを製造する際の露光コントラストを容易に向上させることができる。
【0018】
また、感光性材料中に記録するホログラムメモリ記録再生装置において、参照光と物体光の光強度比を、光強度比調整用のアッテネータ等の調整をすることにより、空間的情報を高いコントラストで記録することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態にかかる微細パターン製造装置の構成を示す模式図
【図2】本発明の第2の実施の形態にかかる微細パターン製造装置の構成を示す模式図
【図3】本発明の第3の実施の形態にかかる微細パターン製造装置の構成を示す模式図
【図4】本発明の第4の実施の形態にかかるホログラフィックメモリ記録再生装置の情報処理装置への応用例を示す模式図
【図5】本発明の第4の実施の形態にかかるホログラフィックメモリ記録再生装置を用いた記憶装置の構成を示す模式図
【図6】従来技術にかかる反射ミラーを用いた二光束干渉露光装置の構成を示す模式図
【図7】従来技術にかかる干渉プリズムを用いた二光束干渉露光装置の構成を示す模式図
【図8】従来技術にかかるホログラフィックメモリ記録再生装置の構成を示す模式図
【符号の説明】
1 レーザー
2 レーザー光
3 電磁シャッタ
4 全反射ミラー
5 可変アッテネータ
6 ビームスプリッタ
7 反射ミラー
8 対物レンズ
9 ピンホール
10 コリメータレンズ
11 レーザー光
12 レーザー光
13 感光性材料
14 基板
15 回転ステージ
16 防震台
17 開口
18 プリズム
19 マスク
20 反射型NDフィルタ
21 レーザー光
22 空間光変調器
23 レンズ
24 回転ステージ
25 フォトリフラクティブ材料
26 参照光
27 再生光
28 レンズ
29 二次元受光器
30 可変アッテネータ
31 可変アッテネータ
32 制御回路
33 中央処理装置
34 アドレスバス
35 データーバス
36 制御バス
Claims (13)
- 光源からの光をビームスプリッタまたはプリズムにより2つの光束に分岐し、これら2つの光束を感光性材料内で干渉させることにより前記感光性材料に周期的な微細パターンを形成する製造装置であって、前記2つの光束のうち少なくとも一つの光束を前記感光性材料に照射する光路中に光束の光量調整手段を備え、
前記光量調整手段は、
前記2つの光束の単位面積当たりの光強度をそれぞれI 1 、I 2 、媒質表面での前記2つの光束に対する電界振幅透過係数をそれぞれt 1 、t 2 とした場合の媒質内部での前記2つの光束の干渉縞のビジビリティの値V
- 前記2つの光束の光は感光性材料の入射面に対しS偏光である請求項1記載の微細パターンの製造装置。
- 前記光量調整手段は液晶を利用した光強度変調器である請求項1記載の微細パターンの製造装置。
- 前記光量調整手段は音響光学変調器である請求項1記載の微細パターンの製造装置。
- 前記光量調整手段は透過率または反射率が固定型または可変型のNDフィルタである請求項1記載の微細パターンの製造装置。
- 分岐された前記2つの光束のうち、少なくとも一つの光束を前記基板上に照射する光路中に、少なくとも1つの凹レンズ、凸レンズまたはシリンドリカルレンズを有する請求項1記載の微細パターンの製造装置。
- 光源からの光を2つの光束に分岐し、これら2つの光束の一方を変調して物体光とし、他方を参照光とし、前記物体光と前記参照光を感光性材料内に照射して干渉させることにより感光性記録材料に情報を記録するホログラムメモリ記録再生装置であって、前記2つの光束のうち少なくとも一つの光束を前記感光性記録材料に照射する光路中に、前記感光性材料への記録コントラスト向上のための光量調整手段を備え、
前記光量調整手段は、
前記2つの光束の単位面積当たりの光強度をそれぞれI 1 、I 2 、媒質表面での前記2つの光束に対する電界振幅透過係数をそれぞれt 1 、t 2 とした場合の媒質内部での前記2つの光束の干渉縞のビジビリティの値V
- 前記光束の少なくとも一方の感光性材料に対する入射角が、情報を記録再生するアドレス信号に対応して電気的または機械的に変化する請求項7記載のホログラフィックメモリ記録再生装置。
- 前記光量調整手段が音響光学変調器または液晶を用いた光強度変調器である請求項7記載のホログラフィックメモリ記録再生装置。
- 前記物体光は空間光変調器により変調された複数のデータを有する請求項7記載のホログラフィックメモリ記録再生装置。
- 前記複数のデータは2次元のディジタルデータである請求項10記載のホログラフィックメモリ記録再生装置。
- 前記光量調整手段が記録再生時の前記アドレス信号に同期して透過率が変化する請求項8記載のホログラフィックメモリ記録再生装置。
- 前記アドレス信号に対応して複数のデータを一度に書き込み、また、前記アドレス信号に対応して複数のデータを一度に読み出す請求項8記載のホログラフィックメモリ記録再生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01836799A JP4232253B2 (ja) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | 微細パターンの製造装置及びホログラフィックメモリ記録再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01836799A JP4232253B2 (ja) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | 微細パターンの製造装置及びホログラフィックメモリ記録再生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000214753A JP2000214753A (ja) | 2000-08-04 |
JP4232253B2 true JP4232253B2 (ja) | 2009-03-04 |
Family
ID=11969744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01836799A Expired - Fee Related JP4232253B2 (ja) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | 微細パターンの製造装置及びホログラフィックメモリ記録再生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4232253B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005352097A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | ホログラム記録方法、ホログラム再生方法、ホログラム記録装置、ホログラム再生装置、及びホログラム記録媒体 |
CN101040225B (zh) * | 2005-03-02 | 2010-04-21 | 松下电器产业株式会社 | 相干光源及使用了该相干光源的记录再生装置 |
JP4269295B2 (ja) | 2007-02-20 | 2009-05-27 | セイコーエプソン株式会社 | 微細構造体の製造方法 |
KR101527396B1 (ko) * | 2014-06-10 | 2015-06-09 | 서울대학교산학협력단 | 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치 및 이를 이용한 점진적으로 크기가 변화하는 나노패턴의 제조방법 |
CN112925184B (zh) * | 2021-01-29 | 2022-07-12 | 昆明理工大学 | 基于双声光调制器的全息图像重建方法及重建系统 |
-
1999
- 1999-01-27 JP JP01836799A patent/JP4232253B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000214753A (ja) | 2000-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7633660B2 (en) | Hologram recording apparatus and method | |
KR100386158B1 (ko) | Cd플레이어 및 dvd플레이어와 호환이 가능한홀로그래픽 디지털 저장 시스템 | |
JP2006189597A (ja) | ホログラム記録再生装置およびホログラム記録再生方法 | |
KR20060059815A (ko) | 홀로그램 기록 장치, 홀로그램 재생장치, 홀로그램 기록방법 및 홀로그램 재생 방법 | |
EP1708182A2 (en) | Hologram recorder | |
US7952975B2 (en) | Optical reproduction device, optical recording/reproduction device, and optical reproduction method | |
JPWO2004013706A1 (ja) | ホログラム記録再生方法及びホログラム記録再生装置 | |
JPH05505032A (ja) | フラットパネルディスプレイの製造 | |
JP4232253B2 (ja) | 微細パターンの製造装置及びホログラフィックメモリ記録再生装置 | |
JP4214601B2 (ja) | ホログラム記録再生装置及びホログラム記録再生方法 | |
GB2326735A (en) | Volume holographic data storage system having cylindrical storage medium | |
US20070223070A1 (en) | Holographic Master Production and Replication | |
JP4184574B2 (ja) | 位相相関多重化(pcm)ホログラフィックメモリシステム | |
US7428206B2 (en) | Holographic information recording apparatus | |
US6181665B1 (en) | Volume holographic data storage system | |
JP4974960B2 (ja) | 角度多重ホログラム記録角度特定方法 | |
US7248556B2 (en) | Fast duplication of diffractive storage device for mass production | |
US7133171B2 (en) | Double facing double storage capacity | |
JP2005352097A (ja) | ホログラム記録方法、ホログラム再生方法、ホログラム記録装置、ホログラム再生装置、及びホログラム記録媒体 | |
JPH03100514A (ja) | ホログラムの作製方法 | |
JPH05505031A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
JPH07319372A (ja) | ホログラムの作製方法 | |
US7202984B2 (en) | Double faced double storage capacity medium | |
EP4314955A1 (en) | Volumetric holographic data storage devices and volumetric holograms | |
JP2002149044A (ja) | 透過型ホログラムの撮影方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051107 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20051213 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080603 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080801 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080924 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081014 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081118 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081201 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111219 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111219 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121219 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |