JP4231171B2 - 半導体の電気抵抗率測定方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、太陽電池用シリコンの素材に使用される半導体スクラップ材の選別に好適に用いられる半導体の電気抵抗率測定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
太陽電池の性能を高めるためには、デバイス用半導体材料に近い高純度で、且つ低価格のものが要求される。高純度のシリコン材料としては半導体デバイスの製造に使用されるシリコン単結晶があるが、非常に高価である。このため、半導体デバイスの製造工程で発生するシリコン単結晶のスクラップ材が、高性能太陽電池の素材として使用されている。
【0003】
シリコン単結晶のスクラップ材は、通常5〜20cm程度の形状及び重量が一定しない塊状体であり、抵抗率も一定しないのが通例である。即ち、デバイス用のシリコン単結晶は用途に応じて抵抗率が変わる。エピタキシャル基板用のものは0.01Ωcm以下である一方、通常のウエーハに使用されるものも1〜20Ωcmの広がりをもつ。シリコン単結晶の製造メーカの方でスクラップ材の抵抗率の管理を行うと、スクラップ材の価格が上昇する。低価格なスクラップ材を得ようとすると、自ずとその抵抗率は広範囲に分布することになる。
【0004】
しかしながら、太陽電池の抵抗率は通常1〜2Ωcmの範囲内に管理される。このため、太陽電池用シリコンの製造メーカでは、買い入れたスクラップ材の抵抗率を測定し、その抵抗率によってスクラップ材を選別し、溶解過程でドープ剤の添加量を調整して、抵抗率を許容範囲内に抑える操作が必要になる。
【0005】
半導体シリコンの抵抗率を測定する方法としては4探針法が一般的である。この方法では、4つの探針を材料の表面に接触させ、2つの探針間に電流を流したときに、その電流と他の2つの探針間に発生する起電力とから抵抗を求め、これに探針の間隔等で決まる形状因子を乗じることにより、抵抗率が算出される。この場合、探針は等間隔に配列するのが一般的である。この方法は平坦な面を必要とするため、半導体ウエーハの抵抗率測定に専ら使用されている。
【0006】
一方、非接触の測定方法としては、高周波磁気回路のエアギャップ間に半導体ウエーハの一部を挿入し、その一部に生じる渦電流による磁束密度の変化から、ウエーハの抵抗率を測定する方法が特開平1−92666号公報等により提示されている。また、ウエーハの表面に反転層を形成しておき、その表面に変調波を照射したときの光起電力を照射波の反射から検出する交流起電力法が米国特許第5,661,408号公報により提示されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平1−92666号公報に記載された非接触法は、ウエーハのように厚みが均一な平板でなければ測定が不可能であり、一方、米国特許第5,661,408号公報に記載された非接触法は、表面が平坦でなくては測定が困難であるため、いずれの方法もスクラップ材のような不定形の半導体の抵抗率測定には適用できない。このため、スクラップ材の測定には、接触法である4探針法が工夫して用いられているが、能率が悪く、不正確であった。
【0008】
即ち、スクラップ材の比較的平坦な面を見つけてその平坦部に探針を接触させることで、4探針法による抵抗率の測定を行っているが、接触法は非接触法と比べて本質的に非能率的であり、しかも平坦な面を見つけるのは目視で行っており、自動化は困難である。切削等により平坦面を形成した後に測定を行うことも可能であるが、いずれにしろ測定に多くの手間と時間を要し、非常に非能率である。加えて、平坦な面を形成せずに測定を行うと、材料表面の凹凸のため、実際の操業では探針の電気的接触が不安定となり、測定値のバラツキが大きく、再現性も低い。
【0009】
このように、シリコン単結晶のスクラップ材のような不定形の塊状材料の抵抗率測定については、出願人の知る限り、高能率で高精度な方法は存在しないのが現状である。
【0010】
本発明の目的は、シリコン単結晶のスクラップ材のような不定形の塊状材料についても、その電気抵抗率を能率よく、しかも高精度に測定できる半導体の電気抵抗率測定方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明者らは、スクラップ材の電気抵抗率を高能率に測定するためには非接触測定が不可欠であると考えた。しかし、非接触測定法は対象物の形状の影響を受けやすい。そこで、非接触測定法として磁気吸収法を選択し、形状の影響度等について種々の調査を行った。その結果、以下の事実が判明した。
【0012】
検出部として、高周波発信器からこれに対向する受信器へ高周波の磁力線を広範囲に発射する形式のものを使用する。そして、その広範囲に発射される高周波の磁力線中にスクラップ材の全体を位置させる。そうすると、受信器の出力電圧Vは、スクラップ材の形状には殆ど影響されず、その抵抗率ρと重量Wの比ρ/Wに対して高い相関関係を示す。具体的には、ρ/W=a・V-b(a,bは定数)が成立する(図3参照)。その結果、不定形のスクラップ材の電気抵抗率ρが、受信器の出力電圧Vと重量Wとから、非接触で能率よく、しかも高精度に測定されることになる。
【0013】
本発明の半導体の電気抵抗率測定方法は、かかる知見に基づいて開発されたものであり、半導体からなる塊状材料の単体又は集合体からなる測定対象物の全体に高周波発信器から高周波の磁力線を照射すると共に、その照射時に、測定対象物を挟んで高周波発信器の正面側に対向配置された受信器の出力電圧を測定し、測定された出力電圧と前記測定対象物の重量とから前記測定対象物の電気抵抗率を算出するものである。
【0014】
本発明の半導体の電気抵抗率測定方法では、測定対象物の重量をパラメータとした受信器の出力電圧と測定対象物の電気抵抗率との関係(ρ/W=a・V-b)を予め求めておくことが能率の点から好ましい。
【0015】
また、高周波発信器と受信機の間に複数の測定対象物を順番に通過させることが能率の点から好ましい。また、高周波発信器と受信機の間に複数の測定対象物を順番に通過させるための搬送ライン上で不定形物の重量を測定することが能率の点から好ましい。
【0016】
測定対象物が形状及び重量が一定しない不定形物である場合、高周波発信器は、最大の不定形物の全体に有効磁力線を照射可能であることが好ましい。これにより、不定形物の全てについて抵抗率の測定が可能になる。
【0017】
磁力線の周波数は50〜250kHzであることが好ましい。その理由は後で詳しく述べるが、簡単に説明すれば周波数が低いと出力信号が弱くなり、周波数が高いと浸透深さが小さくなり、磁力線が材料の表面にしか侵入しない。
【0018】
測定対象物は、シリコン単結晶の製造工程で生じる単結晶スクラップ材だけでなく、その単結晶の原料である多結晶シリコンのスクラップ材でもよく、塊状の半導体材料であればその種類は特に問わない。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図1は本発明の一実施形態を示す電気抵抗率測定方法の工程図、図2は同電気抵抗率測定方法に好適に使用される測定装置の構成図である。
【0020】
本実施形態は、シリコン単結晶のスクラップ材の電気抵抗率を測定し、その抵抗率によってスクラップ材を選別するものである。このスクラップ材は電気抵抗率だけでなく、形状及び重量が相違する不定形の塊状材料である。
【0021】
本実施形態では、図1に示すように、ホッパー内に収容されているスクラップ材が切り出され、順番にベルトコンベアで搬送される。この搬送過程で、スクラップ材の各重量Wが測定され、その重量測定後、引き続いて抵抗率測定装置の検出部に順番に通される。
【0022】
抵抗率測定装置の検出部は、図2に示すように、スクラップ材10,10・・を搬送するベルトコンベア1を挟んで設けられた発信コイル2及び受信コイル3,3を備えている。ベルトコンベア1の上方に設けられた発信コイル2は、発振器4と組み合わせられて高周波発信器を構成し、発振器4から所定周波数の高周波電流を供給されることにより、下方に高周波の磁力線を発射する。発射波の広がり角度は、下方を通過するスクラップ材10,10・・のなかで最大のものの全体に有効磁力線を照射できるように十分に広く設定されている。
【0023】
ベルトコンベア1の下方に設けられた受信コイル3,3は、差動増幅器5、ロックイン検波器6及び位相器7と組み合わせられて受信器を構成し、受信波の強さを電圧比として出力する。ロックイン検波器6は、発振器4からの参照信号を用いて同期検波を行い、参照信号と周波数が異なるノイズを全てカットすることにより精度向上を図る。位相器7は参照信号の位相を調節し、受信波中の磁気吸収ノイズをカットすることにより精度向上を図る。
【0024】
発信コイル2と受信コイル3,3の間をスクラップ材10,10・・が通過しないときは、差動結合された受信コイル3,3は電圧を生じない。この間をスクラップ材10が通過するとき、そのスクラップ材10の全体に高周波の磁力線が照射される。その結果、高周波エネルギーの一部がスクラップ材10に吸収され、そのエネルギー損失に応じた出力電圧Vが受信器で測定される。
【0025】
このときに発生するエネルギー損失は、スクラップ材10内に描き得る最大半径の真円経路を流れる渦電流であり、その損失量は最大半径の二乗に比例する。このため、出力電圧Vはスクラップ材10の抵抗率ρだけでなく、形状の影響を受けることになるが、種々の調査の結果、出力電圧Vは形状の影響を殆ど受けずにスクラップ材10の抵抗率ρと重量Wの関係で統一的に整理され、より具体的にはρ/Wに比例することが判明した(図3参照)。
【0026】
そこで、本実施形態では、図1に示すように、スクラップ材10について測定された重量W及び出力電圧Vをマイクロコンピュータに与え、これらのデータをコンピュータ内の検量線データ(予め求めたVとρ/Wの関係)と照合することにより、そのスクラップ材10の抵抗率ρを算出する。
【0027】
但し、通常の受信器では、出力電圧Vの変化幅に対して重量Wの変化幅が過大となり、感度固定の場合は、重量Wの変化幅に対応できない。このため、重量Wに応じて感度調整を行い、出力電圧Vの変化幅を許容範囲内に収める操作が必要となる。
【0028】
以上のようにして、スクラップ材10,10・・をベルトコンベア1で発信コイル2と受信コイル3,3の間に通すことにより、スクラップ材10,10・・の各抵抗率ρが非接触で能率よくしかも高精度に測定される。そして測定後、その測定値に基づいてスクラップ材10,10・・を選別し、抵抗率別に容器に収容する。
【0029】
ところで、スクラップ材における磁力線の浸透深さδはδ(cm)=5030(ρ/μr f)1/2 である。ここで、ρは抵抗率(Ωcm)、μr は比透磁率(非磁性体では1)、fは周波数(Hz)である。磁力線の浸透深さδが材料の半径より小さいと材料の中心部では高周波の吸収量が少なくなり、出力電圧Vはρ/Wに比例しなくなるおそれがある。スクラップ材は非磁性体であるので、μr =1、ρ>1Ωcmで周波数fを250kHz以下にすればδ>10cmを満足し、出力電圧Vはρ/Wに比例する。一方、周波数fが50kHzの場合、δ>22cmとなるが、発信コイルからの発射波が弱く、検出電圧が小さいので、抵抗率ρの測定誤差が増える。従って、発振周波数としては50〜250kHzが好ましい。
【0030】
材料が1cm以下の場合は、1個ずつの測定は困難なので、電気絶縁性容器に入れて測定するのがよい。容器内の全体を1つの材料として考えるわけである。この場合、容器の半径は浸透深さより小さいものがよい。
【0031】
【実施例】
次に本発明の電気抵抗率測定方法を実際に実施した結果について説明する。
【0032】
抵抗率ρが判明している多数個のシリコン単結晶のスクラップ材を重量測定し、重量別に4つのグループ(15〜100g,100〜500g,500〜1000g,1000〜2000g)に分けた。これらのスクラップ材を、発振周波数が125kHzに設定された図2の測定装置に通し、各スクラップ材に磁力線を照射して、それぞれの材料について出力電圧Vを測定した。スクラップ材の搬送速度は20m/分、発信コイル〜材料間距離は200mm、材料〜検出コイル間距離は100mmとした。スクラップ材の抵抗率ρ、重量W及び出力電圧Vの関係を図3に示す。
【0033】
100g以下のグループとそれ以上のグループとでは、受信器の感度を変更したので、データが2本の直線上に並んでいるが、感度を一定とすれば、全てのデータは1本の直線上に並び、Vとρ/Wの間には相関性の高い関係(ρ/W=a・V-b)の成立することが分かる。
【0034】
この関係を検量線として以下の測定を行った。
【0035】
〔測定例1〕
小形塊状のシリコンスクラップ材(100g以下)をホッパーより切り出して重量Wを測定した後、発振周波数が125kHzに設定された図2の測定装置に20m/分の速度で通し、出力電圧Vを測定した。感度を1とし、図3の検量線を使用して、各スクラップ材の抵抗率ρを得た。得られた抵抗率ρと4探針法で得た抵抗率ρ4 との関係を図4に示す。
【0036】
スクラップ材を太陽電池に使用するときに許容される測定誤差は±20%である。本発明法で得た抵抗率ρはこの条件を十分に満足しており、4探針法との相関係数はR=0.998と非常に高い。
【0037】
〔測定例2〕
400〜2000gのスクラップ材に対して同様の測定を行った。感度は4.8とした。結果を図5に示す。測定誤差は±20%を満足し、4探針法との相関係数はR=0.993と非常に高い。
【0038】
〔測定例3〕
2000g以下(100g以下を含む)のスクラップ材に対して同様の測定を行い、測定された抵抗率ρに応じてスクラップ材を5グループ(0.5Ωcm以下,0.5〜2.0Ωcm,2.0〜3.5Ωcm,3.5〜5.0Ωcm,5.0Ωcm以上)に選別した。選別後、各グールプ内のスクラップ材の抵抗率ρを4探針法で測定した。一部のグループで抵抗率の指定範囲を逸脱するものが混入していたが、その混入率は10%以下であり、抵抗率の指定範囲からのずれも10%以下であった。この程度の混入は実際の太陽電池の製造では何ら問題のないものである。
【0039】
〔測定例4〕
測定例2において発振周波数を60kHzに変更した。測定誤差は±20%を満足し、4探針法との相関係数はR=0.98と依然高い。発振周波数を40kHzに変更した。出力電圧Vが小さく、相関係数はR=0.85に下がった。発振周波数を230kHzに変更した。測定誤差は±20%を満足し、4探針法との相関係数はR=0.98と依然高い。発振周波数を280kHzに変更した。ρ/Wが異なっても出力電圧Vの差が小さく、相関係数はR=0.88に下がった。
【0040】
【発明の効果】
以上に説明した通り、本発明の半導体の電気抵抗率測定方法は、半導体からなる塊状材料の単体又は集合体からなる測定対象物の全体に高周波発信器から高周波の磁力線を照射すると共に、その照射時に、測定対象物を挟んで高周波発信器の正面側に対向配置された受信器の出力電圧を測定し、測定された出力電圧と前記測定対象物の重量とから前記測定対象物の電気抵抗率を算出することにより、シリコン単結晶のスクラップ材のような不定形の塊状材料についても、その電気抵抗率を非接触で能率よく、しかも、形状に影響されることなく高精度に測定できる。
【0041】
その結果、安価なスクラップ材を購入したときに問題となる選別の負担及び精度低下が大幅に軽減され、これにより高性能で安価な太陽電池の製造が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態を示す電気抵抗率測定方法の工程図である。
【図2】同電気抵抗率測定方法に好適に使用される測定装置の構成図である。
【図3】Vとρ/Wの相関関係を示すグラフである。
【図4】本発明法で測定した抵抗率ρと4探針法で測定した抵抗率ρ4 の関係を示すグラフである。
【図5】本発明法で測定した抵抗率ρと4探針法で測定した抵抗率ρ4 の関係を示すグラフである。
【符号の説明】
1 ベルトコンベア
2 発信コイル
3 検出コイル
10 スクラップ材
Claims (6)
- 半導体からなる塊状材料の単体又は集合体からなる測定対象物の全体に高周波発信器から高周波の磁力線を照射すると共に、その照射時に、測定対象物を挟んで高周波発信器の正面側に対向配置された受信器の出力電圧を測定し、測定された出力電圧と前記測定対象物の重量とから前記測定対象物の電気抵抗率を算出することを特徴とする半導体の電気抵抗率測定方法。
- 測定対象物の重量をパラメータとした受信器の出力電圧と測定対象物の電気抵抗率との関係を予め求めておくことを特徴とする請求項1に記載の半導体の電気抵抗率測定方法。
- 測定対象物は、形状及び重量が一定しない不定形物であり、高周波発信器は、最大の不定形物の全体に有効磁力線を照射可能であることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体の電気抵抗率測定方法。
- 高周波発信器と受信機の間に複数の測定対象物を順番に通過させることを特徴とする請求項1、2又は3に記載の半導体の電気抵抗率測定方法。
- 高周波発信器と受信機の間に複数の測定対象物を順番に通過させるための搬送ライン上で不定形物の重量を測定することを特徴とする請求項4に記載の半導体の電気抵抗率測定方法。
- 高周波の周波数は50〜250kHzであることを特徴とする請求項1、2、3、4又は5に記載の半導体の電気抵抗率測定方法。
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