JP4187082B2 - Metal base circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高発熱性電子部品或いは高発熱性電子部品と制御回路電子部品とを実装することができて電源用途等の大電力用途にも適用可能な混成集積回路に適した高い放熱性が実現される混成集積用回路基板に関する。
【0002】
【従来の技術】
高発熱性電子部品を実装する回路基板として、熱伝導性の良好な金属ベース回路基板が用いられている。金属ベース回路基板は、アルミニウム等の金属板を基材に用い、該金属板上に数十μm程度の厚さの無機フィラー含有樹脂からなる絶縁層を設け、更に前記絶縁層上に回路が形成されている構造を有する。金属ベース回路基板は高い熱放散性を有するので、発熱量が大きい電子部品が搭載される大電力用途に用いられる。
【0003】
近年、大電力用途における一層の大電力化、回路の高密度化、或いは適用分野の拡大を目的に、より一層熱放散性の高い金属ベース回路基板が要望されていて、例えば、300μmの厚い銅箔を回路導体として用いた金属ベース回路基板が開発されている。
【0004】
しかしながら、金属ベース回路基板は、一般に、金属板と金属箔が異なる金属により形成されているため、製造時に受ける熱履歴により応力が絶縁層近傍に発生し易い。そのため、例えば熱衝撃を繰り返すような使用条件においては、絶縁層にクラックが入り、最悪の場合には絶縁破壊を起こすことがあった。
【0005】
そのため、金属板を回路と同じ銅板にするという試みも行われたが、重量が重くなる、コストが高い等の問題点があり、現在、ほとんど使用されていない。
【0006】
また、回路導体をエッチング性の良好なアルミニウム合金を用いるという試みも行われたが、基板放熱性が十分でなく適用分野に制限がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、熱衝撃を繰り返すような、或いは激しい熱衝撃を受ける使用条件においても、絶縁層にクラックが発生せず、熱放散性に優れた大電流用途向けに好適な金属ベース回路基板を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、アルミニウム板上の一主面上に絶縁層を介してアルミニウムからなる回路を設けた金属ベース回路基板であって、アルミニウムからなる回路のアルミニウム純度が99.5質量%以上であり、アルミニウムからなる回路のエッチングファクターが1.5以上2.5以下であることを特徴とする金属ベース回路基板であり、好ましくは、アルミニウムからなる回路の厚みが300μm以上1000μm以下であり、更に好ましくは、アルミニウムからなる回路上に、ニッケル、銅、金からなる群から選ばれる1種以上の金属層を設けていることを特徴とする前記の金属ベース回路基板である。
【0009】
また、本発明は、アルミニウム板上の一主面上に絶縁層を介してアルミニウム箔を積層して積層物を得た後、前記積層物の前記アルミニウム箔をエッチングして回路形成する金属ベース回路基板の製造方法であって、前記アルミニウム箔の純度が99.5質量%以上であることを特徴とする金属ベース回路基板の製造方法である。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の金属ベース回路基板は、絶縁層を介してアルミニウム板上に設けられているアルミニウムからなる回路(以下、アルミニウム回路という)のアルミニウム純度が99.5質量%以上であり、しかも前記アルミニウム回路のエッチングファクターが1.5以上2.5以下であることを特徴としている。前記構成を採用するときに、従来公知の銅からなる大電流用途向けの金属ベース回路基板の欠点であった熱衝撃抵抗性を改善するとともに、回路の高密度化を同時に達成することができる。即ち、アルミニウム純度が99.5重量%未満では、熱衝撃抵抗性の改善が充分でないことがあるし、エッチングファクターが1.5未満では回路パターンの精度が悪く回路の高密度化が困難となり、また、2.5を超えるものは技術的に実現する事が難しい。
【0011】
本発明において、アルミニウム回路は、アルミニウム純度が99.5質量%以上であれば、その製法に限定されないが、安価で入手し易いという理由から、JISの1000番台のアルミニウムが好ましく選択される。
【0012】
本発明において、アルミニウム回路の厚みは、300〜1000μmであることが好ましい。即ち、300μm以上のときに、実用条件下で蒙る加熱冷却の繰り返しを受けても十分に耐え得る金属ベース回路基板が得られるが、1000μmを越える場合には、回路形成に困難が伴ってきて実用的でなくなる。前記範囲のうち、応力緩和を確実に達成し、しかも生産上の困難さがないことから300〜500μmがより好ましい範囲として選択される。
【0013】
本発明の金属ベース回路基板において、電子部品を搭載したり、回路結線してモジュールを形成する際に、電子部品の半田付け性、ボンディング用ワイヤの接続性等が良好となるように、アルミニウム回路上の一部に、銅、ニッケル、金−ニッケル等からなる金属層を設けていることが好ましい。前記金属層のアルミニウム回路上への設け方については、アルミニウムと金属層との複合箔を用いる方法、アルミニウム箔を絶縁層上に設けた後、金属層をメッキ等で設ける方法等の従来公知の方法を適用すれば良い。
【0014】
また、本発明の金属ベース回路基板は、前述の構成を満足しさえすれば、どのような作製方法で得たものであっても構わない。即ち、アルミニウム板上に絶縁層を塗布し、更に絶縁層上にアルミニウム箔を貼り付けた後、前記アルミニウム箔をエッチング等の処理を施し回路を形成する方法、或いは予めエッチング加工により回路を形成し、これを絶縁層を介してアルミニウム板に貼り付ける方法等のいずれの方法でも構わないが、後述する通りに、前者は、格別高価な設備を必要とせず、従来の製造条件を調整する程度の変更で本発明の金属ベース回路基板を安定して得ることが出来る特徴がある。
【0015】
本発明の金属ベース回路基板に用いられるアルミニウム板は、アルミニウム或いはその合金であれば良く、その厚さは0.5〜3mmであれば良い。また、絶縁層としては、絶縁性を有する材質で有ればいずれも採用でき、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂並びにポリイミド樹脂等のいろいろな樹脂やそれらをガラス布等に含浸させたもの、更に前記樹脂に無機フィラーを充填したもの、あるいは前記樹脂をフィルム状にしたもの等を用いることができる。このうち、アルミニウムと密着性に優れるエポキシ樹脂に、熱伝導率を高める目的で酸化アルミニウム、酸化珪素、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化硼素等を添加したものが好ましい。
【0016】
本発明の金属ベース回路基板の製造方法については、本発明者が、アルミニウムの材質、エッチング条件と得られる回路の形状に関していろいろ実験的検討を重ねた結果、アルミニウム箔のアルミニウム純度が特定値以上であるときに、回路形成に好適な値範囲のエッチングファクターの回路を形成できるという知見を得て本発明に至ったものである。
【0017】
即ち、一般的に、アルミニウムのエッチングには水酸化ナトリウム水溶液、塩化第2鉄及び塩化第2銅水溶液等がエッチング液として用いて行われているが、通常使用されるエッチング方法ではエッチングファクターは1.0前後となり、実用上支障が発生することが知られている。本発明者らは、この原因解明を目的にいろいろ検討した結果、純度が99.5質量%以上のアルミニウム箔を用いた場合に、水酸化ナトリウム系エッチング液をアルミニウムの選択エッチング液として使用し、エッチングを通常エッチング時間よりオーバーエッチングすることにより、エッチングファクターを回路形成に都合の良い1.5〜2.5の範囲に制御できるという知見を得たものである。
【0018】
本発明の金属ベース回路基板の製造法は、アルミニウム板上の一主面上に絶縁層を介してアルミニウム箔を積層して積層物を得た後、前記積層物の前記アルミニウム箔をエッチングして回路形成する金属ベース回路基板の製造方法であって、前記アルミニウム箔の純度が99.5質量%以上であることを特徴としている。前述の通りに、アルミニウム箔の純度が99.5質量%以上のものを用いることにより、格別高価な設備を必要とせず、従来の製造条件を調整する程度の変更で本発明の金属ベース回路基板を安定して得ることが出来る特徴がある。
【0019】
尚、本発明の製造方法において、アルミニウム箔の所望の位置に銅、ニッケル、金−ニッケル等からなる金属層を予め用いておくことで、前記金属層をアルミニウムを選択エッチングするときのマスクとして用いることで、従来樹脂系のマスクの場合に必要であった工程を、簡略化することができる。
【0020】
【実施例】
〔実施例〕
厚さ3.0mmのアルミニウム板上に、酸化アルミニウムを60体積%含有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化エポキシ社製エピコート828)を絶縁層の厚さが125μmになるように塗布し、予め厚さ10μmの銅メッキを施したJIS1050番アルミニウム(厚さ400μm)箔を、アルミニウム層側が絶縁層に接するように配置し、加熱下で加圧することにより金属ベース基板を作製した。
【0021】
次ぎに、スクリーン印刷法を用いてエッチングレジストで銅メッキ上の所望の位置をマスクし銅メッキ層をエッチングした後、20重量%水酸化ナトリウム液により、アルミニウム箔をエッチングして回路を形成した。このとき、ジャストエッチング条件に対して、2分過剰の条件とした。
【0022】
前記金属ベース回路基板の回路パターンのエッチングファクターを測定した結果2.5であり所望した値であった。以下に示すハンダ耐熱処理評価後においても絶縁破壊電圧の変化はなく、しかも、絶縁層クラックが無いことを確認した。
【0023】
<ハンダ耐熱処理評価法>
φ20mmのアルミパターンをエッチングにて形成した評価用基板を260℃のハンダバス上に10分フローティングさせた後、絶縁破壊電圧特性の変化及び絶縁層クラックの有無について評価した。
【0024】
〔比較例〕
実施例と同じ金属ベース基板について、スクリーン印刷法を用いてエッチングレジストで銅メッキ上の所望の位置をマスクし、塩化第2鉄溶液(液温度40℃/濃度40ボーメ)でジャストエッチング条件でエッチングを行い、アルミニウム回路を形成した。
【0025】
前記金属ベース回路基板のアルミニウム回路のエッチングファクターを測定した結果1.1であった。
【0026】
【発明の効果】
本発明の金属ベース回路基板は、熱衝撃を繰り返すような或いは強い熱衝撃を受ける使用条件においても、絶縁層にクラックが発生せず、基板放熱性に優れ、かつエッチングファクターが1.5以上2.5以下を有しているので回路の高密度化が達成されるので、産業上非常に有用である。
【0027】
また、本発明の金属ベース回路基板の製造方法は、前記金属ベース回路基板を格別高価な設備を必要とせず、従来の製造条件を調整する程度の変更で、安定して得ることが出来るので、産業上非常に有用である。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention has a high heat dissipation suitable for a hybrid integrated circuit that can mount a high heat generation electronic component or a high heat generation electronic component and a control circuit electronic component and can be applied to a high power application such as a power supply. The present invention relates to a circuit board for hybrid integration.
[0002]
[Prior art]
A metal base circuit board having a good thermal conductivity is used as a circuit board for mounting a highly heat-generating electronic component. The metal base circuit board uses a metal plate such as aluminum as a base material, and an insulating layer made of an inorganic filler-containing resin with a thickness of about several tens of μm is provided on the metal plate, and a circuit is formed on the insulating layer. Has a structure. Since the metal base circuit board has a high heat dissipation property, it is used for a high power application in which an electronic component having a large calorific value is mounted.
[0003]
In recent years, there has been a demand for a metal base circuit board with higher heat dissipation for the purpose of further increasing power in high-power applications, increasing circuit density, or expanding the field of application. Metal-based circuit boards using foil as a circuit conductor have been developed.
[0004]
However, since a metal base circuit board is generally formed of a metal different from a metal plate and a metal foil, stress is likely to occur in the vicinity of the insulating layer due to a thermal history received during manufacture. For this reason, for example, under use conditions in which thermal shock is repeated, the insulating layer may crack, and in the worst case, dielectric breakdown may occur.
[0005]
For this reason, attempts have been made to make the metal plate the same copper plate as the circuit, but there are problems such as an increase in weight and high cost, and it is hardly used at present.
[0006]
In addition, attempts have been made to use an aluminum alloy with good etching properties as a circuit conductor, but the substrate heat dissipation is not sufficient and there is a limit to the application field.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and the purpose thereof is to prevent heat from being dissipated without causing cracks in the insulating layer even under use conditions such as repeated thermal shocks or severe thermal shocks. It is an object of the present invention to provide a metal base circuit board suitable for high current applications with excellent performance.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The present invention is a metal base circuit board provided with a circuit made of aluminum on one main surface on an aluminum plate through an insulating layer, the aluminum purity of the circuit made of aluminum is 99.5% by mass or more, The metal base circuit board is characterized in that the etching factor of the circuit made of aluminum is 1.5 or more and 2.5 or less, preferably the thickness of the circuit made of aluminum is 300 μm or more and 1000 μm or less, more preferably 1. The metal base circuit board according to claim 1, wherein at least one metal layer selected from the group consisting of nickel, copper, and gold is provided on a circuit made of aluminum.
[0009]
Further, the present invention provides a metal base circuit in which an aluminum foil is laminated on one main surface of an aluminum plate via an insulating layer to obtain a laminate, and then the aluminum foil of the laminate is etched to form a circuit. It is a manufacturing method of a board | substrate, Comprising: The purity of the said aluminum foil is 99.5 mass% or more, It is a manufacturing method of the metal base circuit board characterized by the above-mentioned.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In the metal base circuit board of the present invention, the aluminum purity of a circuit made of aluminum (hereinafter referred to as an aluminum circuit) provided on an aluminum plate through an insulating layer is 99.5% by mass or more, and the aluminum circuit The etching factor is 1.5 or more and 2.5 or less. When the above-described configuration is adopted, it is possible to improve the thermal shock resistance, which has been a defect of the conventionally known metal base circuit board made of copper for high current applications, and at the same time achieve high circuit density. That is, if the aluminum purity is less than 99.5% by weight, the thermal shock resistance may not be improved sufficiently, and if the etching factor is less than 1.5, the circuit pattern accuracy is poor and it is difficult to increase the circuit density. Moreover, those exceeding 2.5 are difficult to technically realize.
[0011]
In the present invention, the aluminum circuit is not limited to its production method as long as the aluminum purity is 99.5% by mass or more, but JIS 1000 series aluminum is preferably selected because it is inexpensive and easily available.
[0012]
In this invention, it is preferable that the thickness of an aluminum circuit is 300-1000 micrometers. In other words, when the thickness is 300 μm or more, a metal base circuit board that can withstand repeated heating and cooling under practical conditions can be obtained. However, when the thickness exceeds 1000 μm, circuit formation becomes difficult and practical. It ’s not right. Of these ranges, 300 to 500 μm is selected as a more preferable range because stress relaxation can be reliably achieved and production is not difficult.
[0013]
In the metal base circuit board of the present invention, when mounting electronic parts or forming a module by connecting circuits, an aluminum circuit is provided so that the solderability of the electronic parts, the connection of bonding wires, and the like are improved. It is preferable that a metal layer made of copper, nickel, gold-nickel or the like is provided on a part of the top. As for the method of providing the metal layer on the aluminum circuit, a conventionally known method such as a method using a composite foil of aluminum and a metal layer, a method of providing a metal layer by plating after an aluminum foil is provided on an insulating layer, etc. Apply the method.
[0014]
Moreover, the metal base circuit board of the present invention may be obtained by any manufacturing method as long as the above-described configuration is satisfied. That is, after applying an insulating layer on an aluminum plate and further affixing an aluminum foil on the insulating layer, the aluminum foil is processed by etching or the like to form a circuit, or a circuit is formed in advance by etching. Any method such as attaching this to an aluminum plate via an insulating layer may be used, but as will be described later, the former does not require specially expensive equipment and adjusts the conventional manufacturing conditions. By the modification, the metal base circuit board of the present invention can be obtained stably.
[0015]
The aluminum plate used for the metal base circuit board of the present invention may be aluminum or an alloy thereof, and the thickness may be 0.5 to 3 mm. As the insulating layer, any insulating material can be used. For example, various resins such as epoxy resin, phenol resin, unsaturated polyester resin, and polyimide resin, and glass cloth or the like are impregnated. In addition, a resin in which the resin is filled with an inorganic filler, a resin in the form of a film, or the like can be used. Of these, an epoxy resin excellent in adhesiveness with aluminum is preferably added with aluminum oxide, silicon oxide, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride or the like for the purpose of increasing thermal conductivity.
[0016]
About the manufacturing method of the metal base circuit board of this invention, as a result of the present inventor repeating various experimental examination regarding the material of aluminum, etching conditions, and the shape of the circuit obtained, the aluminum purity of aluminum foil is more than a specific value. At some point, the inventors have obtained knowledge that an etching factor circuit having a value range suitable for circuit formation can be formed, and the present invention has been achieved.
[0017]
That is, generally, etching of aluminum is carried out using an aqueous solution of sodium hydroxide, ferric chloride, and cupric chloride as an etching solution. However, an etching factor of 1 is usually used in an etching method that is usually used. It is known that a practical problem will occur. As a result of various investigations aimed at elucidating the cause of the present inventors, when an aluminum foil having a purity of 99.5% by mass or more is used, a sodium hydroxide-based etching solution is used as an aluminum selective etching solution, It has been found that the etching factor can be controlled within the range of 1.5 to 2.5 which is convenient for circuit formation by overetching the etching from the normal etching time.
[0018]
The manufacturing method of the metal base circuit board of the present invention is obtained by laminating an aluminum foil on one main surface on an aluminum plate via an insulating layer to obtain a laminate, and then etching the aluminum foil of the laminate. A method of manufacturing a metal base circuit board for forming a circuit, wherein the purity of the aluminum foil is 99.5% by mass or more. As described above, by using an aluminum foil having a purity of 99.5% by mass or more, a metal base circuit board according to the present invention can be obtained by changing the conventional manufacturing conditions without requiring specially expensive equipment. There is a feature that can be obtained stably.
[0019]
In the manufacturing method of the present invention, a metal layer made of copper, nickel, gold-nickel, or the like is used in advance at a desired position of the aluminum foil, so that the metal layer is used as a mask when selectively etching aluminum. As a result, it is possible to simplify the steps necessary for a conventional resin mask.
[0020]
【Example】
〔Example〕
A bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 828 manufactured by Yuka Epoxy Co., Ltd.) containing 60% by volume of aluminum oxide is applied on an aluminum plate having a thickness of 3.0 mm so that the insulating layer has a thickness of 125 μm. A JIS 1050 aluminum (400 μm thick) foil plated with 10 μm thick copper was placed so that the aluminum layer side was in contact with the insulating layer, and pressed under heating to produce a metal base substrate.
[0021]
Next, a desired position on the copper plating was masked with an etching resist using a screen printing method to etch the copper plating layer, and then the aluminum foil was etched with a 20 wt% sodium hydroxide solution to form a circuit. At this time, the condition was excessive for 2 minutes with respect to the just etching conditions.
[0022]
As a result of measuring the etching factor of the circuit pattern of the metal base circuit board, it was 2.5, which was a desired value. It was confirmed that the dielectric breakdown voltage did not change even after the solder heat treatment evaluation shown below, and there were no insulating layer cracks.
[0023]
<Solder heat treatment evaluation method>
An evaluation substrate on which an aluminum pattern of φ20 mm was formed by etching was floated on a solder bath at 260 ° C. for 10 minutes, and then the change in dielectric breakdown voltage characteristics and the presence or absence of an insulating layer crack were evaluated.
[0024]
[Comparative Example]
For the same metal base substrate as in the example, the desired position on the copper plating is masked with an etching resist using a screen printing method, and etching is performed with a ferric chloride solution (liquid temperature 40 ° C./concentration 40 baume) under just etching conditions. The aluminum circuit was formed.
[0025]
The etching factor of the aluminum circuit of the metal base circuit board was measured and found to be 1.1.
[0026]
【The invention's effect】
The metal base circuit board according to the present invention is free from cracks in the insulating layer, excellent in heat dissipation of the substrate, and has an etching factor of 1.5 or more even under conditions of repeated thermal shock or strong thermal shock. .5 or less, the high density of the circuit is achieved, which is very useful in the industry.
[0027]
In addition, the metal base circuit board manufacturing method of the present invention does not require a particularly expensive facility for the metal base circuit board, and can be stably obtained by changing the conventional manufacturing conditions. It is very useful in industry.

Claims (4)

アルミニウム板上の一主面上に絶縁層を介してアルミニウムからなる回路を設けた金属ベース回路基板であって、アルミニウムからなる回路のアルミニウム純度が99.5質量%以上であり、アルミニウムからなる回路のエッチングファクターが1.5以上2.5以下であることを特徴とする金属ベース回路基板。A metal base circuit board in which a circuit made of aluminum is provided on one main surface on an aluminum plate via an insulating layer, and the aluminum purity of the circuit made of aluminum is 99.5% by mass or more, and the circuit made of aluminum A metal base circuit board having an etching factor of 1.5 to 2.5. アルミニウムからなる回路の厚みが300μm以上1000μm以下であることを特徴とする請求項1記載の金属ベース回路基板。2. The metal base circuit board according to claim 1, wherein the thickness of the circuit made of aluminum is 300 μm or more and 1000 μm or less. アルミニウムからなる回路上に、ニッケル、銅、金からなる群から選ばれる1種以上の金属層を設けていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の金属ベース回路基板。3. The metal base circuit board according to claim 1, wherein at least one metal layer selected from the group consisting of nickel, copper and gold is provided on a circuit made of aluminum. アルミニウム板上の一主面上に絶縁層を介してアルミニウム箔を積層して積層物を得た後、前記積層物の前記アルミニウム箔を水酸化ナトリウム液によりエッチングして回路形成する、エッチングファクターが1.5以上2.5以下である金属ベース回路基板の製造方法であって、前記アルミニウム箔の純度が99.5質量%以上であることを特徴とする金属ベース回路基板の製造方法。After obtaining the laminate by laminating the aluminum foil via an insulating layer on one main surface of the aluminum plate, forming a circuit by etching by the aluminum foil of sodium hydroxide solution of the laminate, the etching factor A method for producing a metal base circuit board, which is 1.5 or more and 2.5 or less , wherein the purity of the aluminum foil is 99.5% by mass or more.
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