JP4177730B2 - レーザ加工方法及び装置 - Google Patents
レーザ加工方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4177730B2 JP4177730B2 JP2003274568A JP2003274568A JP4177730B2 JP 4177730 B2 JP4177730 B2 JP 4177730B2 JP 2003274568 A JP2003274568 A JP 2003274568A JP 2003274568 A JP2003274568 A JP 2003274568A JP 4177730 B2 JP4177730 B2 JP 4177730B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- mode
- mask
- laser
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
ードとしているので、図6に示したような底のある穴を、迅速且つ良好な品質で開けるこ
とができる。なお、ビームモードを変化させる方法は実施形態に限定されず、例えば集光
レンズ14とマスク16の距離Lを連続的に変化させることで、シングルモードからマル
チモードに連続的に変化させたりすることもできる。又、ビームモードを変化させる方法も、シングルモードからマルチモードに限定されず、逆にマルチモードからシングルモードに変更したり、あるいは、シングルモードの間にマルチモードを挟んだりすることも可能である。
8A ワーク照射面
10 レーザ発振器
12 レーザビーム
14 集光レンズ
16 マスク
24 アパーチャ
26 fθレンズ
30 加工ビーム
L 集光レンズとマスクの距離
Claims (1)
- 加工対象にfθレンズで集光されるレーザビームを照射して加工するレーザ加工装置において、
前記fθレンズの前段に開口を有するマスクが配置され、
更に、該マスクの前段に、該fθレンズに入射するレーザビームを一旦集光させる集光レンズが配置され、
加工途中で、該集光レンズをレーザビームの光軸方向に移動させて、該集光レンズと該マスクとの距離を変えることにより、ビームモードを変化させることを特徴とするレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003274568A JP4177730B2 (ja) | 2003-07-15 | 2003-07-15 | レーザ加工方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003274568A JP4177730B2 (ja) | 2003-07-15 | 2003-07-15 | レーザ加工方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005034878A JP2005034878A (ja) | 2005-02-10 |
JP4177730B2 true JP4177730B2 (ja) | 2008-11-05 |
Family
ID=34211488
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003274568A Expired - Fee Related JP4177730B2 (ja) | 2003-07-15 | 2003-07-15 | レーザ加工方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4177730B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI382795B (zh) * | 2005-03-04 | 2013-01-11 | Hitachi Via Mechanics Ltd | A method of opening a printed circuit board and an opening device for a printed circuit board |
TWI431380B (zh) * | 2006-05-12 | 2014-03-21 | Photon Dynamics Inc | 沉積修復設備及方法 |
JP5191212B2 (ja) * | 2007-11-01 | 2013-05-08 | 住友重機械工業株式会社 | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
-
2003
- 2003-07-15 JP JP2003274568A patent/JP4177730B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005034878A (ja) | 2005-02-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5670069A (en) | Laser processing method | |
US11420288B2 (en) | Laser machining systems and methods | |
EP1080821A4 (en) | METHOD AND DEVICE FOR LASER MARKING AND AN OBJECT MARKED BY THIS METHOD OR THIS DEVICE | |
JPH09293946A (ja) | レーザ加工装置 | |
JP3292058B2 (ja) | レーザ光による配線基板の加工方法及びその装置 | |
JP4664269B2 (ja) | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | |
KR100723935B1 (ko) | 레이저 패턴 가공 장치 | |
JPWO2011148492A1 (ja) | レーザ加工方法およびレーザ加工機 | |
JP4711774B2 (ja) | 平板状ワークの加工方法 | |
JP4177730B2 (ja) | レーザ加工方法及び装置 | |
JP2002120080A (ja) | レーザ加工装置 | |
JP2007029990A (ja) | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 | |
JP2007054853A (ja) | レーザ加工装置及び加工方法 | |
JP2012066265A (ja) | レーザ加工方法 | |
JP3667709B2 (ja) | レーザ加工方法 | |
JP2000227576A (ja) | レーザ加工装置用出射光学系 | |
JP6422182B2 (ja) | レーザー加工装置 | |
JP2006315035A (ja) | レーザーマーキング方法及びその装置 | |
JP2005103630A (ja) | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | |
JP7387791B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
JP2000288766A (ja) | レーザ加工装置 | |
JP2000176661A (ja) | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 | |
JP3795816B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
JP3673255B2 (ja) | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 | |
JP3019059B2 (ja) | ブラインドビアホール加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061005 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061205 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071023 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080819 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080822 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110829 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4177730 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110829 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120829 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120829 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130829 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |