JP4177262B2 - 垂直キャビティ表面放射レーザに関する非対称分散ブラッグ反射器 - Google Patents
垂直キャビティ表面放射レーザに関する非対称分散ブラッグ反射器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4177262B2 JP4177262B2 JP2003558979A JP2003558979A JP4177262B2 JP 4177262 B2 JP4177262 B2 JP 4177262B2 JP 2003558979 A JP2003558979 A JP 2003558979A JP 2003558979 A JP2003558979 A JP 2003558979A JP 4177262 B2 JP4177262 B2 JP 4177262B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transition region
- asymmetric
- asymmetric transition
- region
- semiconductor layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/12—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
- H01S5/125—Distributed Bragg reflector [DBR] lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18308—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement
- H01S5/18311—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement using selective oxidation
- H01S5/18313—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement using selective oxidation by oxidizing at least one of the DBR layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18358—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] containing spacer layers to adjust the phase of the light wave in the cavity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/305—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region characterised by the doping materials used in the laser structure
- H01S5/3054—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region characterised by the doping materials used in the laser structure p-doping
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
なし
本発明はレーザミラー構造に関する。特に、垂直キャビティ表面放射レーザで使用するのに適したミラー構造に関する。
Claims (17)
- レーザ用の分散ブラッグ反射器であって、
第1の2元系組成を含み、第1の屈折率を有するドープされた第1の半導体層と、
第2の2元系組成を含み、前記第1の屈折率とは異なる第2の屈折率を有するドープされた第2の半導体層と、
前記第1の半導体層と前記第2の半導体層との間に挿入された第1の非対称遷移領域であって、複数の遷移ステップを有し、かつ各遷移ステップが不均等な材料組成、ドーピングレベル及び厚みを有する第1の非対称遷移領域と、
前記第1の非対称遷移領域との間に前記第2の半導体層を介装させるように配置された第2の非対称遷移領域であって、複数の遷移ステップを有し、かつ各遷移ステップが不均等な材料組成、ドーピングレベル及び厚みを有する第2の非対称遷移領域とを備え、
更に、前記第1及び第2の非対称遷移領域は互いに非対称であり、そのため、前記両非対称遷移領域のうち一方の非対称遷移領域は相対的に多くドープされ、かつ他方の非対称遷移領域は相対的に少なくドープされ、前記両非対称遷移領域のうち一方の非対称遷移領域の厚さは他方の非対称遷移領域の厚さよりも大きく、分散ブラッグ反射器による光定在波は厚さの大きい方の非対称遷移領域付近において相対的に高い電界強度を有しており、
前記レーザは1300nm、1310nm、又は1550nmの光を出力し、
前記第1の半導体層はAlAsを含み、
前記第2の半導体層はGaAsを含み、
前記第1及び第2の非対称遷移領域はAl,Ga及びAsを含み、
前記第1及び第2の非対称遷移領域が0〜100%の範囲のAl組成を有する材料系からなる場合、A1組成が99%であるとき第1の非対称遷移領域のドーピング濃度が6.17×10 18 cm −3 、第2の非対称遷移領域のドーピング濃度が1.93×10 18 cm −3 であり、A1組成が5〜94%であるとき第1の非対称遷移領域のドーピング濃度が2.61×10 18 cm −3 〜6.42×10 18 cm −3 であり、第2の非対称遷移領域のドーピング濃度が3.42×10 17 cm −3 〜2.28×10 18 cm −3 であり、A1組成が1%であるとき第1の非対称遷移領域のドーピング濃度が2.86×10 18 cm −3 、第2の非対称遷移領域のドーピング濃度が6.65×10 17 cm −3 であり、
前記第1の非対称遷移領域の厚さは20nmであり、前記第2の非対称遷移領域の厚さは40nmであることを特徴とする分散ブラッグ反射器。 - 前記第1の2元系組成を含むドープされた第3の半導体層を更に有し、そのドープされた第3の半導体層は、前記第2の半導体層との間に前記第2の非対称遷移領域を介装させるように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の分散ブラッグ反射器。
- ドープされた基板と、
前記基板に隣接した活性領域であって、印加された電流に応じて所定の波長で光を放射する活性領域と、
前記活性領域と前記基板との間に設けられ、前記活性領域によって放射された光を前記活性領域の後ろに向かって反射するドープされた第1の分散ブラッグ反射器ミラーと、
前記活性領域に隣接して設けられ、前記活性領域により放射された光を前記活性領域の後ろに向かって反射するドープされた第2の分散ブラッグ反射器ミラーとを備え、
前記両分散ブラッグ反射器ミラーのうちの少なくとも一方は、
第1の2元系組成を含み、第1の屈折率を有するドープされた第1のミラー半導体層と、
第2の2元系組成を含み、前記第1の屈折率とは異なる第2の屈折率を有するドープされた第2のミラー半導体層と、
前記第1のミラー半導体層と前記第2のミラー半導体層との間に設けられた第1の非対称遷移領域であって、複数の遷移ステップを有し、かつ各遷移ステップは不均等な材料組成、ドーピングレベル及び厚みを有する第1の非対称遷移領域と、
前記第1の非対称遷移領域との間に前記第2のミラー半導体層を介装させるように配置された第2の非対称遷移領域であって、複数の遷移ステップを有し、かつ各遷移ステップは不均等な材料組成、ドーピングレベル及び厚みを有する第2の非対称遷移領域とを備え、
更に、前記第1及び第2の非対称遷移領域は互いに非対称であり、そのため、前記両非対称遷移領域のうち一方の非対称遷移領域は相対的に多くドープされ、かつ他方の非対称遷移領域は相対的に少なくドープされ、前記両非対称遷移領域のうち一方の非対称遷移領域の厚さは他方の非対称遷移領域の厚さよりも大きく、レーザによる光定在波は厚さの大きい方の非対称遷移領域付近において相対的に高い電界強度を有しており、
前記レーザは1300nm、1310nm、又は1550nmの光を出力し、
前記第1の半導体層はAlAsを含み、
前記第2の半導体層はGaAsを含み、
前記第1及び第2の非対称遷移領域はAl,Ga及びAsを含み、
前記第1及び第2の非対称遷移領域が0〜100%の範囲のAl組成を有する材料系からなる場合、A1組成が99%であるとき第1の非対称遷移領域のドーピング濃度が6.17×10 18 cm −3 、第2の非対称遷移領域のドーピング濃度が1.93×10 18 cm −3 であり、A1組成が5〜94%であるとき第1の非対称遷移領域のドーピング濃度が2.61×10 18 cm −3 〜6.42×10 18 cm −3 であり、第2の非対称遷移領域のドーピング濃度が3.42×10 17 cm −3 〜2.28×10 18 cm −3 であり、A1組成が1%であるとき第1の非対称遷移領域のドーピング濃度が2.86×10 18 cm −3 、第2の非対称遷移領域のドーピング濃度が6.65×10 17 cm −3 であり、
前記第1の非対称遷移領域の厚さは20nmであり、前記第2の非対称遷移領域の厚さは40nmであることを特徴とするレーザ。 - 前記レーザ高出力が、前記基板に対して垂直に放射したことを特徴とする請求項3に記載のレーザ。
- 前記第1の2元系組成を含み、前記第1の屈折率を有するドープされた第3のミラー半導体層を更に有し、
そのドープされた第3のミラー半導体層は、前記第2のミラー半導体層との間に前記第2の非対称遷移領域を介装させるように配置されていることを特徴とする請求項4に記載のレーザ。 - 前記所定の波長で前記活性領域によって放射された光が、前記第1の非対称遷移領域で最小の電界を生成することを特徴とする請求項5に記載のレーザ。
- 前記第1の遷移ステップが、前記第2の遷移ステップよりも多くドープされていることを特徴とする請求項6に記載のレーザ。
- 前記第2の非対称遷移領域が、前記第1の非対称遷移領域とは異なることを特徴とする請求項6に記載のレーザ。
- 前記活性層が、少なくとも一つの量子井戸を含むことを特徴とする請求項3に記載のレーザ。
- 前記第2の分散ブラッグ反射器ミラーがp型ドープされていることを特徴とする請求項3に記載のレーザ。
- 前記第2の分散ブラッグ反射器ミラーが、レーザ内の電流を制限するための絶縁領域を含むことを特徴とする請求項3に記載のレーザ。
- 請求項1記載の分散ブラッグ反射器を含むレーザ。
- 前記レーザは、垂直キャビティ表面レーザであることを特徴とする請求項1に記載のレーザ。
- 前記光定在波は、厚さの小さい方の遷移領域付近において、相対的に低い電界強度を有していることを特徴とする請求項1に記載のレーザ。
- 前記レーザは、垂直キャビティ表面レーザであることを特徴とする請求項3に記載のレーザ。
- レーザ用の分散ブラッグ反射器であって、
第1の2元系組成を含み、第1の屈折率を有するドープされた第1の半導体層と、
第2の2元系組成を含み、前記第1の屈折率とは異なる第2の屈折率を有するドープされた第2の半導体層と、
前記第1の半導体層と前記第2の半導体層との間に挿入された第1の非対称遷移領域であって、複数の遷移ステップを有し、かつ各遷移ステップが不均等な材料組成、ドーピングレベル及び厚みを有する第1の非対称遷移領域と、
前記第1の非対称遷移領域との間に前記第2の半導体層を介装させるように配置された第2の非対称遷移領域であって、複数の遷移ステップを有し、かつ各遷移ステップが不均等な材料組成、ドーピングレベル及び厚みを有する第2の非対称遷移領域とを備え、
更に、前記第1及び第2の非対称遷移領域は互いに非対称であり、そのため、前記両非対称遷移領域のうち一方の非対称遷移領域は相対的に多くドープされ、かつ他方の非対称遷移領域は相対的に少なくドープされ、前記両非対称遷移領域のうち一方の非対称遷移領域の厚さは他方の非対称遷移領域の厚さよりも大きく、分散ブラッグ反射器による光定在波は厚さの大きい方の非対称遷移領域付近において相対的に高い電界強度を有しており、
前記レーザは1300nm、1310nm、又は1550nmの光を出力し、
前記第1の半導体層はAlAsを含み、
前記第2の半導体層はGaAsを含み、
前記第1及び第2の非対称遷移領域はAl,Ga及びAsを含み、
前記第1及び第2の非対称遷移領域が0〜85%のAl組成範囲を有する材料系からなる場合、A1組成が84%であるとき第1の非対称遷移領域のドーピング濃度が4.77×10 18 cm −3 、第2の非対称遷移領域のドーピング濃度が2.03×10 18 cm −3 であり、A1組成が4〜80%であるとき第1の非対称遷移領域のドーピング濃度が2.01×10 18 cm −3 〜4.96×10 18 cm −3 であり、第2の非対称遷移領域のドーピング濃度が3.60×10 17 cm −3 〜2.40×10 18 cm −3 であり、A1組成が1%であるとき第1の非対称遷移領域のドーピング濃度が2.21×10 18 cm −3 、第2の非対称遷移領域のドーピング濃度が7.00×10 17 cm −3 であり、
前記第1の非対称遷移領域の厚さは20nmであり、前記第2の非対称遷移領域の厚さは40nmであることを特徴とする分散ブラッグ反射器。 - ドープされた基板と、
前記基板に隣接した活性領域であって、印加された電流に応じて所定の波長で光を放射する活性領域と、
前記活性領域と前記基板との間に設けられ、前記活性領域によって放射された光を前記活性領域の後ろに向かって反射するドープされた第1の分散ブラッグ反射器ミラーと、
前記活性領域に隣接して設けられ、前記活性領域により放射された光を前記活性領域の後ろに向かって反射するドープされた第2の分散ブラッグ反射器ミラーとを備え、
前記両分散ブラッグ反射器ミラーのうちの少なくとも一方は、
第1の2元系組成を含み、第1の屈折率を有するドープされた第1のミラー半導体層と、
第2の2元系組成を含み、前記第1の屈折率とは異なる第2の屈折率を有するドープされた第2のミラー半導体層と、
前記第1のミラー半導体層と前記第2のミラー半導体層との間に設けられた第1の非対称遷移領域であって、複数の遷移ステップを有し、かつ各遷移ステップは不均等な材料組成、ドーピングレベル及び厚みを有する第1の非対称遷移領域と、
前記第1の非対称遷移領域との間に前記第2のミラー半導体層を介装させるように配置された第2の非対称遷移領域であって、複数の遷移ステップを有し、かつ各遷移ステップは不均等な材料組成、ドーピングレベル及び厚みを有する第2の非対称遷移領域とを備え、
更に、前記第1及び第2の非対称遷移領域は互いに非対称であり、そのため、前記両非 対称遷移領域のうち一方の非対称遷移領域は相対的に多くドープされ、かつ他方の非対称遷移領域は相対的に少なくドープされ、前記両非対称遷移領域のうち一方の非対称遷移領域の厚さは他方の非対称遷移領域の厚さよりも大きく、レーザによる光定在波は厚さの大きい方の非対称遷移領域付近において相対的に高い電界強度を有しており、
前記レーザは1300nm、1310nm、又は1550nmの光を出力し、
前記第1の半導体層はAlAsを含み、
前記第2の半導体層はGaAsを含み、
前記第1及び第2の非対称遷移領域はAl,Ga及びAsを含み、
前記第1及び第2の非対称遷移領域が0〜85%のAl組成範囲を有する材料系からなる場合、A1組成が84%であるとき第1の非対称遷移領域のドーピング濃度が4.77×10 18 cm −3 、第2の非対称遷移領域のドーピング濃度が2.03×10 18 cm −3 であり、A1組成が4〜80%であるとき第1の非対称遷移領域のドーピング濃度が2.01×10 18 cm −3 〜4.96×10 18 cm −3 であり、第2の非対称遷移領域のドーピング濃度が3.60×10 17 cm −3 〜2.40×10 18 cm −3 であり、A1組成が1%であるとき第1の非対称遷移領域のドーピング濃度が2.21×10 18 cm −3 、第2の非対称遷移領域のドーピング濃度が7.00×10 17 cm −3 であり、
前記第1の非対称遷移領域の厚さは20nmであり、前記第2の非対称遷移領域の厚さは40nmであることを特徴とするレーザ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/028,435 US6850548B2 (en) | 2001-12-28 | 2001-12-28 | Assymmetric distributed Bragg reflector for vertical cavity surface emitting lasers |
PCT/US2002/039825 WO2003058774A2 (en) | 2001-12-28 | 2002-12-13 | Asymmetric distributed bragg reflector for vertical cavity surface emitting lasers |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005514796A JP2005514796A (ja) | 2005-05-19 |
JP2005514796A5 JP2005514796A5 (ja) | 2005-12-22 |
JP4177262B2 true JP4177262B2 (ja) | 2008-11-05 |
Family
ID=21843427
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003558979A Expired - Fee Related JP4177262B2 (ja) | 2001-12-28 | 2002-12-13 | 垂直キャビティ表面放射レーザに関する非対称分散ブラッグ反射器 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6850548B2 (ja) |
EP (1) | EP1459417B1 (ja) |
JP (1) | JP4177262B2 (ja) |
KR (1) | KR100558320B1 (ja) |
CN (1) | CN1613170A (ja) |
AT (1) | ATE488039T1 (ja) |
DE (1) | DE60238275D1 (ja) |
TW (1) | TWI237935B (ja) |
WO (1) | WO2003058774A2 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6975663B2 (en) * | 2001-02-26 | 2005-12-13 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emission laser diode operable in the wavelength band of 1.1-7μm and optical telecommunication system using such a laser diode |
US7245647B2 (en) * | 1999-10-28 | 2007-07-17 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emission laser diode operable in the wavelength band of 1.1-1.7mum and optical telecommunication system using such a laser diode |
US7590159B2 (en) * | 2001-02-26 | 2009-09-15 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emission laser diode operable in the wavelength band of 1.1-1.7 micrometers and optical telecommunication system using such a laser diode |
WO2002084829A1 (en) * | 2001-04-11 | 2002-10-24 | Cielo Communications, Inc. | Long wavelength vertical cavity surface emitting laser |
US7920612B2 (en) * | 2004-08-31 | 2011-04-05 | Finisar Corporation | Light emitting semiconductor device having an electrical confinement barrier near the active region |
US7829912B2 (en) | 2006-07-31 | 2010-11-09 | Finisar Corporation | Efficient carrier injection in a semiconductor device |
US7596165B2 (en) * | 2004-08-31 | 2009-09-29 | Finisar Corporation | Distributed Bragg Reflector for optoelectronic device |
US7860137B2 (en) | 2004-10-01 | 2010-12-28 | Finisar Corporation | Vertical cavity surface emitting laser with undoped top mirror |
US8815617B2 (en) * | 2004-10-01 | 2014-08-26 | Finisar Corporation | Passivation of VCSEL sidewalls |
US7826506B2 (en) | 2004-10-01 | 2010-11-02 | Finisar Corporation | Vertical cavity surface emitting laser having multiple top-side contacts |
CN101432936B (zh) | 2004-10-01 | 2011-02-02 | 菲尼萨公司 | 具有多顶侧接触的垂直腔面发射激光器 |
KR100737609B1 (ko) * | 2005-09-29 | 2007-07-10 | 엘지전자 주식회사 | 수직 외부 공진형 표면 방출 광 펌핑 반도체 레이저 및 그제조방법 |
JP4300245B2 (ja) * | 2006-08-25 | 2009-07-22 | キヤノン株式会社 | 多層膜反射鏡を備えた光学素子、面発光レーザ |
US8527939B2 (en) * | 2006-09-14 | 2013-09-03 | Sap Ag | GUI modeling of knowledge base in a modeling environment |
US8031752B1 (en) | 2007-04-16 | 2011-10-04 | Finisar Corporation | VCSEL optimized for high speed data |
US8213474B2 (en) * | 2007-12-21 | 2012-07-03 | Finisar Corporation | Asymmetric DBR pairs combined with periodic and modulation doping to maximize conduction and reflectivity, and minimize absorption |
CN102611000B (zh) * | 2012-03-23 | 2013-09-25 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器 |
EP3497758A1 (en) | 2016-08-08 | 2019-06-19 | Finisar Corporation | Etched planarized vcsel |
CN114899706A (zh) * | 2018-01-09 | 2022-08-12 | 苏州乐琻半导体有限公司 | 表面发射激光器器件和包括其的发光器件 |
EP4213319A1 (en) * | 2018-01-18 | 2023-07-19 | IQE plc | Porous distributed bragg reflectors for laser applications |
EP3540879A1 (en) * | 2018-03-15 | 2019-09-18 | Koninklijke Philips N.V. | Vertical cavity surface emitting laser device with integrated tunnel junction |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5170407A (en) | 1991-10-11 | 1992-12-08 | At&T Bell Laboratories | Elimination of heterojunction band discontinuities |
US5745515A (en) * | 1996-07-18 | 1998-04-28 | Honeywell Inc. | Self-limiting intrinsically eye-safe laser utilizing an increasing absorption layer |
US5764671A (en) * | 1996-10-21 | 1998-06-09 | Motorola, Inc. | VCSEL with selective oxide transition regions |
US5848086A (en) * | 1996-12-09 | 1998-12-08 | Motorola, Inc. | Electrically confined VCSEL |
JP3713956B2 (ja) * | 1998-05-29 | 2005-11-09 | 富士ゼロックス株式会社 | 面発光型半導体レーザ素子の製造方法 |
US6301281B1 (en) | 1998-08-31 | 2001-10-09 | Agilent Technologies, Inc. | Semiconductor laser having co-doped distributed bragg reflectors |
US6744805B2 (en) * | 2000-04-05 | 2004-06-01 | Nortel Networks Limited | Single mode operation of microelectromechanically tunable, half-symmetric, vertical cavity surface emitting lasers |
US6611543B2 (en) * | 2000-12-23 | 2003-08-26 | Applied Optoelectronics, Inc. | Vertical-cavity surface-emitting laser with metal mirror and method of fabrication of same |
US6693933B2 (en) * | 2001-03-15 | 2004-02-17 | Honeywell International Inc. | Vertical cavity master oscillator power amplifier |
WO2002084829A1 (en) * | 2001-04-11 | 2002-10-24 | Cielo Communications, Inc. | Long wavelength vertical cavity surface emitting laser |
-
2001
- 2001-12-28 US US10/028,435 patent/US6850548B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-12-13 DE DE60238275T patent/DE60238275D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-12-13 WO PCT/US2002/039825 patent/WO2003058774A2/en active Application Filing
- 2002-12-13 JP JP2003558979A patent/JP4177262B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-12-13 KR KR1020047010027A patent/KR100558320B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-12-13 CN CNA028261887A patent/CN1613170A/zh active Pending
- 2002-12-13 AT AT02798511T patent/ATE488039T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-12-13 EP EP02798511A patent/EP1459417B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-12-26 TW TW091137479A patent/TWI237935B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE60238275D1 (de) | 2010-12-23 |
WO2003058774A3 (en) | 2004-03-25 |
WO2003058774A2 (en) | 2003-07-17 |
JP2005514796A (ja) | 2005-05-19 |
TW200301605A (en) | 2003-07-01 |
CN1613170A (zh) | 2005-05-04 |
EP1459417A2 (en) | 2004-09-22 |
KR100558320B1 (ko) | 2006-03-10 |
EP1459417B1 (en) | 2010-11-10 |
US20030123513A1 (en) | 2003-07-03 |
US6850548B2 (en) | 2005-02-01 |
ATE488039T1 (de) | 2010-11-15 |
TWI237935B (en) | 2005-08-11 |
KR20040093676A (ko) | 2004-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4177262B2 (ja) | 垂直キャビティ表面放射レーザに関する非対称分散ブラッグ反射器 | |
JP5063869B2 (ja) | 熱伝導率の高い垂直共振器型面発光レーザ | |
US5724376A (en) | Transparent substrate vertical cavity surface emitting lasers fabricated by semiconductor wafer bonding | |
US6771680B2 (en) | Electrically-pumped, multiple active region vertical-cavity surface-emitting laser (VCSEL) | |
US6905900B1 (en) | Versatile method and system for single mode VCSELs | |
US6990135B2 (en) | Distributed bragg reflector for optoelectronic device | |
US7596165B2 (en) | Distributed Bragg Reflector for optoelectronic device | |
JP5029254B2 (ja) | 面発光レーザ | |
CN211929898U (zh) | 垂直腔面发射激光器件 | |
US6021146A (en) | Vertical cavity surface emitting laser for high power single mode operation and method of fabrication | |
US7907653B2 (en) | Vertical cavity surface emitting laser device and vertical cavity surface emitting laser array | |
US7816163B2 (en) | Radiation-emitting semiconductor body for a vertically emitting laser and method for producing same | |
US6816526B2 (en) | Gain guide implant in oxide vertical cavity surface emitting laser | |
KR20000017638A (ko) | 공동 도핑된 분산 브래그 반사기를 갖춘 반도체 레이저 | |
US7860143B2 (en) | Metal-assisted DBRs for thermal management in VCSELs | |
KR100545113B1 (ko) | 가시파장의수직공동표면방출레이저 | |
US11757256B2 (en) | Multi-junction VCSEL with compact active region stack | |
GB2347558A (en) | Array of wafer bonded vertical cavity surface emitting lasers | |
US20110096803A1 (en) | Asymmetric dbr pairs combined with periodic and modulation doping to maximize conduction and reflectivity, and minimize absorption | |
US20240079853A1 (en) | Electrical contact | |
JP2006228959A (ja) | 面発光半導体レーザ | |
CN116207612A (zh) | 一种vcsel外延结构及其制作方法、vcsel芯片 | |
JP2005310938A (ja) | 半導体レーザ用エピタキシャルウェハ及び半導体レーザ | |
KR980012747A (ko) | 표면광 레이저 | |
KR980012736A (ko) | 표면광 레이저 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20050609 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050609 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060822 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20061122 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20061130 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070221 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070605 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070927 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20071005 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080408 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080708 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080812 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080821 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110829 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110829 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120829 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120829 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130829 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |