JP4177205B2 - レーザ熱処理装置 - Google Patents
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Description
PCT/JP/0710は、この重ね照射部の特性を改善するために、1) 非晶質シリコン膜の第1の領域に波長390nm以上で640nm以下のレーザを照射して第1の多結晶部分を形成する工程と、2)非晶質シリコンの第2の領域とその第2の領域に接する第1の多結晶部分の一部領域とに、波長が390nm以上で640nm以下のレーザを照射して第1の多結晶部分に接するように第2の多結晶部分を形成する工程と、を設けることが明らかにされている。その理由は以下による。
非晶質シリコン膜及び多結晶シリコン膜において、レーザの吸収率は、その波長によって、さまざまに変化する。PCT/JP/0710は、レーザ波長を390nm以上としているので、多結晶膜シリコンの吸収率は、非晶質シリコン膜の吸収率の60%以下となる。そのため、非晶質シリコンにレーザが照射されて多結晶シリコンが形成されれば、その多結晶シリコンに再度レーザを照射しても、多結晶シリコンはレーザのエネルギーを余り吸収しない。その結果、多結晶シリコンの特性がレーザの再照射によっても余り変化せず、多結晶シリコン膜の全体でほぼ等しい特性を発揮することができる。
また、レーザの波長を640nm以下としているので、非晶質シリコン膜での吸収率が10%以上となる。その結果、非晶質シリコンが、レーザ熱を吸収しやすくなり、非晶質シリコンは容易に多結晶化することができる。
なお、波長が500〜550nmであれば、非晶質シリコン膜と結晶シリコン膜との吸収率の差がより大きくなるので好ましい。波長が520〜550nmであれば、非晶質シリコン膜と結晶シリコン膜との吸収率の差がさらに大きくなるので特に好ましい。以上のように、非晶質シリコンと多結晶シリコンとの吸収率が大きい波長領域では、重ね照射した場合においても、その境界領域におけるTFTの特性(移動度、しきい値電圧)は、ほとんど一致することが、明らかにされている。
然しながら、実際にTFTを作成し、液晶パネルとして表示させると、人間の目には、微妙に重ね領域が認識されることが判明してきた。その原因は、人間の目の識別能力が高いため、わずかな特性の相異であっても、重ね照射部が同じ直線の上に並んでいると、その境界領域が認識されてしまうためである。実際、境界部における特性の差は、各トランジスタ特性のばらつきの範囲内にあり、もし、ランダムに配置されれば認識できない範囲である。この原因は、1回目の照射によって、結晶が作成された際に、境界領域においても、結晶化が行なわれる。ビーム強度が十分に下がった領域では、2回目のビーム照射によって、再度結晶を溶融し本来の移動度に復帰することができるが、境界領域において、比較的高い強度が照射された領域では、中途半端な結晶が成長することにより、多結晶化により、吸収率が低下し、結局、結晶が周囲に比べ小さい大きさで残ってしまうことが判明した。
レーザ熱処理装置は、レーザ発振器から放射されたレーザビームの断面強度分布を成形する強度分布均一化手段と、強度分布均一化手段からのビームを、基板上の膜材料表面で、線状の照射ビームに成形するビーム形状成形手段とを含んでいる。ここで、強度分布均一化手段は、レーザ発振器からのレーザビームをその光軸に垂直な断面内の一方向、即ち、y方向の強度分布を均一にし、且つ、その断面内でこのy方向と直交する他の方向、即ち、x方向のレーザビームの強度分布をレーザ発振器から放射されたレーザビームの強度分布に維持するものである。
この実施形態は、第1群のレンズと第2群のレンズとの間隔を、第1群の転写レンズの焦点距離f1と、第2群の転写レンズの焦点距離f2との和とするように設定して、第2群の転写レンズからの照射ビームを照射面に実質的に垂直に照射するものである。
この実施形態は、第2群のy方向転写レンズとx方向集光レンズ20とを、相対移動不能に固定することを含む。
別の方法は、それぞれのレンズをホルダーに収めた後で、それぞれのホルダー同士を固定するような治具により両者を固定することもできる。
この実施形態は、第1群の転写レンズと強度分布均一化手段とは、一体に固定することを含む。
Claims (4)
- 基板上に形成された膜材料にレーザ照射を行なって熱処理するためのレーザ熱処理装置であって、レーザ発振器から放射されたレーザビームの断面強度分布を成形する強度分布均一化手段と、基板上の膜材料上で線状のビーム形状を形成するビーム形状成形手段を備えて、
強度分布均一化手段が、レーザビームの光軸に垂直な断面内のy方向のレーザビームの強度分布を均一にし、且つ断面内でこのy方向と直交するx方向のレーザビームの強度分布がレーザ発振器から放射されたレーザビームの強度分布を維持し、
ビーム形状成形手段が、強度分布均一化手段で得られたy方向の均一分布を基板上膜材料上に転写して基板上の膜材料上でx方向に狭くy方向に長く伸びる線状の照射ビームを形成するレーザ熱処理装置において、
上記のビーム形状成形手段が、強度分布均一化手段で得られたy方向の均一分布をy方向にのみ拡大して基板上膜材料上に転写し、上記基板上膜材料上で長方形のビーム形状の長手方向を形成する転写レンズと、
上記x方向のみを上記基板上膜材料上に集光し、上記基板上膜材料上で長方形のビーム形状の短手方向を形成する集光レンズとを備えており、
上記y方向の転写レンズは、少なくとも2群の転写レンズを含み、
上記集光レンズは、最終群の転写レンズの前側近傍又は最終群の転写レンズの後ろ側に配置され、
強度分布均一化手段を光軸に平行に出射したビームがy方向のどの位置でも基板上の膜材料上に垂直に入射することを特徴とするレーザ熱処理装置。 - 第1群の転写レンズがf1の焦点距離を有し、第2群の転写レンズがf2の焦点距離を有し、2群の転写レンズ間の距離Lを、
(f1+f2)×0.8≦L≦(f1+f2)×1.2
であるように設定したことを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱処理装置。 - ビーム形状成形手段が、最終群のy転写レンズの後にx方向集光レンズを配置したことを特徴とする請求項1または2に記載のレーザ熱処理装置。
- 最終群の転写レンズとx方向集光レンズとが一体に保持されていることを特徴とする請求項1ないし3いずれかに記載のレーザ熱処理装置。
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