JP4175511B2 - Photoconductor manufacturing equipment - Google Patents
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Description
本発明は、感光体製造装置に関する。 The present invention relates to a photoreceptor manufacturing apparatus.
従来より、電子写真感光体の製造方法の一つとして、浸漬塗工法が知られている。この浸漬塗工法は、感光体の基体を塗布液中に浸漬させた後引き上げることによって、基体の表面に塗布液を塗布する方法である。 Conventionally, a dip coating method is known as one of methods for producing an electrophotographic photosensitive member. This dip coating method is a method in which a coating solution is applied to the surface of a substrate by immersing the substrate of the photoreceptor in the coating solution and then pulling it up.
このような浸漬塗工法では、基本的に、塗布液を保持する塗布液溜めタンクと実際に基体が浸漬される塗布槽とを配管で連結し、送液ポンプ等を用いて、塗布槽と塗布液溜めタンクとの間に形成される主循環経路において塗布液を循環させるようにしている。 In such a dip coating method, basically, a coating solution reservoir tank that holds the coating solution and a coating bath in which the substrate is actually immersed are connected by a pipe, and a coating tank and the coating are applied using a liquid feed pump or the like. The coating liquid is circulated in a main circulation path formed between the liquid reservoir tank.
ところで、塗布液において速乾性の溶剤を用いた場合、塗布液の循環に際して溶剤が蒸発し、塗工液における固形分量が変化してしまう傾向にある。このような状態では、基体に塗布される膜厚が厚くなってしまう傾向にあるため、塗布液における固形分量を所定分量まで希釈するための希釈手段が必要となる。 By the way, when a fast-drying solvent is used in the coating solution, the solvent evaporates during circulation of the coating solution, and the solid content in the coating solution tends to change. In such a state, since the film thickness applied to the substrate tends to increase, a diluting means for diluting the solid content in the coating solution to a predetermined amount is required.
従来、主循環経路とは別に、主循環経路を循環する塗布液の一部が循環する希釈用循環経路を設け、この希釈用循環経路における塗布液に対して希釈用タンク等に保持された希釈液を供給することで固形分量が変化した塗布液を希釈するようにした技術がある(例えば、特許文献1〜3参照)。 Conventionally, in addition to the main circulation path, a dilution circulation path through which a part of the coating liquid circulating in the main circulation path circulates is provided, and the dilution liquid held in the dilution tank or the like for the coating liquid in this dilution circulation path There is a technique of diluting a coating liquid whose solid content has changed by supplying a liquid (see, for example, Patent Documents 1 to 3).
しかしながら、これらの技術では、希釈する前後の塗布液の混合が不十分となって塗布槽内での固形分の濃度分布に差が生じてしまうことがあり、この結果として基体に塗布した膜の厚さが乱れてしまうことが懸念される。 However, in these techniques, mixing of the coating solution before and after dilution may be insufficient, resulting in a difference in the solid content concentration distribution in the coating tank. As a result, the film applied to the substrate may be different. There is concern that the thickness will be disturbed.
この対策として、希釈用循環経路に粘度計を配置し、この粘度計よりも塗布液の循環方向下流側で希釈液を供給するとともに、供給した希釈液と固形分量が変化した塗布液とをスタティックミキサー等を用いて混合するようにした技術がある。供給した希釈液と固形分量が変化した塗布液とをスタティックミキサーによって混合することによりこれらの液を効率的かつ均一に混合することができる。 As a countermeasure, a viscometer is arranged in the circulation path for dilution, and the dilution liquid is supplied downstream of the viscometer in the circulation direction of the coating liquid, and the supplied dilution liquid and the coating liquid whose solid content has changed are statically mixed. There is a technique in which mixing is performed using a mixer or the like. These liquids can be mixed efficiently and uniformly by mixing the supplied diluted liquid and the coating liquid having a changed solid content by a static mixer.
なお、このような技術においては、容量が規定された計測用槽とこの計測用槽内で回転されるロータとを有して、粘度測定の対象とする液体が満たされた計測用槽中でロータを回転させた際にロータにかかる抵抗値を測定することで粘度を測定する。 In such a technique, a measuring tank having a specified capacity and a rotor that rotates in the measuring tank are provided, and the measuring tank is filled with a liquid to be measured for viscosity. The viscosity is measured by measuring the resistance value applied to the rotor when the rotor is rotated.
ところで、スタティックミキサーは、混合における原理から、混合対象とする液を高速で送り込む必要がある。すなわち、大量の液量を必要とする。 By the way, the static mixer needs to feed the liquid to be mixed at a high speed from the principle of mixing. That is, a large amount of liquid is required.
しかしながら、一方で、粘度計においては、粘度測定における原理からこの粘度計における流量がある一定以上となると正しい粘度測定ができなくなってしまう。 On the other hand, however, in the viscometer, if the flow rate in the viscometer exceeds a certain level due to the principle of viscosity measurement, the correct viscosity measurement cannot be performed.
より詳細に説明すると、スタティックミキサーが必要とする高速の流量に応じて、スタティックミキサーに圧力を加えた場合、スタティックミキサーにおいて抵抗が発生する。希釈用循環経路における塗布液の循環方向上流側には、上述した構造の粘度計が設けられているため、スタティックミキサーにおいて抵抗が発生すると希釈用循環経路においてスタティックミキサーよりも塗布液の循環方向上流側で塗布液が滞留するような状態となり、これによって粘度計における流量が計測用槽の容量を超過してしまう。すなわち、希釈用循環経路において、塗布液の循環方向に沿って粘度計とスタティックミキサーとを順次配列するような構成とすると、粘度計において適正な流量を確保することができない。 More specifically, resistance is generated in the static mixer when pressure is applied to the static mixer according to the high flow rate required by the static mixer. Since the viscometer having the above-described structure is provided on the upstream side in the circulation direction of the coating liquid in the circulation path for dilution, if resistance occurs in the static mixer, the circulation direction of the coating liquid in the circulation path for dilution is higher than in the circulation direction of the coating liquid. As a result, the coating liquid stays on the side, so that the flow rate in the viscometer exceeds the capacity of the measuring tank. That is, if the viscometer and the static mixer are sequentially arranged along the circulation direction of the coating liquid in the circulation path for dilution, an appropriate flow rate cannot be secured in the viscometer.
本発明の目的は、単一の希釈用循環経路中に粘度計とスタティックミキサーとを並列して配置した場合にも、粘度計による正確な粘度測定と、スタティックミキサーによる塗布液と希釈液との混合とをともに良好に行なうことである。 The object of the present invention is to accurately measure the viscosity with a viscometer and to apply a coating liquid and a diluent with a static mixer even when a viscometer and a static mixer are arranged in parallel in a single circulation path for dilution. It is to perform mixing well.
請求項1記載の発明の感光体製造装置は、塗布液を保持するタンクと、前記タンクが保持する塗布液を所定経路に循環させる主循環経路と、前記タンクが保持する塗布液を前記主循環経路とは異なる経路で循環させる希釈用循環経路と、前記タンクが保持する塗布液を前記希釈用循環経路に送り出す送液手段と、前記希釈用循環経路に設けられて前記希釈用循環経路中を循環する塗布液の粘度を測定する粘度計と、前記希釈用循環経路における塗布液の循環方向に沿って前記粘度計よりも前記希釈用循環経路の下流側に設けられたスタティックミキサーと、前記粘度計と前記スタティックミキサーとの間において前記塗布液の粘度よりも粘度の低い希釈液を供給する希釈液供給手段と、塗布液の粘度測定に際しては前記粘度計による粘度測定可能な範囲内とし塗布液の希釈に際しては前記スタティックミキサーによる混合可能な範囲内となるように前記希釈用循環経路における塗布液の流量を調整する流入量調整手段と、を具備する。 According to a first aspect of the present invention, there is provided a photosensitive member manufacturing apparatus comprising: a tank that holds a coating liquid; a main circulation path that circulates the coating liquid held by the tank in a predetermined path; and the coating liquid that the tank holds. A dilution circulation path that circulates through a path different from the path, a liquid feeding means that sends the coating liquid held in the tank to the dilution circulation path, and a dilution circulation path that is provided in the dilution circulation path. A viscometer for measuring the viscosity of the circulating coating liquid, a static mixer provided on the downstream side of the dilution circulation path from the viscometer along the circulation direction of the coating liquid in the dilution circulation path, and the viscosity A diluent supplying means for supplying a diluent having a viscosity lower than the viscosity of the coating solution between the meter and the static mixer, and measuring the viscosity of the coating solution with the viscosity meter . Before dilution and the ability ranges coating solution comprising a inflow amount adjusting means for adjusting the flow rate of the coating liquid in the dilution circulation path such that the mixing extent possible by the static mixer.
したがって、単一の希釈用循環経路中に粘度計とスタティックミキサーとを並列して配置した場合にも、粘度計による正確な粘度測定と、スタティックミキサーによる塗布液と希釈液との混合とをともに良好に行なうことができる。 Therefore, even when a viscometer and a static mixer are placed in parallel in a single dilution circulation path, both accurate viscosity measurement by the viscometer and mixing of the coating liquid and dilution liquid by the static mixer are performed together. It can be performed well.
請求項2記載の発明は、請求項1記載の感光体製造装置において、前記流入量調整手段は、塗布液の粘度測定に際しての送液量を塗布液の希釈に際しての送液量よりも少なくするように前記送液手段を制御する。 According to a second aspect of the present invention, in the photosensitive member manufacturing apparatus according to the first aspect, the inflow amount adjusting means makes the liquid feeding amount for measuring the viscosity of the coating liquid smaller than the liquid feeding amount for diluting the coating liquid. The liquid feeding means is controlled as described above.
したがって、送液手段による送液量を調整することで粘度計による正確な粘度測定と、スタティックミキサーによる塗布液と希釈液との混合との両立を実現することができる。 Therefore, it is possible to realize both the accurate viscosity measurement by the viscometer and the mixing of the coating liquid and the dilution liquid by the static mixer by adjusting the liquid feeding amount by the liquid feeding means.
請求項3記載の発明は、請求項1記載の感光体製造装置において、前記希釈用循環経路に対して前記粘度計を迂回するように連通されたバイパス経路と、前記バイパス回路または前記粘度計に対して塗布液を選択的に流入させる経路選択手段と、を具備し、前記流入量調整手段は、塗布液の粘度測定に際しては塗布液が前記粘度計に流入し塗布液の希釈に際しては塗布液が前記バイパス経路に流入するように前記経路選択手段を制御する。 According to a third aspect of the present invention, in the photoreceptor manufacturing apparatus according to the first aspect, the bypass path communicated with the circulation path for dilution to bypass the viscometer, and the bypass circuit or the viscometer. Path selection means for selectively allowing the coating liquid to flow, and the inflow amount adjusting means flows the coating liquid into the viscometer when measuring the viscosity of the coating liquid and applies the coating liquid when diluting the coating liquid. Controls the route selection means so as to flow into the bypass route.
したがって、塗布液が循環する経路を異ならせることで、粘度計による正確な粘度測定と、スタティックミキサーによる塗布液と希釈液との混合との両立を実現することができる。 Therefore, by changing the route through which the coating liquid circulates, it is possible to realize both the accurate viscosity measurement by the viscometer and the mixing of the coating liquid and the dilution liquid by the static mixer.
請求項4記載の発明は、請求項1記載の感光体製造装置において、前記希釈液供給手段は、希釈液を保持する希釈タンクと、この希釈タンクと前記前記希釈用循環経路とを前記粘度計と前記スタティックミキサーとの間で連通する連通路と、を有し、前記流入量調整手段は、前記希釈タンクにおける希釈液の液面位置を検出する液面検出手段を有し、塗布液の粘度測定に際しては前記希釈タンクにおける希釈液の液面位置に応じて前記送液手段が送り出す塗布液の量を調整する。 According to a fourth aspect of the present invention, in the photoreceptor manufacturing apparatus according to the first aspect, the diluting solution supply unit includes a diluting tank that holds the diluting solution, the diluting tank, and the diluting circulation path. And a communication passage communicating between the static mixer and the inflow amount adjusting means includes a liquid level detecting means for detecting a liquid level position of the dilution liquid in the dilution tank, and a viscosity of the coating liquid. At the time of measurement, the amount of the coating liquid sent out by the liquid feeding means is adjusted according to the liquid level position of the diluent in the dilution tank.
したがって、希釈タンクにおける希釈液の液面位置を検出することによりスタティックミキサーよりも塗布液の循環方向上流側における塗布液の量を間接的に検出し、粘度計による正確な粘度測定を行なうことができる。 Therefore, it is possible to indirectly detect the amount of coating liquid upstream in the circulation direction of the coating liquid from the static mixer by detecting the liquid level position of the dilution liquid in the dilution tank, and perform accurate viscosity measurement with a viscometer. it can.
請求項5記載の発明は、請求項1記載の感光体製造装置において、前記流入量調整手段は、前記タンクにおける塗布液の液面よりも鉛直方向に沿って高い位置で、塗布液の流れる方向に沿って上流側を鉛直方向上側に位置させ下流側を鉛直方向下側に位置させるように配設された前記スタティックミキサーである。 According to a fifth aspect of the present invention, in the photosensitive member manufacturing apparatus according to the first aspect, the inflow amount adjusting means is higher in the vertical direction than the liquid level of the coating liquid in the tank, and the direction in which the coating liquid flows. The static mixer is arranged so that the upstream side is positioned vertically upward and the downstream side is positioned vertically downward.
したがって、スタティックミキサーを流れる塗布液に作用する塗布液の自重によってスタティックミキサーの許容流量が増加するため、部品点数の増加を伴うことなく、粘度計による正確な粘度測定と、スタティックミキサーによる塗布液と希釈液との混合とをともに良好に行なうことができる。 Therefore, since the allowable flow rate of the static mixer increases due to the weight of the coating liquid acting on the coating liquid flowing through the static mixer, the accurate viscosity measurement by the viscometer and the coating liquid by the static mixer can be performed without increasing the number of parts. Both mixing with the diluting solution can be performed satisfactorily.
請求項6記載の発明は、請求項1記載の感光体製造装置において、前記スタティックミキサーは、対象流量がそれぞれ異なり、前記タンクにおける塗布液の液面よりも鉛直方向に沿って高い位置で、塗布液の流れる方向に沿って上流側を鉛直方向上側に位置させ下流側を鉛直方向下側に位置させるように複数配設されており、前記流入量調整手段は、前記希釈液循環経路においていずれか一の前記スタティックミキサーを選択的に連通させる。 According to a sixth aspect of the present invention, in the photosensitive member manufacturing apparatus according to the first aspect, the static mixer has a different target flow rate and is applied at a position higher along the vertical direction than the liquid level of the coating liquid in the tank. A plurality of the inflow amount adjusting means are disposed in the dilution liquid circulation path so that the upstream side is positioned vertically upward and the downstream side is positioned vertically downward along the liquid flow direction. One static mixer is selectively communicated.
したがって、スタティックミキサーを流れる塗布液に作用する塗布液の自重によってスタティックミキサーの許容流量が増加するため、部品点数の増加を伴うことなく、粘度計による正確な粘度測定と、スタティックミキサーによる塗布液と希釈液との混合とをともに良好に行なうとともに、単一の感光体製造装置において異なる粘度を有する複数種類の塗布液を用いることで各粘度に対応した感光体製造装置を個々に用いるよりも製造に際してのコストを低減することができる。 Therefore, since the allowable flow rate of the static mixer increases due to the weight of the coating liquid acting on the coating liquid flowing through the static mixer, the accurate viscosity measurement by the viscometer and the coating liquid by the static mixer can be performed without increasing the number of parts. Produces both mixing with a diluting solution and using multiple types of coating solutions with different viscosities in a single photoconductor manufacturing device rather than using a photoconductor manufacturing device corresponding to each viscosity individually. The cost at the time can be reduced.
請求項1記載の発明の感光体製造装置によれば、単一の希釈用循環経路中に粘度計とスタティックミキサーとを並列して配置した場合にも、粘度計による正確な粘度測定と、スタティックミキサーによる塗布液と希釈液との混合とをともに良好に行なうことができる。 According to the photoreceptor manufacturing apparatus of the first aspect of the present invention, even when a viscometer and a static mixer are arranged in parallel in a single circulation path for dilution, accurate viscosity measurement with a viscometer and static Both the application liquid and the diluting liquid can be mixed well by the mixer.
請求項2記載の発明によれば、請求項1記載の感光体製造装置において、送液手段による送液量を調整することで粘度計による正確な粘度測定と、スタティックミキサーによる塗布液と希釈液との混合との両立を実現することができる。 According to a second aspect of the present invention, in the photoreceptor manufacturing apparatus according to the first aspect, an accurate viscosity measurement by a viscometer by adjusting a liquid feeding amount by a liquid feeding means, and a coating liquid and a diluting liquid by a static mixer And coexistence with mixing can be realized.
請求項3記載の発明によれば、請求項1記載の感光体製造装置において、塗布液が循環する経路を異ならせることで、粘度計による正確な粘度測定と、スタティックミキサーによる塗布液と希釈液との混合との両立を実現することができる。 According to a third aspect of the present invention, in the photosensitive member manufacturing apparatus according to the first aspect, the path through which the coating liquid circulates is changed to accurately measure the viscosity with a viscometer, and the coating liquid and dilution liquid with a static mixer. And coexistence with mixing can be realized.
請求項4記載の発明によれば、請求項1記載の感光体製造装置において、希釈タンクにおける希釈液の液面位置を検出することによりスタティックミキサーよりも塗布液の循環方向上流側における塗布液の量を間接的に検出し、粘度計による正確な粘度測定を行なうことができる。 According to a fourth aspect of the present invention, in the photosensitive member manufacturing apparatus according to the first aspect, the coating liquid on the upstream side in the circulation direction of the coating liquid from the static mixer is detected by detecting the liquid level position of the dilution liquid in the dilution tank. The amount can be detected indirectly and an accurate viscosity measurement can be made with a viscometer.
請求項5記載の発明によれば、請求項1記載の感光体製造装置において、スタティックミキサーを流れる塗布液に作用する塗布液の自重によってスタティックミキサーの許容流量が増加するため、部品点数の増加を伴うことなく、粘度計による正確な粘度測定と、スタティックミキサーによる塗布液と希釈液との混合とをともに良好に行なうことができる。 According to the fifth aspect of the present invention, in the photosensitive member manufacturing apparatus according to the first aspect, the allowable flow rate of the static mixer increases due to the weight of the coating liquid acting on the coating liquid flowing through the static mixer. Without being accompanied, accurate viscosity measurement with a viscometer and mixing of a coating liquid and a diluent with a static mixer can both be performed satisfactorily.
請求項6記載の発明によれば、請求項1記載の感光体製造装置において、スタティックミキサーを流れる塗布液に作用する塗布液の自重によってスタティックミキサーの許容流量が増加するため、部品点数の増加を伴うことなく、粘度計による正確な粘度測定と、スタティックミキサーによる塗布液と希釈液との混合とをともに良好に行なうとともに、単一の感光体製造装置において異なる粘度を有する複数種類の塗布液を用いることで各粘度に対応した感光体製造装置を個々に用いるよりも製造に際してのコストを低減することができる。
According to the invention described in
本発明を実施するための第1の実施の形態について図1ないし図3を参照して説明する。本実施の形態は、塗工液循環装置を備える感光体製造装置への適用例を示す。 A first embodiment for carrying out the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. The present embodiment shows an application example to a photoreceptor manufacturing apparatus provided with a coating liquid circulation device.
図1は、本発明を実施するための第1の実施の形態の感光体製造装置を示す概略図である。図1に示すように、本実施の形態の感光体製造装置1は、塗工液を保持して上部に開口部2を有する塗布槽3と、この塗布槽3に対して感光体の基体(図示せず)を出し入れする図示しない浸漬装置とを備えている。本実施の形態の感光体製造装置1では、塗布槽3に保持された塗布液に感光体の基体を浸漬させた後、この基体を塗布液から引き上げることによって、この基体に対して塗布液を塗布する。塗布槽3には、送液路5を介して2液溜めタンク6が接続されている。本実施の形態では、2液溜めタンク6によって塗布液を保持するタンクが実現されている。この送液路5は、送液管5a,5bによって構成されており、送液管5a,5bの間には送液ポンプ7が設けられている。塗布槽3に対しては、送液ポンプ7を介して2液溜めタンク6に保持された塗布液が供給される。
FIG. 1 is a schematic view showing a photoconductor manufacturing apparatus according to a first embodiment for carrying out the present invention. As shown in FIG. 1, the photoreceptor manufacturing apparatus 1 of the present embodiment includes a coating tank 3 that holds a coating solution and has an opening 2 in the upper part, and a photoreceptor substrate ( And a dipping device (not shown) for taking in and out (not shown). In the photoreceptor manufacturing apparatus 1 of the present embodiment, the substrate of the photoreceptor is immersed in the coating solution held in the coating tank 3, and then the substrate is pulled up from the coating solution, whereby the coating solution is applied to the substrate. Apply. A two-
塗布槽3の外側には、塗布槽3の開口部2からオーバーフローした塗工液を回収する塗工液回収槽8が設けられている。塗工液回収槽8の底部には、一端部が2液溜めタンク6に連通するオーバーフロー液回収路9の他端部が設けられている。これにより、塗布槽3の開口部2からオーバーフローした塗工液は、2液溜めタンク6に戻される。
A coating
ここに、2液溜めタンク6、送液ポンプ7、塗布槽3を経由するように塗布液を循環させる主循環経路10が形成される。
Here, a
本実施の形態の感光体製造装置1は、この主循環経路10とは別に、2液溜めタンク6に保持された塗布液に希釈液を混合するための希釈用循環経路11を備えている。この希釈用循環経路11は、2液溜めタンク6の他に、送液手段としての送液ポンプ12と、粘度計13と、スタティックミキサー14と、スタティックミキサー14に補充する希釈液を保持する希釈タンク15とを備えている。
In addition to the
公知の技術であるため図示および説明を省略するが、スタティックミキサー14は、螺旋状の流路を備えている。スタティックミキサー14では、導入された2種類の液をこの流路を介して送出する際に、これらの液を回転して混合する。スタティックミキサー14の流路においては空気が存在しないような構成となっており、これによって流路を経由した2種類の液は空気の混入がない状態で混合される。
Although illustration and description are omitted because it is a known technique, the
希釈用循環経路11における送液ポンプ12、粘度計13、および、スタティックミキサー14は、送液ポンプ12による送液方向に沿って順次配列されている。希釈用循環経路11において粘度計13とスタティックミキサー14との間には、電磁弁15aが設けられている。上述した希釈タンク15は、この電磁弁15aおよび連通路15bを介して希釈用循環経路11に連通されている。電磁弁15aは、図示しない制御系によって必要に応じて適宜開閉され、これによって、希釈タンク15に保持された希釈液を適宜スタティックミキサー14に導入することができる。ここに、希釈液供給手段としての機能が実現される。
The
希釈用循環経路11には、送液ポンプ12による送液方向に沿って粘度計13よりも上流側において希釈用循環経路11から分岐し、送液ポンプ12による送液方向に沿って粘度計13よりも下流側において希釈用循環経路11に合流するバイパス経路16が連通されている。
The dilution circulation path 11 branches from the dilution circulation path 11 on the upstream side of the
希釈用循環経路11とバイパス経路16との分岐点および合流点には、それぞれ電磁弁17,18が設けられている。各電磁弁17,18は、上述した電磁弁15aと同様に、図示しない制御系によってその開閉動作が制御される。
2液溜めタンク6には、2液溜めタンク6内の塗工液を攪拌する攪拌機19が設けられている。これにより、2液溜めタンク6内の塗工液の粘度(濃度)を2液溜めタンク6内全体に亘って均一にすることができる。
The two-
ここで、粘度計13について図4を参照して説明する。本実施の形態の粘度計13は、図4に示すように、粘度計13の外形をなす筐体20と、筐体20内部に設けられた計測用槽21と、計測用槽21内の流体(本実施の形態では塗工液)内で回転されるロータ22とを備えている。計測用槽21の底部には、上述した送液路5bの他端が連通されている。ロータ22には、このロータ22を回転させる図示しない回転駆動機構と、回転中のロータ22にかかる負荷を検出する図示しない検出機構とが設けられている。粘度計13は、送液ポンプ12によって2液溜めタンク6から計測用槽21に塗工液が流入されている状態でロータ22を回転させ、回転中のロータ22にかかる負荷を検出することによって計測用槽21内の塗工液の粘度を検出する。
Here, the
計測用槽21の上部には、オーバーフロー用の開口部23が設けられている。粘度計13においては、計測用槽21に対して計測用槽21の容量以上の塗布液が流入した場合に、容量以上分の塗布液がこの開口部23からオーバーフローする。
An
粘度計13の筐体20には、計測用槽21からオーバーフローした塗工液が流入する後経路24の一端部が連通されている。後経路24の他端部は、上述した電磁弁15aに連通されている。
One end of a
ここで、本実施の形態の感光体製造装置1では、希釈用循環経路11における塗布液の希釈に際し、希釈タンク15が希釈用循環経路11に対して連通するように電磁弁15aを制御するとともに、バイパス経路16を開放して粘度計13へ塗布液が流入しないように電磁弁17,18を制御する。ここに、経路選択手段としての機能の一部が実現される。また、本実施の形態の感光体製造装置1は、希釈用循環経路11における塗布液の希釈に際し、送液量を高めるように送液ポンプ12を制御する。ここに、流入量調整手段としての機能の一部が実現される。なお、本実施の形態では、希釈用循環経路11における塗布液の希釈に際しての送液ポンプ12による送液量を400cm3/minとした。これによって、粘度計13に塗布液を流入させない状態で塗布液に希釈液を混合することができる。
Here, in the photoreceptor manufacturing apparatus 1 of the present embodiment, when diluting the coating solution in the dilution circulation path 11, the
ところで、上述したように、スタティックミキサー14においては、混合における原理から混合対象とする液を高速で送り込む必要がある一方で、粘度計13においては、粘度測定における原理からこの粘度計13における流量がある一定以上となると正しい粘度測定ができなくなってしまうため、スタティックミキサー14が必要とする高速流量に応じてスタティックミキサー14に圧力を加えた場合にスタティックミキサー14において抵抗が発生し、図3(a)に示すように、希釈用循環経路11における塗布液の循環方向上流側には設けられた粘度計13における流量が計測用槽21の容量を超過してしまう。このため、従来の感光体製造装置1では、希釈用循環経路11において、塗布液の循環方向に沿って粘度計13とスタティックミキサー14とを順次配列するような構成とすると、粘度計13において適正な流量を確保することができない。
By the way, as described above, in the
これに対し、本実施の形態の感光体製造装置1は、希釈用循環経路11における塗布液の粘度測定に際し、希釈タンク15と希釈用循環経路11とが閉塞されるように電磁弁15aを制御するとともに、バイパス経路16を閉塞するように電磁弁17,18を制御する。ここに、経路選択手段としての機能の一部が実現される。これにより、2液溜めタンク6から希釈用循環経路11に流入した全ての塗布液が粘度計13に流入する。また、本実施の形態の感光体製造装置1は、希釈用循環経路11における塗布液の粘度測定に際し、粘度計の液面が必要以上に上昇しないように送液ポンプ12の回転数を制御する。ここに、流入量調整手段としての機能の一部が実現される。
In contrast, the photoconductor manufacturing apparatus 1 of the present embodiment controls the
これにより、図3(b)に示すように、粘度計13の計測用槽21における塗布液の容量を、粘度測定に適した容量とすることができ、粘度測定を正確に行なうことができる。なお、本実施の形態では、希釈用循環経路11における塗布液の粘度測定に際しての送液ポンプ12による送液量が100cm3/minとなるように送液ポンプ12の回転量を調整した。
Thereby, as shown in FIG.3 (b), the capacity | capacitance of the coating liquid in the
これによって、希釈用循環経路11に粘度計13とスタティックミキサー14とを並列して設けた場合にも、塗布液と希釈液とを良好に混合するとともに、粘度測定を正確に行なうことができる。
Thereby, even when the
次に、本発明の第2の実施の形態について図4を参照して説明する。なお、第1の実施の形態と同一部分は同一符号で示し、説明も省略する。以下、同様とする。 Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Note that the same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is also omitted. The same shall apply hereinafter.
図4は、本発明の第2の実施の形態の感光体製造装置を示す概略図である。図4に示すように、本実施の形態の感光体製造装置30は、図1に示す感光体製造装置1におけるバイパス経路16および電磁弁17,18を有しておらず、粘度計13における塗布液の液面を検出する液面センサ31を備えている。
FIG. 4 is a schematic view showing a photoconductor manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, the
液面センサ31は、粘度計13における塗布液の液面の高さに応じて出力が変化する。なお、粘度計13における塗布液の液面の高さに応じて出力が変化する液面センサ31の構造については公知の各種技術を用いて実現可能であるためここでは説明を省略するが、液面センサ31は制御系に接続されており、粘度計13における塗布液の液面の高さに応じた液面センサ31からの出力は制御系に入力される。
The output of the liquid level sensor 31 changes according to the height of the liquid level of the coating liquid in the
制御系は、後述する粘度測定に際して、液面センサ31からの出力変化に応じてポンプの送液量を調整する。 The control system adjusts the pumping amount of the pump in accordance with the output change from the liquid level sensor 31 when measuring the viscosity, which will be described later.
本実施の形態の感光体製造装置30では、希釈時におけるスタティックミキサー14の動作に際しての粘度計13における液面を監視し、粘度計13における液面が規定された規定値よりも高いと検知された場合には、送液ポンプ12の回転数が低くなるように制御する。これによって、送液ポンプ12によって粘度計13に流入する塗布液の送液量が減るので、粘度計13における塗布液の液面を下げることができる。
In the
一方、粘度計13における液面が規定された規定値よりも低いと検知された場合には、送液ポンプ12の回転数が高くなるように制御する。これによって、送液ポンプ12によって粘度計13に流入する塗布液の送液量が増加するので、粘度計13における塗布液の液面を上昇させることができる。
On the other hand, when it is detected that the liquid level in the
このように、本実施の形態の感光体製造装置30によれば、液面センサ31の検知結果に応じて、粘度計13における塗布液の液面の高さを調整することができる。ここに、流入量調整手段としての機能が実現される。これによって、常に正しく粘度測定を行なうことができる。
As described above, according to the
なお、液面センサ31の検知結果に応じた液面調整は、常時行なうものに限るものではなく、例えば、粘度測定時のみに行なうようにしてもよい。 Note that the liquid level adjustment according to the detection result of the liquid level sensor 31 is not limited to the constant level adjustment, and may be performed only at the time of viscosity measurement, for example.
次に、本発明の第3の実施の形態について図5を参照して説明する。 Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
図5は、本発明の第3の実施の形態の感光体製造装置を示す概略図である。図5に示すように、本実施の形態の感光体製造装置40では、スタティックミキサー14が、2液溜めタンク6における塗布液の液面よりも高い位置に設けられている点、バイパス経路16および電磁弁17,18が設けられていない点が第1の実施の形態と異なる。
FIG. 5 is a schematic view showing a photoconductor manufacturing apparatus according to the third embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, in the
スタティックミキサー14は、流路における塗布液の流れる方向に沿って上流側が鉛直方向上側に位置し、下流側が鉛直方向下側に位置するように設けられている。このため、本実施の形態の感光体製造装置40では、スタティックミキサーの流路中で混合される液に対し、液自身の自重による鉛直方向下方への力が作用する。これにより、スタティックミキサー14における送液抵抗を減少させることができる。ここに、流入量調整手段としての機能が実現される。
The
なお、本実施の形態の感光体製造装置40においては、送液ポンプ12による送液量を400cm3/minまで増加させた場合にも、粘度計13における塗布液の液面の上昇(計測用槽21からのオーバーフロー)が見られなかった。
In the
これによって、希釈用循環経路11中に、塗布液の循環方向に沿って上流側から順に粘度計13およびスタティックミキサー14を設けた場合にも、格別な部品点数の増加を伴うことなく、粘度計13によって塗布液の粘度計測を正確に行いながら、この塗布液に希釈液を混合することができる。
Thus, even when the
次に、本発明の第4の実施の形態について図6を参照して説明する。 Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
図6は、本発明の第4の実施の形態の感光体製造装置を示す概略図である。図6に示すように、本実施の形態の感光体製造装置50においては、複数のスタティックミキサー51,52,53を備えている。各スタティックミキサー51,52,53は、各々の流路が、鉛直方向に対して平行(または略平行)となるように設けられている。また、各スタティックミキサー51,52,53は、流路における塗布液の流れる方向に沿って上流側が鉛直方向上側に位置し、下流側が鉛直方向下側に位置するように設けられている。各スタティックミキサー51,52,53は、混合可能な塗布液の流量がそれぞれ異なっている。
FIG. 6 is a schematic view showing a photoconductor manufacturing apparatus according to the fourth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, the
各スタティックミキサー51,52,53には、図示しない制御系によって開閉が制御される電磁弁54,55,56がそれぞれ設けられている。電磁弁34,55,56は、複数のスタティックミキサー51,52,53のうちいずれか一のスタティックミキサー51,52または53を介して粘度計13と2液溜めタンク6とが連通されるように制御系によってその開閉が駆動制御される。これによって、粘度計13から2液溜めタンク6の間において混合可能な塗布液の流量範囲(対象流量範囲)を可変することが可能となっている。ここに、流入量調整手段としての機能が実現される。
Each of the
制御系は、粘度計13を経由した塗布液がスタティックミキサー51,52または53のいずれか一つを経由して2液溜めタンク6に至る間に流量の調節が可能となるように、対象となる塗布液の種類に応じて電磁弁54,55,56の開閉状態を制御する。
The control system is configured so that the flow rate can be adjusted while the coating liquid passing through the
このような構成とすることによって、電磁弁54,55,56の開閉状態を、電磁弁54,55または56のいずれか一つが選択的に開放状態となるように制御することによって、塗布液の種類に応じて最適なスタティックミキサー51,52または53を選択することができるので、単一の感光体製造装置50において複数種類の塗布液の希釈および正確な粘度測定を行なうことができる。すなわち、実用上、用いる塗布液の種類が多数に亘る場合にも、単一の感光体製造装置50によって対応することで、複数種類の塗布液を用いる場合にも感光体の製造に際してのコストダウンを図ることができる。
By adopting such a configuration, the open / close state of the
次に、本発明の実施例について表1を参照して説明する。表1は、粘度計13の有無、希釈用循環経路の有無、スタティックミキサーの有無等に応じた各装置において、希釈液を混合した後の塗布液の均一性の評価を示している。
Next, examples of the present invention will be described with reference to Table 1. Table 1 shows the evaluation of the uniformity of the coating liquid after mixing the diluting liquid in each apparatus according to the presence or absence of the
なお、従来の技術として、特許文献1〜3に記載された方法を用いた。 In addition, the method described in patent documents 1-3 was used as a prior art.
表1からも判るように、本発明の各種実施の形態の感光体製造装置を用いて希釈した塗布液においては該塗布液の均一性が確保されていることが判る。 As can be seen from Table 1, it is understood that the uniformity of the coating solution is ensured in the coating solution diluted using the photoconductor manufacturing apparatus according to various embodiments of the present invention.
1 感光体製造装置
6 タンク
10 主循環経路
11 希釈用循環経路
12 送液手段
13 粘度計
14 スタティックミキサー
15 希釈タンク
15b 連通路
16 バイパス経路
30 感光体製造装置
31 液面検出手段
40 感光体製造装置
50 感光体製造装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (6)
前記タンクが保持する塗布液を所定経路に循環させる主循環経路と、
前記タンクが保持する塗布液を前記主循環経路とは異なる経路で循環させる希釈用循環経路と、
前記タンクが保持する塗布液を前記希釈用循環経路に送り出す送液手段と、
前記希釈用循環経路に設けられて前記希釈用循環経路中を循環する塗布液の粘度を測定する粘度計と、
前記希釈用循環経路における塗布液の循環方向に沿って前記粘度計よりも前記希釈用循環経路の下流側に設けられたスタティックミキサーと、
前記粘度計と前記スタティックミキサーとの間において前記塗布液の粘度よりも粘度の低い希釈液を供給する希釈液供給手段と、
塗布液の粘度測定に際しては前記粘度計による粘度測定可能な範囲内とし塗布液の希釈に際しては前記スタティックミキサーによる混合可能な範囲内となるように前記希釈用循環経路における塗布液の流量を調整する流入量調整手段と、
を具備する感光体製造装置。 A tank for holding the coating solution;
A main circulation path for circulating the coating liquid held by the tank in a predetermined path;
A dilution circulation path for circulating the coating liquid held by the tank through a path different from the main circulation path;
A liquid feeding means for feeding the coating liquid held by the tank to the circulation path for dilution;
A viscometer that is provided in the dilution circulation path and measures the viscosity of the coating liquid circulating in the dilution circulation path;
A static mixer provided on the downstream side of the circulation path for dilution from the viscometer along the circulation direction of the coating liquid in the circulation path for dilution;
A diluent supply means for supplying a diluent having a viscosity lower than the viscosity of the coating solution between the viscometer and the static mixer;
When measuring the viscosity of the coating solution, the flow rate of the coating solution in the circulation path for dilution is adjusted so that the viscosity can be measured by the viscometer, and the coating solution can be mixed by the static mixer when the coating solution is diluted. Inflow adjustment means;
A photoreceptor manufacturing apparatus comprising:
前記バイパス回路または前記粘度計に対して塗布液を選択的に流入させる経路選択手段と、
を具備し、
前記流入量調整手段は、塗布液の粘度測定に際しては塗布液が前記粘度計に流入し塗布液の希釈に際しては塗布液が前記バイパス経路に流入するように前記経路選択手段を制御する請求項1記載の感光体製造装置。 A bypass path communicated to bypass the viscometer with respect to the dilution circulation path;
Path selection means for selectively allowing a coating liquid to flow into the bypass circuit or the viscometer;
Comprising
2. The flow rate adjusting means controls the path selection means so that the coating liquid flows into the viscometer when measuring the viscosity of the coating liquid and the coating liquid flows into the bypass path when the coating liquid is diluted. The photoreceptor manufacturing apparatus according to claim.
前記流入量調整手段は、前記希釈タンクにおける希釈液の液面位置を検出する液面検出手段を有し、塗布液の粘度測定に際しては前記希釈タンクにおける希釈液の液面位置に応じて前記送液手段が送り出す塗布液の量を調整する請求項1記載の感光体製造装置。 The diluent supply means has a dilution tank that holds the diluent, and a communication path that connects the dilution tank and the dilution circulation path between the viscometer and the static mixer,
The inflow amount adjusting means has a liquid level detecting means for detecting a liquid level position of the dilution liquid in the dilution tank. When measuring the viscosity of the coating liquid, the inflow amount adjusting means is arranged according to the liquid level position of the dilution liquid in the dilution tank. 2. The photosensitive member manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the amount of the coating liquid sent out by the liquid means is adjusted.
前記流入量調整手段は、前記希釈液循環経路においていずれか一の前記スタティックミキサーを選択的に連通させる請求項1記載の感光体製造装置。
The static mixers have different target flow rates, and are positioned higher in the vertical direction than the liquid level of the coating liquid in the tank, and the upstream side is positioned in the vertical direction along the direction in which the coating liquid flows, and the downstream side A plurality are arranged so as to be positioned on the lower side in the vertical direction,
The photoconductor manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the inflow amount adjusting unit selectively communicates any one of the static mixers in the diluent circulation path.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003363777A JP4175511B2 (en) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | Photoconductor manufacturing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003363777A JP4175511B2 (en) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | Photoconductor manufacturing equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005128258A JP2005128258A (en) | 2005-05-19 |
JP4175511B2 true JP4175511B2 (en) | 2008-11-05 |
Family
ID=34642993
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003363777A Expired - Fee Related JP4175511B2 (en) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | Photoconductor manufacturing equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4175511B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7467279B2 (en) * | 2020-08-18 | 2024-04-15 | キオクシア株式会社 | Chemical application device and viscosity adjustment bottle |
CN112890265B (en) * | 2021-03-31 | 2023-05-30 | 安徽中烟再造烟叶科技有限责任公司 | Device and method for controlling physical index of dip-coating type coating liquid of reconstituted tobacco by papermaking method |
-
2003
- 2003-10-23 JP JP2003363777A patent/JP4175511B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005128258A (en) | 2005-05-19 |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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