JP4167689B2 - Inspection method for solder explosion of electronic parts - Google Patents

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Description

本発明は、電子部品の爆ぜ検査方法に係り、さらに詳しくは、電子部品の実装時に爆ぜ不良が発生する確率を、少ないサンプリング数で高い精度で検出することができる電子部品の爆ぜ検査方法に関する。   The present invention relates to an electronic component explosion inspection method, and more particularly to an electronic component explosion inspection method capable of detecting the probability of occurrence of an explosion failure when mounting an electronic component with high accuracy with a small number of samplings.

たとえばチップ型電子部品を回路基板に実装する際に、ハンダのリフロー処理により行われることが多い。このハンダのリフロー処理において、チップ型電子部品によっては、ハンダ爆ぜ現象が生じることがあることが知られている。   For example, when a chip-type electronic component is mounted on a circuit board, it is often performed by a solder reflow process. In this solder reflow process, it is known that a solder explosion phenomenon may occur depending on chip-type electronic components.

ハンダ爆ぜ現象は、溶融したハンダ中に何らかの経路から水分が侵入して水蒸気爆発を起こし、溶融したハンダを、約20μm程度の粒状に吹き飛ばす現象である。この爆ぜ現象が生じると、粒状に飛ばされたハンダが、本来接続すべきでない電極間を接続させて短絡現象を生じさせるおそれがある。また、粒状に飛ばされたハンダが、連結して接続され、ブリッジを形成することもある。   The solder explosion phenomenon is a phenomenon in which moisture enters a molten solder through a certain route to cause a steam explosion, and the molten solder is blown off to a particle size of about 20 μm. When this explosion phenomenon occurs, there is a possibility that the solder blown in a granular form may cause a short circuit phenomenon by connecting electrodes that should not be connected. In addition, solder that has been blown into particles may be connected and connected to form a bridge.

ハンダ爆ぜ現象が生じる原因としては、チップ型電子部品の電極内部に残留している水分が、リフロー処理時の加熱により気化して溶融ハンダ中に侵入するためではないかと考えられている。   It is thought that the cause of the solder explosion phenomenon is that moisture remaining inside the electrode of the chip-type electronic component is vaporized by heating during the reflow process and enters the molten solder.

そこで、チップ型電子部品の電極内部に含まれる水分を検出することにより、ハンダ爆ぜ現象が生じるおそれがある電子部品を検出する方法が特許文献1により提案されている。特許文献1に示す方法では、検査対象となる電子部品を、疎水性有機溶剤中に浸漬させて加熱し、電子部品中の残留水分を気化させて生じる気泡を視覚的に検出している。   Therefore, Patent Document 1 proposes a method of detecting an electronic component that may cause a solder explosion phenomenon by detecting moisture contained in the electrode of the chip-type electronic component. In the method shown in Patent Document 1, an electronic component to be inspected is immersed in a hydrophobic organic solvent and heated to visually detect bubbles generated by vaporizing residual moisture in the electronic component.

しかしながら、この特許文献1に示す方法では、外装樹脂を有する電子部品に関しては、ハンダ爆ぜ現象が生じるおそれがある電子部品を有効に検出することができないという課題を有していることが本発明者等により見出された。すなわち、特許文献1に示す方法により、外装樹脂を有する電子部品を、疎水性有機溶剤中に浸漬させて加熱した場合には、爆ぜ現象が生じるおそれがない良品である電子部品であっても、外装樹脂から気泡が発生し、爆ぜの原因となる水分による気泡との区別ができない。   However, the method disclosed in Patent Document 1 has a problem that an electronic component having an exterior resin cannot effectively detect an electronic component that may cause a solder explosion phenomenon. Etc. That is, according to the method shown in Patent Document 1, when an electronic component having an exterior resin is immersed in a hydrophobic organic solvent and heated, even if the electronic component is a non-defective product that does not cause the explosion phenomenon, Bubbles are generated from the exterior resin and cannot be distinguished from bubbles caused by moisture that causes explosion.

そこで、従来では、製造ロット毎に、ロットサイズの10%程度にも達する多数の電子部品をサンプリングして、実際にハンダリフロー処理を行い、爆ぜ現象が実際に生じるか否かで、その製造ロットの良または不良を判断する必要があった。そのため、多数の部品を試験する必要があり、電子部品の製造効率を悪化させていた。
特開2003−344329号公報
Therefore, conventionally, for each production lot, a large number of electronic components that reach about 10% of the lot size are sampled, solder reflow processing is actually performed, and whether the explosion phenomenon actually occurs or not is determined. It was necessary to judge whether it was good or bad. Therefore, it is necessary to test a large number of parts, which deteriorates the manufacturing efficiency of electronic parts.
JP 2003-344329 A

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、電子部品の実装時に爆ぜ不良が発生する確率を、少ないサンプリング数で高い精度で検出し、製造効率を高めることができる電子部品の爆ぜ検査方法を提供することである。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to detect the probability of occurrence of an explosion failure when mounting an electronic component with high accuracy with a small number of samplings, and to improve manufacturing efficiency. It is to provide an explosion inspection method.

上記目的を達成するために、本発明に係る電子部品の爆ぜ検査方法は、
電極と外装樹脂とを有する電子部品をハンダリフローにより実装する際に発生するおそれがある爆ぜ現象を検査する方法であって、
電極と外装樹脂とを有する前記電子部品のうちのいくつかをサンプリングして取り出す工程と、
サンプリングして取り出された前記電子部品を、60°C以上の液体中に20分以上浸漬する工程と、
前記液体から取り出されて乾燥された前記電子部品における前記電極に、ハンダリフロー処理を行い、爆ぜ現象が生じるか否かを検出する工程と、
を有する。
In order to achieve the above object, an electronic component explosion inspection method according to the present invention includes:
A method for inspecting an explosion phenomenon that may occur when an electronic component having an electrode and an exterior resin is mounted by solder reflow,
Sampling and taking out some of the electronic components having electrodes and exterior resin;
Immersing the electronic component sampled and taken out in a liquid at 60 ° C. or higher for 20 minutes or more;
A step of performing a solder reflow process on the electrode in the electronic component taken out from the liquid and dried to detect whether an explosion phenomenon occurs; and
Have

本発明では、電子部品を、60°C以上の液体中に20分以上浸漬することで、電子部品の電極に形成された空隙などの爆ぜ原因部分に水が入り込む。その後に、乾燥処理後の電子部品に対してハンダリフロー処理することで、電子部品の実装時に爆ぜ不良が発生する確率を、少ないサンプリング数で高い精度で検出することができる。   In the present invention, when the electronic component is immersed in a liquid at 60 ° C. or higher for 20 minutes or more, water enters the explosion-causing part such as a void formed in the electrode of the electronic component. Thereafter, by performing the solder reflow process on the electronic component after the drying process, it is possible to detect the probability of occurrence of explosion failure when mounting the electronic component with a small number of samplings and with high accuracy.

たとえば従来の方法では、電子部品の製造ロットから、ロットサイズの10%程度の個数でサンプリングして検査しないと、爆ぜ現象が生じるおそれがある電子部品を含む製造ロットを検出することができなかった。これに対して、本発明の方法によれば、電子部品の製造ロットから、ロットサイズの5%以下、さらには3%以下、特に1%以下の個数でサンプリングして検査しても、爆ぜ現象が生じるおそれがある電子部品を含む製造ロットを検出することが可能になる。その結果、本発明の方法を用いれば、検査用にサンプリングする電子部品の数を少なくすることが可能になり、製造効率が向上すると共に、検査に要する工数の削減も図ることが可能である。   For example, in the conventional method, it is not possible to detect a production lot including an electronic component that may cause an explosion phenomenon unless it is inspected by sampling about 10% of the lot size from the production lot of the electronic component. . On the other hand, according to the method of the present invention, even if sampling is performed from a lot of electronic parts manufactured at a number of 5% or less, further 3% or less, particularly 1% or less of the lot size, the explosion phenomenon occurs. It is possible to detect a production lot including electronic components that may cause As a result, the use of the method of the present invention makes it possible to reduce the number of electronic components to be sampled for inspection, thereby improving manufacturing efficiency and reducing the number of man-hours required for inspection.

液体から取り出した後の電子部品の乾燥は自然乾燥が好ましい。積極的に熱を加えると、その後の工程において、爆ぜ現象を検出する精度が低下するおそれがある。   The drying of the electronic component after taking out from the liquid is preferably natural drying. If heat is positively applied, there is a risk that the accuracy of detecting the explosion phenomenon will be reduced in the subsequent steps.

好ましくは、前記液体の主成分が水である。主成分が水であるとは、特に限定されないが、たとえば、水以外の成分としては、全体として5重量%以下程度しか含まれないことを意味する。   Preferably, the main component of the liquid is water. Although it is not specifically limited that a main component is water, For example, it means that only about 5 weight% or less is contained as a whole as components other than water.

好ましくは、前記液体には、アルコールおよび/または界面活性剤が含まれる。これらの成分は、表面張力を低下させることから好ましい。   Preferably, the liquid includes an alcohol and / or a surfactant. These components are preferable because they reduce the surface tension.

好ましくは、前記電子部品の製造ロットからサンプリングして検査した電子部品のうち、一つでも爆ぜ現象が生じたら、製造ロットに不良品が混入していると判断する。   Preferably, if any one of the electronic parts sampled and inspected from the production lot of the electronic parts is exploded, it is determined that a defective product is mixed in the production lot.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る表面実装型電子部品としてのコイルチップ部品の縦断面図、
図2は図1に示すコイルチップ部品の製造工程の一例を示すコイルチップ部品および金型の要部断面図、
図3は本発明の一実施形態に係るコイルチップ部品の検査方法で用いる液体加熱装置の要部断面図、
図4(A)および図4(B)はハンダリフロー処理における爆ぜ現象を説明する要部断面図、
図5は本発明の実施例に係る検査方法と従来の検査方法との比較を示すグラフ、
図6は浸漬温度と不良品発生率との関係を示すグラフ、
図7は浸漬時間と不良品発生率との関係を示すグラフである。
コイルチップ部品
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a coil chip component as a surface mount electronic component according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of main parts of a coil chip part and a mold showing an example of a manufacturing process of the coil chip part shown in FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part of a liquid heating device used in the method for inspecting a coil chip component according to an embodiment of the present invention.
4 (A) and 4 (B) are main part sectional views for explaining the explosion phenomenon in the solder reflow process,
FIG. 5 is a graph showing a comparison between an inspection method according to an embodiment of the present invention and a conventional inspection method;
FIG. 6 is a graph showing the relationship between the immersion temperature and the defective product occurrence rate,
FIG. 7 is a graph showing the relationship between the immersion time and the defective product incidence.
Coil chip parts

まず、本発明の一実施形態に係る検査方法の対象となる表面実装型電子部品について説明する。図1に示すように、本発明の一実施形態に係る表面実装型電子部品としてのコイルチップ部品2は、コア部(芯材)としてのドラムコア4を有する。ドラムコア4は、フェライト材料で構成してある。ドラムコア4は、コイル部10を構成するワイヤ10aが、コア4の軸方向に沿って巻回してある巻芯部4aを有する。   First, a surface mount electronic component that is an object of an inspection method according to an embodiment of the present invention will be described. As shown in FIG. 1, a coil chip component 2 as a surface mount electronic component according to an embodiment of the present invention has a drum core 4 as a core portion (core material). The drum core 4 is made of a ferrite material. The drum core 4 has a core part 4 a in which a wire 10 a constituting the coil part 10 is wound along the axial direction of the core 4.

巻芯部4aの軸方向の両端である第1端部および第2端部には、それぞれ第1フランジ4bおよび第2フランジ4cが一体に形成してある。第1フランジ4bおよび第2フランジ4cの外形寸法は、巻芯部4aの外径寸法よりも大きくなっている。   A first flange 4b and a second flange 4c are integrally formed at the first end and the second end, which are both ends in the axial direction of the core 4a. The outer dimensions of the first flange 4b and the second flange 4c are larger than the outer diameter of the core 4a.

巻芯部4aの横断面は、特に限定されず、長方形断面、円形断面、あるいは、その他の断面形状であっても良い。第1フランジ4bおよび第2フランジ4cの横断面形状は、長方形断面などの角形形状である。第1フランジ4bおよび第2フランジ4cは、同じサイズであり、たとえば縦が0.82mm、横が0.30mm程度である。また、巻芯部4aの外径は、0.42mm程度である。ドラムコア4の軸方向全長(部品2の全長と略同じ)L0は、1.637mm程度である。   The cross section of the core part 4a is not particularly limited, and may be a rectangular cross section, a circular cross section, or other cross sectional shapes. The cross-sectional shape of the first flange 4b and the second flange 4c is a square shape such as a rectangular cross section. The 1st flange 4b and the 2nd flange 4c are the same size, for example, length is about 0.82 mm and width is about 0.30 mm. Moreover, the outer diameter of the core part 4a is about 0.42 mm. The total axial length L0 of the drum core 4 (substantially the same as the total length of the component 2) L0 is about 1.637 mm.

図1に示すように、コイル部10を構成するワイヤ10aの両端に形成してある継線部10bおよび10cは、各フランジ4bおよび4cの外周位置において、下地電極層20と接続される。ワイヤ10aの継線部10bおよび10cは、下地電極層20が形成された後に、各フランジ4bおよび4cの外周に熱圧着などの手段で固定され、これらの継線接続が確保される。   As shown in FIG. 1, the connecting portions 10b and 10c formed at both ends of the wire 10a constituting the coil portion 10 are connected to the base electrode layer 20 at the outer peripheral positions of the flanges 4b and 4c. The connecting portions 10b and 10c of the wire 10a are fixed to the outer circumferences of the flanges 4b and 4c by means such as thermocompression bonding after the base electrode layer 20 is formed, and these connecting connections are ensured.

下地電極層20は、1層目が1.0〜2.0μmの無電解Niメッキ、2層目が1.0〜2.0μmの電解Niメッキである。   The base electrode layer 20 is an electroless Ni plating having a first layer of 1.0 to 2.0 μm and a second layer of electrolytic Ni plating having a thickness of 1.0 to 2.0 μm.

下地電極層20と継線部10bおよび10cが接続された後、コイル部10が形成してある巻芯部4aの外周凹部に、樹脂をモールド成形して外装樹脂部30が形成される。外装樹脂部30を構成する樹脂としては、特に限定されず、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリエステル樹脂などが例示される。   After the base electrode layer 20 and the connecting portions 10b and 10c are connected, the outer resin portion 30 is formed by molding a resin in the outer circumferential concave portion of the core portion 4a where the coil portion 10 is formed. It does not specifically limit as resin which comprises the exterior resin part 30, An epoxy resin, a phenol resin, a diallyl phthalate resin, a polyester resin etc. are illustrated.

外装樹脂部30は、たとえば図2に示す金型80および82を用いて成型される。図2に示すように、金型80および82が閉じることにより形成される複数のキャビティ84の内部に、コイル部10が形成してある継線済のドラムコア4を、隣接するドラムコア4の第1フランジ4bの端面が、隣のドラムコア4の第2フランジの端面に接触するように、軸方向に並んで配置する。   The exterior resin part 30 is molded using, for example, molds 80 and 82 shown in FIG. As shown in FIG. 2, the connected drum core 4 in which the coil portion 10 is formed inside the plurality of cavities 84 formed by closing the molds 80 and 82 is connected to the first drum core 4 of the adjacent drum core 4. It arrange | positions along with an axial direction so that the end surface of the flange 4b may contact the end surface of the 2nd flange of the adjacent drum core 4. FIG.

金型80および82には、隣接して配置されたドラムコア4の第1フランジ4bと第2フランジ4cとの接触部外周を保持する保持用凸部86が形成してあり、その両側に、図1に示す樹脂製フランジ被覆部30aを形成するための周方向隙間88が形成してある。周方向隙間88は、キャビティ84に連通してあり、キャビティ84に樹脂を射出して成形し、金型80,82を開くことで、図1に示すフランジ被覆部30aを有する外装樹脂部30が一体化された複数の素子本体5が得られる。外装樹脂部30の4側面は、それぞれ平坦面である。   The molds 80 and 82 are formed with holding convex portions 86 for holding the outer periphery of the contact portion between the first flange 4b and the second flange 4c of the drum core 4 disposed adjacent to each other. A circumferential gap 88 for forming the resin flange covering portion 30a shown in FIG. The circumferential gap 88 communicates with the cavity 84, and resin is injected into the cavity 84 and molded, and the molds 80 and 82 are opened, so that the exterior resin part 30 having the flange covering part 30a shown in FIG. A plurality of integrated element bodies 5 are obtained. The four side surfaces of the exterior resin part 30 are flat surfaces.

各素子本体5の外装樹脂部30の外径寸法は、第1フランジ4bおよび第2フランジ4cの外形寸法(コア部の最大外形寸法)よりも大きくなり、第1フランジ4bおよび第2フランジ4cの外周には、所定厚みのフランジ被覆部30aが形成される。フランジ被覆部30aは、外装樹脂部30と一体に成型され、フランジ部4b,4cの外周を、内側から外側に向けて軸方向途中位置まで覆うように形成してある。   The outer diameter of the exterior resin portion 30 of each element body 5 is larger than the outer dimensions (the maximum outer dimensions of the core portion) of the first flange 4b and the second flange 4c, and the first flange 4b and the second flange 4c. A flange covering portion 30a having a predetermined thickness is formed on the outer periphery. The flange covering portion 30a is formed integrally with the exterior resin portion 30, and is formed so as to cover the outer periphery of the flange portions 4b and 4c from the inner side to the outer side to the middle position in the axial direction.

このフランジ被覆部30aの厚みは、後述する段差状凹部50の深さH1に対応する。また、このフランジ被覆部30aの軸方向の長さは、後述する段差状凹部50の軸方向幅(W1)を適切に調整するように決定される。   The thickness of the flange covering portion 30a corresponds to the depth H1 of the step-shaped recess 50 described later. Further, the axial length of the flange covering portion 30a is determined so as to appropriately adjust the axial width (W1) of the step-shaped recess 50 described later.

外装樹脂部30が形成された後に、素子本体5の軸方向両端部に、一対の端部電極40を形成することで、コイルチップ部品2が得られる。端部電極40は、外装樹脂部30を形成した後に形成される。   After the exterior resin portion 30 is formed, the coil chip component 2 is obtained by forming a pair of end electrodes 40 at both axial ends of the element body 5. The end electrode 40 is formed after the exterior resin part 30 is formed.

この実施形態では、各端部電極40は、1層目が1.0〜2.0μmの無電解Niメッキ、2層目が1.0〜2.0μmの電解Niメッキ、3層目が3.0〜4.0μmの電解Snメッキである。端部電極40の厚みは、8μm以下である。   In this embodiment, each end electrode 40 has electroless Ni plating of 1.0 to 2.0 μm for the first layer, electrolytic Ni plating of 1.0 to 2.0 μm for the second layer, and 3 for the third layer. Electrolytic Sn plating of 0.0 to 4.0 μm. The thickness of the end electrode 40 is 8 μm or less.

各端部電極40は、各フランジ4b,4cの端面から当該フランジ4b,4cの外周面を直接に覆うと共に、外装樹脂部30のフランジ被覆部30aを覆うように、段差状に形成してある。各端部電極40は、各フランジ4b,4cの端面と、当該フランジ4b,4cの外周面の一部で、下地電極層20および継線部10bおよび10cに対して直接に接続してある。しかも、各端部電極40は、外装樹脂部30のフランジ被覆部30aを覆うように形成してあることから、各端部40の外周面には、周方向に連続する段差状凹部50が形成される。   Each end electrode 40 is formed in a stepped shape so as to directly cover the outer peripheral surface of the flange 4b, 4c from the end face of each flange 4b, 4c and to cover the flange covering portion 30a of the exterior resin portion 30. . Each end electrode 40 is directly connected to the base electrode layer 20 and the connecting portions 10b and 10c at the end surfaces of the flanges 4b and 4c and a part of the outer peripheral surface of the flanges 4b and 4c. Moreover, since each end electrode 40 is formed so as to cover the flange covering portion 30a of the exterior resin portion 30, a step-like recess 50 that is continuous in the circumferential direction is formed on the outer peripheral surface of each end portion 40. Is done.

図1に示すように、段差状凹部50は、素子本体5の軸方向端面から所定幅(W1)で形成してあり、各端部電極の全幅(W0)に対しての比率(W1/W0)が、好ましくは0.1〜0.8、さらに好ましくは0.3〜0.6である。比率(W1/W0)を上記範囲にすることで、端部電極40とコイルの継線部10b,10cとの接続が十分に確保され、端部電極40と外装樹脂部30との接合強度も高い。また、この範囲にすることで、ツームストーン現象を抑制させる効果が大きい。   As shown in FIG. 1, the step-shaped recess 50 is formed with a predetermined width (W1) from the axial end surface of the element body 5, and the ratio (W1 / W0) to the total width (W0) of each end electrode. ) Is preferably 0.1 to 0.8, more preferably 0.3 to 0.6. By setting the ratio (W1 / W0) within the above range, the connection between the end electrode 40 and the coil connecting portions 10b and 10c is sufficiently secured, and the bonding strength between the end electrode 40 and the exterior resin portion 30 is also high. high. Moreover, the effect which suppresses a tombstone phenomenon is large by setting it as this range.

なお、ツームストーン現象とは、表面実装型電子部品を基板へ実装する時に、電子部品の両端部に形成してある端部電極のハンダペースト面で発生するモーメントのアンバランスにより、電子部品が立ち上がってしまい、接合不良となる現象である。   The tombstone phenomenon means that when an electronic component is mounted on a substrate, the electronic component starts up due to an imbalance of moments generated on the solder paste surfaces of the end electrodes formed at both ends of the electronic component. This is a phenomenon that results in poor bonding.

また、段差状凹部50は、各端部電極40の最大外周面寸法からの深さ(H1)が10〜40μmとなるように形成してある。深さH1をこの範囲にすることで、端部電極40とコイルの継線部10b,10cとの接続が十分に確保され、端部電極40と外装樹脂部30との接合強度も高い。また、この範囲にすることで、ツームストーン現象を抑制させる効果が大きい。また、この深さH1が深すぎると、限られたチップサイズでは、相対的に、ドラムコア4におけるフランジ部4b,4cの最大外形寸法が小さくなり、電気的な性能が低下してしまう傾向にある。   Further, the stepped recess 50 is formed such that the depth (H1) from the maximum outer peripheral surface dimension of each end electrode 40 is 10 to 40 μm. By setting the depth H1 within this range, the connection between the end electrode 40 and the coil connection portions 10b and 10c is sufficiently secured, and the bonding strength between the end electrode 40 and the exterior resin portion 30 is also high. Moreover, the effect which suppresses a tombstone phenomenon is large by setting it as this range. On the other hand, if the depth H1 is too deep, the maximum outer dimensions of the flange portions 4b and 4c in the drum core 4 are relatively small with a limited chip size, and the electrical performance tends to deteriorate. .

各端部電極40の最大外周面の全高さ(H0)に対して段差状凹部50の深さ(H1)の比率(H1/H0)は、0.011〜0.045の範囲にある。この比率の範囲に設定することで、端部電極40とコイルの継線部10b,10cとの接続が十分に確保され、端部電極40と外装樹脂部30との接合強度も高い。また、この範囲にすることで、ツームストーン現象を抑制させる効果が大きい。   The ratio (H1 / H0) of the depth (H1) of the stepped recess 50 to the total height (H0) of the maximum outer peripheral surface of each end electrode 40 is in the range of 0.011 to 0.045. By setting the ratio within this range, the connection between the end electrode 40 and the coil connecting portions 10b and 10c is sufficiently secured, and the bonding strength between the end electrode 40 and the exterior resin portion 30 is also high. Moreover, the effect which suppresses a tombstone phenomenon is large by setting it as this range.

本実施形態では、特に、チップの最大高さH0が、0.9mm以下の小型で、5mg以下の軽量なコイルチップ部品2であっても、実装に際してのハンダのリフロー時に、端部電極40の底面に形成してある段差状凹部50と基板60との隙間にハンダが入り込む。その段差状凹部50は、端部電極40の周方向に連続して形成してあるために、ハンダの回り込み量も十分に確保することができる。その結果、いわゆるツームストーン現象を効果的に防止することができ、実装不良を防止することができる。   In the present embodiment, in particular, even when the chip maximum height H0 is a small coil chip part 2 having a size of 0.9 mm or less and a light weight of 5 mg or less, the end electrode 40 of the end electrode 40 is reflowed during solder reflow. Solder enters the gap between the stepped recess 50 formed on the bottom surface and the substrate 60. Since the step-shaped recess 50 is formed continuously in the circumferential direction of the end electrode 40, a sufficient amount of solder can be secured. As a result, the so-called tombstone phenomenon can be effectively prevented and mounting defects can be prevented.

たとえば従来のコイルチップ部品(段差状凹部50がない)では、10万個に10個程度の割合で、ツームストーン現象が生じていたのに対して、本発明の実施例(段差状凹部50がある)では、ツームストーン現象が生じたものは0個であった。   For example, in the conventional coil chip component (there is no stepped recess 50), the tombstone phenomenon occurred at a ratio of about 10 per 100,000, whereas the embodiment of the present invention (the stepped recess 50) In some cases, no tombstone phenomenon occurred.

また、本実施形態では、段差状凹部50にハンダが回り込むことで、ハンダにより形成されるフィレットの大きさを小さくしても十分な接合強度が得られ、高密度な実装が可能になる。   Further, in the present embodiment, since the solder wraps around the stepped recess 50, sufficient bonding strength can be obtained even when the size of the fillet formed by the solder is reduced, and high-density mounting is possible.

また、本実施形態では、フランジ4b,4cの最大外形寸法よりも大きな外形寸法を有する外装樹脂部30の両端部外周を覆うように、端部電極40を形成することで、段差状凹部50を形成してある。このために、フランジ自体に加工する必要はなく、フランジの体積が減少することはなく、コイルチップとしての性能には全く影響しない。しかも、樹脂成形により段差状凹部50を形成することができるので、製造工程が煩雑になることもない。   In the present embodiment, the stepped recess 50 is formed by forming the end electrode 40 so as to cover the outer periphery of both ends of the exterior resin part 30 having an outer dimension larger than the maximum outer dimension of the flanges 4b and 4c. It is formed. For this reason, it is not necessary to process the flange itself, the volume of the flange does not decrease, and the performance as a coil chip is not affected at all. Moreover, since the stepped recess 50 can be formed by resin molding, the manufacturing process is not complicated.

さらに本実施形態では、図1に示す各端部電極40の軸方向幅W0を、好ましくは0.41mmとすることで、端部電極40の縁部間に位置する外装樹脂部30の平坦面30bの軸方向幅L1を0.817mm程度にすることができる。この平坦面30bの軸方向幅L1は、部品2の全長L0に対して、30〜70%の長さである。   Furthermore, in this embodiment, the axial width W0 of each end electrode 40 shown in FIG. 1 is preferably 0.41 mm, so that the flat surface of the exterior resin portion 30 located between the edges of the end electrode 40 is provided. The axial width L1 of 30b can be about 0.817 mm. The axial width L1 of the flat surface 30b is 30 to 70% of the total length L0 of the component 2.

このような軸方向長さL1を有する外装樹脂部30の上側平坦部30bは、吸着ノズルにより良好に吸着保持が可能である。しかも、端部電極40の厚みが8μm以下と薄いので、吸着ノズルの端が端部電極40の上に位置したとしても、吸着ノズルにより吸着作用はそれほど低下せず、十分な吸着力で部品を保持することができる。
コイルチップ部品の検査方法
The upper flat portion 30b of the exterior resin portion 30 having such an axial length L1 can be favorably sucked and held by the suction nozzle. In addition, since the thickness of the end electrode 40 is as thin as 8 μm or less, even if the end of the suction nozzle is positioned on the end electrode 40, the suction action is not reduced so much by the suction nozzle, and the part can be mounted with sufficient suction force. Can be held.
Inspection method of coil chip parts

上述した外装樹脂30を持つコイルチップ部品2などの電子部品を回路基板などに実装する際に発生するおそれがあるハンダ爆ぜ現象を検査するために、本実施形態では、以下に示す方法により、電子部品を検査している。   In order to inspect a solder explosion phenomenon that may occur when an electronic component such as the coil chip component 2 having the exterior resin 30 described above is mounted on a circuit board or the like, in the present embodiment, the electronic Inspecting parts.

すなわち、上述した方法により製造されたコイルチップ部品2のうち、製造ロット毎に、たとえばロットサイズ50000個に対して、500個のサンプリング数(ロットサイズに対して1%)で、コイルチップ部品2を取り出す。これらのサンプリングされたコイルチップ部品2は、まず、図3に示すように、ホットプレート75などの加熱装置により加熱された容器73内の液体71内で、所定時間加熱される。   That is, among the coil chip parts 2 manufactured by the above-described method, for each lot, for example, for a lot size of 50000 pieces, the sampling number of 500 pieces (1% with respect to the lot size), the coil chip part 2 Take out. These sampled coil chip components 2 are first heated for a predetermined time in a liquid 71 in a container 73 heated by a heating device such as a hot plate 75 as shown in FIG.

液体71は、水を主成分としているが、アルコールや界面活性剤が添加してあっても良い。アルコールや界面活性剤の添加量は、特に限定されないが、好ましくは5重量%以下程度である。これらの添加量が多すぎると、水分の相対的減少による検出精度の低下となる傾向にある。アルコールや界面活性剤を、水に添加することで、液体71の表面張力が低下し、後述する爆ぜの原因部分に水が入り込みやすくなる。   The liquid 71 contains water as a main component, but alcohol or a surfactant may be added. The amount of alcohol or surfactant added is not particularly limited, but is preferably about 5% by weight or less. If the amount added is too large, the detection accuracy tends to decrease due to a relative decrease in moisture. By adding alcohol or a surfactant to water, the surface tension of the liquid 71 is lowered, and water easily enters the cause of the explosion described later.

液体71の加熱温度は、好ましくは60°C以上、さらに好ましくは70〜80°Cであり、コイルチップ部品2の液体71中への浸漬時間は、好ましくは20分以上、さらに好ましくは25〜35分である。このような加熱温度および浸漬時間で、コイルチップ部品2を液体中に浸漬することにより、不良品となる予定のコイルチップ部品2の端部電極40に形成された空隙などの爆ぜ原因部分に水が入り込む。   The heating temperature of the liquid 71 is preferably 60 ° C. or more, more preferably 70 to 80 ° C., and the immersion time of the coil chip component 2 in the liquid 71 is preferably 20 minutes or more, more preferably 25 to 25 ° C. 35 minutes. By immersing the coil chip part 2 in the liquid at such a heating temperature and immersion time, water is blown to the explosion-causing part such as a gap formed in the end electrode 40 of the coil chip part 2 that is to be a defective product. Enters.

その後に、コイルチップ部品2を液体71から取り出し、自然乾燥し、つぎに、図4(A)に示すように、コイルチップ部品2を、回路基板70のランド72の上に設置してあるハンダ74上に各端部電極40の底面が位置するように設置する。その後に、図4(B)に示すように、ハンダのリフロー処理を行えば、ハンダ74が溶融しながら、各端部電極40の端面を表面張力により上っていく。   Thereafter, the coil chip component 2 is taken out from the liquid 71 and dried naturally. Next, as shown in FIG. 4A, the coil chip component 2 is installed on the land 72 of the circuit board 70. It is installed so that the bottom surface of each end electrode 40 is positioned on 74. Thereafter, as shown in FIG. 4B, when the solder reflow process is performed, the end surfaces of the end electrodes 40 are raised by the surface tension while the solder 74 is melted.

その際に、端部電極40に爆ぜ原因部分が存在する場合には、溶融ハンダ74が端部電極40の端面を表面張力により上っていく過程において、ハンダ爆ぜ現象が生じ、ハンダ粒74aを、端部電極40の外側に向けて吹き出すことになる。本実施形態の検査方法では、乾燥処理後のコイルチップ部品2に対してハンダリフロー処理することで、コイルチップ部品2の実装時に爆ぜ不良が発生する確率を、少ないサンプリング数で高い精度で検出することができる。   At this time, if there is an explosion cause portion in the end electrode 40, a solder explosion phenomenon occurs in the process in which the molten solder 74 moves up the end surface of the end electrode 40 due to surface tension, and the solder particles 74a are separated. Then, it blows out toward the outside of the end electrode 40. In the inspection method of the present embodiment, the probability that an explosion failure will occur when the coil chip part 2 is mounted is detected with high accuracy with a small number of samplings by performing a solder reflow process on the coil chip part 2 after the drying process. be able to.

たとえば従来の検査方法では、コイルチップ部品2を加熱液体中に浸漬しないで、爆ぜ検査を行っていたために、たとえばロットサイズ50000個に対して、5000個(10%)のサンプリングを行い、実装評価を行っていた。このために、実際にハンダ爆ぜ現象が目視により確認できた電子部品の数(不良品発生率)は、5個(0.1%)であった。   For example, in the conventional inspection method, the explosive inspection is performed without immersing the coil chip component 2 in the heated liquid. Therefore, for example, 5000 (10%) sampling is performed for 50000 lot sizes, and mounting evaluation is performed. Had gone. For this reason, the number of electronic components (defective product occurrence rate) in which the solder explosion phenomenon was actually confirmed visually was 5 (0.1%).

これに対して、本発明の実施例では、図3に示す液体71として純水を用い、コイルチップ部品2の加熱温度を75°Cとし、30分間、コイルチップ部品2を浸漬した後自然乾燥し、その後に、実装評価を行った。   On the other hand, in the embodiment of the present invention, pure water is used as the liquid 71 shown in FIG. 3, the heating temperature of the coil chip component 2 is set to 75 ° C., and the coil chip component 2 is immersed for 30 minutes and then naturally dried. Then, implementation evaluation was performed.

本実施例では、同じ製造ロットのコイルチップ部品2において、ロットサイズ50000個に対して、5000個(10%)のサンプリングを行うと、ハンダ爆ぜ現象が目視により確認できた電子部品の数(不良品発生率)は、65個(1.3%)であった。これらの結果を図5に示す。すなわち、本発明の実施例の検査方法では、従来の検査方法に比較して、感度が13倍(65/5)となる。   In the present example, when 5000 pieces (10%) are sampled with respect to a lot size of 50000 pieces in the coil chip part 2 of the same production lot, the number of electronic parts in which the solder explosion phenomenon can be visually confirmed (indefinite) The occurrence rate of non-defective products was 65 (1.3%). These results are shown in FIG. That is, in the inspection method according to the embodiment of the present invention, the sensitivity is 13 times (65/5) compared to the conventional inspection method.

本発明の実施例の方法では、検査の感度が13倍となることから、爆ぜ検査に要するサンプリング数を、従来の5000個に対して、1/13の約400個程度にすることができる。この場合のサンプリング数400個は、ロットサイズ全体が50000個なので、ロットサイズに対して、0.8%となり、1%以下となる。   In the method of the embodiment of the present invention, since the inspection sensitivity is 13 times, the number of samplings required for the explosion inspection can be reduced to about 400, which is 1/13 compared to the conventional 5000. In this case, the number of samplings of 400 is 50,000 for the entire lot size, and is 0.8% of the lot size, which is 1% or less.

すなわち、本発明の実施例では、ロットサイズの5%以下、好ましくは3%以下、さらに好ましくは1%以下の個数でサンプリングして検査した場合に、そのうちの一つでも爆ぜ現象が生じたら、製造ロットに不良品が混入していると判断することができる。したがって、本実施例では、コイルチップ部品2の実装時に爆ぜ不良が発生する確率を、少ないサンプリング数で高い精度で検出することができる。   That is, in the embodiment of the present invention, when a sample is inspected by sampling at a number of 5% or less, preferably 3% or less, more preferably 1% or less of the lot size, if any one of the explosions occurs, It can be determined that defective products are mixed in the production lot. Therefore, in this embodiment, the probability of occurrence of explosion failure when the coil chip component 2 is mounted can be detected with high accuracy with a small number of samplings.

なお、本発明の別の実施例では、図3に示す液体71として純水を用い、図6に示すように、浸漬時間を20分に固定し、浸漬温度と、不良品発生率との関係を求めた。図6に示すように、浸漬温度が、60°C以上になる場合に、不良品を発見する確率(不良品発生率)が高くなり、80度以上では、ほとんど変わらないことが確認された。このため、浸漬温度は、好ましくは60°C以上、さらに好ましくは70〜80°Cであることが確認できた。   In another embodiment of the present invention, pure water is used as the liquid 71 shown in FIG. 3, the immersion time is fixed at 20 minutes, as shown in FIG. 6, and the relationship between the immersion temperature and the defective product occurrence rate. Asked. As shown in FIG. 6, when the immersion temperature was 60 ° C. or higher, the probability of finding a defective product (defective product occurrence rate) was increased, and it was confirmed that there was almost no change at 80 ° C. or higher. For this reason, it has confirmed that immersion temperature became like this. Preferably it is 60 degreeC or more, More preferably, it is 70-80 degreeC.

また、本発明の他の実施例では、図3に示す液体71として純水を用い、図7に示すように、浸漬温度を60°Cに固定し、浸漬時間と、不良品発生率との関係を求めた。図7に示すように、浸漬時間が、20分以上になる場合に、不良品を発見する確率(不良品発生率)が高くなり、35分以上では、ほとんど変わらないことが確認された。このため、浸漬時間は、好ましくは20分以上、さらに好ましくは25〜35分であることが確認できた。   Further, in another embodiment of the present invention, pure water is used as the liquid 71 shown in FIG. 3, and the immersion temperature is fixed at 60 ° C. as shown in FIG. Sought a relationship. As shown in FIG. 7, it was confirmed that when the immersion time was 20 minutes or longer, the probability of finding a defective product (defective product occurrence rate) was increased, and almost no change was observed after 35 minutes. For this reason, it has confirmed that immersion time became like this. Preferably it is 20 minutes or more, More preferably, it is 25-35 minutes.

なお、本発明は、上述した実施形態および実施例に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
たとえば、本発明に係る検査方法の対象となる電子部品の具体的な断面構造は、図1に示す実施形態に限定されず、種々の態様があり得る。
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and can be variously modified within the scope of the present invention.
For example, the specific cross-sectional structure of the electronic component that is the target of the inspection method according to the present invention is not limited to the embodiment shown in FIG. 1 and can have various aspects.

図1は本発明の一実施形態に係る表面実装型電子部品としてのコイルチップ部品の縦断面図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a coil chip component as a surface mount electronic component according to an embodiment of the present invention. 図2は図1に示すコイルチップ部品の製造工程の一例を示すコイルチップ部品および金型の要部断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part of a coil chip part and a mold showing an example of a manufacturing process of the coil chip part shown in FIG. 図3は本発明の一実施形態に係るコイルチップ部品の検査方法で用いる液体加熱装置の要部断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the main part of the liquid heating apparatus used in the coil chip component inspection method according to one embodiment of the present invention. 図4(A)および図4(B)はハンダリフロー処理における爆ぜ現象を説明する要部断面図である。4 (A) and 4 (B) are cross-sectional views of relevant parts for explaining the explosion phenomenon in the solder reflow process. 図5は本発明の実施例に係る検査方法と従来の検査方法との比較を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing a comparison between the inspection method according to the embodiment of the present invention and the conventional inspection method. 図6は浸漬温度と不良品発生率との関係を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing the relationship between the immersion temperature and the defective product occurrence rate. 図7は浸漬時間と不良品発生率との関係を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing the relationship between the immersion time and the defective product incidence.

符号の説明Explanation of symbols

2… コイルチップ部品
4… ドラムコア
4a… 巻芯部
4b… 第1フランジ
4c… 第2フランジ
5… 素子本体
10… コイル部
10a… ワイヤ
10b,10c… 継線部
20… 下地電極層
30… 外装樹脂部
30a… フランジ被覆部
30b… 平坦面
40… 端部電極
50… 段差状凹部
60… 基板
70… 回路基板
71… 液体
72… ランド
73… 容器
74… ハンダ
74a… ハンダ粒
75… ホットプレート
80,82… 金型
84… キャビティ
86… 保持用凸部
88… 周方向隙間
DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 ... Coil chip component 4 ... Drum core 4a ... Core part 4b ... 1st flange 4c ... 2nd flange 5 ... Element main body 10 ... Coil part 10a ... Wire 10b, 10c ... Connection part 20 ... Underlayer electrode layer 30 ... Exterior resin Part 30a ... Flange coating part 30b ... Flat surface 40 ... End electrode 50 ... Stepped recess 60 ... Substrate 70 ... Circuit board 71 ... Liquid 72 ... Land 73 ... Container 74 ... Solder 74a ... Solder grain 75 ... Hot plate 80, 82 ... Mold 84 ... Cavity 86 ... Holding convex part 88 ... Circumferential clearance

Claims (4)

電極と外装樹脂とを有する電子部品をハンダリフローにより実装する際に発生するおそれがあるハンダ爆ぜ現象を検査する方法であって、
電極と外装樹脂とを有する前記電子部品のうちのいくつかをサンプリングして取り出す工程と、
サンプリングして取り出された前記電子部品を、主成分が水である60°C以上の液体中に20分以上浸漬する工程と、
前記液体から取り出されて乾燥された前記電子部品における前記電極に、ハンダリフロー処理を行い、ハンダ爆ぜ現象が生じるか否かを検出する工程と、
を有し、
前記電子部品の製造ロットからサンプリングして検査した電子部品のうち、一つでも爆ぜ現象が生じたら、製造ロットに不良品が混入していると判断することを特徴とする電子部品のハンダ爆ぜ検査方法。
A method for inspecting a solder explosion phenomenon that may occur when an electronic component having an electrode and an exterior resin is mounted by solder reflow,
Sampling and taking out some of the electronic components having electrodes and exterior resin;
Immersing the electronic component sampled and taken out in a liquid of 60 ° C. or higher whose main component is water for 20 minutes or more;
A step of performing a solder reflow process on the electrode in the electronic component taken out from the liquid and dried to detect whether or not a solder explosion phenomenon occurs;
I have a,
Wherein one of the electronic components the electronic components examined by sampling from the production lot, when phenomenon occurs popping even one, soldering of electronic components, characterized in that defective products in the production lot is determined to be contaminated bursting test Method.
前記電子部品を前記液体中に浸漬する工程において、
前記電極に爆ぜ原因部分が存在する場合は、前記液体が前記爆ぜ原因部分に入り込むことを特徴とする請求項1に記載の電子部品のハンダ爆ぜ検査方法。
In the step of immersing the electronic component in the liquid,
If the cause partial bursting on the electrode is present, the solder popping test method for an electronic component according to claim 1, wherein the liquid is characterized in that entering the bursting due portion.
前記液体には、アルコールおよび/または界面活性剤が含まれる請求項1または2に記載の電子部品のハンダ爆ぜ検査方法。   The solder explosion test method for an electronic component according to claim 1, wherein the liquid contains alcohol and / or a surfactant. 前記電子部品の製造ロットから、ロットサイズの5%以下の個数でサンプリングして検査することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の電子部品のハンダ爆ぜ検査方法。 4. The electronic component solder explosion inspection method according to claim 1, wherein the electronic component manufacturing lot is sampled and inspected at a number of 5% or less of the lot size.
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