JP4161093B2 - 連続高圧処理における制御方法および制御装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、連続高圧処理における制御方法および制御装置に関し、特に、電流制御等により物性の良好な原料を得るための新規な改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、食品、薬品、化粧品などの製造過程において、油脂組成物などからなる比較的高粘度の液体状の原料を、混合物あるいは添加物とともに高圧下で連続的に加工処理することが行われている。このような加工処理を行う処理装置および処理過程で重要な原料の温度制御の事例として、図3の連続高圧処理における処理装置の構成および図4の連続高圧処理装置における原料温度の制御機能フローを示すことができる。
【0003】
図3において、符号50で示されるものは連続高圧処理装置であり、この連続高圧処理装置50は、処理工程の上流側から下流側へ、原料25が供給される供給タンク9、加圧ポンプ1、第1、第2処理容器6、6a、減圧ポンプ2および熟成機17が順次配列して構成され、これらは原料配管5により連結されている。前記供給タンク9には攪拌機9aが設けられ、加圧ポンプ1および減圧ポンプ2は、加圧ポンプ1の吐出量が減圧ポンプ2の吐出量よりも大きくなるように、第1、第2駆動機1a、2aにより駆動されている。直列に配列された第1、第2の処理容器6、6aは、それぞれ、第1、第2モータ7、7aにより外部駆動される第1、第2攪拌機60、61が内挿され、外周に第1、第2冷却部110、110aが設けられている。各冷却部110、110aには、図示しない冷却装置から冷媒供給配管111により冷媒110Aが供給され、冷媒排出配管111a、111bにより排出回収されている。
【0004】
前記加圧ポンプ1と第1処理容器6間の原料配管5には、安全弁12および第1圧力センサ8が設けられている。前記第1処理容器6と第2処理容器6a間の原料配管5には、第2圧力センサ8aおよび第1原料温度検出用センサ14が設けられている。前記第2処理容器6aと減圧ポンプ2間の原料配管5には、第2原料温度検出用センサ14aおよびエア抜き弁13が設けられている。前記冷媒排出配管111a、111bには、それぞれ第1冷媒量調節弁16および第2冷媒量調節弁16aが設けられている。第1原料温度検出用センサ14と第1冷媒量調節弁16とは第1温度調節器15を介して連結され、同様に、第2原料温度検出用センサ14aと第2冷媒量調節弁16aとが第2温度調節器15aを介して連結されている。
【0005】
前記第1、第2温度調節器15、15aは図4に示されている。すなわち各温度調節器15、15aは、入力キー200および設定値指示計201、各センサ14、14aの原料の温度の温度検出値を示す現在値指示計202、現在値と設定値との偏差を示す偏差部203、PID部204、加算部205および各調節弁16、16aの電流/空気変換部206に接続された操作出力指示計207により構成されている。
【0006】
以上のように構成された連続高圧処理装置50の動作について述べる。
まず、油脂組成物などからなる比較的高粘度の液体状の原料に混合物あるいは添加物が加えられた原料25が、原料供給タンク9に投入され、攪拌機9aにより均一に混合・攪拌される。この原料25は原料配管5を経て加圧ポンプ1へ供給されて加圧され、原料配管5を経て第1処理容器6へ供給される。この第1処理容器6において、原料25は、所定時間を掛けて流動する間に第1攪拌機60により混合・攪拌され、原料配管5を経て第2処理容器6aへ供給される。同様に、第2処理容器6aでは、原料25は、所定時間を掛けて流動する間に第2攪拌機61により混合・攪拌される。第2処理容器6aから排出された原料25は、原料配管5を経て減圧ポンプ2に到り、減圧ポンプ2において減圧され、原料配管5を経て熟成機17へ供給される。
【0007】
一連の高圧処理において、加圧ポンプ1および減圧ポンプ2が、加圧ポンプ1の吐出量を減圧ポンプ2のそれよりも大きくするように駆動されていることにより、加圧ポンプ1と減圧ポンプ2との間では原料25が高圧に加圧された状態で連続的に流動する。従って、最も高い位置の原料配管5に設けられたエア抜き弁13から空気を放出し、原料5の圧力を第1圧力センサ8および第2圧力センサ8bにより検出し、所定値以上の高圧になった場合は、安全弁12を作動させて圧力を下げる。
【0008】
また、第1処理容器6および第2処理容器6aは、各冷却部110、110aに冷媒110Aが供給され、原料25の有する熱、加圧ポンプ1における昇圧により発生する熱および処理容器6、6a内の混合・分散により発生する熱を吸収し、原料25を所定の温度に維持する。すなわち、各処理容器6、6aの排出口付近で各センサ14、14aにより原料25の高圧処理後の温度が検出され、この温度の温度検出値により、それぞれの温度調節器15、15aを介して各調節弁16、16aの開度を調節し、冷媒110Aの流量を調節して冷却量を調節する。すなわちフィードバック制御することにより、原料25が所定の目標温度に維持制御される。
【0009】
各温度調節器15、15aにおいて、維持制御されるべき原料25の温度を入力キー200において入力することにより、設定値指示計201に目標温度が予め設定・表示され、偏差部203へ送られる。各センサ14、14aにより検出された原料25の温度検出値が、現在値指示計202に表示されるとともに、偏差部203へ送られる。偏差部203では目標温度と温度検出値とを比較し、PID部204で得られた1制御周期の操作変化量ΔMVが1制御周期前のMV値に加算部205で加算されて操作出力指示計207で表示されると共に各調節弁16、16aの電流/空気変換部206に出力される。以上の一連の動作が、適宜の時間間隔で繰返され、原料25が所定の目標温度に維持制御される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
従来の連続高圧処理における制御方法および制御装置は以上のように構成されていたため、次のような課題が存在していた。すなわち、油脂組成物などを原料とする食品、薬品、化粧品などの製造過程においては、原料自体の耐熱特性が低いため、出来るだけ低温状態で加工処理することが望ましい。このような原料を低温・高圧状態で処理する場合、固化あるいは結晶化が起こり易い。また、均一化のための混合・攪拌操作にもかかわらず、処理容器内において部分的に発生する原料成分の不均一な部分で、固化あるいは結晶化する場合がある。このような原料の固化あるいは結晶化する部分が拡大すると処理容器内において攪拌機が運転不能になり、機器および配管内に原料が滞留し、連続高圧処理装置が運転停止に到ることがあった。
【0011】
従来の連続高圧処理装置において、このような原料の固化あるいは結晶化を防止するために、温度調節計による処理容器内の原料の温度上昇防止を含めた温度制御が行われている。従来の温度制御では、処理容器から排出された加工原料の温度を検出しており、処理容器内の加工原料の温度ではなく、また、処理容器内で混合・攪拌中の温度でもない、すなわち処理容器外部における時間的に遅れた時点の温度を検出している。従って、処理容器の内部で発生している部分的な固化あるいは結晶化を発生時点で検出することは出来ず、時間的に遅れた制御を行っている。また、調節弁の開閉により冷却能力を変化させて処理容器内の加工原料の温度を制御する方法は、直ちに制御効果が得られるものではなく、追従に時間を必要としていた。
【0012】
本発明は、以上のような課題を解決するためになされたものであり、特に、電流制御等により物性および品質を確保可能な連続高圧処理における制御方法および制御装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明による連続高圧処理における制御方法は、モータにより駆動される攪拌機が内挿され外周に冷却部が設けられている第1、第2処理容器の排出側の原料配管に設けられた原料温度検出用センサにより原料の温度を検出し、前記温度の温度検出値に基づいて第1、第2温度調節器により前記冷却部の冷媒排出配管に設けられた冷媒量調節弁の開度を制御し、前記各処理容器内の原料の温度を制御するようにした連続高圧処理における制御方法において、前記モータの駆動電流の電流検出値に基づいて前記温度調節器により前記冷媒量調節弁の開度を制御する方法であり、また、モータにより駆動される攪拌機が内挿され外周に冷却部が設けられている第1、第2処理容器の排出側の原料配管に設けられた原料温度検出用センサにより原料の温度を検出し、前記温度の温度検出値に基づいて第1、第2温度調節器により前記冷却部の冷媒排出配管に設けられた冷媒量調節弁の開度を制御し、前記各処理容器内の原料の温度を制御するようにした連続高圧処理における制御方法において、前記温度検出値が所定の偏差内に到達した時点から前記モータの駆動電流に基づいて温度制御する制御に切換える方法であり、また、本発明による連続高圧処理における制御装置は、モータにより駆動される攪拌機が内挿され外周に冷却部が設けられている第1、第2処理容器の排出側の原料配管に設けられた原料温度検出用センサにより原料の温度を検出し、前記温度の温度検出値に基づいて第1、第2温度調節器により前記冷却部の冷媒排出配管に設けられた冷媒量調節弁の開度を制御し、前記各処理容器内の原料の温度を制御する連続高圧処理における制御装置において、前記モータの駆動電流の電流検出値に基づいて前記温度調節器により前記冷媒量調節弁の開度を制御するようにした構成であり、また、モータにより駆動される攪拌機が内挿され外周に冷却部が設けられている第1、第2処理容器の排出側の原料配管に設けられた原料温度検出用センサにより原料の温度を検出し、前記温度の温度検出値に基づいて第1、第2温度調節器により前記冷却部の冷媒排出配管に設けられた冷媒量調節弁の開度を制御し、前記各処理容器内の原料の温度を制御するようにした連続高圧処理における制御装置において、前記温度検出値が所定の偏差内に到達した時点から前記モータの駆動電流に基づいて温度制御する制御に切換える構成である。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、図面と共に本発明による連続高圧処理における制御方法および制御装置の好適な実施の形態について説明する。尚、連続高圧処理装置50は図3と同一であるため、図3の構成を援用し、その説明は省略すると共に、図4と同一部分には図1および図2に同一符号を付し、その説明は省略すると共に、異なる部分についてのみ説明する。
図1は本発明におけるフィードフォワード制御系を含んだ温度制御を示すフロー図である。
すなわち、各攪拌用電動機7、7aを駆動する駆動電流260は電流/電流信号変換器250により変換されて電流信号yとして演算部251で演算された後にフィードフォワード信号252として周知の比例積分微分演算を行うPID部204からの信号と乗算部253にて乗算され、得られたΔMVが加算部205に入力され図4と同様の処理が行われる。
【0015】
以上の図1に示される各温度調節器15、15aの制御過程において、各処理容器6、6a内で部分的な原料25の固化あるいは結晶化現象が万一発生した場合、各センサ14、14aでは検出できないが、各攪拌機60、61において、過負荷現象が発生し、各モータ7、7aの駆動電流に変化が発生する。この駆動電流260の変換後の電流信号yがフィードフォワード信号252として乗算部253に加算して補正演算され、従来のΔMVよりも大なる値とされて加算部205に入力され各調節弁16、16aの開度が制御されて冷媒110Aの量が制御されて各冷却部110、110aの温度が制御され、原料25の固化や結晶化を避けることができる。
従って、図1の構成では、従来の温度制御にフィードフォワード制御を加えて各調節弁16、16aの開弁度を制御して冷媒量を制御する方法である。
【0016】
次に、図2は図1の他の形態を示すもので、温度調節器15、15aは、図1と同一部分には同一符号を付してその説明を省略し、図1と異なる部分についてのみ説明する。
すなわち、図2においては、各センサ14、14aによって検出した原料25の温度が所定の偏差内に入った時点から、それまでの温度制御に代えて各モータ7、7aの駆動電流を制御する電流制御に切換えることにより高精度の制御を行う方法である。
【0017】
すなわち、第1偏差部203からの偏差は正動作用のPID部204を経て第1スイッチ300に入力され、この第1偏差部203からの偏差は絶対値化部301および比較部302を経て第1スイッチ300および第2スイッチ303に入力され、電流信号yが前記第2スイッチ303に接続された第2偏差部304に入力されると共に電流現在値指示計305で指示され、この第2スイッチ303では電流設定値306と電流の現在値トラッキング307とをOFF/ONで切換えられるように構成されている。
【0018】
前記第2偏差部304からの偏差は逆動作としてのPID部308を経て第1スイッチ300に入力され、各PID部204、308の何れかの出力が第1スイッチ300で切換えられて加算部205に入力されて各冷媒量調節弁16、16aの開度の制御が行われる。
【0019】
従って、通常は、各センサ14、14aからの温度検出値に基づいて図1と同様に温度制御が行われ、各スイッチ300、303はOFF状態となってPID部204からの出力により各調節弁16、16aの開弁制御が行われるが、温度検出値が設定値指示計201の設定値よりも高い、すなわち所定の偏差内に入った時点で、偏差絶対値Enに基づいて各スイッチ300、303がOFFからONに切換わり、逆動作のPID部308からの出力が加算部205に入力されて各調節弁16、16aの開度が制御され、各処理容器6、6a内の原料25の温度制御が高精度に行われる。
尚、前述の形態では、一対の処理容器を用いた場合について述べたが、1個又は3個以上等とすることもできる。
【0020】
【発明の効果】
本発明による連続高圧処理における制御方法および制御装置は、以上のように構成されているため、次のような効果を得ることができる。
(1)連続高圧処理される加工原料温度の維持制御において、処理容器から排出された加工原料の温度信号に対して、攪拌機の駆動電流の変化に基づいて冷媒量調節弁の開度を制御することにより、処理容器内で部分的な原料の固化あるいは結晶化の異常現象を防止することができる。
(2)連続高圧処理される加工原料温度の維持制御において、処理容器から排出された原料の温度信号による通常の制御に対し、この温度検出値が所定の偏差内に到達した時点からモータの駆動電流に基づいて温度制御するように切換えるため、処理容器内での部分的な原料の固化あるいは結晶化の異常現象を防止できる。
(3)また、各処理容器の攪拌用のモータの制御も行うため、運転費の削減も可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による連続高圧処理における制御方法および装置を示す制御機能フロー図である。
【図2】図1の他の形態を示す制御機能フロー図である。
【図3】従来の連続高圧処理における処理装置を示す構成図である。
【図4】図3の制御機能フロー図である。
【符号の説明】
1 加圧ポンプ
2 減圧ポンプ
5 原料配管
6、6a 処理容器
7、7a モータ
8、8a 圧力センサ
9 原料供給タンク
12 安全弁
14、14a 原料温度検出用センサ
15、15a 温度調節器
16、16a 冷媒量調節弁
17 熟成機
25 原料
50 連続高圧処理装置
60、61 攪拌機
110、110a 冷却部
110A 冷媒
Claims (4)
- モータ(7,7a)により駆動される攪拌機(60,61)が内挿され外周に冷却部(110,110a)が設けられている第1、第2処理容器(6,6a)の排出側の原料配管(5)に設けられた原料温度検出用センサ(14,14a)により原料(25)の温度を検出し、前記温度の温度検出値に基づいて第1、第2温度調節器(15,15a)により前記冷却部(110,110a)の冷媒排出配管(111a,111b)に設けられた冷媒量調節弁(16,16a)の開度を制御し、前記各処理容器(6,6a)内の原料(25)の温度を制御するようにした連続高圧処理における制御方法において、前記モータ(7,7a)の駆動電流の電流検出値に基づいて前記温度調節器(15,15a)により前記冷媒量調節弁(16,16a)の開度を制御することを特徴とする連続高圧処理における制御方法。
- モータ(7,7a)により駆動される攪拌機(60,61)が内挿され外周に冷却部(110,110a)が設けられている第1、第2処理容器(6,6a)の排出側の原料配管(5)に設けられた原料温度検出用センサ(14,14a)により原料(25)の温度を検出し、前記温度の温度検出値に基づいて第1、第2温度調節器(15,15a)により前記冷却部(110,110a)の冷媒排出配管(111a,111b)に設けられた冷媒量調節弁(16,16a)の開度を制御し、前記各処理容器(6,6a)内の原料(25)の温度を制御するようにした連続高圧処理における制御方法において、前記温度検出値が所定の偏差内に到達した時点から前記モータ(7,7a)の駆動電流に基づいて温度制御する制御に切換えることを特徴とする連続高圧処理における制御方法。
- モータ(7,7a)により駆動される攪拌機(60,61)が内挿され外周に冷却部(110,110a)が設けられている第1、第2処理容器(6,6a)の排出側の原料配管(5)に設けられた原料温度検出用センサ(14,14a)により原料(25)の温度を検出し、前記温度の温度検出値に基づいて第1、第2温度調節器(15,15a)により前記冷却部(110,110a)の冷媒排出配管(111a,111b)に設けられた冷媒量調節弁(16,16a)の開度を制御し、前記各処理容器(6,6a)内の原料(25)の温度を制御する連続高圧処理における制御装置において、前記モータ(7,7a)の駆動電流の電流検出値に基づいて前記温度調節器(15,15a)により前記冷媒量調節弁(16,16a)の開度を制御するように構成したことを特徴とする連続高圧処理における制御装置。
- モータ(7,7a)により駆動される攪拌機(60,61)が内挿され外周に冷却部(110,110a)が設けられている第1、第2処理容器(6,6a)の排出側の原料配管(5)に設けられた原料温度検出用センサ(14,14a)により原料(25)の温度を検出し、前記温度の温度検出値に基づいて第1、第2温度調節器(15,15a)により前記冷却部(110,110a)の冷媒排出配管(111a,111b)に設けられた冷媒量調節弁(16,16a)の開度を制御し、前記各処理容器(6,6a)内の原料(25)の温度を制御するようにした連続高圧処理における制御装置において、前記温度検出値が所定の偏差内に到達した時点から前記モータ(7,7a)の駆動電流に基づいて温度制御する制御に切換える構成としたことを特徴とする連続高圧処理における制御装置。
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