JP4151682B2 - Manufacturing method of semiconductor device - Google Patents
Manufacturing method of semiconductor device Download PDFInfo
- Publication number
- JP4151682B2 JP4151682B2 JP2005211280A JP2005211280A JP4151682B2 JP 4151682 B2 JP4151682 B2 JP 4151682B2 JP 2005211280 A JP2005211280 A JP 2005211280A JP 2005211280 A JP2005211280 A JP 2005211280A JP 4151682 B2 JP4151682 B2 JP 4151682B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- cavity
- mold
- semiconductor chip
- chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/4826—Connecting between the body and an opposite side of the item with respect to the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
Description
本発明は樹脂のパッケージにより封止された半導体素子、その製造方法及び半導体素子製造装置に関するものであり、特に、封止工程における樹脂注入中にボンディングワイヤが変形してパッケージから露出したり、パッケージ内で接触、短絡、切断などが起こることを防止する半導体素子の製造方法、この製造方法により製造される半導体素子、並びに前記半導体素子の製造に用いる半導体素子製造装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor element sealed by a resin package, a manufacturing method thereof, and a semiconductor element manufacturing apparatus, and more particularly, a bonding wire is deformed and exposed from a package during resin injection in a sealing process. In particular, the present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor element that prevents contact, short circuit, cutting, and the like from occurring inside, a semiconductor element manufactured by this manufacturing method, and a semiconductor element manufacturing apparatus used for manufacturing the semiconductor element.
一般に樹脂パッケージにより封止された半導体素子は、半導体チップとリードの内側端末とがボンディングワイヤで接続され、このリードの外側端末を外部に露出した状態で前記半導体チップと前記ボンディングワイヤと前記リードの内側端末とがパッケージ用の樹脂により一体に封止されてなっている。 Generally, in a semiconductor element sealed with a resin package, a semiconductor chip and an inner terminal of a lead are connected by a bonding wire, and the semiconductor chip, the bonding wire, and the lead are exposed with the outer terminal of the lead exposed to the outside. The inner terminal is integrally sealed with a package resin.
図5は前記半導体素子を従来の製造方法に従って製造する一過程を示している。図5においてこの半導体素子を製造するには、先ず半導体チップ1を載置するステージ6とリード2の配列とが形成されたフレーム8の前記ステージ6に半導体チップ1を載置し、この半導体チップ1のパッド1aと前記リードの内側端末2aとをボンディングワイヤ3で接続する。これにより得られたフレーム組立物9を型100にセットする。
FIG. 5 shows a process of manufacturing the semiconductor device according to a conventional manufacturing method. In order to manufacture this semiconductor element in FIG. 5, first, the
型100は、割り型111a,111bからなる型本体111と、この型本体111に形成されたキャビティ112と、キャビティ112内にパッケージ用の樹脂を供給するランナー114及びゲート115を有している。割り型111a,111bは、図示しない型駆動装置によって温度が制御されると共に、リードの外側端末2bを気密に挟み込めるようになっている。キャビティ112はこの半導体素子のパッケージの外形を規定する形状に成形されている。ランナー114及びゲート115は未硬化の熱硬化性樹脂コンパウンド(以下単に「樹脂」という)をキャビティ112内に注入するための通路であり、割り型111a,111bの割り面に形成され、ランナー114の一方の端末は図示しないプランジャ付きの加熱ポットに連通しゲート115はキャビティ112の所定の位置に開口している。
The
型100に前記のフレーム組立物9をセットした後に閉型し、ランナー114及びゲート115を通してキャビティ112内に樹脂を注入し、キャビティを充填する。充填後所定の温度を維持すると樹脂はキャビティ内で硬化する。硬化後に開型し樹脂で封止されたフレーム組立物9を取り出し、リードの外側端末2bとフレーム8とを切り離すと、パッケージにより封止された半導体素子が得られる。
After the frame assembly 9 is set in the
前記の樹脂充填工程では、樹脂注入中に、キャビティ112内でボンディングワイヤ3が変形するという問題が指摘されている。すなわち、樹脂がゲート115からキャビティ112内に注入されキャビティを充填する過程で、通常は極細の金線からなるボンディングワイヤ3が流入する樹脂に押されて変形しキャビティ内でよじれ、接触、短絡、切断、ボイドの発生などを起こすと共に、ときにはパッケージの表面に露出する場合もあった。
In the resin filling process, a problem has been pointed out that the
ボンディングワイヤがパッケージから露出するのを防ぐ方法として、特開平10−189631号公報は、図6に示すように、キャビティ内でボンディングワイヤを押さえる方法を提案している。この方法は、型200の上型211aにキャビティ可動部220を設け、樹脂の注入に先立ってキャビティ可動部220をキャビティ212内に降下させその底面でボンディングワイヤ3の頂点の高さを規制しておく。この状態でキャビティ可動部220に形成した樹脂流入路221から樹脂をキャビティ212内に注入充填し、キャビティ内の樹脂が硬化しないうちにキャビティ可動部220をパッケージの表面高さ位置まで引き上げ、引き上げたことにより生じた未充填空間に更に樹脂を充填するというものである。
しかしこの方法によってもボンディングワイヤ3が流入する樹脂に押されて変形し、キャビティ内でよじれ、接触、短絡、切断、ボイドの発生などを起こす可能性は排除できず、また樹脂をキャビティ可動部220に形成した樹脂流入路221から注入することは、この樹脂が熱硬化性であってキャビティ212内で硬化すると同時に樹脂流入路221内でも非可逆的に硬化することを考慮すると、実施困難であった。
However, even with this method, the
本発明者は、キャビティ内でボンディングワイヤが変形する原因について研究の結果、図7に示すように、キャビティ112内に樹脂が注入され空間を充填する過程で、高粘性の樹脂がステージ6共々に半導体チップ1を押圧し、半導体チップ1が所定の位置から移動することに主たる原因があることを見出した。この半導体チップの位置の移動が、例えばボンディングワイヤ3Xで示すようにパッケージの壁面に露出したり、またボンディングワイヤ3Yで示すようにキャビティ内でよじれ、接触、短絡、切断、ボイドの発生などを引き起こす。このようなボンディングワイヤの欠陥は、製造中に短絡や断線が発生した場合には工程中の導通検査などにより不良品として検知し排除できるが、このような不良品が多発すれば生産性が大幅に低下する。また通常の導通検査では検出できず、良品として出荷された後で欠陥が現れる場合もあり、この場合には製品の信頼性を大きく損なう。
本発明は前記の課題を解決するためになされたものであって、従ってその目的は、樹脂注入時のボンディングワイヤの変形に伴う欠陥を排除し、生産性と信頼性を向上させる半導体素子の製造方法、この製造方法により製造される半導体素子、及びこの半導体素子を製造する半導体素子製造装置を提供することにある。
As a result of research on the cause of the deformation of the bonding wire in the cavity, the present inventor, as shown in FIG. It has been found that there is a main cause in pressing the
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems. Therefore, the object of the present invention is to manufacture a semiconductor device that eliminates defects associated with deformation of bonding wires during resin injection and improves productivity and reliability. The present invention provides a method, a semiconductor device manufactured by the manufacturing method, and a semiconductor device manufacturing apparatus for manufacturing the semiconductor device.
前記の課題を解決するために、
請求項1に記載の発明は、半導体チップとリードの内側端末とがボンディングワイヤで接続され、前記リードの外側端末を外部に露出した状態で前記半導体チップと前記ボンディングワイヤと前記リードの内側端末とがパッケージ用の樹脂により一体に封止されてなる半導体素子を製造するに際して、前記半導体チップを載置するステージを有するフレームに前記半導体チップを載置しかつ前記半導体チップと前記リードの内側端末とを前記ボンディングワイヤで接続するフレーム組立工程と、前記フレーム組立工程により組み立てられたフレーム組立物における前記リードの外側端末を上型と下型の割り型からなる上下の割り面で支持することにより前記半導体チップと前記ボンディングワイヤと前記リードの内側端末とを前記型のキャビティ内に懸架する型セット工程と、前記型の上側の割り型の一部として設けられ、前記キャビティ内に出没自由とされ、前記キャビティ内に突出したときに前記ステージを支持するために前記フレームに形成されたステージバーのステージ近傍の傾斜面に一時的に当接し、該当接時に先端が前記傾斜面に当接するチップ固定子により、間接的に当該半導体チップを一時的に固定するチップ固定工程と、前記チップ固定工程により半導体チップが一時的に固定されたキャビティ内にパッケージ用の樹脂を注入し、かつ前記樹脂の充填が完了する前に前記チップ固定子を前記一方の型内に収納する樹脂充填工程と、前記キャビティ内に充填された前記樹脂を固化させる樹脂固化工程とを含むことを特徴とする半導体素子の製造方法である。
In order to solve the above problems,
According to the first aspect of the present invention, the semiconductor chip, the bonding wire, the inner terminal of the lead, and the inner terminal of the lead are connected to each other by a bonding wire, and the outer terminal of the lead is exposed to the outside. In manufacturing a semiconductor element integrally sealed with a resin for packaging, the semiconductor chip is mounted on a frame having a stage on which the semiconductor chip is mounted, and the semiconductor chip and an inner terminal of the lead A frame assembling step for connecting the wire with the bonding wire, and supporting the outer end of the lead in the frame assembly assembled by the frame assembling step by upper and lower split surfaces made up of an upper die and a lower die. A semiconductor chip, the bonding wire, and the inner terminal of the lead are connected to the mold cavity. A mold setting process suspended in the mold, and a frame provided as a part of the split mold on the upper side of the mold so as to freely move in and out of the cavity and to support the stage when protruding into the cavity A chip fixing step of temporarily fixing the semiconductor chip indirectly by a chip stator that temporarily contacts the inclined surface in the vicinity of the stage of the stage bar formed on the tip and whose tip contacts the inclined surface at the time of corresponding contact Then, a resin for packaging is injected into the cavity in which the semiconductor chip is temporarily fixed by the chip fixing step, and the chip stator is accommodated in the one mold before the resin filling is completed. A method for manufacturing a semiconductor element, comprising: a resin filling step; and a resin solidification step for solidifying the resin filled in the cavity.
本発明の半導体素子の製造方法は型のキャビティ内に懸架した半導体チップをチップ固定子により一時的に固定し、キャビティ内で樹脂の充填が完了する前にこのチップ固定子を型内に収納するようにしたので、樹脂が注入される際の樹脂の流動圧により半導体チップが押圧されても移動が起こらず、従ってボンディングワイヤのパッケージからの露出やパッケージ内部で変形することによる接触、短絡、切断などが抑制され、半導体素子の生産性が向上する。 In the semiconductor device manufacturing method of the present invention, a semiconductor chip suspended in a cavity of a mold is temporarily fixed by a chip stator, and the chip stator is accommodated in the mold before filling of the resin in the cavity is completed. As a result, even if the semiconductor chip is pressed due to the flow pressure of the resin when the resin is injected, no movement occurs. Therefore, the bonding wire is exposed from the package or deformed inside the package, so that it is contacted, short-circuited or cut. Etc. are suppressed, and the productivity of semiconductor elements is improved.
次に本発明の実施の形態を具体例によって説明するがこれらの具体例は本発明を何ら制限するものではない。また添付の図面は本発明の思想を説明するためのものであって、本発明の説明に不要な要素は省略し、また図示した各要素の形状・寸法比・数なども実際のものを必ずしも反映していない。
図1は本発明の製造方法により製造された半導体素子の一例を示す断面図である。図1においてこの半導体素子は、半導体チップ1上に形成されたパッド1pとリード2の内側端末2aとが金線からなるボンディングワイヤ3で接続され、前記リードの外側端末2bを外部に露出した状態で半導体チップ1とボンディングワイヤ3とリードの内側端末2aとがパッケージ4を形成する熱硬化性樹脂コンパウンドにより一体に封止されてなっている。この半導体チップ1はパッケージ4のほぼ中央部に配置され、一方の面(図の下面)はステージ6に接着され、他方の面(図の上面)には電気回路が形成されている。
Next, embodiments of the present invention will be described by way of specific examples, but these specific examples do not limit the present invention in any way. The accompanying drawings are for explaining the idea of the present invention, and elements unnecessary for the description of the present invention are omitted, and the shapes, dimensional ratios, numbers, etc. of the illustrated elements are not necessarily actual ones. Not reflected.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a semiconductor device manufactured by the manufacturing method of the present invention. In FIG. 1, in this semiconductor element, a pad 1p formed on a
本実施形態の半導体素子は、下記の製造方法並びに製造装置により製造されている。
図2に本製造方法の工程図を示す。すなわち本製造方法は(1)フレーム組立工程、(2)型セット工程、(3)チップ固定工程、(4)樹脂充填工程、及び(5)樹脂固化工程を含んでいる。このうち、(2)型セット工程〜(5)樹脂固化工程は型と型駆動装置とからなる本発明の製造装置を用いて行われる。以下、工程順に詳しく説明する。
The semiconductor element of this embodiment is manufactured by the following manufacturing method and manufacturing apparatus.
FIG. 2 shows a process chart of the manufacturing method. That is, this manufacturing method includes (1) a frame assembly process, (2) a mold setting process, (3) a chip fixing process, (4) a resin filling process, and (5) a resin solidifying process. Among these, (2) mold setting process to (5) resin solidification process are performed using the manufacturing apparatus of the present invention including a mold and a mold driving device. Hereinafter, it demonstrates in detail in order of a process.
(1)フレーム組立工程
図3は(1)フレーム組立工程によって組み立てられたフレーム組立物9を示す平面図である。このフレーム組立物9は半導体チップ1とボンディングワイヤ3とフレーム5とからなっている。フレーム5は、半導体チップ1を載置するステージ6と、このステージを懸架するステージバー7と、リード2の配列を支持するリードステー8とが一体に金属板の打ち抜きによって形成されている。
(1)フレーム組立工程では、先ず半導体チップ1をステージ6に載置し接着する。次に半導体チップ1のパッド1pとリード2の内側端末2aとをボンディングワイヤ3で接続し、フレーム組立物9を作成する。
(1) Frame Assembly Process FIG. 3 is a plan view showing the frame assembly 9 assembled by the (1) frame assembly process. The frame assembly 9 includes a
(1) In the frame assembly process, first, the
(2)型セット工程および(3)チップ固定工程
図4は(2)型セット工程後の(3)チップ固定工程の最終段階を示す断面図である。これらの工程では本発明の型10とこの型を駆動する型駆動装置(図示せず)とを有する半導体素子製造装置が用いられる。
型10は、割り型11a,11bからなる型本体11と、この型本体11に形成されたキャビティ12と、チップ固定子13と、前記キャビティ12内にパッケージ用の樹脂を供給するランナー及びゲートを有している。割り型11a,11bは、図示しない型駆動装置によって温度が制御されると共に、リードの外側端末2bとステージバー7の外側端末を気密に挟み込めるように、割り面にそれぞれを収納する溝が形成されている。キャビティ12はパッケージ4の外形を規定する形状に形成されている。
(2) Mold Setting Process and (3) Chip Fixing Process FIG. 4 is a sectional view showing the final stage of the (3) chip fixing process after the (2) mold setting process. In these steps, a semiconductor element manufacturing apparatus having the
The
前記のフレーム組立物9はこの型10にセットされる。先ず型10が開型され、割り型11a,11bの間の所定の位置にフレーム組立物9が載置される。このとき、フレーム組立物9のリード外側端末2bとステージバー7の外側端末が割り型11a,11bに挟持され、ステージ6に載置された半導体チップ1とボンディングワイヤ3とリード内側端末2aとがキャビティ12内に、キャビティ壁面と非接触に懸架される。フレーム組立物9がセットされた型10は閉型される。
The frame assembly 9 is set in this
型10にフレーム組立物9をセットし閉型した後、チップ固定子13をキャビティ内に突出させ、その先端部をステージバー7に当接させる。
チップ固定子13は、型10の上側の割り型11aに設けられている。チップ固定子13は円柱状のピンからなり、本実施形態では4本のチップ固定子13が用いられ、方形の台座18の4隅にそれぞれ立設されて4本が連動するようになっている。それぞれのチップ固定子13は割り型11aの所定の位置に形成された貫通孔16の壁面と摺動してキャビティ12内に出没自由とされ、型外部の台座18を押し下げると、それぞれのチップ固定子13の先端部がステージバー7のステージ6近傍に当接し、これを押さえるように構成されている。チップ固定子13の出没のタイミングやストロークは前記の型駆動装置により制御されている。ランナー及びゲートは未硬化の熱硬化性樹脂をキャビティ12内に注入するための通路であり、割り型11a,11bの割り面に形成され、ランナーの一方の端末は図示しないプランジャ付きの加熱ポットに連通しゲートはキャビティ12の所定の位置に開口している。
After the frame assembly 9 is set on the
The
本実施形態のチップ固定子13…は、その先端部がステージバー7のステージ6近傍に当接するように構成されているが、半導体チップ1とステージ6とは接着されているので、間接的に半導体チップ1を一時的に固定することができる。この場合には半導体チップの回路要素などに損傷を与えず、樹脂の高速充填を可能にするほか、チップ固定子13…が半導体チップ1から比較的遠くに離れているので、樹脂充填やチップ固定子の収納に際して特に半導体チップ1周辺の樹脂の流れが円滑になり、均一性の高いパッケージ4が形成される。またチップ固定子13…は細いピンからなっているので、樹脂の注入に際してその流動を妨げることが少ない。従って高速で注入しても乱流などによってボイドが発生する可能性は少なく、半導体素子製品の生産歩留りと信頼性が向上する。
The tip stators 13 of the present embodiment are configured such that their tip portions are in contact with the vicinity of the
(4)樹脂充填工程
この樹脂充填工程では二つの操作、すなわち(A.樹脂注入)と(B.チップ固定子収納)とが行われる。先ず、前記により半導体チップ1が一時的に固定されたキャビティ12内に、ランナー及びゲートを通して未硬化の熱硬化性樹脂を注入する。そして、キャビティ12内が樹脂で完全に充填される前に、チップ固定子13を、その先端面がキャビティの内壁とほぼ面一となるまで割り型11a内に収納する。このチップ固定子の収納に伴ってキャビティ内は陰圧となるが直ちに樹脂で補完されるため、収納痕にボイドや穴が発生することはない。またこの段階で、半導体チップ1はすでに樹脂内に埋没していて周囲が均圧となっているので、チップ固定子による固定が解除されても樹脂の流動圧により移動することはない。樹脂の注入速度、注入圧力、チップ固定子13の収納開始タイミング、収納速度は、型温度と係わって最適となるように型駆動装置により制御される。
(4) Resin Filling Step In this resin filling step, two operations, that is, (A. resin injection) and (B. chip stator storage) are performed. First, uncured thermosetting resin is injected through the runner and gate into the
(5)樹脂固化工程
(5)樹脂固化工程ではキャビティ12内に充填された樹脂が型10の中で硬化される。この樹脂は熱硬化性であるから加熱の持続により不可逆的に固化し、パッケージ4を形成する。この際、ランナー及びゲートに残留した樹脂も硬化する。しかしランナー及びゲートはいずれも割り型11bの割り面に形成されているので、開型すればパッケージ4に伴って容易に除去できる。
(5) Resin solidifying step (5) In the resin solidifying step, the resin filled in the
キャビティ12内の樹脂が固化した後は、開型し、フレーム組立物9を型10から取り出し、次いでリード2とリードステー8とを切り離し、またパッケージ4から突出したステージバー7を切除すれば、図1に示した本発明の半導体素子が得られる。この半導体素子は、樹脂注入時に樹脂の流動圧による半導体チップ1の移動が防止されたので、半導体チップの移動に伴って発生するボンディングワイヤ3のパッケージ4からの露出や、パッケージ4内部におけるボンディングワイヤ3の変形による接触、短絡、切断などが抑制され、生産性及び信頼性が従来のものに比べ向上している。
After the resin in the
1・・・半導体チップ、2・・・リード、2a・・・内側端末、2b・・・外側端末、3・・・ボンディングワイヤ、4・・・パッケージ、5・・・フレーム、6・・・ステージ、7・・・ステージバー、8・・・リードステー、9・・・フレーム組立物、10・・・型、11・・・型本体、11a,11b・・・割り型、12・・・キャビティ、13・・・チップ固定子、16・・・貫通孔
DESCRIPTION OF
Claims (1)
前記半導体チップを載置するステージを有するフレームに前記半導体チップを載置しかつ前記半導体チップと前記リードの内側端末とを前記ボンディングワイヤで接続するフレーム組立工程と、
前記フレーム組立工程により組み立てられたフレーム組立物における前記リードの外側端末を上型と下型の割り型からなる上下の割り面で支持することにより前記半導体チップと前記ボンディングワイヤと前記リードの内側端末とを前記型のキャビティ内に懸架する型セット工程と、
前記型の上側の割り型の一部として設けられ、前記キャビティ内に出没自由とされ、前記キャビティ内に突出したときに前記ステージを支持するために前記フレームに形成されたステージバーのステージ近傍の傾斜面に一時的に当接し、該当接時に先端が前記傾斜面に当接するチップ固定子により、間接的に当該半導体チップを一時的に固定するチップ固定工程と、
前記チップ固定工程により半導体チップが一時的に固定されたキャビティ内にパッケージ用の樹脂を注入し、かつ前記樹脂の充填が完了する前に前記チップ固定子を前記一方の型内に収納する樹脂充填工程と、
前記キャビティ内に充填された前記樹脂を固化させる樹脂固化工程とを含むことを特徴とする半導体素子の製造方法。 The semiconductor chip and the inner terminal of the lead are connected by a bonding wire, and the semiconductor chip, the bonding wire, and the inner terminal of the lead are integrally sealed with a resin for packaging with the outer terminal of the lead exposed to the outside. When manufacturing a semiconductor element that is stopped,
A frame assembling step of mounting the semiconductor chip on a frame having a stage for mounting the semiconductor chip and connecting the semiconductor chip and an inner end of the lead by the bonding wire;
The outer end of the lead in the frame assembly assembled by the frame assembling process is supported by the upper and lower split surfaces composed of the upper mold and the lower mold, thereby the inner end of the semiconductor chip, the bonding wire, and the lead. And a mold setting step for suspending the inside of the mold cavity,
Provided as part of the split mold on the upper side of the mold, can be freely moved in and out of the cavity, and near the stage of the stage bar formed on the frame to support the stage when protruding into the cavity A chip fixing step in which the semiconductor chip is temporarily fixed indirectly by a chip stator that is temporarily in contact with the inclined surface and the tip is in contact with the inclined surface at the time of contact;
Resin filling for injecting a resin for packaging into the cavity in which the semiconductor chip is temporarily fixed by the chip fixing step and storing the chip stator in the one mold before the resin filling is completed Process,
And a resin solidifying step of solidifying the resin filled in the cavity.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005211280A JP4151682B2 (en) | 2005-07-21 | 2005-07-21 | Manufacturing method of semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005211280A JP4151682B2 (en) | 2005-07-21 | 2005-07-21 | Manufacturing method of semiconductor device |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001374323A Division JP3722058B2 (en) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | Semiconductor device manufacturing method and manufacturing apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006013527A JP2006013527A (en) | 2006-01-12 |
JP4151682B2 true JP4151682B2 (en) | 2008-09-17 |
Family
ID=35780290
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005211280A Expired - Fee Related JP4151682B2 (en) | 2005-07-21 | 2005-07-21 | Manufacturing method of semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4151682B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6021695B2 (en) * | 2013-03-06 | 2016-11-09 | 三菱電機株式会社 | Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing apparatus |
-
2005
- 2005-07-21 JP JP2005211280A patent/JP4151682B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006013527A (en) | 2006-01-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100929054B1 (en) | Method of Resin Encapsulation, Apparatus for Resin Encapsulation, Method of Manufacturing Semiconductor Device, Semiconductor Device and Resin Material | |
JP6020667B1 (en) | Transfer molding machine and method of manufacturing electronic component | |
JP6178555B2 (en) | Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device | |
JP5065747B2 (en) | Semiconductor package manufacturing method and manufacturing apparatus | |
JP4151682B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
JP3722058B2 (en) | Semiconductor device manufacturing method and manufacturing apparatus | |
JP4107306B2 (en) | Semiconductor device manufacturing equipment | |
JP2009152507A (en) | Resin mold and method for resin molding of semiconductor package | |
JP2988232B2 (en) | Electronic circuit device and method of manufacturing the same | |
JP4749707B2 (en) | Resin mold and resin molding method | |
JP2000003923A (en) | Resin sealing of semiconductor device and resin-sealing device for that | |
JP5645508B2 (en) | Method for producing electronic component and electronic component | |
JP4821827B2 (en) | Manufacturing method of resin molded product and molding die | |
JP2001338940A (en) | Resin molding apparatus of semiconductor ic and resin molding method | |
KR101230714B1 (en) | Mold apparatus for resin encapsulation | |
JP2007268819A (en) | Insert molding and manufacturing method | |
JP2007307805A (en) | Semiconductor package manufacturing device, method therefor, and the same | |
JP3733341B2 (en) | Method for manufacturing power semiconductor device | |
JP2001024012A (en) | Mold type package and manufacturing method | |
JP2555931B2 (en) | Method for manufacturing semiconductor device | |
JP2000025069A (en) | Production of insert resin molded circuit board | |
JPS63157451A (en) | Lead frame for semiconductor device | |
JP2522304B2 (en) | Method for manufacturing semiconductor device storage package | |
JP2007109719A (en) | Process for manufacturing semiconductor device | |
JP3106946B2 (en) | Manufacturing method of resin-encapsulated semiconductor device and its mold |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070625 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070828 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071029 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071127 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080311 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080512 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080610 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080623 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120711 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130711 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |