JP4149643B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4149643B2 JP4149643B2 JP2000237471A JP2000237471A JP4149643B2 JP 4149643 B2 JP4149643 B2 JP 4149643B2 JP 2000237471 A JP2000237471 A JP 2000237471A JP 2000237471 A JP2000237471 A JP 2000237471A JP 4149643 B2 JP4149643 B2 JP 4149643B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- active layer
- oxide film
- silicon active
- support substrate
- silicon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、SOI(Silicon On Insulator)基板を用い、過大電流に対する入力保護又は出力保護を有する半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体集積回路装置において、静電気等の外部から規格以上の過大電流が入力されたときに内部回路の破壊を防止するため、一般的に内部回路と外部接続端子の間にダイオードやMOSトランジスタを用いた入力保護素子もしくは出力保護素子が配置されている。図2は入力保護回路を備えた半導体装置の入力回路部の構成の一実施例を示したものである。図2においては、内部回路としてN型MOSトランジスタ9とP型MOSトランジスタ10で構成されるインバータが用いられている。このインバータと外部入力パッド8との間に入力保護素子としての保護N型MOSトランジスタ11が設けている。上記の構成により、外部入力パッド8に負の過電圧が印加されると、保護NMOSトランジスタ11のPN接合が順方向となり、保護トランジスタ11に電流が流れて内部回路を保護する。一方、正の過電圧が印加された場合は、保護NMOSトランジスタ11のPN接合のアバランシェブレークダウンで電流を保護MOSトランジスタへ流す。このようにして入力保護素子を介し、接地された基板に過大電流を直接逃がして内部回路へ過大電流が流れないようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしSOI基板の場合、保護素子をシリコン活性層上に形成すると、埋込酸化膜及び素子分離であるフィールド酸化膜により、半導体支持基板へ直接過大電流を逃がすことが不可能となり、また周囲を放熱性の悪い絶縁体層で囲まれた形となるため、過大電流による発熱により、耐静電破壊素子が破壊されやすくなる。そのため十分な耐静電破壊性を得ることができない。
【0004】
また、内部回路をシリコン活性層に、入力保護素子もしくは出力保護素子を半導体支持基板に形成する半導体集積回路装置として、例えば特開平4−345064号公報に示すものがある。しかしシリコン活性層及び埋込酸化膜をエッチングで除去し半導体支持基板に保護素子形成領域を形成する際、埋込酸化膜をRIE異方性ドライエッチで除去した場合は保護素子形成領域にエッチングによるダメージが生じ、保護素子の信頼性低下が問題となる。また、埋込酸化膜を等方性ウェットエッチで除去した場合、深さ方向のみならず横方向もエッチングされるため、埋込酸化膜の横方向エッチングによるシリコン活性層の剥がれなどの問題や、シリコン活性層下が庇形状となり、後の工程でこの庇形状部に膜残りなどの問題が生じてくる。
【0005】
さらに、チャネル形成時にシリコン活性層が完全に空乏化する完全空乏型SOIMOSトランジスタの場合においてはそのシリコン活性層が薄くなるため、シリコン活性層および埋込酸化膜をエッチングし、半導体支持基板開口部を形成後、パターニングのためのフォトレジストをコーティングしても、コートムラなどの段差による影響は現れないが、チャネル形成時にシリコン活性層が完全に空乏化せず、一部分中性状態が残る部分空乏型SOIMOSトランジスタの場合においては、シリコン活性層および埋込酸化膜が厚くなるため、半導体支持基板表面を露出させ保護素子形成領域を形成すると、シリコン活性層と半導体支持基板との段差が大きくなる。例えばシリコン活性層厚が0.4μm、埋込酸化膜厚が0.4μmの場合、エッチング後のシリコン活性層と半導体支持基板の間に約1.0μm近い段差が生じており、レジストのコーティングの際にコートムラを生じ、安定した生産が行えない問題が生じる。また段差が急なため金属配線が段差部分において断切れを起こしやすくなり、歩留まりの低下を引き起こす。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は次の手段を用いた。
【0007】
半導体装置において、シリコン活性層上にパターニングを施す工程と、シリコン活性層を異方性ドライエッチにより部分的に除去する工程と、埋込酸化膜をエッチングし半導体支持基板表面部を部分的に露出し入力保護素子又は出力保護素子を形成するための開口部を形成する工程と、熱酸化膜を形成する工程と、多結晶シリコンをシリコン活性層から半導体支持基板表面部までの深さと同程度の厚さで堆積する工程と、異方性ドライエッチで多結晶シリコンを熱酸化膜表面が露出するまでエッチングを行いシリコン活性層と半導体支持基板の段差部分にサイドスペーサーを形成する工程を特徴とする半導体装置の製造方法とした。
【0008】
また、先の製造方法において、異方性ドライエッチを用いて埋込酸化膜の途中までエッチングする工程と、残りの埋込酸化膜を等方性ウェットエッチで除去し半導体支持基板表面部を露出させる工程とからなる半導体装置の製造方法とした。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。図1は本発明の一実施例を示す入力保護素子を有する半導体装置の断面図である。なお出力保護素子を有する半導体装置の場合も同様である。本実施例では、シリコン活性層3上にN型MOSトランジスタ9とP型MOSトランジスタ10からなるCMOSインバータが形成され、このCMOSインバータと外部入力パッド8の間に、半導体支持基板1上に形成された保護N型MOSトランジスタ11が接続されている。例えば保護素子をシリコン活性層上に形成すると、周囲が絶縁体層で囲まれるため熱容量が小さく、過大電流による発熱で破壊されやすくなる。そのため十分な熱容量を確保するために非常に大きな保護素子が必要となるが、本実施例のように半導体支持基板1に保護素子を形成することで十分な耐静電破壊性をもつ保護素子を従来のバルクシリコンと同等のサイズで形成することが可能となる。さらに本実施例ではシリコン活性層3と半導体支持基板1の間で生じた段差部に多結晶シリコンからなるサイドスペーサー7を形成した構造となっている。この構造により、フォトレジストのコーティングの際にコートムラを防ぐことができ、安定した生産が可能となる。
【0010】
次に図1に示す半導体装置の製造工程例を図3をもとに説明する。
【0011】
P型導電型である半導体支持基板1上に膜厚が0.2μmから0.5μmである埋込酸化膜2が形成され、さらにこの埋込酸化膜2の上に膜厚が0.2μmから0.5μmのP型シリコン活性層3を有する貼り合わせSOI基板を用意する。この埋込酸化膜2の厚さは必要とされる絶縁膜耐圧、シリコン活性層3の厚さは必要とされるソース・ドレイン間の耐圧により決まる。また半導体支持基板1とシリコン活性層3は、入力保護素子及び内部回路の特性に合わせ、異なる濃度の基板を用いて構わない。またシリコン活性層3の導電型はN型でも構わない。さらにシリコン活性層3と半導体支持基板1が同導電型で基板濃度も等しい場合はSIMOX基板を用いても構わない。
【0012】
このSOI基板にフォトレジスト12をコートし、後に半導体支持基板1に入力保護素子を形成する領域のパターニングを施す(図3(a))。このレジストパターン12をマスク材としてRIE異方性ドライエッチでシリコン活性層3を埋込酸化膜2が露出するまでエッチングする(図3(b))。さらにこのフォトレジスト12をマスク材として、RIE異方性ドライエッチにより埋込酸化膜2をエッチングする。このときエッチングは途中で止め、埋込酸化膜2の一部が残るようにする(図3(c))。このエッチング残りの埋込酸化膜が0.05μmから0.1μmまでになるようにエッチングを行うのが好ましい。その後、フォトレジスト12を除去したのち、例えばバッファードフッ酸を用いて等方性ウェットエッチングを行い、残りの埋込酸化膜を取り除き、半導体支持基板1の表面を露出させる(図3(d))。このように埋込酸化膜除去に異方性ドライエッチ及び等方性ウェットエッチを用いることで、半導体支持基板1にダメージを与えることなく、保護素子を形成する領域を形成することができ、また埋込酸化膜2の横方向のエッチングを極力抑えることでシリコン活性層3の剥がれを防ぐことができる。
【0013】
次に熱酸化を行い、シリコン活性層3及び半導体支持基板1に熱酸化膜13を形成する。この熱酸化膜厚はおよそ0.01μmから0.04μmである。この熱酸化膜の上に、減圧CVD法で多結晶シリコン7を堆積させる(図3(e))。この時多結晶シリコンは、ウェットエッチングによる埋込酸化膜2の横方向エッチで形成された庇形状部分下にも回り込んで堆積する。ここの多結晶シリコン7の膜厚は、シリコン活性層1から半導体支持基板3までの深さと同等とする。その後RIE異方性ドライエッチで多結晶シリコン膜をその下の熱酸化膜が露出するまでエッチングすることで、シリコン活性層と半導体支持基板の段差部側壁に多結晶シリコンのサイドスペーサーを形成する(図3(f))。この時異方性エッチングの反応ガスはSF6が望ましい。これらの工程により半導体支持基板開口部形成で生じた段差形状を改善することができる。上記の工程のあとは、従来のバルクシリコン基板にMOSトランジスタを形成する工程を、シリコン活性層3及び半導体支持基板1に施すことにより、図1に示すような構成が完成する。また図1において入力保護素子をN型MOSトタンジスタ11としたが、ダイオードを保護素子として用いても構わない。
【0014】
また、図4は図1における入力保護素子領域の一実施例を示す断面図である。図4の示すように段差部側壁に形成した多結晶シリコンのサイドスペーサが接続孔を介して金属配線で基板接地をとることで、多結晶シリコンからなるサイドスペーサーが電気的にフローティングとなることを防ぎ寄生チャネル形成等を防ぐことができる。
【0015】
【発明の効果】
本発明によれば、過大電流を半導体支持基板に放出することができ、静電破壊耐性が向上する。
【0016】
シリコン活性層と半導体支持基板との段差部側壁の形状を改善することで安定した生産を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置の一実施例を示す断面図である。
【図2】入力保護回路を備えた半導体装置の入力回路部の構成を示す電気結線部の一実施例を示したものである。
【図3】本発明の半導体装置の製造方法の一実施例を示す工程断面図である。
【図4】本発明の半導体装置おける保護素子領域の一実施例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 P型半導体支持基板
2 埋込酸化膜
3 P型シリコン活性層
4 ゲート電極
5 ゲート酸化膜
6 フィールド酸化膜
7 多結晶シリコン
8 外部入力パッド
9 N型MOSトランジスタ
10 P型MOSトランジスタ
11 保護N型MOSトランジスタ
12 フォトレジスト
13 熱酸化膜
14 金属配線
15 層間絶縁膜
Claims (3)
- 半導体支持基板と前記半導体支持基板上に埋込酸化膜を介して配置されたシリコン活性層からなるSOI(Silicon On Insulator)基板を構成する前記シリコン活性層上にマスク材をパターニングする工程と、
前記マスク材を用いて前記シリコン活性層を異方性ドライエッチングにより部分的に除去する工程と、
引き続き前記埋込酸化膜を途中まで異方性ドライエッチングによりエッチングし、残りの前記埋込酸化膜を等方性ウェットエッチングにより除去し、前記半導体支持基板の表面部を部分的に露出することで、前記半導体支持基板上に入力保護素子又は出力保護素子を形成するための開口部を形成する工程と、
前記シリコン活性層の表面、段差側壁および前記半導体支持基板の露出された前記表面部に後に形成されるサイドスペーサーとなる多結晶シリコンの下地となる熱酸化膜を形成する工程と、
多結晶シリコンを前記開口部の深さと概ね同じ厚さで堆積する工程と、
異方性ドライエッチングで前記多結晶シリコンを前記熱酸化膜表面が露出するまでエッチングを行い前記シリコン活性層と前記半導体支持基板の段差部側壁にサイドスペーサーを形成する工程と、
引き続き入力保護素子又は出力保護素子を前記半導体支持基板上に形成し、MOSトランジスタを前記シリコン活性層上に形成する工程とからなる半導体装置の製造方法。 - 前記シリコン活性層の厚さが0.2μmから0.5μmであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記埋込酸化膜の厚さが0.2μmから0.5μmであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000237471A JP4149643B2 (ja) | 2000-08-04 | 2000-08-04 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000237471A JP4149643B2 (ja) | 2000-08-04 | 2000-08-04 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002050747A JP2002050747A (ja) | 2002-02-15 |
JP4149643B2 true JP4149643B2 (ja) | 2008-09-10 |
Family
ID=18729328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000237471A Expired - Fee Related JP4149643B2 (ja) | 2000-08-04 | 2000-08-04 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4149643B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4597618B2 (ja) * | 2004-09-15 | 2010-12-15 | Okiセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2009065024A (ja) * | 2007-09-07 | 2009-03-26 | Elpida Memory Inc | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2000
- 2000-08-04 JP JP2000237471A patent/JP4149643B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002050747A (ja) | 2002-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100373287B1 (ko) | 반도체 장치, 그 제조 방법 및 더미 영역의 배치 방법 | |
KR100289273B1 (ko) | 폴리실리콘 바이어스 전압 콘택을 갖는 반도체 소자 트렌치 절연구조 | |
JP5527922B2 (ja) | 直流ノード拡散領域の下に埋め込み酸化物を有さず、酸化物ホールを有する差別化soi構造 | |
US20020175378A1 (en) | SOI substrate having an etch stop layer, and fabrication method thereof, SOI integrated circuit fabricated thereon, and method of fabricating SOI integrated circuit using the same | |
KR101195720B1 (ko) | 반도체 집적 회로 디바이스 및 그 제조 방법 | |
JPS63175440A (ja) | 電気的能動トレンチを用いたバイポーラ及びcmosの組み合わせ技術 | |
US5811330A (en) | Method of fabricating an overvoltage protection device in integrated circuits | |
US7651921B2 (en) | Semiconductor device having a frontside contact and vertical trench isolation and method of fabricating same | |
JP3954532B2 (ja) | Soi半導体装置の製造方法及びsoi半導体装置 | |
JP4567126B2 (ja) | 集積デバイスの製造方法および集積デバイス | |
JPH1074921A (ja) | 半導体デバイスおよびその製造方法 | |
US6313507B1 (en) | SOI semiconductor device capable of preventing floating body effect | |
JP4149643B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP4124553B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP5996893B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
KR960042931A (ko) | Soi 구조를 갖는 반도체장치의 제조방법 | |
JP3779278B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2002076311A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US6417033B1 (en) | Method of fabricating a silicon island | |
JP2016197759A (ja) | 半導体装置 | |
JP2826405B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR100505400B1 (ko) | 에스 오 아이 기판에 형성되는 반도체 디바이스 및 그 제조방법 | |
JPH1050933A (ja) | 入力保護回路 | |
JP2004064000A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2007066972A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040202 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040303 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040914 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070529 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080108 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080306 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080401 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080530 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080624 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080626 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4149643 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20091108 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704 Year of fee payment: 3 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D03 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120704 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130704 Year of fee payment: 5 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |