JP4149379B2 - ヘテロアリールアミン化合物の新規合成 - Google Patents

ヘテロアリールアミン化合物の新規合成 Download PDF

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Description

発明の詳細な説明
技術分野
本発明は、ヘテロアリールウレア基を有する医薬的活性化合物における重要な成分、ヘテロアリールウレアの生産において有用なヘテロアリールアミン化合物の合成に関する。
背景技術
アリール及びヘテロアリール置換ウレアは、サイトカイン生産の阻害剤として報告されている。これらの阻害剤は、炎症性疾患及び自己免疫疾患を含むサイトカイン介在疾患における有効な治療剤として記載される。そのような化合物の例は、WO 99/23091及びWO 98/52558に記載されている。
これらの化合物を合成する際に重要な工程は、ウレア結合の形成である。これを達成するための種々の方法が報告されている。例えば、上記文献に報告されているように、芳香族又はヘテロ芳香族アミン、Ar1NH2は、芳香族又はヘテロ芳香族イソシアネートと反応させて、ウレアAr1NHC(O)NHAr2を形成することができる。
式I
Figure 0004149379
商業的に入手可能でない場合には、そのイソシアネートの製造は、アリール又はヘテロアリールアミンAr2−NH2と、ホスゲン又はホスゲン同等物、例えばビス(トリクロロメチル)カーボネート(トリホスゲン)(P. Majer and R. S. Randad, J. Org. Chem. 1994, 59, 1937)又はトリクロロメチルクロロホルメート(ジホスゲン)(K. Kurita, T. Matsumura and Y. Iwakura, J. Org. Chem. 1976, 41, 2070)とを反応させて、イソシアネート、Ar2−NCOを形成し、次いで、Ar1NH2と反応させて、ウレアを得ることにより行うことができる。化学文献に報告されているウレアを形成するための他のアプローチは、式IIに示されているような、カルバメートとアリール又はヘテロアリールアミンとの反応を含む(例えば、B. Thavonekham, Synthesis, 1997, 1189 and T. Patonay et al., Synthetic Communications, 1996, 26, 4253参照)。米国仮出願第60/143,094号は、また、特定のカルバメート中間体を所定のアリールアミンと反応させることによるヘテロアリールウレアの製造方法を開示する。
式II
Figure 0004149379
米国特許出願第09/505,582号及びPCT/US00/03865には、以下の式のサイトカイン阻害ウレアが記載されている:
Figure 0004149379
その中に記載されている好ましい化合物を製造するために必要な中間体は、Ar2としての二置換ナフタレンを有し、かつ、以下の式により表される:
Figure 0004149379
これらの中間体の製造には、Xを有するナフチル環のカップリングが必要とされる。好ましいX基は、アリール及びヘテロアリール基を含む。米国特許出願第09/505,582号及びPCT/US00/03865を含む前述の方法により、これらの芳香族残基のカップリングが達成されるが、これは、リガンド、例えばトリフェニルホスフィンの存在下で、遷移金属、例えばパラジウムにより触媒されるカップリング反応を用いることによる。カップリング方法としては、トリブチルスタニル(tributylstannyl)中間体の製造が必要であるスチレ(Stille)カップリング、又はボロン酸中間体の製造を必要とするスズキカップリング(式III)が挙げられる。
式III
Figure 0004149379
これらの方法における幾つかの工程には、極温(−78℃)の冷却が必要とされる。他では、高圧下での反応が必要とされるか、生成物を精製するためのクロマトグラフィが必要とされるか、又は高価な試薬を使用する。これらの理由から、これらの方法は、大規模な又は工業的規模での生産には不適切である。
発明の概要
本発明の目的は、式(I)のヘテロアリールアミンを製造するための新規な方法を提供することである:


Figure 0004149379
(式中、X、Y及びZは、以下に記載するとおりであり、ヘテロアリールアミンは、上記ヘテロアリールウレアの生産に有用である。)
発明の詳細な記載
本願明細書に記載するものは、米国特許出願第09/505,582号及びPCT/US00/03865に記載されたヘテロアリールアミン中間体を含むヘテロアリールアミン中間体を製造するための新規方法である。本願明細書に記載する方法には幾つかの利点がある。それらでは、安価な材料及び試薬が使用され、その反応が中程度の温度で行われ、高圧反応はなく、かつ、クロマトグラフィは必要でない。
本発明の新規特徴は、順に、式(II)の新規エステル及びジエステル、例えばジエチルスクシネートから出発して合成された、適切に置換されたカルボン酸5からの、以下の式Iで例示されるようなナフタレン環の構造にある。本願明細書において記載されるような式(II)の化合物のいずれかは、既に入手可能であり、かつ、コスト効率の良い出発材料、例えば、以下の実施例1のものから合成することができる。
本発明は、式(I)のヘテロアリールアミン化合物の合成についての新規方法を提供する:
Figure 0004149379
式中、ナフチル環は、更に、場合により、1又は2以上のR1又はR2により置換されていてもよく;
Xは、C5-8シクロアルキル及びシクロアルケニル(場合により、1〜2のオキソ基又は1〜3のC1-4アルキル、C1-4アルコキシ又はC1-4アルキルアミノ鎖(それぞれ、分枝又は非分枝である)により置換されていてもよい)、
アリール、フラニル、チエニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、ピリジノニル、ジヒドロピリジノニル、マレイミジル、ジヒドロマレイミジル、ピペリジニル、ベンズイミダゾール、3H-イミダゾ[4,5-b]ピリジン、ピペラジニル、ピリダジニル又はピラジニル(それぞれ、場合により、独立して、1〜3のC1-4アルキル、C1-4アルコキシ、ヒドロキシ、ニトロ、ニトリル、アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキルアミノ)カルボニル、NH2C(O)、C1-6アルキル−S(O)m又はハロゲンにより置換されていてもよい)から選ばれ;
Yは、結合手又は場合により部分的に又は十分にハロゲン化されていてもよいC1-4飽和又は不飽和の分枝又は非分枝炭素鎖(1又は2以上のメチレン基が、場合により、O、N又はS(O)mにより置き換えられていてもよく、また、Yは、場合により、独立して、1〜2のオキソ基、フェニル又は1又は2以上のC1-4アルキル(場合により1又は2以上のハロゲン原子により置換されていてもよい)により置換されていてもよい)から選ばれ;
Zは、フェニル、ピリジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピラジニル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、フラニル、チエニル、ピラニル(それぞれ、場合により、1〜3のハロゲン、C1-6アルキル、C1-6アルコキシ、ヒドロキシ、アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ、C1-6アルキル−S(O)m、CN、CONH2、COOH又はフェニルアミノ(フェニル環は、場合により、1〜2のハロゲン、C1-6アルキル又はC1-6アルコキシにより置換されていてもよい)により置換されていてもよい)、
テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル、1,3-ジオキソラノニル、1,3-ジオキサノニル、1,4-ジオキサニル、モルホリニル、チオモルホリニル、チオモルホリニルスルホキシジル、チオモルホリニルスルホニル、ピペリジニル、ピペリジノニル、ピペラジニル、テトラヒドロピリミドニル、シクロヘキサノニル、シクロヘキサノリル、ペンタメチレンスルフィジル、ペンタメチレンスルホキシジル、ペンタメチレンスルホニル、テトラメチレンスルフィド、テトラメチレンスルホキシジル又はテトラメチレンスルホニル(それぞれ、場合により、1〜3のニトリル、C1-6アルキル、C1-6アルコキシ、ヒドロキシ、アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ−C1-3アルキル、CONH2、フェニルアミノ−C1-3アルキル又はC1-3アルコキシ−C1-3アルキルにより置換されていてもよい)、
ハロゲン、C1-4アルキル、ニトリル、アミノ、ヒドロキシ、C1-6アルコキシ、NH2C(O)、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノカルボニル、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ、第2級又は第3級アミン(アミノ窒素は、C1-3アルキル又はC1-5アルコキシアルキル、ピリジニル−C1-3アルキル、イミダゾリル−C1-3アルキル、テトラヒドロフラニル−C1-3アルキル、ニトリル−C1-3アルキル、カルボキサミド−C1-3アルキル、フェニル(フェニル環は、場合により、1〜2のハロゲン、C1-6アルコキシ、ヒドロキシ又はモノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノにより置換されていてもよい)、C1-6アルキル−S(O)m又はフェニル−S(O)m(フェニル環は、場合により、1〜2のハロゲン、C1-6アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン又はモノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノにより置換されていてもよい)に共有結合している)、
1-6アルキル−S(O)m又はフェニル−S(O)m(フェニル環は、場合により、1〜2のハロゲン、C1-6アルコキシ、ヒドロキシ又はモノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノにより置換されていてもよい)から選ばれ;
1及びR2は、独立して、C1-6分枝又は非分枝アルキル(場合により部分的に又は十分にハロゲン化されていてもよい)、C1-4分枝又は非分枝アルコキシ(それぞれ、場合により、部分的に又は十分にハロゲン化されていてもよい)、ハロゲン、C1-3アルキル−S(O)m(場合により、部分的に又は十分にハロゲン化されていてもよい)又はフェニルスルホニルから選ばれ;
mは、0、1又は2である。
最も広範な態様での本発明の方法は以下のものであり、式1に示される非制限的実施態様により例示される:
その方法は、以下の工程a)〜c)を含む:
a)Z−Y−X−COO−Rxエステル(II)(式中、RxはC1-5アルキル又はアリールである)とジエステル(III)とを、適切な溶媒(プロトン性又は非プロトン性の極性又は無極性のもの、好ましくは非プロトン性のもの、例えばTHF、DME、DMSO、エーテル、ジオキサン、CH2Cl2、CHCl3、トルエン、ピリジン又はDMF、又は適切なアルコール(好ましくは溶剤は、THF又はDMSOから選ばれ、より好ましくはTHFである))、及び適切な塩基(例えば有機又は無機塩基、例えばNaH、NaNH2、ナトリウムアルコキシド、例えばNa−t−ブトキシド、Na−エトキシド、NaOH、ピリジン、TEA、DBU又はBuLi、好ましくはNaH又はt−ブトキシド)中において、及び場合により、実施例3におけるような適切なときには、添加剤(例えば、DMPU及びHMPA、好ましくはDMPU)の存在下で、約0〜200℃の温度で、約5分〜24時間(好ましくは、好ましい溶剤THFを用いる場合には、60〜70℃で約8時間)の反応時間で反応させ、かつ、中間体化合物(IV)を単離する工程、実施例1及び2は、式(II)の化合物を製造するための代表的方法であり、式(II)の他の化合物を製造する方法は、当該技術分野の範囲内にある;
Figure 0004149379
b)工程a)の生成物を、酸性又は塩基性加水分解(好ましくは酸性加水分解)及び脱カルボキシル化に対して、当該技術分野における当業者に明らかな適切な酸性条件(例えば、HOAc中の濃H2SO4)下で、約50〜200℃の温度で、約5分〜24時間(好ましくは、約100℃で約7時間)付し、次いで、エステル化を適切な条件下でC1-5アルコール(好ましくはEtOH)を用いて行い、次いで、フェニル求核付加反応(フェニルは、場合により、独立して、R1及び/又はR2により置換されていてもよい)を、例えば、フェニルグリニャール試薬PhMgBr、フェニルLi、フェニルZnCl(好ましくはフェニルグリニャール)を介して行い、還元的開裂を適切な条件(例えばHCOONH4/Pd/C/EtOH)下で行って、カルボン酸化合物を形成し、それを、強鉱酸(例えば、H2SO4、HCl、MeSO3H、CF3SO3H、PPA又はルイス酸、例えばSnCl4、AlCl3、BF3−OEt2及びYb(OTf)2、好ましくはPPA)での処理を、場合により適切な溶剤中において、RT〜200℃(好ましくは約110℃)の温度で行って、式(V)の中間生成物を形成し、かつ、その生成物を単離する工程:
Figure 0004149379
c)工程b)からの生成物とHNRyz又はそのそれぞれの塩とを反応を適切な条件下で反応させて、式(VI)のエナミン又はイミン(好ましくはオキシム)化合物を形成する工程:








Figure 0004149379
(式中、Ryは、C1-5アルキル又は水素であり、Rzは、C1-5アルキル、水素又はOHであり、但し、式(VI)がエナミン互変体である場合には、Ry及びRzの双方が、C1-5アルキルであり、又は、式(VI)がイミン互変体である場合には、RzがOH、C1-5アルキル又は水素であり、かつ、Ryが存在しない)。
Figure 0004149379
好ましいが、非制限的実施態様においては、オキシムの形成を、NH2OH・HClを、適切な塩基、例えばNaOHを有する適切な溶剤、例えばEtOH中へ、約RTで、約1〜24時間(好ましくは18時間)添加することにより行い;
d)1)工程c)の生成物がイミン(好ましくはオキシム(Ry=H、Rz=OH))である場合には、好ましくは1容器反応において、生成物(VI)のアシル化及び還元を、当該技術分野において知られる条件下で行い(好ましいが、非制限的例は、アシル化/還元条件であり、例えば、化合物(VI)を、無水酢酸、酢酸及び適切な還元剤、例えばFe、SnCl2及びZn、好ましくはFeを用いて、約55℃で、約5時間処理し)、次いで、不飽和アミド生成物(8)を、上記式(I)のナフタレン環を形成することが可能な酸化条件下で処理し(例えば、アミド生成物(8)を、酸化試薬、例えばDDQ、O2、CrO3及びKMnO4、好ましくはDDQを用いて、無極性溶剤、例えば塩化メチレン中において、約0〜50℃、好ましくはRTで、約0.5〜10時間、好ましくは5時間処理し)、次いで、当該技術分野において知られる方法により脱保護を行って、式(I)を形成する工程;
Figure 0004149379
又は、工程c)の生成物がエナミンである場合には、エナミンを適切な酸化条件下で酸化して、ナフタレン環を形成し、次いで、窒素を脱保護して、式(I)のアミンを形成する工程。非制限的例示においては、Ry及びRzはベンジルであり、ナフタレン環についての酸化は上述したように達成することができ、また、脱ベンジル化(debenzylation)は、当該技術分野における当業者に知られる方法、例えばH2/パラジウム/Cにより達成することができる。
特に所望のAr−X−Y−Zの組み合せを有する式(I)の化合物は、当該技術分野の現状及び本願明細書の教示の観点から、当業者に明らかな変化により過度の実験なしに合成することができる。見込まれるX−Y−Zの組み合せの具体例は、PCT/US/00/03865及び米国特許出願第09/505,582号に記載されており、それらの全ては、本願明細書に組み込まれるものとする。
本発明の他の実施態様においては、上記式(I)の化合物を製造するための新規方法が提供され、その中においては:
Xが、C5-8シクロアルキル及びシクロアルケニル(場合により、1〜2のオキソ基又は1〜3のC1-4アルキル、C1-4アルコキシ又はC1-4アルキルアミノ鎖(それぞれ、分枝又は非分枝である)により置換されていてもよい)、
アリール、ピリジニル、ピリミジニル、ピリジノニル、ジヒドロピリジノニル、マレイミジル、ジヒドロマレイミジル、ピペリジニル、ベンズイミダゾール、3H-イミダゾ[4,5-b]ピリジン、ピペラジニル、ピリダジニル又はピラジニル(それぞれ、場合により、独立して、1〜3のC1-4アルキル、ニトロ、ニトリル、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキルアミノ)カルボニル、NH2C(O)、C1-6アルキル−S(O)m又はハロゲンにより置換されていてもよい)から選ばれ;
Yが、結合手又は
1-4飽和又は不飽和炭素鎖(炭素原子の1つが、場合により、O、N又はS(O)mにより置き換えられていてもよく、また、Yが、場合により、独立して、1〜2のオキソ基、フェニル又は1又は2以上のC1-4アルキル(場合により1又は2以上のハロゲン原子により置換されていてもよい)により置換されていてもよい)から選ばれ;
Zが、フェニル、ピリジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピラジニル、イミダゾリル、フラニル、チエニル、ジヒドロチアゾリル、ジヒドロチアゾリルスルホキシジル、ピラニル、ピロリジニル(場合により、1〜3のニトリル、C1-3アルキル、C1-3アルコキシ、ヒドロキシ、アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ又はCONH2により置換されていてもよい)、
テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル、1,3-ジオキソラノニル、1,3-ジオキサノニル、1,4-ジオキサニル、モルホリニル、チオモルホリニル、チオモルホリニルスルホキシジル、ピペリジニル、ピペリジノニル、ピペラジニル、テトラヒドロピリミドニル、ペンタメチレンスルフィジル、ペンタメチレンスルホキシジル、ペンタメチレンスルホニル、テトラメチレンスルフィジル、テトラメチレンスルホキシジル又はテトラメチレンスルホニル(場合により、1〜3のニトリル、C1-3アルキル、C1-3アルコキシ、ヒドロキシ、アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ又はCONH2により置換されていてもよい)、
ニトリル、C1-6アルキル−S(O)m、ハロゲン、ヒドロキシ、C1-4アルコキシ、アミノ、モノ又はジ−(C1-6アルキル)アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノカルボニル又はNH2C(O)から選ばれる。
本発明の更に他の実施態様においては、真上に記載の式(I)の化合物を製造するための新規方法が提供され、その中においては:
Xが、アリール、ピリジニル、ピリミジニル、ベンズイミダゾール、3H-イミダゾ[4,5-b]ピリジン、ピペラジニル、ピリダジニル又はピラジニル(それぞれ、場合により、独立して、1〜3のC1-4アルキル、ニトロ、ニトリル、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキルアミノ)カルボニル、NH2C(O)、C1-6アルキル−S(O)m又はハロゲンにより置換されていてもよい)から選ばれ;
Yが、結合手又は
1-4飽和炭素鎖(炭素原子の1つが、場合により、O、N又はSにより置き換えられていてもよく、また、Yが、場合により、独立して、オキソ基により置換されていてもよい)から選ばれ;
Zが、フェニル、ピリジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピラジニル、イミダゾリル、ジヒドロチアゾリル、ジヒドロチアゾリルスルホキシド、ピラニル又はピロリジニル(場合により、1〜2のC1-2アルキル又はC1-2アルコキシにより置換されていてもよい)、
テトラヒドロピラニル、モルホリニル、チオモルホリニル、チオモルホリニルスルホキシジル、ピペリジニル、ピペリジノニル、ピペラジニル又はテトラヒドロピリミドニル(場合により、1〜2のC1-2アルキル又はC1-2アルコキシにより置換されていてもよい)、又は
1-3アルコキシから選ばれる。
本発明の更に他の実施態様においては、真上に記載の式(I)の化合物を製造するための新規方法が提供され、その中においては:
Xが、ピリジニル又はピリミジニル(それぞれ、場合により、独立して、1〜3のC1-4アルキル、ニトロ、ニトリル、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキルアミノ)カルボニル、NH2C(O)、C1-6アルキル−S(O)m又はハロゲンにより置換されていてもよい)から選ばれ;
Yが、結合手、−CH2−、−CH2CH2−、−C(O)−、−O−、−S−、−NH−CH2CH2CH2−、−N(CH3)−又は−NH−から選ばれる。
本発明の更に他の実施態様においては、真上に記載の式(I)の化合物を製造するための新規方法が提供され、その中においては:
Yが、−CH2−、−NH−CH2CH2CH2−又は−NH−から選ばれ、かつ、
Zがモルホリニルである。
本願明細書において使用する全ての用語は、別に記載のない限り、当該技術分野において知られている通常の意味として理解すべきである。例えば、“C1-6アルコキシ”は、末端酸素を有するC1-6アルキル、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ペントキシ及びヘキソキシである。アルキル、アルケニル及びアルキニル基の全ては、構造的に可能であり、他に記載のない限り、分枝又は非分枝であると理解すべきである。他のより具体的な定義は、次ぎの通りである:
本願明細書において使用する用語“アロリル”は、“ベンゾイル”又は“ナフトイル”を意味すると理解すべきである。
本願明細書において使用する用語“アリール”は、本願明細書において定義されるような芳香族炭素環(aromatic carbocycle)又はヘテロアリールを意味すると理解すべきである。
用語“炭素環(carbocycle)”は、3〜12の炭素原子を含む脂環式炭化水素基を意味すると理解すべきである。炭素環は、3〜10の炭素原子を含む炭化水素環を含む。これらの炭素環は、芳香族及び非芳香族環系のいずれであってもよい。非芳香族環系は、モノ又はポリ不飽和であってもよい。好ましい炭素環としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロペンテニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘプタニル、シクロヘプテニル、フェニル、インダニル、インデニル、ベンゾシクロブタニル、ジヒドロナフチル、、テトラヒドロナフチル、ナフチル、デカヒドロナフチル、ベンゾシクロヘプタニル及びベンゾシクロヘプテニルが挙げられるが、これらに限定される訳ではない。シクロアルキルについての数種の用語、例えばシクロブタニル及びシクロブチルは、互換的に使用される。
用語“ヘテロ環”は、別に記載のない限り、安定な非芳香族4−8員(好ましくは5又は6員)の単環又は非芳香族の8〜11員の二環式ヘテロ環基(飽和又は不飽和のいずれであってもよい)を意味する。各ヘテロ環は、炭素原子、及び1又は2以上、好ましくは1〜4のヘテロ原子(窒素、酸素又は硫黄から選ばれる)からなる。ヘテロ環は、環中のいずれの原子に結合していてもよく、それは、安定な構造をもたらす。他に記載のない限り、ヘテロ環としては、例えば、オキセタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、テトラヒドロピラニル、ジオキサニル、テトラメチレンスルホニル、テトラメチレンスルホキシジル、オキサゾリニル、チアゾリニル、イミダゾリニル、テトラヒドロピリジニル、ホモピペリジニル、ピロリニル、テトラヒドロピリミジニル、デカヒドロキノリニル、デカヒドロイソキノリニル、チオモルホリニル、チアゾリジニル、ジヒドロオキサジニル、ジヒドロピラニル、オキソカニル(oxocanyl)、ヘプタカニル(heptacanyl)、チオキサニル、ジチアニル又は2-オキサ又は2-チア-5-アザ-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニルが挙げられるが、これらに限定される訳ではない。
用語“ヘテロアリール”は、別に記載のない限り、芳香族5〜8員の単環又は8〜11員の二環で、1〜4のヘテロ原子、例えばN、O及びSを含むものを意味すると理解すべきである。他に記載のない限り、そのようなヘテロアリールとしては、ピリジニル、ピリドニル、キノリニル、ジヒドロキノリニル、テトラヒドロキノイル、イソキノリニル、テトラヒドロイソキノイル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、ベンズピラゾリル、ジヒドロベンゾフラニル、ジヒドロベンゾチオフェニル、ベンゾオキサゾロニル、ベンゾ[1,4]オキサジン-3-オニル、ベンゾジオキソニル、ベンゾ[1,3]ジオキソール-2-オニル、テトラヒドロベンゾピラニル、インドリル、インドリニル、インドロニル、インドリノニル、フタルイミジルが挙げられる。
環状基の類縁体、例えばアリールオキシ又はヘテロアリールアミンの用語は、そのそれぞれの官能基に結合する、上記で定義するようなアリール、ヘテロアリール、ヘテロ環を意味すると理解すべきである。
本願明細書において使用する“窒素”及び“硫黄”は、酸化形態の窒素及び硫黄、及び四級形態(quaternized form)の塩基性窒素を含む。
本願明細書において使用する用語“ハロゲン”は、他に記載のない限り、臭素、塩素、フッ素又はヨウ素を意味すると理解すべきである。
DDQ − 2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-1,4-ベンゾキノン;
PPA − ポリリン酸;
HOAc − 酢酸;
RT又はrt − 室温;
n−BuLi − n-ブチルリチウム;
DME − 1,2-ジメトキシエタン;
DMSO − メチルスルオキシド;
DMF − N,N-ジメチルホルムアミド;
DBU − 1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン;
DMPU − N,N'-ジメチルプロピレンウレア;
HMPA − ヘキサメチルホスホラミド;
TEA − トリエチルアミン;
THF − テトラヒドロフラン。
本発明の化合物は、当該技術分野における当業者により理解されるであろうように“化学的に安定な”ものであることが意図されるもののみである。例えば、“ダングリング結合価(dangling valency)”又は“カルバニオン”を有する化合物は、本発明により意図される化合物ではない。
本発明をより十分に理解するために、異化の実施例を、以下の全体的反応式で記載する。これらの実施例は、本発明の好ましい実施態様を説明することを目的とするものであって、如何なる場合にも本発明の範囲を制限すると解釈すべきでない。式Iの化合物(1)を製造するためのサンプル方法及び出発材料を、以下の実施例1及び2に示す。
実施例
式I
Figure 0004149379
実施例1
Figure 0004149379
塩化物の製造:
200mLのCH2Cl2中の上記アルコール(18.0g、100mmol)の溶液を製造し、氷水浴中で冷却した。100mLのCH2Cl2中のSOCl2(22mL、300mmol)溶液を、上記溶液に対して、内部温度を10℃未満に保つ速度で添加した。添加後、冷却浴を取り除き、反応混合物を室温まで2時間かけて温めた。反応混合物を蒸発させて、全ての揮発成分をロータバップ(rotavap)により除去した。残留物を、150mLのCH2Cl2中に溶解し、飽和重炭酸ナトリウムを、pH=9となるまで添加した。水性層をCH2Cl2で抽出した。組み合せた有機層を乾燥(MgSO4)し、濃縮して、所望の塩化物20.0g(100%)を得た。1H NMR (CDCL3): δ9.15 (s, 1H), 8.33 (d, J = 8 Hz, 1H), 7.58 (d, J = 8 Hz), 4.73 (s, 2H), 4.42 (q, J = 7 Hz, 2H), 1.42 (t, J = 7 Hz, 3H).
実施例2
Figure 0004149379
モルホリン基の製造:
125mLのCH2Cl2中の上記実施例1の塩化物(20g、100mmol)及びトリエチルアミン(15.2g、150mmol)の溶液を製造した。11g(126mmol)のモルホリンを添加し、反応混合物を室温で一晩(18時間)撹拌した。100mLの飽和重炭酸ナトリウムを添加した。水性層を、CH2Cl2(2×50mL)で抽出した。組み合せた有機層を乾燥(MgSO4)し、濃縮して、所望の生成物24.3g(97%)を得た。1H NMR (CDCL3): δ 9.15 (s, 1H), 8.25 (d, J = 8 Hz, 1H), 7.52 (d, J = 8 Hz, 1H), 4.40 (q, J = 7 Hz, 2H), 3.73 (m, 6H), 2.51 (t, J = 4 Hz, 4H), 1.40 (t, J = 7 Hz, 3H).
実施例3
ジエステル(2)
乾燥THF(200ml)中のエステル1(10.0g、40mmol)、ジエチルスクシネート(7.0g、40mmol)及び水素化ナトリウム(60%分散、鉱油中、3.20g、80mmol)の混合物に対して、DMPU(20ml)及びメタノール(0.10ml)を添加し、その混合物を2.5時間還流した。更なるジエチルスクシネート(10.50g、60mmol)及び水素化ナトリウム(4.80g、120mmol)を5等分割で、還流反応混合物に対して、0.75時間の間隔で添加した。還流を更に1.5時間続けた。冷却反応混合物を、2N HCl(200ml)及びエチルアセテート(200ml)の撹拌混合物に注入した。水性相を分離し、pHを飽和重炭酸ナトリウムで8.5に調節し、かつ、それをエチルアセテートで抽出した。有機相を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。エチルアセテートの蒸発により、ほぼ純粋な2を黄色がかった茶色のオイルとして得た(10.65g、70.4%)。
1H NMR (CDCl3) δ 1.16 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 1.22 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 2.51-2.53 (m, 4H), 3.02-3.20 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 6H), 4.10-4.15 (m, 4H), 4.78-4.80 (m, 1H), 7.58 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 8.27 (d, J = 6.0 Hz, 1H) and 9.18 (d, J = 2.1 Hz, 1H).
実施例4
ケトエステル(3)
濃硫酸(10ml)を、慎重に、酢酸(60ml)中のジエステル2(11.55g、30.5mmol)の溶液に添加した。その混合物を、100℃で6.5時間撹拌した。30〜40mlの酢酸を減圧下で除去した後、エタノール(125ml)を残留物に添加し、反応混合物を3.5時間還流させた。それを、ロータリ・エバポレータで濃縮し、次いで、水で冷却した。その混合物を、エチルアセテートで抽出した。水性相を分離し、飽和NaHCO3で処理し、塩化メチレンで抽出した。無水硫酸ナトリウムでの乾燥後、溶剤を蒸発して、3を、赤色粘性油として、実質的に純粋な状態で得た(8.35g、89%)。1H NMR (CDCl3) δ 1.27 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 2.50-2.53 (m, 4H), 2.76-2.79 (m, 2H), 3.28-3.31 (m, 2H), 3.72-3.75 (m., 6H), 4.15 (q, J = 7.2 Hz, 2H), 7.56 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 8.21 (d, J = 6.0 Hz, 1H) and 9.13 (d, J = 2.0 Hz, 1H).
実施例5
ラクトン(4)
フェニルホウ化マグネシウム(1M/THF、37.1mmol、37.1ml)を、ゆっくりと、−5℃の乾燥THF中のケトエステル3(8.11g、26.5mmol)の撹拌溶液に対して、反応温度が0℃未満であるように添加した。反応混合物をこの温度で更に0.5時間撹拌した。10%塩化アンモニウム溶液での冷却後、それをエチルアセテートで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、かつ、蒸発して、粗い4を得た。分析的に純粋なサンプルを、溶剤としてエチルアセテートを用いてシリカゲルカラムから得た。
1H NMR (CDCl3) δ 2.47-2.49 (m, 4H), 2.58-2.62 (m, 2H), 2.92 (m, 2H), 3.62 (s, 2H), 3.70-3.72 (m, 4H), 7.29-7.42 (m, 6H), 7.69-7.71 (m, 1H) and 8.62 (d, J = 2.0 Hz, 1H).
実施例6
酸(5)
試薬アルコール(100ml)中の粗いラクトン4(上記からのもの)の溶液に対して、ギ酸アンモニウム(5.0g)及び10%Pd/C(0.66g)を添加し、反応混合物を2.5時間還流させた。触媒をろ過し、ろ液を濃縮した。NaHCO3の飽和溶液を、pHが8.5となるまで添加した。それをエチルアセテートで抽出して、非酸性不純物を除去した。その水性相のpHを、その後、2N HClで6.5〜7まで低下させ、それを、CH2Cl2で抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して、5を、褐色粘性油として得た(3.7g、41%、2工程超)。1H NMR (CDCl3) δ 2.27-2.42 (m, 4H), 2.54-2.56 (m, 4H), 3.65 (s, 2H), 3.71-3.3.73 (m, 4H), 4.09-4.13 (m, 1H), 7.22-7.31 (m, 6H), 7.49-7.51 (m, 1H) and 8.51 (s, 1H).
実施例7
テトラロン(tetralone)(6)
酸5(3.6g、10.6mmol)及びポリリン酸(85g)の混合物を、110℃で1.5時間撹拌した。冷却後、反応混合物を、冷水で冷却し、2N NaOHで処理して、pHを〜5までとした。それを、CH2Cl2で抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発して、ほぼ純粋なケトン6を茶色粘性油として得た(3.1g、90%)。分析的に純粋なサンプルを、溶剤としてエチルアセテートを用いて予備TLCから得た。
1H NMR (CDCl3) δ 2.23-2.35 (m, 1H), 2.45-2.78 (m, 7H), 3.68-3.77 (m, 6H), 4.32-4.36 (m, 1H), 6.94 (d, J = 6.4 Hz, 1H), 7.34-7.7.47 (m, 4H), 8.13 (d, J = 6.4 Hz, 1H) and 8.45 (d, J = 2.0 Hz, 1H).
実施例8
オキシム(7)
NaOH(1N、17.6ml、17.6mmol)の溶液を、0℃の水(10ml)中のヒドロキシルアミン塩酸塩(1.19g、17.1mmol)の撹拌溶液に対して5分間かけて添加し、次いで、試薬アルコール(20ml)中のケトン6(3.06g、9.5mmol)の溶液を添加した。反応混合物を室温で18時間撹拌した後、それを、水で希釈し、塩化メチレンで抽出した。有機層を、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発して、粗い生成物を得た。それを、溶剤としてエチルアセテートを用いてシリカゲルクロマトグラフィにより精製して、7を、無色油として得た。それをスタンディング(standing)上に凝固させた(2.00g、62%)。1H NMR (CDCl3) δ 2.02-2.12 (m, 1H), 2.16-2.26 (m, 1H), 2.50-2.60 (m, 4H), 2.70-2.90 (m, 2H), 3.7 (s, 2H), 3.72-3.78 (m, 4H), 4.15-4.20 (m, 4H), 6.90-6.95 (m, 1H), 7.20-7.35 (m, 3H), 7.98-8.02 (m, 1H), 8.4 (s, 1H) and 9.05 (bs, 1H).
実施例9
アミド(8)
無水酢酸(15ml)及び酢酸(1ml、16.8mmol)中のオキシム7(1.42g、4.2mmol)の溶液を、室温で0.5時間撹拌した。鉄パウダー(0.63g、10mg原子)を添加し、その混合物を55℃で5時間撹拌した。反応混合物を冷却し、エチルアセテートを添加し、得られた混合物をろ過した。ろ液を蒸発して乾燥物とした。水を添加し、pHを2N NaOHで〜8に調節し、再び、エチルアセテートで抽出した。それを無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。粗生成物を、2.5%MeOH/CH2Cl2で溶出するシリカゲルクロマトグラフィにより精製して、8を、黄色粘性油として得た(1.08g、71%)。
1H NMR (CDCl3) δ 2.18 (s, 3H), 2.50-2.51 (m, 4H), 2.63-2.66 (m, 2H), 3.62-3.73 (m, 6H), 6.30-6.31 (m, 1H), 6.87-6.97 (m, 2H), 7.14-7.33 (m, 5H), 7.51-7.53 (m, 1H) and 8.41 (bs, 1H).
実施例10
N−アセチルナフタレン(9)
塩化メチレン(5ml)中のアミド8(0.36g、0.99mmol)の溶液を、非常に迅速に、室温の塩化メチレン(15ml)中のDDQ(0.34g、1.5mmol)の懸濁液に添加した。黒色反応混合物を0.25時間撹拌下後、それを、NaOH(2N、7ml)で冷却した。有機層を分離し、乾燥し、蒸発して、黄色残留物を得た。それを、シリカゲルのプラグに通して、純粋な9を得た(0.21g、59%)。1H NMR (CDCl3) δ 2.37 (s, 3H), 2.59-2.62 (m, 4H), 3.70-3.79 (m, 6H), 7.35-7.55 (m, 5H), 7.75-7.96 (m, 4H) and 8.66 (bs, 1H).
実施例11
ナフチルアミン(10)
NaOH(3N、6ml)の水溶液を、試薬アルコール(4ml)中の9(0.195g、0.54mmol)の撹拌溶液に添加し、その混合物を5時間還流させた。反応混合物を冷却し、水で希釈し、塩化メチレンで抽出した。有機層を、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発して、10を、黄色発泡体として得た(0.14g、80%)。
1H NMR (CDCl3) δ 2.59-2.61 (m, 4H), 3.75- 3.80 (m, 6H), 4.28 (bs, 2H), 6.85 (d, J = 7.60 Hz, 1H), 7.23-7.26 (m, 1H), 7.44-7.51 (m, 3H), 7.75-7.77 (m, 1H), 7.82 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.89 (d, J = 8.0 Hz, 1H) and 8.67 (d, J = 2.0, 1H).

Claims (7)

  1. 式(I)の化合物を製造する方法であって、以下の工程i)〜iv)を含む方法:
    Figure 0004149379
    (式中、ナフチル環は、更に、場合により、1又は2以上のR1又はR2により置換されていてもよく;
    Xは、C5-8シクロアルキル及びシクロアルケニル(場合により、1〜2のオキソ基又は1〜3のC1-4アルキル、C1-4アルコキシ又はC1-4アルキルアミノ鎖(それぞれ、分枝又は非分枝である)により置換されていてもよい)、
    アリール、フラニル、チエニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、ピリジノニル、ジヒドロピリジノニル、マレイミジル、ジヒドロマレイミジル、ピペリジニル、ベンズイミダゾール、3H-イミダゾ[4,5-b]ピリジン、ピペラジニル、ピリダジニル又はピラジニル(それぞれ、場合により、独立して、1〜3のC1-4アルキル、C1-4アルコキシ、ヒドロキシ、ニトロ、ニトリル、アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキルアミノ)カルボニル、NH2C(O)、C1-6アルキル−S(O)m又はハロゲンにより置換されていてもよい)から選ばれ;
    Yは、結合手又はC1-4飽和又は不飽和の分枝又は非分枝炭素鎖(場合により部分的に又は十分にハロゲン化されていてもよく、1又は2以上のメチレン基が、場合により、O、N又はS(O)mにより置き換えられていてもよく、また、Yは、場合により、独立して、1〜2のオキソ基、フェニル又は1又は2以上のC1-4アルキル(場合により1又は2以上のハロゲン原子により置換されていてもよい)により置換されていてもよい)から選ばれ;
    Zは、フェニル、ピリジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピラジニル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、フラニル、チエニル、ピラニル(それぞれ、場合により、1〜3のハロゲン、C1-6アルキル、C1-6アルコキシ、ヒドロキシ、アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ、C1-6アルキル−S(O)m、CN、CONH2、COOH又はフェニルアミノ(フェニル環は、場合により、1〜2のハロゲン、C1-6アルキル又はC1-6アルコキシにより置換されていてもよい)により置換されていてもよい)、
    テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル、1,3-ジオキソラノニル、1,3-ジオキサノニル、1,4-ジオキサニル、モルホリニル、チオモルホリニル、チオモルホリニルスルホキシジル、チオモルホリニルスルホニル、ピペリジニル、ピペリジノニル、ピペラジニル、テトラヒドロピリミドニル、シクロヘキサノニル、シクロヘキサノリル、ペンタメチレンスルフィジル、ペンタメチレンスルホキシジル、ペンタメチレンスルホニル、テトラメチレンスルフィド、テトラメチレンスルホキシジル又はテトラメチレンスルホニル(それぞれ、場合により、1〜3のニトリル、C1-6アルキル、C1-6アルコキシ、ヒドロキシ、アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ−C1-3アルキル、CONH2、フェニルアミノ−C1-3アルキル又はC1-3アルコキシ−C1-3アルキルにより置換されていてもよい)、
    ハロゲン、C1-4アルキル、ニトリル、アミノ、ヒドロキシ、C1-6アルコキシ、NH2C(O)、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノカルボニル、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ、第2級又は第3級アミン(アミノ窒素は、C1-3アルキル又はC1-5アルコキシアルキル、ピリジニル−C1-3アルキル、イミダゾリル−C1-3アルキル、テトラヒドロフラニル−C1-3アルキル、ニトリル−C1-3アルキル、カルボキサミド−C1-3アルキル、フェニル(フェニル環は、場合により、1〜2のハロゲン、C1-6アルコキシ、ヒドロキシ又はモノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノにより置換されていてもよい)、C1-6アルキル−S(O)m又はフェニル−S(O)m(フェニル環は、場合により、1〜2のハロゲン、C1-6アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン又はモノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノにより置換されていてもよい)に共有結合している)、
    1-6アルキル−S(O)m又はフェニル−S(O)m(フェニル環は、場合により、1〜2のハロゲン、C1-6アルコキシ、ヒドロキシ又はモノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノにより置換されていてもよい)から選ばれ;
    1及びR2は、独立して、C1-6分枝又は非分枝アルキル(場合により部分的に又は十分にハロゲン化されていてもよい)、C1-4分枝又は非分枝アルコキシ(それぞれ、場合により、部分的に又は十分にハロゲン化されていてもよい)、ハロゲン、C1-3アルキル−S(O)m(場合により、部分的に又は十分にハロゲン化されていてもよい)又はフェニルスルホニルから選ばれ;
    mは、0、1又は2である);
    i)Z−Y−X−COO−Rxエステル(II)とジエステル(III)((II)及び(III)の双方におけるRxは、独立して、C1-5アルキル又はアリールである)とを、溶媒及び塩基中において、及び場合により添加剤の存在下で、0〜200℃の温度で、5分〜24時間の反応時間で反応させ、かつ中間体化合物(IV)を単離する工程:
    Figure 0004149379
    ii)工程i)の生成物を酸性又は塩基性加水分解により加水分解し、かつ、脱カルボキシル化を、酸性条件下で、50〜200℃の温度で、5分〜24時間行い、次いで、エステル化をC1-5アルコールを用いて行い、次いで、フェニル求核付加反応(フェニルは、場合により、独立して、R1及びR2により置換されていてもよい)を行い、開裂を還元的開裂により行って、カルボン酸化合物を形成し、かつ、強鉱酸での処理を、場合により溶剤中において、室温〜200℃の温度で行って、式(V)の中間生成物を形成し、かつ、その生成物を単離する工程:
    Figure 0004149379
    iii)工程ii)からの生成物とHNRyz又はそのそれぞれの塩との反応を、室温で、1〜24時間行って、式(VI)のエナミン又はイミン化合物を形成する工程:
    Figure 0004149379
    (式中、Ryは、C1-5アルキル又は水素であり、Rzは、C1-5アルキル、水素又はOHであり、但し、式(VI)がエナミン互変体である場合には、Ry及びRzの双方が、C1-5アルキルであり、又は、式(VI)がイミン互変体である場合には、RzがOH、C1-5アルキル又は水素であり、かつ、Ryが存在しない):
    Figure 0004149379
    及び
    iv)工程iii)の生成物がイミンである場合には、1容器反応において、生成物(VI)をアシル化及び還元し、次いで、そのような反応の生成物を、酸化試薬を用いて、無極性溶剤中において、0〜50℃で、0.5〜10時間処理し、次いで、脱保護を行う工程、又は、工程iii)の生成物がエナミンである場合には、エナミンを酸化条件下で酸化して、ナフタレン環を形成し、次いで、アミノ窒素を脱保護して、式(I)の化合物を形成する工程。
    Figure 0004149379
  2. Xが、C5-8シクロアルキル及びシクロアルケニル(場合により、1〜2のオキソ基又は1〜3のC1-4アルキル、C1-4アルコキシ又はC1-4アルキルアミノ鎖(それぞれ、分枝又は非分枝である)により置換されていてもよい)、
    アリール、ピリジニル、ピリミジニル、ピリジノニル、ジヒドロピリジノニル、マレイミジル、ジヒドロマレイミジル、ピペリジニル、ベンズイミダゾール、3H-イミダゾ[4,5-b]ピリジン、ピペラジニル、ピリダジニル又はピラジニル(それぞれ、場合により、独立して、1〜3のC1-4アルキル、ニトロ、ニトリル、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキルアミノ)カルボニル、NH2C(O)、C1-6アルキル−S(O)m又はハロゲンにより置換されていてもよい)から選ばれ;
    Yが、結合手又は
    1-4飽和又は不飽和炭素鎖(炭素原子の1つが、場合により、O、N又はS(O)mにより置き換えられていてもよく、また、Yが、場合により、独立して、1〜2のオキソ基、フェニル又は1又は2以上のC1-4アルキル(場合により1又は2以上のハロゲン原子により置換されていてもよい)により置換されていてもよい)から選ばれ;
    Zが、フェニル、ピリジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピラジニル、イミダゾリル、フラニル、チエニル、ジヒドロチアゾリル、ジヒドロチアゾリルスルホキシジル、ピラニル、ピロリジニル(場合により、1〜3のニトリル、C1-3アルキル、C1-3アルコキシ、アミノ、ヒドロキシ、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ又はCONH2により置換されていてもよい)、
    テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル、1,3-ジオキソラノニル、1,3-ジオキサノニル、1,4-ジオキサニル、モルホリニル、チオモルホリニル、チオモルホリニルスルホキシジル、ピペリジニル、ピペリジノニル、ピペラジニル、テトラヒドロピリミドニル、ペンタメチレンスルフィジル、ペンタメチレンスルホキシジル、ペンタメチレンスルホニル、テトラメチレンスルフィジル、テトラメチレンスルホキシジル又はテトラメチレンスルホニル(場合により、1〜3のニトリル、C1-3アルキル、C1-3アルコキシ、ヒドロキシ、アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ又はCONH2により置換されていてもよい)、
    ニトリル、C1-6アルキル−S(O)m、ハロゲン、ヒドロキシ、C1-4アルコキシ、アミノ、モノ又はジ−(C1-6アルキル)アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノカルボニル又はNH2C(O)から選ばれる請求項1に記載の方法。
  3. Xが、アリール、ピリジニル、ピリミジニル、ベンズイミダゾール、3H-イミダゾ[4,5-b]ピリジン、ピペラジニル、ピリダジニル又はピラジニル(それぞれ、場合により、独立して、1〜3のC1-4アルキル、ニトロ、ニトリル、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキルアミノ)カルボニル、NH2C(O)、C1-6アルキル−S(O)m又はハロゲンにより置換されていてもよい)から選ばれ;
    Yが、結合手又は
    1-4飽和炭素鎖(炭素原子の1つが、場合により、O、N又はSにより置き換えられていてもよく、また、Yが、場合により、独立して、オキソ基により置換されていてもよい)から選ばれ;
    Zが、フェニル、ピリジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピラジニル、イミダゾリル、ジヒドロチアゾリル、ジヒドロチアゾリルスルホキシド、ピラニル又はピロリジニル(場合により、1〜2のC1-2アルキル又はC1-2アルコキシにより置換されていてもよい)、
    テトラヒドロピラニル、モルホリニル、チオモルホリニル、チオモルホリニルスルホキシジル、ピペリジニル、ピペリジノニル、ピペラジニル又はテトラヒドロピリミドニル(場合により、1〜2のC1-2アルキル又はC1-2アルコキシにより置換されていてもよい)、又は
    1-3アルコキシから選ばれる請求項2に記載の方法。
  4. Xが、ピリジニル又はピリミジニル(それぞれ、場合により、独立して、1〜3のC1-4アルキル、ニトロ、ニトリル、モノ又はジ−(C1-3アルキル)アミノ、モノ又はジ−(C1-3アルキルアミノ)カルボニル、NH2C(O)、C1-6アルキル−S(O)m又はハロゲンにより置換されていてもよい)から選ばれ;
    Yが、結合手、−CH2−、−CH2CH2−、−C(O)−、−O−、−S−、−NH−CH2CH2CH2−、−N(CH3)−又は−NH−から選ばれる請求項3に記載の方法。
  5. Yが、−CH2−、−NH−CH2CH2CH2−又は−NH−から選ばれ、かつ、
    Zがモルホリニルである請求項に記載の方法。
  6. 工程i)において:
    xが、C25であり、
    溶剤が、テトラヒドロフラン1,2- ジメトキシエタンジメチルスルホキシド、エーテル、ジオキサン、CH2Cl2、CHCl3、トルエン、ピリジン又はN,N- ジメチルホルムアミドから選ばれる非プロトン性のものであり、
    塩基が、NaH、NaNH2、Na t−ブトキシド、NaOH、ピリジン、トリエチルアミン、Naエトキシド、1,8- ジアザビシクロ[ 5.4.0 ]ウンデカ -7- エン又はブチルリチウムから選ばれ、
    添加剤が、N,N'- ジメチルプロピレンウレア又はヘキサメチルホスホラミドから選ばれ、かつ、
    反応時間が8時間であり;
    工程ii)において:
    加水分解が酸性のものであり、
    脱カルボキシル化酸性条件が酢酸中の濃H2SO4であり、温度が100℃であり、かつ時間が7時間であり、
    エステル化が、CH3CH2OHを用いるものであり、
    フェニル求核付加反応が、フェニルグリニャール試薬PhMgBrを介するものであり、
    還元的開裂が、HCOONH4/Pd/C/EtOHを用いるものであり、
    添加される鉱酸がポリリン酸であり、110℃の温度で処理され;
    工程iii)において:
    オキシム形成条件下でのオキシム形成を、HNRyz(該HNRyzは、アミン塩NH2OH.HClである)を、EtOH中において、NaOHを伴って、18時間添加することにより行い;
    工程iv)において:
    工程iii)の生成物を、無水酢酸及び酢酸でアセチル化し、次いで、化合物(VI)を、Feを用いて、55℃で、5時間還元し、
    酸化条件が、生成物を、2,3- ジクロロ -5,6- ジシアノ -1,4- ベンゾキノンにより、無極性溶剤中において、0〜50℃で、0.5〜10時間処理するものである請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
  7. 工程i)において:
    溶剤がテトラヒドロフランであり、
    温度が60〜70℃であり、
    塩基がNaH又はNa t−ブトキシドから選ばれ、
    添加剤がN,N'- ジメチルプロピレンウレアであり;かつ
    工程iv)において:
    酸化工程について、無極性溶剤が塩化メチレンであり、温度が室温であり、かつ、時間が5時間である請求項6に記載の方法。
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