JP4141492B2 - Negative type planographic printing plate precursor - Google Patents

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Description

本発明は赤外線レーザで書き込み可能なネガ型の画像記録材料に関し、詳しくは、記録層の画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版を形成しうるネガ型平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a negative type image recording material writable by an infrared laser, and more particularly, to a negative type lithographic printing plate precursor capable of forming a lithographic printing plate having high strength of an image portion of a recording layer and excellent printing durability. .

近年におけるレーザーの発展は目ざましく、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザーは非常に有用である。
前述の赤外線領域に発光領域を持つ赤外線レーザーを露光光源として使用する、赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版材料は、赤外線吸収剤と、光又は熱によりラジカルを発生する重合開始剤と、重合性化合物とを含む感光層を有する平版印刷版材料である。
In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared region to the infrared region have been increasing in output and size. Therefore, these lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data such as a computer.
The above-mentioned infrared laser having a light emitting region in the infrared region is used as an exposure light source. The negative lithographic printing plate material for infrared laser includes an infrared absorber, a polymerization initiator that generates radicals by light or heat, and a polymerizable compound. A lithographic printing plate material having a photosensitive layer comprising:

通常、このようなネガ型の画像記録材料は、光又は熱により発生したラジカルを開始剤として重合反応を生起させ、露光部の記録層を硬化させて画像部を形成する記録方式を利用している。このようなネガ型の画像形成材料は、赤外線レーザ照射のエネルギーにより記録層の可溶化を起こさせるポジ型に比較して画像形成性が低く、重合による硬化反応を促進させて強固な画像部を形成するため、現像工程前に加熱処理を行うのが一般的である。
このような光又は熱による重合系の記録層を有する印刷版としては、特開平8−108621号、特開平9−34110号の各公報に記載されるような光重合性或いは熱重合性組成物を感光層として用いる技術が知られている。これらの感光層は高感度画像形成性に優れているものの、支持体として、親水化処理された基板を用いた場合、感光層と支持体との界面における密着性が低く、耐刷性に劣るという問題があった。
また、感度を向上させるため、高出力の赤外線レーザを用いることも検討されているが、レーザー走査時に感光層のアブレーションが発生し光学系を汚染するといった問題もあった。
Usually, such a negative type image recording material uses a recording system in which a radical generated by light or heat is used as an initiator to cause a polymerization reaction, and a recording layer in an exposed portion is cured to form an image portion. Yes. Such a negative type image forming material has a lower image forming property than a positive type in which the recording layer is solubilized by the energy of infrared laser irradiation, and promotes a curing reaction by polymerization to provide a strong image portion. In order to form, it is common to heat-process before a image development process.
As a printing plate having such a light- or heat-polymerized recording layer, a photopolymerizable or heat-polymerizable composition as described in JP-A-8-108621 and JP-A-9-34110. A technique of using as a photosensitive layer is known. Although these photosensitive layers are excellent in high-sensitivity image-forming properties, when a hydrophilically treated substrate is used as a support, adhesion at the interface between the photosensitive layer and the support is low, and printing durability is poor. There was a problem.
In addition, in order to improve the sensitivity, use of a high-power infrared laser has been studied, but there is also a problem that the photosensitive layer is ablated during laser scanning and contaminates the optical system.

本発明は上記問題点を考慮してなされたものであり、本発明の目的は、記録時のレーザー走査におけるアブレーションが抑制され、形成された画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版を形成しうるネガ型の画像記録材料を提供することにある。   The present invention has been made in consideration of the above-mentioned problems, and the object of the present invention is a lithographic plate in which ablation in laser scanning during recording is suppressed, the strength of the formed image portion is high, and the printing durability is excellent. An object of the present invention is to provide a negative type image recording material capable of forming a printing plate.

本発明者らは、鋭意検討の結果、水に不溶、且つ、アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物として、特定の不飽和基を有する樹脂を用いることにより、画像部の強度に優れた記録が可能となることを見出し本発明を完成した。
即ち、本発明のヒートモード対応ネガ型平版印刷版原版は、(A)側鎖に下記一般式(1)〜一般式(3)で表される基を少なくとも1つ有する、水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物、(B)光熱変換剤、(C)下記一般式(V)で表され、(B)光熱変換剤が吸収する事ができる波長の光のヒートモード露光によりラジカルを生成するオニウム塩化合物、及び(D)ラジカル重合性化合物を含有し、ヒートモード露光により画像記録可能であることを特徴とする。
As a result of intensive studies, the present inventors have made recording with excellent image area strength by using a resin having a specific unsaturated group as a polymer compound insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution. The present invention has been completed by finding that it is possible.
That is, the heat mode-compatible negative planographic printing plate precursor of the present invention has (A) a side chain having at least one group represented by the following general formulas (1) to (3), insoluble in water and alkaline A polymer compound soluble in an aqueous solution, (B) a photothermal conversion agent, (C) represented by the following general formula (V), and (B) a radical by heat mode exposure of light of a wavelength that can be absorbed by the photothermal conversion agent. And (D) a radical polymerizable compound, and image recording is possible by heat mode exposure.

Figure 0004141492
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式中、R〜R11は、それぞれ独立に、1価の有機基を表す。X、Yは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、または−N−R12を表し、Zは、酸素原子、硫黄原子、−N−R12またはフェニレン基を表す。R12は、水素原子、または1価の有機基を表す。 In the formula, R 1 to R 11 each independently represents a monovalent organic group. X and Y each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or —N—R 12 , and Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, —N—R 12, or a phenylene group. R 12 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.

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式(V)中、R31、R32及びR33は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。Z31-は、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、またはアリールスルホン酸イオンを示す。なかでもZ31-は、アリールスルホン酸イオンであることがより好ましい。 In the formula (V), R 31 , R 32 and R 33 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Z 31- represents a perchlorate ion, a hexafluorophosphate ion, or an aryl sulfonate ion. Among these, Z 31- is more preferably an aryl sulfonate ion.

また本発明は(B)光熱変換剤が赤外線吸収色素であることを特徴とする。また本発明は、前記赤外線吸収色素が染料であることを特徴とする。また本発明は、前記染料がシアニン色素であることを特徴とする。さらに本発明は、前記染料が下記一般式(I)で示される化合物であることを特徴とする。   The present invention is also characterized in that (B) the photothermal conversion agent is an infrared absorbing dye. In the present invention, the infrared absorbing pigment is a dye. In the invention, it is preferable that the dye is a cyanine dye. Furthermore, the present invention is characterized in that the dye is a compound represented by the following general formula (I).

Figure 0004141492
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一般式(I)中、Xは、ハロゲン原子、またはX−Lを示す。ここで、Xは酸素原子または、硫黄原子を示し、Lは、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。RおよびRは、互いに結合し、5員環または6員環を形成する。Ar及びArは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基を示す。YおよびYは、それぞれ独立に、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。RおよびRは、それぞれ独立に、炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。R、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。また、Z1−は、対アニオンを示す。 In the general formula (I), X 1 represents a halogen atom or X 2 -L 1 . Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5- or 6-membered ring. Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group. Y 1 and Y 2 each independently represent a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 each independently represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. Z 1- represents a counter anion.

また本発明における前記(A)が下記一般式(12)で表されるラジカル重合性化合物の1種以上を重合した後に、塩基を用いて、プロトンを引き抜き、Zを脱離させる製造方法により製造された、側鎖に下記一般式(1)で表される基を有する、水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物、であるヒートモード対応ネガ型平版印刷版原版であることを特徴とする。   Further, in the present invention, the above (A) is produced by a production method in which one or more radical polymerizable compounds represented by the following general formula (12) are polymerized, and then a proton is extracted and a Z is eliminated using a base. And a heat-mode-compatible negative lithographic printing plate precursor having a group represented by the following general formula (1) in the side chain and insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution: And

Figure 0004141492
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式中、R〜Rは、それぞれ独立に、1価の有機基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、または−N−R12を表し、R12は、水素原子または1価の有機基を表す。 Wherein, R 1 to R 3 each independently represents a monovalent organic group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N—R 12 , and R 12 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.

Figure 0004141492
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式中、Zは、アニオン性脱離基を表す。Qは、酸素原子、−NH−、または−NR14−を表す(ここで、R14は置換基を有していてもよいアルキル基を表す)。R13は水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Aは、2価の有機連結基を表す。XおよびR〜Rは一般式(1)におけるXおよびR〜Rと同義である。 In the formula, Z represents an anionic leaving group. Q represents an oxygen atom, —NH—, or —NR 14 — (wherein R 14 represents an alkyl group which may have a substituent). R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. A represents a divalent organic linking group. X and R < 1 > -R < 3 > are synonymous with X and R < 1 > -R < 3 > in General formula (1).

なお、本発明において「ヒートモード対応」とは、ヒートモード露光による記録が可能であることを意味する。本発明におけるヒートモード露光の定義について詳述する。Hans−Joachim Timpe,IS&Ts NIP 15:1999 International Conference on Digital Printing Technologies.P.209に記載されているように、感光体材料において光吸収物質(例えば色素)を光励起させ、化学的或いは物理的変化を経て、画像を形成するその光吸収物質の光励起から化学的或いは物理的変化までのプロセスには大きく分けて二つのモードが存在することが知られている。1つは光励起された光吸収物質が感光材料中の他の反応物質と何らかの光化学的相互作用(例えば、エネルギー移動、電子移動)をすることで失活し、その結果として活性化した反応物質が上述の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆるフォトンモードであり、もう1つは光励起された光吸収物質が熱を発生し失活し、その熱を利用して反応物質が上述の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆるヒートモードである。その他、物質が局所的に集まった光のエネルギーにより爆発的に飛び散るアブレーションや1分子が多数の光子を一度に吸収する多光子吸収など特殊なモードもあるがここでは省略する。   In the present invention, “corresponding to heat mode” means that recording by heat mode exposure is possible. The definition of the heat mode exposure in this invention is explained in full detail. Hans-Joachim Time, IS & Ts NIP 15: 1999 International Conference on Digital Printing Technologies. P. 209, a photoabsorbing substance (for example, a dye) is photoexcited in a photosensitive material, and undergoes a chemical or physical change to form an image, from the photoexcitation of the photoabsorbing substance to a chemical or physical change. It is known that there are two modes in the above process. One is that the photo-excited light-absorbing substance is deactivated by some photochemical interaction (for example, energy transfer, electron transfer) with other reactants in the photosensitive material, and as a result, the activated reactant is The so-called photon mode that causes the chemical or physical change necessary for the above-described image formation, and the other is that the photo-excited light-absorbing material generates heat and deactivates, and the reaction material is converted into the above-described using the heat. This is a so-called heat mode that causes a chemical or physical change necessary for image formation. In addition, there are special modes such as ablation that explosively scatters by the energy of light gathered locally, and multiphoton absorption in which one molecule absorbs a large number of photons at once.

上述の各モードを利用した露光プロセスをフォトンモード露光及びヒートモード露光と呼ぶ。フォトンモード露光とヒートモード露光の技術的な違いは目的とする反応のエネルギー量に対し露光する数個の光子のエネルギー量を加算して使用できるかどうかである。例えばn個の光子を用いて、ある反応を起こすことを考える。フォトンモード露光では光化学的相互作用を利用しているため、量子のエネルギー及び運動量保存則の要請により1光子のエネルギーを足し併せて使用することができない。つまり、何らかの反応を起こすためには「1光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係が必要である。一方、ヒートモード露光では光励起後に熱を発生し、光エネルギーを熱に変換し利用するためエネルギー量の足し併せが可能となる。そのため、「n個の光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係があれが十分となる。但し、このエネルギー量加算には熱拡散による制約を受ける。即ち、今注目している露光部分(反応点)から熱拡散により熱が逃げるまでに次の光励起−失活過程が起こり熱が発生すれば、熱は確実に蓄積加算し、その部分の温度上昇につながる。しかし、次の熱の発生が遅い場合には熱が逃げて蓄積されない。つまり、ヒートモード露光では同じ全露光エネルギー量であっても高エネルギー量の光を短い時間照射した場合と低エネルギー量の光を長い時間照射した場合とでは結果が異なり、短時間の方が熱の蓄積に有利になる。   The exposure process using each of the above modes is called photon mode exposure and heat mode exposure. The technical difference between photon mode exposure and heat mode exposure is whether or not the energy amount of several photons to be exposed can be added to the target reaction energy amount. For example, consider that a certain reaction is caused by using n photons. In photon mode exposure, photochemical interaction is used, so that one-photon energy cannot be added together due to the requirement of quantum energy and momentum conservation laws. That is, in order to cause some kind of reaction, a relationship of “one photon energy amount ≧ reaction energy amount” is necessary. On the other hand, in heat mode exposure, heat is generated after light excitation, and light energy is converted into heat and used, so that the amount of energy can be added. Therefore, it is sufficient that there is a relationship of “energy amount of n photons ≧ energy amount of reaction”. However, this energy amount addition is restricted by thermal diffusion. That is, if the next photoexcitation-deactivation process occurs and the heat is generated before the heat escapes from the exposed portion (reaction point) of interest now, due to thermal diffusion, the heat is surely accumulated and added, and the temperature of that portion increases. Leads to. However, when the next heat generation is slow, the heat escapes and does not accumulate. In other words, in the heat mode exposure, even when the same total exposure energy amount is used, the result is different between the case where the high energy amount light is irradiated for a short time and the case where the low energy amount light is irradiated for a long time. It becomes advantageous for accumulation.

無論、フォトンモード露光では後続反応種の拡散の影響で似た様な現象が起こる場合もあるが基本的には、このようなことは起こらない。
即ち、感光材料の特性として見た場合、フォトンモードでは露光パワー密度(w/cm2)(=単位時間当たりのエネルギー密度)に対し感光材料の固有感度(画像形成に必要な反応のためのエネルギー量)は一定となるが、ヒートモードでは露光パワー密度に対し感光材料の固有感度が上昇することになる。従って、実際に画像記録材料として実用上、必要な生産性を維持できる程度の露光時間を固定すると、各モードを比較した場合、フォトンモード露光では通常は約0.1mJ/cm2程度の高感度化が達成できるもののどんな少ない露光量でも反応が起こるため、未露光部での低露光カブリの問題が生じ易い。これに対し、ヒートモード露光ではある一定以上の露光量でないと反応が起こらず、また感光材料の熱安定性との関係から通常は50mJ/cm2程度が必要となるが、低露光カブリの問題が回避される。
そして、事実上ヒートモード露光では感光材料の版面での露光パワー密度が5000w/cm2以上が必要であり、好ましくは10000w/cm2以上が必要となる。但し、ここでは詳しく述べなかったが5.0×105/cm2以上の高パワー密度レーザーを利用するとアブレーションが起こり、光源を汚す等の問題から好ましくない。
Of course, in the photon mode exposure, a similar phenomenon may occur due to the diffusion of the subsequent reactive species, but basically this does not occur.
That is, in terms of the characteristics of the photosensitive material, in the photon mode, the intrinsic sensitivity of the photosensitive material (energy for reaction necessary for image formation) with respect to the exposure power density (w / cm 2 ) (= energy density per unit time). In the heat mode, the intrinsic sensitivity of the photosensitive material increases with respect to the exposure power density. Therefore, when the exposure time is fixed so that the necessary productivity can be maintained in practice as an image recording material, when comparing the modes, the photon mode exposure usually has a high sensitivity of about 0.1 mJ / cm 2. However, since the reaction occurs at any small exposure dose, the problem of low exposure fogging in unexposed areas is likely to occur. In contrast, no reaction occurs not the exposure amount of certain level or more in the heat mode exposure, also usually is required about 50 mJ / cm 2 from the relationship between the thermal stability of the photosensitive material, the low exposure fogging problem Is avoided.
And, in fact heat mode exposure requires exposure power density at the plate surface of the photosensitive material is 5000 W / cm 2 or more, preferably it is necessary to 10000 W / cm 2 or more. However, although not described in detail here, the use of a high power density laser of 5.0 × 10 5 / cm 2 or more is not preferable because of problems such as ablation and contamination of the light source.

本発明の作用は明確ではないが、本発明の画像記録材料においては、アルカリ水溶液可能な高分子化合物として(A)側鎖に下記一般式(1)〜一般式(3)で表される基を少なくとも1つ有する特定の樹脂を使用するが、この高分子化合物は、ラジカル反応性の高い側鎖置換基を有するため、この画像記録材料をヒートモード対応平版印刷版原版の感光層に使用した場合、赤外線レーザ走査露光時によりラジカルが発生した後に速やかに架橋反応を起こし、架橋密度の高い硬化膜を形成するため、感熱層の他の低分子成分、例えば、光熱変換剤などがアブレーションを起こし、感光層から放出されることが抑制され、スピナーミラーといった光学系の汚染が抑制されるものと考えられる。   Although the action of the present invention is not clear, in the image recording material of the present invention, the group represented by the following general formulas (1) to (3) on the side chain (A) as a polymer compound capable of alkaline aqueous solution. However, since this polymer compound has a side chain substituent having high radical reactivity, this image recording material was used for the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor for heat mode. In this case, after radicals are generated due to infrared laser scanning exposure, a crosslinking reaction is quickly caused to form a cured film having a high crosslinking density, so that other low molecular components such as a photothermal conversion agent cause ablation. It is considered that the release from the photosensitive layer is suppressed and the contamination of the optical system such as the spinner mirror is suppressed.

さらに、ヒ―トモード対応平版印刷版原版においては、多くの場合、アルミ基板支持体を用いるが、アルミの熱拡散性によりヒートモード露光による熱が感熱層の基板界面付近には十分に伝わらない結果、感光層と支持体との基板界面付近では十分な硬化反応が進行せず、このような状態で形成された潜像をアルカリ現像液を用いて現像すると、硬化している感光層上部からも現像液が容易に浸透してきて、界面付近の末硬化部が溶解され、画像強度が低下して耐刷性の低い平版印刷版となる問題がある。しかしながら、本発明で使用される高分子化合物を感光層のバインダーとして用いると、硬化部の架橋密度が高くなるために、現像液の浸透が効果的に抑制されて画像部の受けるダメージを緩和することができ、耐刷性が向上するものと考えられる。
本発明に用いるこの(A)高分子化合物は、(C)一般式(V)で表され、光熱変換剤が吸収する事できる波長の光のヒートモード露光によりラジカルを生成する化合物としてオニウム塩化合物を使用したときに、その効果が著しい。これは、係る高分子化合物とオニウム塩化合物の相溶性が優れることに起因しているものと思われる。
Furthermore, in heat mode compatible lithographic printing plate precursors, an aluminum substrate support is often used, but due to the thermal diffusivity of aluminum, heat due to heat mode exposure is not sufficiently transmitted to the vicinity of the substrate interface of the heat sensitive layer. In the vicinity of the substrate interface between the photosensitive layer and the support, a sufficient curing reaction does not proceed. When the latent image formed in such a state is developed using an alkaline developer, the cured photosensitive layer is also exposed from above. There is a problem that the developer penetrates easily, the hardened portion near the interface is dissolved, the image strength is lowered, and a lithographic printing plate with low printing durability is obtained. However, when the polymer compound used in the present invention is used as a binder for the photosensitive layer, the cross-linking density of the cured portion increases, so that the penetration of the developer is effectively suppressed and the damage received by the image portion is reduced. It is considered that the printing durability is improved.
This (A) polymer compound used in the present invention is represented by (C) the general formula (V), and is an onium salt compound as a compound that generates radicals by heat mode exposure of light having a wavelength that can be absorbed by the photothermal conversion agent. The effect is remarkable when using. This seems to be due to the excellent compatibility between the polymer compound and the onium salt compound.

本発明によれば、赤外線を放射する固体レーザおよび半導体レーザを用いて記録することにより、コンピューター等のデジタルデータから直接可能であり、平版印刷版原版用の感光層に用いた場合、アブレーションを起こすことなく、高強度の画像を形成することができ、優れた耐刷性を達成し得るネガ型画像記録材料を提供することができる。   According to the present invention, recording can be performed directly from digital data such as a computer by recording using a solid-state laser and a semiconductor laser emitting infrared rays, and ablation occurs when used for a photosensitive layer for a lithographic printing plate precursor. Therefore, it is possible to provide a negative image recording material capable of forming a high-strength image and achieving excellent printing durability.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のネガ型平版印刷版原版は、(A)側鎖に一般式(1)〜一般式(3)で表される基を少なくとも1つ有する水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物、(B)光熱変換剤、(C)一般式(V)で表され、(B)光熱変換剤が吸収する事できる波長の光のヒートモード露光によりラジカルを生成するオニウム塩化合物、及び(D)ラジカル重合性化合物を含有することを特徴とする。以下に、本発明の画像記録材料に使用しうる各化合物について、順次説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The negative lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises (A) a polymer having at least one group represented by general formula (1) to general formula (3) in the side chain and insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution. A compound, (B) a photothermal conversion agent, (C) an onium salt compound that is represented by the general formula (V), and (B) generates a radical by heat mode exposure of light having a wavelength that can be absorbed by the photothermal conversion agent, and ( D) It contains a radically polymerizable compound. Below, each compound which can be used for the image recording material of this invention is demonstrated one by one.

[(A)側鎖に一般式(1)〜一般式(3)で表される基を少なくとも1つ有する水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物(以下、適宜、特定アルカリ可溶性樹脂と称する)] [(A) Polymer compound having at least one group represented by general formula (1) to general formula (3) in the side chain and insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution (hereinafter referred to as a specific alkali-soluble resin as appropriate) Called)]]

前記一般式(1)において、Rl〜R3はそれぞれ独立に、1価の有機基を表すが、R1としては、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基、メチルアルコキシ基、メチルエステル基が好ましい。また、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、または置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有しもよいアリール基が好ましい。
ここで、導入しうる置換基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオキシカルボニル基、メチル基、エチル基、またはフェニル基等が挙げられる。
Xは、酸素原子、硫黄原子、または、−N−R12を表し、ここで、R12としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。
In the general formula (1), R 1 to R 3 each independently represents a monovalent organic group, and examples of R 1 include a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Of these, a hydrogen atom, a methyl group, a methylalkoxy group, and a methyl ester group are preferable. R 2 and R 3 may each independently have a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or a substituent. Alkyl group, aryl group which may have a substituent, alkoxy group which may have a substituent, aryloxy group which may have a substituent, alkylamino group which may have a substituent, substituted An arylamino group which may have a group, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, or an arylsulfonyl group which may have a substituent, among which a hydrogen atom, a carboxyl group, alkoxy A carbonyl group, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent is preferable.
Here, examples of the substituent that can be introduced include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N—R 12 , where R 12 includes an alkyl group which may have a substituent.

前記一般式(2)において、R4〜R8は、それぞれ独立に1価の有機基を表すが、R4〜R8は、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、または置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基が好ましい。導入しうる置換基としては、一般式(1)においてあげたものが例示される。Yは、酸素原子、硫黄原子、又は−N−R12を表す。R12としては、一般式(1)におけるのと同様のものが挙げられる。
前記一般式(3)において、R9〜Rllは、それぞれ独立に1価の有機基を表すが、この有機基としては、具体的には例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、または置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
ここで、置換基としては、一般式(1)において挙げたものが同様に例示される。
Zは、酸素原子、硫黄原子、−N−R12またはフェニレン基を表す。R12としては、一般式(1)におけるのと同様のものが挙げられる。
In the general formula (2), R 4 ~R 8 may each independently represent a monovalent organic group, R 4 to R 8 include a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl Group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, alkyl group which may have a substituent, aryl group which may have a substituent, alkoxy group which may have a substituent, substituent An aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, an arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, or a substituent An arylsulfonyl group that may have, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group that may have a substituent, or an aryl group that may have a substituent preferable. Examples of the substituent that can be introduced include those listed in the general formula (1). Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N—R 12 . Examples of R 12 include the same as those in the general formula (1).
In the general formula (3), R 9 to R ll each independently represent a monovalent organic group. Specific examples of the organic group include a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, and a dialkylamino group. Group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, alkyl group which may have a substituent, aryl group which may have a substituent, alkoxy group which may have a substituent , An aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, an arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, or An arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like are mentioned. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group which may have a substituent, or a substituent An aryl group is preferable.
Here, as a substituent, what was mentioned in General formula (1) is illustrated similarly.
Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, —N—R 12 or a phenylene group. Examples of R 12 include the same as those in the general formula (1).

本発明のヒートモード対応ネガ型画像記録材料に必須成分として使用される(A)特定アルカリ可溶性樹脂のうち、一般式(1)で表される基を有する化合物は、下記に示す1)、2)の合成方法の少なくとも1つにより製造することできるが、1)がより好ましい。   Among the (A) specific alkali-soluble resins used as essential components in the heat mode-compatible negative image recording material of the present invention, the compound having a group represented by the general formula (1) is shown below 1), 2 1), but 1) is more preferable.

合成方法1)
下記一般式(12)で表されるラジカル重合性化合物の1種以上を重合させて高分子化合物を合成した後に、塩基を用いて、プロトンを引き抜き、Zを脱離させて所望の高分子化合物を得る方法。
Synthesis method 1)
After synthesizing one or more radically polymerizable compounds represented by the following general formula (12) to synthesize a polymer compound, a desired polymer compound is obtained by extracting a proton and desorbing Z using a base. How to get.

Figure 0004141492
Figure 0004141492

式中、Zは、アニオン性脱離基を表す。Qは、酸素原子、−NH−、または−NR14−を表す(ここで、R14は置換基を有していてもよいアルキル基を表す)。R13は水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基、メチルアルコキシ基、またはメチルエステル基が好ましい。Aは、2価の有機連結基を表す。XおよびR〜Rは一般式(1)におけるXおよびR〜Rと同義である。 In the formula, Z represents an anionic leaving group. Q represents an oxygen atom, —NH—, or —NR 14 — (wherein R 14 represents an alkyl group which may have a substituent). R 13 includes a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, and among them, a hydrogen atom, a methyl group, a methylalkoxy group, or a methyl ester group is preferable. A represents a divalent organic linking group. X and R < 1 > -R < 3 > are synonymous with X and R < 1 > -R < 3 > in General formula (1).

合成方法2)
官能基を有するラジカル重合性化合物を1種以上重合させて幹高分子化合物(主鎖を構成する高分子化合物)を合成した後に、前記幹高分子化合物の側鎖官能基と一般式(13)で表される構造を有する化合物を反応させて所望の高分子化合物を得る方法。
Synthesis method 2)
After synthesizing one or more radically polymerizable compounds having a functional group to synthesize a trunk polymer compound (polymer compound constituting the main chain), the side chain functional group of the trunk polymer compound and the general formula (13) A method of obtaining a desired polymer compound by reacting a compound having a structure represented by the formula:

一般式(12)で表されるラジカル重合性化合物としては、下記の化合物を例として挙げることできるがこれらに限定されるものではない。   Examples of the radical polymerizable compound represented by the general formula (12) include, but are not limited to, the following compounds.

Figure 0004141492
Figure 0004141492

これら一般式(12)で表されるラジカル重合性化合物は、市販品として、あるいは、後述する合成例に示す合成法により容易に入手できる。
これらラジカル重合性化合物を1種以上及び、必要に応じて他のラジカル重合性化合物を用いて、通常のラジカル重合法によって重合させ、高分子化合物を合成した後に、所望の量の塩基を高分子溶液中に、冷却あるいは加熱条件下で滴下、反応を行い、必要に応じて、酸による中和処理を行うことで、一般式(1)で表される基を導入することができる。高分子化合物の製造には、一般的に公知の懸濁重合法あるいは溶液重合法などを適用することができる。
塩基としては、無機化合物、有機化合物のどちらを使用してもよい。好ましい無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、有機塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドのような金属アルコキシド、トリエチルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエチルアミンのような有機アミン化合物等が挙げられる。
These radically polymerizable compounds represented by the general formula (12) can be easily obtained as a commercial product or by a synthesis method shown in Synthesis Examples described later.
One or more of these radically polymerizable compounds and, if necessary, other radically polymerizable compounds are polymerized by an ordinary radical polymerization method to synthesize a polymer compound, and then a desired amount of base is polymerized. The group represented by the general formula (1) can be introduced by dropping and reacting in the solution under cooling or heating conditions and, if necessary, neutralizing treatment with an acid. A generally known suspension polymerization method or solution polymerization method can be applied to the production of the polymer compound.
As the base, either an inorganic compound or an organic compound may be used. Preferred inorganic bases include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate and the like, and organic bases include sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide. And metal amine alkoxides, triethylamine, pyridine, and organic amine compounds such as diisopropylethylamine.

合成方法2)において幹高分子化合物の合成に用いる官能基を有するラジカル重合性化合物の官能基の例としては、水酸基、カルボキシル基、カルボン酸ハライド基、カルボン酸無水物基、アミノ基、ハロゲン化アルキル基、イソシアネート基、エポキシ基等が挙げられる。これらの官能基を有するラジカル重合性化合物としては、2−ヒドロキシルエチルアクリレート、2―ヒドロキシルエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリド、メタクリル酸無水物、N,N―ジメチル−2−アミノエチルメタクリレート、2−クロロエチルメタクリレート、2−イソシアン酸エチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリンジルメタクリレート等が挙げられる。
このようなラジカル重合性化合物を1種以上重合させて、必要に応じて他のラジカル重合性化合物と共重合させ、幹高分子化合物を合成した後に、一般式(13)で表される基を有する化合物を反応させて所望の高分子化合物を得ることができる。
ここで、一般式(13)で表される基を有する化合物の例としては、前述の官能基を有するラジカル重合性化合物の例として挙げた化合物が挙げられる。
Examples of the functional group of the radical polymerizable compound having a functional group used for the synthesis of the trunk polymer compound in the synthesis method 2) include a hydroxyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid halide group, a carboxylic acid anhydride group, an amino group, and a halogenated group. Examples thereof include an alkyl group, an isocyanate group, and an epoxy group. Examples of radically polymerizable compounds having these functional groups include 2-hydroxylethyl acrylate, 2-hydroxylethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid chloride, and methacrylic acid chloride. Methacrylic anhydride, N, N-dimethyl-2-aminoethyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, 2-isocyanate ethyl methacrylate, glycidyl acrylate, and grindyl methacrylate.
One or more kinds of such radically polymerizable compounds are polymerized and copolymerized with other radically polymerizable compounds as necessary to synthesize a trunk polymer compound, and then a group represented by the general formula (13) is formed. The desired polymer compound can be obtained by reacting the compound having the compound.
Here, as an example of the compound having the group represented by the general formula (13), the compounds mentioned as examples of the radical polymerizable compound having the functional group described above can be given.

本発明に係る一般式(2)で示される基を有する前記高分子化合物は、下記に示す3)、4)の合成方法の少なくとも1つにより製造することができる。
合成方法3)
―般式(2)で表される不飽和基と、該不飽和基よりもさらに付加重合性に富んだエチレン性不飽和基とを有するラジカル重合性化合物を1種以上及び、必要に応じて他のラジカル重合性化合物を重合さて、高分子化合物を得る方法。この方法は、一分子中に付加重合性の異なるエチレン性不飽和基を複数有する化合物、例えば、アリルメタクリレートのような化合物を用いる方法である。
The polymer compound having a group represented by the general formula (2) according to the present invention can be produced by at least one of the synthesis methods 3) and 4) shown below.
Synthesis method 3)
-One or more radically polymerizable compounds having an unsaturated group represented by the general formula (2) and an ethylenically unsaturated group further enriched in addition polymerization than the unsaturated group, and if necessary A method of polymerizing another radical polymerizable compound to obtain a polymer compound. This method uses a compound having a plurality of ethylenically unsaturated groups having different addition polymerization properties in one molecule, for example, a compound such as allyl methacrylate.

合成方法4)
官能基を有するラジカル重合性化合物を1種以上重合させて高分子化合物を合成した後に、側鎖官能基と下記一般式(14)で表される構造を有する化合物を反応させて一般式(2)で表される基を導入する方法。
Synthesis method 4)
After synthesizing one or more radically polymerizable compounds having a functional group to synthesize a polymer compound, a side chain functional group and a compound having a structure represented by the following general formula (14) are reacted to form a general formula (2 The method of introduce | transducing group represented by this.

Figure 0004141492
Figure 0004141492

一般式(2)で表される不飽和基と、該不飽和基よりも更に付加重合性に富んだエチレン性不飽和基とを有するラジカル重合性化合物としては、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、2−アリロキシエチルアクリレート、2−アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルアクリレート、プロパルギルメタクリレート、N−アリルアクリレート、N−アリルメタクリレート、N,N−ジアリルアクリレート、N,N−ジアリルメタクリレート、アリルアクリルアミド、アリルメタクリルアミド等が例として挙げられる。
また、官能基を有するラジカル重合性化合物を1種以上重合させて得られる高分子化合物の例としては、前述の合成方法2)で示した例が挙げられる。
Examples of the radically polymerizable compound having an unsaturated group represented by the general formula (2) and an ethylenically unsaturated group having a higher addition polymerizability than the unsaturated group include allyl acrylate, allyl methacrylate, 2- Allyloxyethyl acrylate, 2-allyloxyethyl methacrylate, propargyl acrylate, propargyl methacrylate, N-allyl acrylate, N-allyl methacrylate, N, N-diallyl acrylate, N, N-diallyl methacrylate, allyl acrylamide, allyl methacrylamide, etc. Take as an example.
Examples of the polymer compound obtained by polymerizing one or more radically polymerizable compounds having a functional group include the examples shown in the above synthesis method 2).

一般式(14)で表される構造を有する化合物としては、アリルアルコール、アリルアミン、ジアリルアミン、2―アリロキシエチルアルコール、2−クロロ−1−ブテン、アリルイソシアネート等が例として挙げられる.   Examples of the compound having the structure represented by the general formula (14) include allyl alcohol, allylamine, diallylamine, 2-allyloxyethyl alcohol, 2-chloro-1-butene, and allyl isocyanate.

本発明に係る一般式(3)で示される基を有する前記高分子化合物は、下記に示す5)、6)の合成方法の少なくとも1つにより製造することできる。
合成方法5)
―般式(3)で表される不飽和基と該不飽和基よりもさらに付加重合性に富んだエチレン性不飽和基とを有するラジカル重合性化合物を1種以上重合させて、必要に応じて他のラジカル重合性化合物と共重合さて、高分子化合物を得る方法。
The polymer compound having a group represented by the general formula (3) according to the present invention can be produced by at least one of the synthesis methods 5) and 6) shown below.
Synthesis method 5)
-Polymerizing one or more radically polymerizable compounds having an unsaturated group represented by the general formula (3) and an ethylenically unsaturated group further rich in addition polymerizability than the unsaturated group, and if necessary To obtain a polymer compound by copolymerizing with other radical polymerizable compounds.

合成方法6)
官能基を有するラジカル重合性化合物を1種以上重合させて高分子化合物を合成した後に、側鎖官能基と一般式(15)で表される構造を有する化合物を反応させて導入する方法。
Synthesis method 6)
A method in which one or more radically polymerizable compounds having a functional group are polymerized to synthesize a polymer compound, and then a side chain functional group and a compound having a structure represented by the general formula (15) are reacted and introduced.

Figure 0004141492
Figure 0004141492

一般式(3)で表される不飽和基と該不飽和基よりもさらに付加重合性に富んだエチレン性不飽和基とを有するラジカル重合性化合物としては、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、2−フェニルビニルアクリレート、2−フェニルビニルメタクリレート、1−プロペニルアクリレート、1−プロペニルメタクリレート、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミド等が例として挙げられる。
官能基を有するラジカル重合性化合物を1種以上重合させて得られる高分子化合物の例としては、前述の合成方法2)において示した例が挙げられる。
一般式(15)で表される構造を有する化合物としては、2−ヒドロキシエチルモノビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、4−クロロメチルスチレン等が例として挙げられる。
Examples of the radically polymerizable compound having an unsaturated group represented by the general formula (3) and an ethylenically unsaturated group having a higher addition polymerizability than the unsaturated group include vinyl acrylate, vinyl methacrylate, and 2-phenyl. Examples include vinyl acrylate, 2-phenylvinyl methacrylate, 1-propenyl acrylate, 1-propenyl methacrylate, vinyl acrylamide, vinyl methacrylamide and the like.
Examples of the polymer compound obtained by polymerizing one or more radically polymerizable compounds having a functional group include those shown in the aforementioned synthesis method 2).
Examples of the compound having the structure represented by the general formula (15) include 2-hydroxyethyl monovinyl ether, 4-hydroxybutyl monovinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, 4-chloromethylstyrene and the like.

以下に、本発明に係る(A)特定アルカリ可溶性樹脂の代表的な合成例と具体的な高分子化合物を挙げるが、本発明はこれらに制限されるものではない。
(1)化合物(M−1)の合成
1000ml三口フラスコ内に、2−ヒドロキシエチルメタクリレート 133gのTHF 520ml溶液を調製し、0℃に冷却した。撹拌しながら、3−クロロプロピオン酸クロリド 130gを滴下ロートを用いて、1時間かけて滴下したのちに、徐々に室温まで昇温させた。室温で12時間撹拌した後に、反応混液を氷水 1l中に投じた。1時間撹拌した後に、酢酸エチル2lで3回に分け抽出し、得られた有機層を、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次、洗浄した後に、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過した後に溶媒をロータリーエバポレーターにて減圧留去した。得られた残差をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(流出溶媒;ヘキサン/酢酸エチル)にて精製し、化合物(M−1)を180g得た。化合物(M−1)の構造は、NMR、質量分析スペクトル、IRから確認した。
Below, the typical synthesis example and specific polymer compound of (A) specific alkali-soluble resin which concern on this invention are given, However, This invention is not restrict | limited to these.
(1) Synthesis of Compound (M-1) In a 1000 ml three-necked flask, a solution of 133 g of 2-hydroxyethyl methacrylate in 520 ml of THF was prepared and cooled to 0 ° C. While stirring, 130 g of 3-chloropropionic acid chloride was dropped over 1 hour using a dropping funnel, and then the temperature was gradually raised to room temperature. After stirring for 12 hours at room temperature, the reaction mixture was poured into 1 l of ice water. After stirring for 1 hour, the mixture was extracted with 2 l of ethyl acetate three times, and the obtained organic layer was washed successively with water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and then dried over magnesium sulfate. After filtration, the solvent was distilled off under reduced pressure using a rotary evaporator. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent; hexane / ethyl acetate) to obtain 180 g of compound (M-1). The structure of the compound (M-1) was confirmed from NMR, mass spectrometry spectrum and IR.

(2)化合物(M−5)の合成
化合物(M−1)の合成と同様の方法で、2−ヒドロキシエチルメタクリレートの代わりに4−ヒドロキシブチルメタクリレートを用いることにより化合物(M−5)を合成した。
(2) Synthesis of Compound (M-5) Compound (M-5) was synthesized by using 4-hydroxybutyl methacrylate instead of 2-hydroxyethyl methacrylate in the same manner as the synthesis of compound (M-1). did.

(3)化合物(M−8)の合成
1000ml三口フラスコ内に、エタノールアミン 49gのTHF 500ml溶液を調製し、0℃に冷却した。撹拌しながら、3−クロロプロピオン酸クロリド51gを滴下ロートを用いて、1時間かけて滴下したのちに、徐々に室温まで昇温させた。室温で12時間撹拌した後に、濾過し溶媒を減圧留去した。得られた残差 10gを100ml三口フラスコに入れ、THF 50mlで溶解し、0℃に冷却した。撹拌しながら、メタクリル酸クロリド7gを滴下ロートを用いて、30分かけて滴下したのちに、徐々に室温まで昇温させた。室温で12時間撹拌した後に、反応混液を氷水 300ml中に投じた。1時間撹拌した後に、酢酸エチル1lで3回に分け抽出し、得られた有機層を、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次、洗浄した後に、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過した後に溶媒をロータリーエバポレーダーにて減圧留去した。得られた残差をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(流出溶媒;ヘキサン/酢酸エチル)にて精製し、化合物(M−8)を8g得た。化合物(M−8)の構造は、NMR、質量分析スペクトル、IRから確認した。
(3) Synthesis of Compound (M-8) In a 1000 ml three-necked flask, a solution of 49 g of ethanolamine in 500 ml of THF was prepared and cooled to 0 ° C. While stirring, 51 g of 3-chloropropionic acid chloride was dropped using a dropping funnel over 1 hour, and then the temperature was gradually raised to room temperature. After stirring at room temperature for 12 hours, the mixture was filtered and the solvent was distilled off under reduced pressure. 10 g of the obtained residue was placed in a 100 ml three-necked flask, dissolved in 50 ml of THF, and cooled to 0 ° C. While stirring, 7 g of methacrylic acid chloride was dropped using a dropping funnel over 30 minutes, and then the temperature was gradually raised to room temperature. After stirring at room temperature for 12 hours, the reaction mixture was poured into 300 ml of ice water. After stirring for 1 hour, the reaction mixture was extracted three times with 1 l of ethyl acetate, and the obtained organic layer was washed successively with water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and then dried over magnesium sulfate. After filtration, the solvent was distilled off under reduced pressure using a rotary evaporator. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent; hexane / ethyl acetate) to obtain 8 g of compound (M-8). The structure of the compound (M-8) was confirmed from NMR, mass spectrometry spectrum and IR.

(4)化合物(M−9)の合成
化合物(M−8)の合成と同様の方法で、エタノールアミンの代わりに4−ヒドロキシ−1−ブチルアミンを用いることで、化合物(M−9)を合成した。
(4) Synthesis of Compound (M-9) Compound (M-9) is synthesized by using 4-hydroxy-1-butylamine instead of ethanolamine in the same manner as the synthesis of Compound (M-8). did.

高分子化合物(1)の合成〔合成方法1)の具体例〕
コンデンサー、撹拌機を取り付けた500ml三口フラスコに、1−メトキシ−2−プロパノール 80mlを入れ、70℃に加熱した。窒素気流下、前記例示M−1 53.0g、メタクリル酸 5.2g、V−65(和光純薬製) 0.746gの1−メトキシ−2−プロパノール 80ml溶液を2時間半かけて滴下させた。さらに、70℃で2時間反応させた。反応混液を1−メトキシ−2−プロパノール 100mlで希釈、0℃に冷却した後、撹拌しながら、トリエチルアミン 33.4gを滴下し、徐々に室温まで昇温させながら、12時間反応させた。反応混液を0℃に冷却した後、撹拌しながら、5M HCIを反応混液のpHが6以下になるまで滴下した。反応液を水 3l中に投じ、重合体を析出させた。これを、ろ取、洗浄、乾燥し、高分子化合物(1)を得た。NMRスペクトルより、M−1出来の基がすべてアクリル基に変換されたことが確認された。ポリスチレンを標準物質としたゲルバーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により、重量平均分子量を測定した結果、80,000であった。
Synthesis of polymer compound (1) [specific example of synthesis method 1]
In a 500 ml three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 80 ml of 1-methoxy-2-propanol was placed and heated to 70 ° C. Under a nitrogen stream, 53.0 g of Example M-1, 5.2 g of methacrylic acid, V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 0.746 g of 1-methoxy-2-propanol 80 ml solution was dropped over 2 and a half hours. . Furthermore, it was made to react at 70 degreeC for 2 hours. The reaction mixture was diluted with 100 ml of 1-methoxy-2-propanol, cooled to 0 ° C., then 33.4 g of triethylamine was added dropwise with stirring, and the mixture was allowed to react for 12 hours while gradually warming to room temperature. After cooling the reaction mixture to 0 ° C., 5M HCl was added dropwise with stirring until the pH of the reaction mixture was 6 or less. The reaction solution was poured into 3 l of water to precipitate a polymer. This was filtered, washed and dried to obtain a polymer compound (1). From the NMR spectrum, it was confirmed that all M-1 completed groups were converted to acrylic groups. The weight average molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance, and the result was 80,000.

高分子化合物(2)の合成〔合成方法2)の具体例〕
コンデンサー、撹拌機を取り付けた500ml三口フラスコに、メチルエチルケトン 90mlを入れ、70℃に加熱した。窒素気流下、2−ヒドロキシエチルメタクリレート 15.6g、メタクリル酸 5.2g、メチルメタクリレート12.0g、V−65(和光純薬製)0.775gのメチルエチルケトン 90ml溶液を2時間半かけて滴下させた。さらに、70℃で2時間反応させた。反応混液を0℃に冷却した後、撹拌しながら、アクリル酸クロリド 10.9gを滴下し、徐々に室温まで昇温させながら、12時間反応させた。反応液を水3l中に投じ、重合体を析出させた。これを、ろ取、洗浄、乾燥し、高分子化合物(10)を得た。高分子反応によりアクリル基が側鎖に導入されたことは、NMRスペクトルより確認された。ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により、重量平均分子量を測定した結果、78,000であった。
Synthesis of Polymer Compound (2) [Specific Example of Synthesis Method 2]
A 500 ml three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 90 ml of methyl ethyl ketone and heated to 70 ° C. Under a nitrogen stream, 15.6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 5.2 g of methacrylic acid, 12.0 g of methyl methacrylate, and 0.775 g of V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 90 ml of methyl ethyl ketone were dropped over 2 and a half hours. . Furthermore, it was made to react at 70 degreeC for 2 hours. After cooling the reaction mixture to 0 ° C., 10.9 g of acrylic acid chloride was added dropwise with stirring, and the mixture was allowed to react for 12 hours while gradually warming to room temperature. The reaction solution was poured into 3 l of water to precipitate a polymer. This was filtered, washed and dried to obtain a polymer compound (10). It was confirmed from the NMR spectrum that an acrylic group was introduced into the side chain by the polymer reaction. The weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance was 78,000.

高分子化合物(3)の合成〔合成方法3)の具体例〕
コンデンサー、撹拌機を取り付けた1000ml三口フラスコに、1−メトキシ−2−プロパノール200m1を入れ、70℃に加熱した。窒素気流下、2−アリロキシエチルメタクリレート40.9g、メタクリル酸5.2g、V−65(和光純薬製)0.746gの1−メトキシ−2−プロパノール200ml溶液を2時間半かけて滴下させた。さらに、70℃で2時間反応させた。これを、ろ取、洗浄、乾燥し、高分子化合物(3)を得た。ポリスチレンを標準物質としたゲルバーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により、重量平均分子量を測定した結果、110,000であった。
Synthesis of Polymer Compound (3) [Specific Example of Synthesis Method 3]
In a 1000 ml three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 200 ml of 1-methoxy-2-propanol was placed and heated to 70 ° C. Under a nitrogen stream, 200 ml of 1-methoxy-2-propanol in an amount of 40.9 g of 2-allyloxyethyl methacrylate, 5.2 g of methacrylic acid, and 0.746 g of V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dropped over 2 and a half hours. It was. Furthermore, it was made to react at 70 degreeC for 2 hours. This was filtered, washed and dried to obtain a polymer compound (3). It was 110,000 as a result of measuring a weight average molecular weight by gel permeation chromatography method (GPC) which used polystyrene as a standard substance.

高分子化合物(4)の合成〔合成方法4)の具体例〕
コンデンサー、撹拌機を取り付けた500ml三口フラスコに、メチルエチルケトン80mlを入れ、70℃に加熱した。窒素気流下、メタクリル酸クロリド 12.5g、メタクリル酸 5.2g、メチルメタクリレート 12.0g、V−65(和光純薬製)0.700gのメチルエチルケトン80ml溶液を2時間半かけて滴下させた。さらに、70℃で2時間反応させた。反応混液を、0℃に冷却した後、撹拌しながら、2−アリロキシエチルアルコール 12.5gを滴下し、徐々に室温まで昇温させながら、12時間反応させた。反応液を水3l中に投じ、重合体を析出させた。これを、ろ取、洗浄、乾燥し、高分子化合物(4)を得た。高分子反応によりアリル基が側鎖に導入されたことは、NMRスペクトルより確認された。ポリスチレンを標準物質としたゲルバーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により、重量平均分子量を測定した結果、95,000であった。
Synthesis of Polymer Compound (4) [Specific Example of Synthesis Method 4]
A 500 ml three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 80 ml of methyl ethyl ketone and heated to 70 ° C. Under a nitrogen stream, a solution of 12.5 g of methacrylic acid chloride, 5.2 g of methacrylic acid, 12.0 g of methyl methacrylate, and 0.700 g of V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 80 ml of methyl ethyl ketone was dropped over 2 and a half hours. Furthermore, it was made to react at 70 degreeC for 2 hours. After cooling the reaction mixture to 0 ° C., 12.5 g of 2-allyloxyethyl alcohol was added dropwise with stirring, and the mixture was allowed to react for 12 hours while gradually warming to room temperature. The reaction solution was poured into 3 l of water to precipitate a polymer. This was filtered, washed and dried to obtain a polymer compound (4). It was confirmed from the NMR spectrum that the allyl group was introduced into the side chain by the polymer reaction. The weight average molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance. As a result, it was 95,000.

高分子化合物(5)の合成〔合成方法5)の具体例〕
コンデンサー、撹拌機を取り付けた500ml三口フラスコに、1−メトキシ−2−プロパノール150mlを入れて70℃に加熱した。窒素気流下、ビニルメタクリレート 26.9g、メタクリル酸 5.2g、V−65(和光純薬製)0.780gの1−メトキシ−2−プロパノール150ml溶液を2時間半かけて滴下させた。さらに、70℃で2時間反応させた。これを、ろ取、洗浄、乾燥し、高分子化合物(5)を得た。ポリスチレンを標準物質としたゲルバーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により、重量平均分子量を測定した結果、120,000であった。
Synthesis of Polymer Compound (5) [Specific Example of Synthesis Method 5]
A 500 ml three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 150 ml of 1-methoxy-2-propanol and heated to 70 ° C. Under a nitrogen stream, a solution of vinyl methacrylate 26.9 g, methacrylic acid 5.2 g, and V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 0.780 g of 1-methoxy-2-propanol 150 ml was dropped over 2 and a half hours. Furthermore, it was made to react at 70 degreeC for 2 hours. This was collected by filtration, washed and dried to obtain a polymer compound (5). It was 120,000 as a result of measuring a weight average molecular weight by gel permeation chromatography method (GPC) which used polystyrene as a standard substance.

高分子化合物(6)の合成〔合成方法6)の具体例〕
コンデンサー、撹拌機を取り付けた500ml三口フラスコに、メチルエチルケトン100mlを入れ、70℃に加熱した。窒素気流下、メタクリル酸クロリド12.5g、メタクリル酸 5.2g、メチルメタクリレート 12.0g、V−65(和光純薬製)0.700gのメチルエチルケトン100ml溶液を2時間半かけて滴下させた。さらに、70℃で2時間反応させた。反応混液を、0℃に冷却した後、撹拌しながら、2−ヒドロキシエテルモノビニルエーテル 11.0gを滴下し、徐々に室温まで昇温させながら、12時間反応させた。反応液を水3l中に投じ、重合体を析出させた。これを、靖取、洗浄、乾燥し、高分子化合物(6)を得た。高分子反応によりビニル基が側鎖に導入されたことは、NMRスペクトルより確認された。ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により、重量平均分子量を測定した結果、95,000であった。
Synthesis of Polymer Compound (6) [Specific Example of Synthesis Method 6]
A 500 ml three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 100 ml of methyl ethyl ketone and heated to 70 ° C. Under a nitrogen stream, a solution of 12.5 g of methacrylic acid chloride, 5.2 g of methacrylic acid, 12.0 g of methyl methacrylate, and 0.700 g of V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 100 ml of methyl ethyl ketone was dropped over 2 hours and a half. Furthermore, it was made to react at 70 degreeC for 2 hours. After cooling the reaction mixture to 0 ° C., 11.0 g of 2-hydroxyethermonovinyl ether was added dropwise with stirring, and the mixture was allowed to react for 12 hours while gradually warming to room temperature. The reaction solution was poured into 3 l of water to precipitate a polymer. This was collected, washed and dried to obtain a polymer compound (6). It was confirmed from the NMR spectrum that a vinyl group was introduced into the side chain by the polymer reaction. The weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance was 95,000.

合成例7〜23;
合成例1〜6と同様にして仕込みモノマー種、組成比を変えて、以下に示す高分子化合物重合体7〜23を合成した。これらの重合体の重量平均分子量を、合成例1〜6と同じ方法で測定した。
上記合成法により得られた(A)特定アルカリ可溶性樹脂を、下記表1〜表5に、その構成単位の構造、重合モル比で表示し、さらに測定した重量平均分子量を併記する。〔(高分子化合物No.1)〜(高分子化合物No.23)〕
Synthesis Examples 7 to 23;
In the same manner as in Synthesis Examples 1 to 6, polymer monomer polymers 7 to 23 shown below were synthesized by changing the charged monomer type and composition ratio. The weight average molecular weights of these polymers were measured by the same method as in Synthesis Examples 1-6.
The specific alkali-soluble resin (A) obtained by the above synthesis method is displayed in the following Tables 1 to 5 in terms of the structural unit structure and polymerization molar ratio, and the measured weight average molecular weight is also shown. [(Polymer Compound No. 1) to (Polymer Compound No. 23)]

Figure 0004141492
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本発明に係る特定アルカリ可溶性樹脂は、画像強度などの諸性能を向上する目的で、本発明の効果を損なわない限りにおいて、前述のラジカル重合性化合物に加えて、さらに、他のラジカル重合性化合物を共重合させることも好ましい態様である。
本発明において特定アルカリ可溶性樹脂に共重合させることができるラジカル重合性化合物としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、N,N−2置換アクリルアミド類、N,N−2置換メタクリルアミド類、スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル類などから選ばれるラジカル重合性化合物が挙げられる。
The specific alkali-soluble resin according to the present invention is not limited to the above-mentioned radical polymerizable compound, in order to improve various performances such as image strength, as long as the effects of the present invention are not impaired. It is also a preferred embodiment to copolymerize.
Examples of the radical polymerizable compound that can be copolymerized with a specific alkali-soluble resin in the present invention include acrylic esters, methacrylic esters, N, N-2 substituted acrylamides, and N, N-2 substituted methacrylamides. Radical polymerizable compounds selected from styrene, styrenes, acrylonitriles, methacrylonitriles, and the like.

具体的には、例えば、アルキルアクリレート(該アルキル基の炭素原子数は1〜20のものが好ましい)等のアクリル酸エステル類、(具体的には、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルへキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−t−オクチル、クロルエチルアクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど)、アリールアクリレート(例えば、フェニルアクリレートなど)、   Specifically, for example, acrylic esters such as alkyl acrylate (the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms) (specifically, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic Propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, ethyl hexyl acrylate, octyl acrylate, tert-octyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, trimethylolpropane Monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, etc.), aryl acrylate (for example, Such as E nil acrylate),

アルキルメタクリレート(該アルキル基の炭素原子は1〜20のものが好ましい)等のメタクリル酸エステル類(例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレー卜、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど)、アリールメタクリレート(例えば、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートなど)、   Methacrylic acid esters (for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate) such as alkyl methacrylate (the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms) , Chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, glycidyl methacrylate, furfuryl Methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, etc.) Aryl methacrylates (e.g., phenyl methacrylate, cresyl methacrylate, naphthyl methacrylate, etc.),

スチレン、アルキルスチレン等のスチレン類、(例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロへキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンなど)、アルコキシスチレン(例えばメトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど)、ハロゲンスチレン(例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、2−ブロム−4−トリフルオルメチルスチレン、4−フルオル−3−トリフルオルメチルスチレンなど)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。   Styrenes such as styrene and alkyl styrene (for example, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene) , Trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene etc.), alkoxy styrene (eg methoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene, dimethoxy styrene etc.), halogen styrene (eg chloro styrene, dichloro styrene, trichloro styrene) , Tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluoro Styrene, 2-bromo-4-trifluoromethyl styrene, 4-fluoro-3-trifluoromethyl styrene etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, and the like.

これらラジカル重合性化合物のうち、好適に使用されるのは、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン類である。
これらを1種あるいは2種以上用いることができ、これら共重合成分の好適に使用される含有量は、0〜95モル%であり、特に好ましくは、20〜90モル%である。
Of these radical polymerizable compounds, acrylic acid esters, methacrylic acid esters, and styrenes are preferably used.
These can be used singly or in combination of two or more. The content of these copolymerization components used is preferably 0 to 95 mol%, particularly preferably 20 to 90 mol%.

本発明に係る(A)特定アルカリ水可溶性高分子には、非画像部除去性などの諸性能を向上させるために、酸基を有するラジカル重合性化合物を共重合させてもよい。このようなラジカル重合性が有する酸基としては、例えば、カルボン酸、スルホン酸、リン酸基などがあり、特に好ましいものは、カルボン酸である。カルボン酸を含有するラジカル重合性化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、インクロトン酸、マレイン酸、p−カルボキシルスチレンなどがあり、特に好ましいものは、アクリル酸、メタクリル酸、p−カルボキシルスチレンである。
これらを1種あるいは1種以上用いることができ、これら共重合成分の好適に使用される含有量は、0〜85モル%であり、特に好ましくは、10〜70モル%である。
In order to improve various performances such as non-image area removability, the (A) specific alkaline water-soluble polymer according to the present invention may be copolymerized with a radically polymerizable compound having an acid group. Examples of such an acid group having radical polymerizability include a carboxylic acid, a sulfonic acid, and a phosphoric acid group, and a particularly preferable one is a carboxylic acid. Examples of the radical polymerizable compound containing a carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, incrotonic acid, maleic acid, p-carboxyl styrene, and particularly preferred are acrylic acid, methacrylic acid, and the like. Acid, p-carboxylstyrene.
These may be used alone or in combination of one or more. The content of these copolymer components is preferably 0 to 85 mol%, particularly preferably 10 to 70 mol%.

本発明に係るアルカリ水可溶性高分子は単独重合体であってもよいが、異なる一般式(1)〜一般式(3)で表される基を有するラジカル重合性化合物同志、或いは、一般式(1)〜一般式(3)で表される基を有するラジカル重合性化合物1種以上と上述の他のラジカル重合性化合物1種以上との共重合体である場合、その共重合体の構成としては、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体等のいずれであってもよい。   The alkaline water-soluble polymer according to the present invention may be a homopolymer, but radically polymerizable compounds having groups represented by different general formulas (1) to (3), or a general formula ( When it is a copolymer of one or more radically polymerizable compounds having a group represented by 1) to general formula (3) and one or more other radically polymerizable compounds described above, the constitution of the copolymer May be any of a block copolymer, a random copolymer, a graft copolymer, and the like.

このような高分子化合物を合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。
これらの溶媒は単独あるいは2種以上混合してもよい。
Examples of the solvent used for synthesizing such a polymer compound include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxy. Examples include ethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, and ethyl lactate. It is done.
These solvents may be used alone or in combination of two or more.

本発明に係る高分子化合物〔(A)成分〕は、重量平均分子量で、好ましくは2,000以上であり、さらに好ましくは、5,000〜30万の範囲である。
また、本発明に係る特定アルカリ水可溶性高分子中には、未反応の単量体を含んでいてもよい。この場合、単量体の高分子化合物中に占める割合は、15重量%以下が望ましい。
本発明の画像記録材料中に含まれる(A)特定アルカリ可溶性樹脂の含有量は固形分で約5〜95重量%であり、好ましくは、約10〜85重量%である。添加量が5重量%未満の場合は、画像形成した際、画像部の強度が不足する場合がある。また添加量が95重量%を越える場合は、画像形成されない場合がある。
The polymer compound [component (A)] according to the present invention has a weight average molecular weight of preferably 2,000 or more, more preferably 5,000 to 300,000.
In addition, the specific alkaline water-soluble polymer according to the present invention may contain an unreacted monomer. In this case, the proportion of the monomer in the polymer compound is desirably 15% by weight or less.
The content of the specific alkali-soluble resin (A) contained in the image recording material of the present invention is about 5 to 95% by weight, preferably about 10 to 85% by weight in terms of solid content. If the amount added is less than 5% by weight, the strength of the image area may be insufficient when an image is formed. If the added amount exceeds 95% by weight, an image may not be formed.

[(B)光熱変換剤]
本発明の画像記録材料は、ヒートモード露光、代表的には、赤外線を発するレーザにより、記録を行なうことから、光熱変換剤を用いることが必須である。光熱変換剤は、所定の波長の光を吸収し、熱に変換する機能を有している。この際発生した熱により、(C)成分、即ちこの(B)光熱変換剤が吸収し得る波長の光のヒートモード露光によりラジカルを生成するオニウム塩化合物が分解し、ラジカルを発生する。本発明において使用される光熱変換剤は吸収した光を熱に変換する機能を有するものであればよいが、一般的には、書き込みに使用される赤外線レーザの波長、即ち、波長760nmから1200nmに吸収極大を有する、所謂、赤外線吸収剤として知られる染料又は顔料が挙げられる。
[(B) Photothermal conversion agent]
Since the image recording material of the present invention performs recording by heat mode exposure, typically, a laser emitting infrared rays, it is essential to use a photothermal conversion agent. The photothermal conversion agent has a function of absorbing light of a predetermined wavelength and converting it into heat. The heat generated at this time decomposes the onium salt compound that generates radicals by heat mode exposure of light having a wavelength that can be absorbed by the component (C), that is, the photothermal conversion agent (B), and generates radicals. The photothermal conversion agent used in the present invention is not limited as long as it has a function of converting absorbed light into heat, but generally, the wavelength of the infrared laser used for writing, that is, the wavelength from 760 nm to 1200 nm. Examples thereof include dyes or pigments known as infrared absorbers having an absorption maximum.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A-58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。   Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, U.S. Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. .

また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、シアニン色素が好ましく、特に下記一般式(I)で示されるシアニン色素が最も好まし
い。
Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes. Further, a cyanine dye is preferable, and a cyanine dye represented by the following general formula (I) is most preferable.

Figure 0004141492
Figure 0004141492

一般式(I)中、X1は、ハロゲン原子、またはX2−L1を示す。ここで、X2は酸素原子または、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安定性からR1およびR2は、互いに結合し、5員環または6員環を形成している。 In the general formula (I), X 1 represents a halogen atom or X 2 -L 1,. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned.

1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていても良く、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。
3、R4は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。
Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms.
R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups.

5、R6、R7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。 また、Z1-は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のいずれかにスルホ基が置換されている場合は、Z1-は必要ない。好ましいZ1-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。 R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Further, Z 1-represents a counter anion. However, Z 1- is not necessary when any of R 1 to R 8 is substituted with a sulfo group. Preferred Z 1− is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, in view of storage stability of the photosensitive layer coating solution. Hexafluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(I)で示されるシアニン色素の具体例としては、特願平11−310623号明細書の段落番号[0017]〜[0019]に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of cyanine dyes represented by formula (I) that can be suitably used in the present invention are those described in paragraphs [0017] to [0019] of Japanese Patent Application No. 11-310623. Can be mentioned.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The surface treatment methods described above are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Sachibo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μm未満のときは分散物の画像感光層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像感光層の均一性の点で好ましくない。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. When the particle diameter of the pigment is less than 0.01 μm, it is not preferable from the viewpoint of the stability of the dispersion in the image-sensitive layer coating solution, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of uniformity of the image-sensitive layer.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの光熱変換剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよいが、ネガ型画像形成材料を作成した際に、感光層の波長760nm〜1200nmの範囲における吸収極大での光学濃度が、0.1〜3.0の間にあることが好ましい。この範囲をはずれた場合、感度が低くなる傾向がある。光学濃度は前記光熱変換剤の添加量と記録層の厚みとにより決定されるため、所定の光学濃度は両者の条件を制御することにより得られる。記録層の光学濃度は常法により測定することができる。測定方法としては、例えば、透明、或いは白色の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの記録層を形成し、透過型の光学濃度計で測定する方法、アルミニウム等の反射性の支持体上に記録層を形成し、反射濃度を測定する方法等が挙げられる。   These photothermal conversion agents may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer, but when the negative type image forming material is prepared, The optical density at the absorption maximum in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm is preferably between 0.1 and 3.0. When this range is deviated, the sensitivity tends to be low. Since the optical density is determined by the amount of the photothermal conversion agent added and the thickness of the recording layer, the predetermined optical density can be obtained by controlling both conditions. The optical density of the recording layer can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a transparent or white support, a recording layer having a thickness appropriately determined in a range where the coating amount after drying is necessary as a lithographic printing plate is formed, and a transmission optical densitometer is used. Examples thereof include a measuring method, a method of forming a recording layer on a reflective support such as aluminum, and measuring a reflection density.

[(C)下記一般式(V)で表され、(B)光熱変換剤が吸収する事できる波長の光のヒートモード露光によりラジカルを生成するオニウム塩化合物]
ヒートモード露光によりラジカルを生成するオニウム塩化合物(以下、適宜ラジカル開始剤と称する)は、前記(B)光熱変換剤と組み合わせて用い、光熱変換剤が吸収し得る波長の光、例えば、赤外線レーザを照射した際にその光又は熱或いはその双方のエネルギーによりラジカルを発生し、(A)重合性の官能基を有する特定アルカリ可溶性樹脂、さらには、(D)ラジカル重合性化合物の重合を開始、促進させる化合物を指す。ここで、「ヒートモード露光」とは、前記本発明における定義に従うものとする。
ラジカル開始剤としては、公知の光重合開始剤、熱重合開始剤などを選択して使用することができるが、本発明においては、感度が高いという観点から、オニウム塩化合物を選択して用いている。
[(C) An onium salt compound that is represented by the following general formula (V), and (B) generates a radical by heat mode exposure of light having a wavelength that can be absorbed by the photothermal conversion agent.
An onium salt compound (hereinafter referred to as a radical initiator as appropriate) that generates radicals by heat mode exposure is used in combination with the (B) photothermal conversion agent, and has a wavelength that can be absorbed by the photothermal conversion agent, for example, an infrared laser. , Radicals are generated by the energy of light or heat or both, (A) a specific alkali-soluble resin having a polymerizable functional group, and (D) initiating polymerization of a radical polymerizable compound, Refers to the compound to be promoted. Here, “heat mode exposure” is in accordance with the definition in the present invention.
As the radical initiator, known photopolymerization initiators, thermal polymerization initiators and the like can be selected and used. However, in the present invention, an onium salt compound is selected and used from the viewpoint of high sensitivity. Yes.

本発明においてラジカル開始剤として好適に用い得るオニウム塩について説明する。好ましいオニウム塩としては、スルホニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジカル重合の開始剤として機能する。本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(V)で表されるオニウム塩である。   An onium salt that can be suitably used as a radical initiator in the present invention will be described. Preferable onium salts include sulfonium salts. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as radical polymerization initiators. The onium salt suitably used in the present invention is an onium salt represented by the following general formula (V).

Figure 0004141492
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式(V)中、R31、R32及びR33は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z31-は、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、またはアリールスルホン酸イオンを示し、アリールスルホン酸イオンがより好ましい。 Wherein (V), R 31, R 32 and R 33, which may be the same or different, each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. Z 31- represents a perchlorate ion, a hexafluorophosphate ion, or an aryl sulfonate ion, and more preferably an aryl sulfonate ion.

本発明において、ラジカル発生剤として好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、特願平11−310623号明細書の段落番号[0033]に記載されたものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of onium salts that can be suitably used as a radical generator include those described in paragraph [0033] of Japanese Patent Application No. 11-310623.

また、特開平9−34110号公報の段落番号[0012]〜[0050]に記載の一般式(II)で表されるオニウム塩、特開平8−108621公報の段落番号[0016]に記載の熱重合開始剤などの公知の重合開始剤も好ましく用いられる。
本発明において用いられるラジカル開始剤は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、さらに360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、画像記録材料の取り扱いを白灯下で実施することができる。
Further, an onium salt represented by the general formula (II) described in paragraphs [0012] to [0050] of JP-A-9-34110 and a heat described in paragraph [0016] of JP-A-8-108621. A known polymerization initiator such as a polymerization initiator is also preferably used.
The radical initiator used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, and more preferably 360 nm or less. By setting the absorption wavelength in the ultraviolet region in this way, the image recording material can be handled under white light.

本発明の平版印刷版原版には、さらに、画像強度向上などの目的で(D)ラジカル重合性化合物を含有する。
[(D)ラジカル重合性化合物]
本発明の平版印刷版原版に含有されるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。この様な化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いる事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類があげられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。
The lithographic printing plate precursor according to the invention further contains (D) a radical polymerizable compound for the purpose of improving image strength.
[(D) Radical polymerizable compound]
The radically polymerizable compound contained in the lithographic printing plate precursor according to the invention is a radically polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably 2 It is selected from compounds having at least one. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group, amide and monofunctional or polyfunctional isocyanate, addition reaction product of epoxy, monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, halogen A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a group or a tosyloxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物の具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the radical polymerizable compound that is an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3-butanediol diacrylate. , Tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4- Cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol Triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, etc. is there.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate Sorbitol tetritaconate, etc.

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。   Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.

イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。   Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926、特公昭51−47334、特開昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240、特開昭59−5241、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.

その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものをあげる事ができる。   Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(VI)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. Specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following formula (VI) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Etc.

一般式(VI)
CH2=C(R41)COOCH2CH(R42)OH
(ただし、R41およびR42は、HまたはCH3を示す。)
General formula (VI)
CH 2 = C (R 41) COOCH 2 CH (R 42) OH
(However, R 41 and R 42 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417、特公昭62−39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
さらに、特開昭63−277653,特開昭63−260909号、特開平1−105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有するラジカル重合性化合物類を用いてもよい。
Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.
Furthermore, radical polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 may be used.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合物等もあげることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会誌 vol. 20、No. 7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-B-52-30490. Examples thereof include polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, and JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be exemplified. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, those introduced as photocurable monomers and oligomers in Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, No. 7, pages 300 to 308 (1984) can also be used.

(D)ラジカル重合性化合物は単独で用いても2種以上併用してもよい。これらのラジカル重合性化合物について、どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定できる。
画像記録材料中のラジカル重合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましくない相分離が生じたり、画像記録層の粘着性による製造工程上の問題(例えば、記録層成分の転写、粘着に由来する製造不良)や、現像液からの析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの場合、組成物全成分に対して5〜80重量%、好ましくは20〜75重量%である。本発明において、前記(A)特定アルカリ可溶性樹脂に(D)他のラジカル重合性化合物を併用する場合、(A)成分と(D)成分の比率は、重量比で、1:0.05〜1:3の範囲で併用され、好ましくは1:0.1〜1:2の範囲、さらに好ましくは1:0.3〜1:1.5の範囲である。
ラジカル重合性化合物の使用法は、所望の特性から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
(D) The radically polymerizable compounds may be used alone or in combination of two or more. For these radically polymerizable compounds, the details of how to use them, such as what structure to use, whether they are used alone or in combination, and how much they are added, can be selected according to the performance design of the final recording material. Can be set.
As for the compounding ratio of the radically polymerizable compound in the image recording material, a larger amount is advantageous in terms of sensitivity. However, if it is too large, undesirable phase separation may occur or the production process due to the adhesiveness of the image recording layer may occur. Problems (for example, transfer of recording layer components, manufacturing defects due to adhesion) and precipitation from the developer may occur. From these viewpoints, the preferable blending ratio of the radical polymerizable compound is often 5 to 80% by weight, preferably 20 to 75% by weight, based on the total components of the composition. In the present invention, when (D) another radical polymerizable compound is used in combination with the (A) specific alkali-soluble resin, the ratio of the component (A) to the component (D) is 1: 0.05 to the weight ratio. It is used in the range of 1: 3, preferably in the range of 1: 0.1 to 1: 2, more preferably in the range of 1: 0.3 to 1: 1.5.
As for the method of using the radically polymerizable compound, an appropriate structure, blending, and addition amount can be arbitrarily selected from desired properties, and in some cases, a layer configuration / coating method such as undercoating or overcoating can be carried out.

[その他の成分]
本発明の画像記録材料には、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、及び特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができる。
[Other ingredients]
In addition to these, various compounds may be added to the image recording material of the present invention as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in No. 293247. In addition, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide can also be suitably used.

これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、感光層塗布液全固形分に対し、0.01〜10重量%の割合である。   These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. The amount added is 0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the photosensitive layer coating solution.

また、本発明においては、画像記録材料の調製中あるいは保存中においてラジカル重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約0.01重量%〜約5重量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.1重量%〜約10重量%が好ましい。   In the present invention, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the radical polymerizable compound during preparation or storage of the image recording material. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by weight to about 5% by weight with respect to the weight of the total composition. If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition due to oxygen, and it may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in the course of drying after coating. . The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably from about 0.1% to about 10% by weight of the total composition.

また、本発明における画像記録材料は、主として平版印刷版原版の画像記録層を形成するために用いられるが、そのような画像記録層の現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号や特開平3−208514号に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号、特開平4−13149号に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。   The image recording material in the present invention is mainly used for forming an image recording layer of a lithographic printing plate precursor. In order to increase the processing stability of such an image recording layer with respect to development conditions, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62. Nonionic surfactants as described in JP-A Nos. 251740 and 3-208514, and amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 are added. can do.

非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。   Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like.

両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の感光層塗布液中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
Specific examples of amphoteric surfactants include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, N-tetradecyl-N, N- Examples include betaine type (for example, trade name Amorgen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.).
The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the photosensitive layer coating solution is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

さらに、本発明に係る感光層塗布液中には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。   Furthermore, in the photosensitive layer coating solution according to the present invention, a plasticizer is added as needed to impart flexibility of the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate and the like are used.

本発明の画像記録材料により平版印刷版原版を製造するには、通常、画像記録材料の構成成分を塗布液に必要な各成分とともにを溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布すればよい。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。   In order to produce a lithographic printing plate precursor using the image recording material of the present invention, the constituent components of the image recording material are usually dissolved in a solvent together with the components necessary for the coating solution and coated on a suitable support. . Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, it is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、平版印刷版原版についていえば一般的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録層の皮膜特性は低下する。 The coating, the coating amount of the image recording layer on the support obtained after drying (solid content) may be varied according to the intended purpose, is preferably generally 0.5 to 5.0 g / m 2 As for the lithographic printing plate precursor . Various methods can be used as the coating method, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording layer decrease.

本発明に係る画像記録層塗布液には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−170950号に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全感光層の材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好ましくは0.05〜0.5重量%である。   In the image recording layer coating solution according to the present invention, a surfactant for improving the coating property, for example, a fluorosurfactant described in JP-A-62-170950 may be added. it can. A preferred addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the solid content of the material of the entire photosensitive layer.

(保護層)
本発明の画像記録材料を平版印刷版原版に用いる場合は、通常、露光を大気中で行うため、光重合性組成物を含む画像記録層の上に、さらに、保護層を設ける事が好ましく、この様な保護層に望まれる特性としては、酸素等の低分子化合物の透過性が低く、露光に用いる光の透過性が良好で、記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できることであり、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが一般的である。このように、さらに外部からの酸素遮断性を高め、画像形成性、特に、画像強度を高める目的で上記保護層を備えてもよい。
(Protective layer)
When the image recording material of the present invention is used for a lithographic printing plate precursor, it is usually preferable to provide a protective layer on the image recording layer containing the photopolymerizable composition in order to perform exposure in the air. The properties desired for such a protective layer include low permeability of low molecular compounds such as oxygen, good light transmission for exposure, excellent adhesion to the recording layer, and development after exposure. It is easy to remove in the process, and it is common to use water-soluble polymer compounds having relatively excellent crystallinity such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polyacrylic acid. is there. As described above, the protective layer may be provided for the purpose of further enhancing oxygen barrier properties from the outside and enhancing image forming properties, particularly image strength.

(支持体)
本発明の画像記録材料を用いて平版印刷版原版を形成する場合に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)等が挙げられる。これらは、樹脂フィルムや金属板などの単一成分のシートであっても、2以上の材料の積層体であってもよく、例えば、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙やプラスチックフィルム、異種のプラスチックフィルム同志の積層シート等が含まれる。
(Support)
The support used when forming a lithographic printing plate precursor using the image recording material of the present invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material. For example, paper, plastic (for example, , Polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc., laminated paper, metal plates (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate) , Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.). These may be a single component sheet such as a resin film or a metal plate, or may be a laminate of two or more materials. For example, a paper or plastic film on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited. And laminated sheets of different plastic films.

前記支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々10重量%以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。
前記アルミニウム板の厚みは、およそ0.1〜0.6mm程度、好ましくは0.15〜0.4mm、特に好ましくは0.2〜0.3mmである。
As the support, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by weight. Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum. However, since completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, it may contain slightly different elements. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used.
The aluminum plate has a thickness of about 0.1 to 0.6 mm, preferably 0.15 to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ水溶液等による脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
このように粗面化されたアルミニウム板は、所望により、アルカリエッチング処理、中和処理を経て、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施すことができる。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired.
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.
The aluminum plate roughened in this way can be subjected to an anodizing treatment to enhance the water retention and wear resistance of the surface through an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if desired. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2 以上が好適であるが、より好ましくは2.0〜6.0g/m2 の範囲である。陽極酸化被膜が1.0g/m2 未満であると耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
尚、このような陽極酸化処理は平版印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2 の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。
The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by weight solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / day. dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are suitable.
The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. When the anodic oxide coating is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image part of the lithographic printing plate is easily scratched, so that the ink adheres to the scratched part during printing. “Scratches and dirt” are likely to occur.
Such an anodic oxidation treatment is applied to the surface used for printing on the support of the lithographic printing plate, but an anodized film of 0.01 to 3 g / m 2 is also formed on the back surface due to the back of the lines of electric force. It is common to form.

支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化処理の後に施されるものであり、従来より知られている処理法が用いられる。このような親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号公報に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩(例えば、珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号公報に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が用いられる。
これらの中で、本発明において特に好ましい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理について、以下に説明する。
The hydrophilic treatment of the support surface is performed after the anodizing treatment, and conventionally known treatment methods are used. Such hydrophilization treatment is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There are various alkali metal silicate methods (for example, sodium silicate aqueous solution). In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 is potassium fluoride zirconate and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272. A method of treating with polyvinylphosphonic acid as described above is used.
Among these, a particularly preferred hydrophilic treatment in the present invention is a silicate treatment. The silicate treatment will be described below.

上述の如き処理を施したアルミニウム板の陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜10重量%であり、25℃でのpHが10〜13である水溶液に、例えば15〜80℃で0.5〜120秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩水溶液のpHが10より低いと液はゲル化し13.0より高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属珪酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩もしくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしくは、第IVB族金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10重量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0重量%である。
珪酸塩処理により、アルミニウム板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の際、インクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上する。
The anodized film of the aluminum plate subjected to the treatment as described above has an alkali metal silicate content of 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight, and a pH at 25 ° C. of 10 to 13. It is immersed in a certain aqueous solution at, for example, 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds. If the pH of the alkali metal silicate aqueous solution is lower than 10, the solution will gel, and if it is higher than 13.0, the oxide film will be dissolved. Examples of the alkali metal silicate used in the present invention include sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate. Examples of the hydroxide used to increase the pH of the alkali metal silicate aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, you may mix | blend alkaline-earth metal salt or a group IVB metal salt with said process liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. Can be mentioned. Examples of Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium fluoride titanium, potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, etc. Can do. Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. A preferable range of these metal salts is 0.01 to 10% by weight, and a more preferable range is 0.05 to 5.0% by weight.
Since the hydrophilicity on the surface of the aluminum plate is further improved by the silicate treatment, the ink hardly adheres to the non-image area during printing, and the stain performance is improved.

支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物および特開平6−35174号公報記載の有機または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Si(OCH3 4 、Si(OC2 5 4 、Si(OC3 7 4 、Si(OC4 9 4 などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。
A back coat is provided on the back surface of the support as necessary. As such a backcoat, a coating comprising a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174 A layer is preferably used.
Among these coating layers, silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , and Si (OC 4 H 9 ) 4 are available at a low price. The coating layer of the metal oxide provided therefrom is particularly preferred because of its excellent development resistance.

以上のようにして、本発明の画像記録材料により平版印刷版原版を作成することができる。この平版印刷版原版は、赤外線レーザで記録できる。また、紫外線ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能である。本発明においては、波長760nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光されることが好ましい。   As described above, a lithographic printing plate precursor can be prepared from the image recording material of the present invention. This lithographic printing plate precursor can be recorded with an infrared laser. Thermal recording with an ultraviolet lamp or a thermal head is also possible. In the present invention, image exposure is preferably performed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm.

赤外線レーザにより露光した後、本発明の画像記録材料は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液にて現像される。   After exposure with an infrared laser, the image recording material of the present invention is preferably developed with water or an alkaline aqueous solution.

現像液として、アルカリ性水溶液を用いる場合、本発明の画像記録材料の現像液及び補充液としては、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられる。
これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を組み合わせて用いられる。
When an alkaline aqueous solution is used as the developer, a conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developer and replenisher for the image recording material of the present invention. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used.
These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

さらに、自動現像機を用いて現像する場合には、現像液と同じものまたは、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷版原版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。   Further, when developing using an automatic developing machine, the developer in the developing tank for a long time is added to the developer by adding an aqueous solution (replenisher) that is the same as the developer or higher in alkali strength than the developer. It is known that a large amount of a lithographic printing plate precursor can be processed without replacing the plate. This replenishment method is also preferably applied in the present invention.

現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しくはその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくはその誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもできる。   Various surfactants, organic solvents, and the like can be added to the developer and the replenisher as necessary for the purpose of promoting and suppressing developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Preferred organic solvents include benzyl alcohol. Moreover, addition of polyethylene glycol or a derivative thereof, or polypropylene glycol or a derivative thereof is also preferable. In addition, non-reducing sugars such as arabit, sorbit and mannitol can be added.

さらに、現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸または亜硫酸水素酸のナトリウム塩およびカリウム塩等の無機塩系還元剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。   In addition, the developer and replenisher may contain an inorganic salt reducing agent such as hydroquinone, resorcin, sodium sulfite or sodium bisulfite, and organic carboxylic acid, antifoaming agent and hard water softening agent as necessary. It can also be added.

以上記述した現像液及び補充液を用いて現像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材として使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。   The printing plate developed using the developer and replenisher described above is post-treated with a desensitizing solution containing washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, gum arabic and starch derivatives. As the post-treatment when the image recording material of the present invention is used as a printing plate, these treatments can be used in various combinations.

近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、電気伝導度をセンサーにて感知し、自動的に補充することもできる。
また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
In recent years, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in the plate making and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for conveying a printing plate material, processing liquid tanks and a spray device. Each processing liquid pumped up is sprayed from a spray nozzle for development processing. In addition, recently, a method is also known in which a printing plate material is dipped and conveyed in a processing liquid tank filled with the processing liquid by a submerged guide roll or the like. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being supplemented with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, the electrical conductivity can be detected by a sensor and replenished automatically.
In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

以上のようにして得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing process after applying a desensitized gum if desired. However, if it is desired to obtain a lithographic printing plate with a higher printing durability, a burning treatment is performed. Is given.
In the case of burning a lithographic printing plate, before burning, an adjustment as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 is used. It is preferable to treat with surface liquid.

その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。また、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥重量)が適当である。
整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。
As its method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, it is applied onto a lithographic printing plate, or a method of applying the printing plate by dipping in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.
In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry weight).
The lithographic printing plate coated with the surface-adjusting liquid is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor BP-1300 sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). . In this case, the heating temperature and time are in the range of 180 to 300 ° C. and preferably in the range of 1 to 20 minutes, although depending on the type of components forming the image.

バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。   The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing and gumming as needed, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like is used. In such a case, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.

このような処理によって、本発明の画像記録材料より得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。   By such processing, the lithographic printing plate obtained from the image recording material of the present invention is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

以下、本発明を合成例、実施例および比較例により更に詳細に説明するが、本発明がこれにより限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to synthesis examples, examples and comparative examples, but the present invention is not limited thereto.

(実施例1〜5)
[支持体の作成]
99.5%以上のアルミニウムと、Fe 0.30%、Si 0.10%、Ti 0.02%、Cu 0.013%を含むJIS A1050合金の溶湯を清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法はDC鋳造法で行った。凝固した板厚500mmの鋳塊を表面から10mm面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないように550℃で10時間均質化処理を行った。次いで、400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で500℃60秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板圧0.30mmのアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さRaを0.2μmに制御した。その後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにかけた。
(Examples 1-5)
[Create support]
A molten metal of JIS A1050 alloy containing 99.5% or more of aluminum and Fe 0.30%, Si 0.10%, Ti 0.02%, and Cu 0.013% was subjected to cleaning treatment and cast. In the cleaning process, a degassing process was performed to remove unnecessary gases such as hydrogen in the molten metal, and a ceramic tube filter process was performed. The casting method was a DC casting method. The solidified 500 mm thick ingot was chamfered 10 mm from the surface and homogenized at 550 ° C. for 10 hours so that the intermetallic compound would not become coarse. Next, after hot rolling at 400 ° C. and intermediate annealing at 500 ° C. for 60 seconds in a continuous annealing furnace, cold rolling was performed to obtain an aluminum rolled plate having a plate pressure of 0.30 mm. By controlling the roughness of the rolling roll, the centerline average surface roughness Ra after cold rolling was controlled to 0.2 μm. Then, it applied to the tension leveler in order to improve planarity.

次に平版印刷版支持体とするための表面処理を行った。
まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去するため10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間脱脂処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、スマット除去処理を行った。
Next, the surface treatment for making a lithographic printing plate support was performed.
First, in order to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, degreasing treatment was carried out with a 10% sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds, and neutralization and smut removal treatment were carried out with a 30% sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds.

次いで、支持体と記録層の密着性を良好にし、かつ非画後部に保水性を与えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1%の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水溶液を45℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティー比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/dm2を与えることで電解砂目立てを行った。その後10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、スマット除去処理を行った。 Next, in order to improve the adhesion between the support and the recording layer and to provide water retention to the non-image rear portion, a so-called graining treatment was performed to roughen the surface of the support. While maintaining an aqueous solution containing 1% nitric acid and 0.5% aluminum nitrate at 45 ° C. and flowing an aluminum web through the aqueous solution, an alternating waveform with a current density of 20 A / dm 2 and a duty ratio of 1: 1 by an indirect power supply cell Then, electrolytic graining was performed by giving an anode side electric quantity of 240 C / dm 2 . Thereafter, etching treatment was performed with a 10% sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds, and neutralization and smut removal treatment were performed with a 30% sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds.

さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形成させた。電解質として硫酸20%水溶液を35℃で用い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電セルにより14A/dm2の直流で電解処理を行うことで2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作成した。 Furthermore, in order to improve wear resistance, chemical resistance and water retention, an oxide film was formed on the support by anodic oxidation. An anodized film of 2.5 g / m 2 by using a 20% sulfuric acid aqueous solution as an electrolyte at 35 ° C. and carrying out an electrolytic treatment with a direct current of 14 A / dm 2 by an indirect power feeding cell while carrying an aluminum web into the electrolyte. It was created.

その後、印刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリケート処理を行った。処理は3号珪酸ソーダ1.5%水溶液を70℃に保ちアルミウェブの接触時間が15秒となるよう通搬し、さらに水洗した。Siの付着量は10mg/m2であった。以上により作成した支持体のRa(中心線表面粗さ)は0.25μmであった。 Thereafter, silicate treatment was performed to ensure hydrophilicity as a non-image portion of the printing plate. The treatment was carried with a 1.5% aqueous solution of sodium silicate 3 maintained at 70 ° C. so that the contact time of the aluminum web was 15 seconds, and further washed with water. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . Ra (center line surface roughness) of the support prepared as described above was 0.25 μm.

[感光層の形成]
下記感光層塗布液(P−1)を調製し、上記のようにして得られたアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して感光層を形成し、平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範囲内であった。
なお、実施例に使用した高分子化合物は前記合成例により得られた特定アルカリ可溶性樹脂である。
[Formation of photosensitive layer]
The following photosensitive layer coating solution (P-1) was prepared, applied to the aluminum support obtained as described above using a wire bar, and dried at 115 ° C. for 45 seconds using a hot air dryer. A layer was formed to obtain a lithographic printing plate precursor. The coating amount after drying was in the range of 1.2 to 1.3 g / m 2 .
In addition, the high molecular compound used for the Example is specific alkali-soluble resin obtained by the said synthesis example.

<感光層塗布液(P−1)>
・アルカリ可溶性樹脂:(A)成分 (表6に記載の化合物、表6に記載の量)
・ラジカル重合性化合物:(D)成分
(表6に記載の化合物、表6に記載の量)
・赤外線吸収剤「IR−6」:(B)成分 0.08g
・スルホニウム塩「S−1」:(C)成分 0.30g
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 0.04g
・フッ素系界面活性剤 0.01g
(メガファックF−176,大日本インキ化学工業(株)製)
・メチルエチルケトン 9.0g
・メタノール 10.0g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g
<Photosensitive layer coating solution (P-1)>
Alkali-soluble resin: Component (A) (Compound described in Table 6, amount described in Table 6)
・ Radical polymerizable compound: Component (D)
(Compound described in Table 6, amount described in Table 6)
Infrared absorber “IR-6”: component (B) 0.08 g
・ Sulphonium salt “S-1”: component (C) 0.30 g
・ Victoria Pure Blue Naphthalenesulfonic Acid 0.04g
・ Fluorine-based surfactant 0.01g
(Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Methyl ethyl ketone 9.0g
・ Methanol 10.0g
1-methoxy-2-propanol 8.0g

Figure 0004141492
Figure 0004141492

Figure 0004141492
Figure 0004141492

Figure 0004141492
Figure 0004141492

[露光]
得られた平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter3244VFSにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギー100mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光した。
[現像処理]
露光後、富士写真フイルム(株)製自動現像機スタブロン900Nを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイルム(株)製DN−3Cの1:1水希釈液を用いた。現像浴の温度は30℃とした。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を用いた。
[耐刷性の評価]
次に、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。結果を前記表6に併記する。
表6の結果より、本発明の画像記録材料を感光層として用いた実施例の平版印刷版は、優れた耐刷性を達成していることがわかる。また、得られた平版印刷版原版を、それぞれ60℃で3日間保存、及び、45℃、湿度75%RHで3日間保存して強制経時させた後、前記と同様の印刷を行ない、結果を表6に示す。
[exposure]
The resulting lithographic printing plate precursor was exposed with a Trend setter 3244VFS manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 9 W, an outer drum rotation speed of 210 rpm, a plate surface energy of 100 mJ / cm 2 , and a resolution of 2400 dpi.
[Development processing]
After the exposure, the film was developed using an automatic processor Stablon 900N manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As the developer, a 1: 1 water dilution of DN-3C manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used for both the charging solution and the replenisher. The temperature of the developing bath was 30 ° C. As the finisher, a 1: 1 water dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used.
[Evaluation of printing durability]
Next, printing was performed using a printing press Lislon manufactured by Komori Corporation. At this time, the number of sheets that can be printed while maintaining a sufficient ink density was measured visually to evaluate the printing durability. The results are also shown in Table 6 above.
From the results in Table 6, it can be seen that the lithographic printing plates of the examples using the image recording material of the present invention as the photosensitive layer achieved excellent printing durability. The obtained lithographic printing plate precursor was stored at 60 ° C. for 3 days and stored at 45 ° C. and humidity 75% RH for 3 days, followed by forced aging. Table 6 shows.

表6より、本発明の画像記録材料を感光層として用いた平版印刷版は、非画像部の汚れもなく、耐刷性に優れ、また、高温、高湿環境下で保存した後も、耐刷性、非画像部の汚れ性が低下せず、経時安定性に優れていることがわかった。   From Table 6, the lithographic printing plate using the image recording material of the present invention as a photosensitive layer has no stain on the non-image area, excellent printing durability, and is resistant even after storage in a high temperature and high humidity environment. It was found that the printing property and the smearing property of the non-image area were not deteriorated and the stability over time was excellent.

Claims (7)

(A)側鎖に下記一般式(1)〜一般式(3)で表される基を少なくとも1つ有する、水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物、(B)光熱変換剤、(C)下記一般式(V)で表され、(B)光熱変換剤が吸収する事ができる波長の光のヒートモード露光によりラジカルを生成するオニウム塩化合物、及び(D)ラジカル重合性化合物を含有し、ヒートモード露光により画像記録可能であることを特徴とするヒートモード対応ネガ型平版印刷版原版。
Figure 0004141492

式中、R〜R11は、それぞれ独立に、1価の有機基を表す。X、Yは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、または−N−R12を表し、Zは、酸素原子、硫黄原子、−N−R12またはフェニレン基を表す。R12は、水素原子、または1価の有機基を表す。
Figure 0004141492

式(V)中、R31、R32及びR33は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。Z31-は、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、またはアリールスルホン酸イオンを示す。
(A) a polymer compound having at least one group represented by the following general formula (1) to general formula (3) in the side chain, insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution, (B) a photothermal conversion agent, (C) An onium salt compound that is represented by the following general formula (V), and (B) generates a radical by heat mode exposure of light having a wavelength that can be absorbed by the photothermal conversion agent, and (D) a radical polymerizable compound. A negative lithographic printing plate precursor for heat mode, characterized in that it can be recorded by heat mode exposure.
Figure 0004141492

In the formula, R 1 to R 11 each independently represents a monovalent organic group. X and Y each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom or —N—R 12 , and Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, —N—R 12 or a phenylene group. R 12 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.
Figure 0004141492

In the formula (V), R 31 , R 32 and R 33 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Z 31- represents a perchlorate ion, a hexafluorophosphate ion, or an aryl sulfonate ion.
前記(B)光熱変換剤が赤外線吸収色素であることを特徴とする請求項1に記載のネガ型平版印刷版原版。 The negative lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the photothermal conversion agent (B) is an infrared absorbing dye. 前記赤外線吸収色素が染料であることを特徴とする請求項2に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 2, wherein the infrared absorbing pigment is a dye. 前記染料がシアニン色素であることを特徴とする請求項3に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 3, wherein the dye is a cyanine pigment. 前記シアニン色素が下記一般式(I)で示される化合物であることを特徴とする請求項4に記載の平版印刷版原版。
Figure 0004141492
一般式(I)中、Xは、ハロゲン原子、またはX−Lを示す。ここで、Xは酸素原子または、硫黄原子を示し、Lは、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。RおよびRは、互いに結合し、5員環または6員環を形成する。Ar及びArは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基を示す。YおよびYは、それぞれ独立に、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。RおよびRは、それぞれ独立に、炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。R、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。また、Z1−は、対アニオンを示す。
The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 4, wherein the cyanine dye is a compound represented by the following general formula (I).
Figure 0004141492
In the general formula (I), X 1 represents a halogen atom or X 2 -L 1 . Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or a 6-membered ring. Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group. Y 1 and Y 2 each independently represent a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 each independently represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. Further, Z 1-represents a counter anion.
前記(A)が、下記一般式(12)で表されるラジカル重合性化合物の1種以上を重合した後に、塩基を用いて、プロトンを引き抜き、Zを脱離させる製造方法により製造された、側鎖に下記一般式(1)で表される基を有する、水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物、であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載のヒートモード対応ネガ型平版印刷版原版。
Figure 0004141492
式中、R〜Rは、それぞれ独立に、1価の有機基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、または−N−R12を表し、R12は、水素原子または1価の有機基を表す。
Figure 0004141492

式中、Zは、アニオン性脱離基を表す。Qは、酸素原子、−NH−、または−NR14−を表す(ここで、R14は置換基を有していてもよいアルキル基を表す)。R13は水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Aは、2価の有機連結基を表す。XおよびR〜Rは一般式(1)におけるXおよびR〜Rと同義である。
The (A) was produced by a production method in which one or more radically polymerizable compounds represented by the following general formula (12) were polymerized, and then a proton was extracted using a base and Z was eliminated. 6. The polymer compound having a group represented by the following general formula (1) in a side chain, insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution. 6. A negative lithographic printing plate precursor for heat mode as described in 1.
Figure 0004141492
In the formula, R 1 to R 3 each independently represents a monovalent organic group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N—R 12 , and R 12 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.
Figure 0004141492

In the formula, Z represents an anionic leaving group. Q represents an oxygen atom, -NH-, or -NR 14 - are expressed (wherein, R 14 represents an alkyl group which may have a substituent). R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. A represents a divalent organic linking group. X and R < 1 > -R < 3 > are synonymous with X and R < 1 > -R < 3 > in General formula (1).
前記一般式(V)におけるZ31-が、アリールスルホン酸イオンであることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のヒートモード対応ネガ型平版印刷版原版。 The negative lithographic printing plate precursor for heat mode according to any one of claims 1 to 6, wherein Z 31- in the general formula (V) is an aryl sulfonate ion.
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