JP4133916B2 - 少なくとも一のジブロック又はトリブロックコポリマー及び4,4−ジアリールブタジエンを含有する水性光保護組成物、その用途 - Google Patents
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Description
また、皮膚をサンタン状態にする原因である320と400nmの間の波長を有するUV-A線が皮膚に傷害を誘発するおそれがあることが知られており、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合にしかりである。UV-A線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を時期尚早の老化に導くものである。UV-A線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある患者においてはこの反応を増幅し、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。よって、UV-A線も遮蔽することが望ましい。
このように、UV-AとUV-B線を遮蔽しなければならず、現在ではUV-A及びUV-B遮蔽剤を含有する、ヒトの表皮を保護するための化粧品用組成物が存在する。
よってこれらのポリマーは、次の主たる生薬用担体:
− ゲル化剤として、脂肪相を含有しない水性ローション又は漿液、
− 乳化剤及び/又はゲル化剤として、2つの不混和性液体、例えば水と油の分散液であるエマルション、
に使用することができる。水相に油相を分散させたものを含有する直接(direct)エマルションと、油相に水相を分散させた逆相エマルションとを区別することができる。また、水相に逆相エマルションを分散させた後に得られる多相エマルションも存在している。
有用な有機UV-A遮蔽剤として、UV-Aに特に効果的なファミリーの化合物は、特に仏国特許出願公開第2528420号及び仏国特許出願公開第2639347号に開示されている1,4-ベンゼン[ジ(3-メチリデン-10-ショウノウスルホン)]酸、及びその種々の塩であり、実際それは、280〜400nmの波長を有する紫外線を吸収することができ、320〜400nmの間、特に約345nmに最大吸収する。
よって、上述した不具合を有することなく、1,4-ベンゼン[ジ(3-メチリデン-10-ショウノウスルホン)]酸、及びその種々の塩の効果に匹敵し、UV-Aに活性のある有機遮蔽剤を含有してよく、広範囲の可能なコンシステンシーで安定したジブロック構造A-B又はトリブロック構造B-A-Bを有する、水溶性又は水分散性ポリマーをベースにした水性組成物が必要なことは明らかである。
本記載の残余部分において、「UV線の遮蔽系」なる表現は、UV線を遮蔽する単一の有機又は無機化合物、もしくはUV線を遮蔽するいくつかの有機又は無機化合物の混合物、例えばUV-A遮蔽剤とUV-B遮蔽剤を含有する混合物を意味すると理解される。
この発見が、本発明の基礎を形成する。
よって本発明の主題の一つは、少なくとも一の水相、Aがイオン性の水溶性ポリマーブロックであり、Bが疎水性ポリマーブロックである、ジブロック構造A-B又はトリブロック構造B-A-Bを有する少なくとも一の水溶性又は水分散性のポリマー、及び少なくとも一のUV線遮蔽系を含有する光保護組成物において、遮蔽系が4,4-ジアリールブタジエン型の少なくとも一のUV-A遮蔽剤を含有していることを特徴とする組成物にある。
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより明らかになるであろう。
「水溶性又は水分散性」なる表現は、質量で1%の濃度となるように25℃の水相に導入した際に、肉眼で見て均質な透明溶液が得られるように、すなわち1cm厚のサンプルを透過する500nmの波長の最大光線透過率が少なくとも60%、好ましくは少なくとも70%となるポリマーを意味すると理解される。
「ポリマー性」なる表現は、そのモル質量が400g/mol、好ましくは800g/molを超えるブロックを意味すると理解される。
「疎水性」なる表現は、質量で1%の濃度となるように25℃の炭化水素溶媒に導入した際に、肉眼で見て均質な透明溶液が得られるように、すなわち1cm厚のサンプルを透過する500nmの波長の最大光線透過率が少なくとも70%、好ましくは少なくとも80%となるブロックを意味すると理解される。炭化水素溶媒は、25℃で測定して50未満の誘電率を有し;この溶媒は、特にアルカン類、例えばシクロヘキサン(誘電率:2.02)、芳香族溶媒、例えばエチルベンゼン(誘電率:2.4)、ケトン類、例えばシクロヘキサノン(誘電率:18.3)、アルコール類、例えばシクロヘキサノール(誘電率:15.0)、塩素化炭化水素溶媒、例えばジクロロメタン(誘電率:9.08)、アミド類、例えばジメチルホルムアミド及エステル、例えば酢酸エチル(誘電率:6.02)から選択され得る。
− (メタ)アクリル酸、
− スチレンスルホン酸、
− ビニルスルホン酸及び(メタ)アリルスルホン酸、
− ビニルホスホン酸、
− マレイン酸、
− イタコン酸、
− クロトン酸、
− ジメチルジアリルアンモニウムクロリド、
− メチルビニルイミダゾリウムクロリド、
− 例えば、アミン基を含むエチレン性不飽和モノマーを、活性なハロゲンを含有するカルボン酸のナトリウム塩(例えばクロロ酢酸)、又は環状スルホン(例えばプロパンスルホン)を用いて第4級化することにより得られる、エチレン性カルボキシベタイン類又はスルホベタイン類、
− 以下の式(A):
− R1はH、-CH3、-C2H5又は-C3H7から選択される;
− X1は次のものから選択される:
(i)-OR2型のアルキルオキシド類で、R2が、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であり、少なくとも一のスルホン(-SO3 −)基及び/又はスルファート(-SO4 −)基及び/又はホスファート(-PO4H2 −)基及び/又は第4級アンモニウム(-N+R3R4R5)基で置換され、該R3、R4及びR5は、互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR2+R3+R4+R5の炭素原子の合計が6を越えることはない。さらに、R2基は、ハロゲン原子(ヨウ素、臭素、塩素、フッ素);ヒドロキシル(-OH);エーテル(-O-);第1級アミン(-NH2);第2級アミン(-NHR6)及び/又は第3級アミン(-NR6R7)基で置換されていてもよく、ここでR6及びR7は、互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR2+R6+R7の炭素原子の合計が6を越えることはない。第4級化ジメチルアミノエチルメタクリラート(DAMEMA)を挙げることができる。
(ii)-NH2、-NHR8及び-NR8R9基で、R8及びR9は互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR8+R9の炭素原子の合計が6を越えることはなく、前記R8及び/又はR9は、少なくとも一のスルホン(-SO3 −)基及び/又はスルファート(-SO4 −)基及び/又はホスファート(-PO4H2 −)基及び/又は第4級アミン(-N+R10R11R12)基で置換され、R10、R11及びR12は、互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR8+R9+R10+R11+R12の炭素原子の合計が6を越えることはない。さらに、前記R8は及び/又はR9基は、ハロゲン原子(ヨウ素、臭素、塩素、フッ素);ヒドロキシル基(-OH);エーテル基(-O-);第1級アミン基(-NH2);第2級アミン基(-NHR13)及び/又は第3級アミ基(-NR13R14)で置換されていてもよく、ここでR13及びR14は、互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR8+R9+R13+R14の炭素原子の合計が6を越えることはない]の水溶性ビニルモノマー。そのようなものとしてアクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸(AMPS)、(メタ)アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド(APTAC及びMAPTAC)を挙げることができる。
− (メタ)アクリルアミド、
− N-ビニルアセトアミド及びN-メチル-N-ビニルアセトアミド、
− N-ビニルホルムアミド及びN-メチル-N-ビニルホルムアミド、
− 無水マレイン酸、
− ビニルアミン、
− N-ビニルカプロラクタム、N-ブチロラクタム、N-ビニルピロリドン等の、4〜9の炭素原子を有する環状アルキル基を有するN-ビニルラクタム類、
− 式CH2=CHOHのビニルアルコール、
− 以下の式(B):
− R15はH、-CH3、-C2H5又は-C3H7から選択される;
− X2は次のものから選択される:
(i)-OR16型のアルキルオキシド類で、R16が、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であり、ハロゲン原子(ヨウ素、臭素、塩素、フッ素);ヒドロキシル基(-OH);エーテル基(-O-);第1級アミン基(-NH2);第2級アミン基(-NHR17)及び/又は第3級アミン基(-NR17R18)で置換されていてもよく、ここでR17及びR18は、互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR16+R17+R18の炭素原子の合計が6を越えることはない。そのようなものとして、例えば(メタ)アクリル酸グリシジル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、及びエチレングリコール、ジエチレングリコール又はポリアルキレングリコール(メタ)アクリラートを挙げることができる。
(ii)-NH2、-NHR19及び-NR19R20基で、R19及びR20は互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR19+R20の炭素原子の合計が6を越えることはなく、前記R19及び/又はR20は、ハロゲン原子(ヨウ素、臭素、塩素、フッ素);ヒドロキシル基(-OH);エーテル基(-O-);第1級アミン基(-NH2);第2級アミン基(-NHR21)及び/又は第3級アミ基(-NR21R22)で置換されていてもよく、ここでR21及びR22は、互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR19+R20+R21+R22の炭素原子の合計が6を越えることはない]の水溶性ビニルモノマー。そのようなものとしてジメチルアミノエチルメタクリルアミドを挙げることができる。
疎水性モノマー(Ic)として、例えば次のものを挙げることができる:
− スチレン及びその誘導体、例えば4-ブチルスチレン、アルファ-メチルスチレン及びビニルトルエン、
− 式CH2=CH-OCOCH3の酢酸ビニル;
− 式CH2=CHORのビニルエーテルで、Rは飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であり、
− アクリロニトリル、
− カプロラクトン、
− 塩化ビニル及び塩化ビニリデン、
− 重合後に、シリコーンメタクリルアミド類、メタクリルオキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シラン等のシリコーンポリマーに至るシリコーン誘導体、
− 次の式(C):
− R23はH、-CH3、-C2H5又は-C3H7から選択される;
− X3は次のものから選択される:
(i)-OR24型のアルキルオキシド類で、R24が、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基である。
(ii)-NH2、-NHR25及び-NR25R26基で、R25及びR26は互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR25+R26の炭素原子の合計が6を越えることはない]の疎水性ビニルモノマー。そのようなものとして、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、n-ブチル(メタ)アクリラート、tert-ブチル(メタ)アクリラート、アクリル酸シクロヘキシル、及びアクリル酸イソボルニル、及び2-エチルヘキシルアクリラートを挙げることができる。
イオン性の水溶性ブロックAは、無機又は有機塩基で完全に又は部分的に中和されている。この塩基は、例えばナトリウム、アンモニウム、リチウム、カルシウム、マグネシウム及び1〜15の炭素原子を担持する1〜4のアルキル基で置換されたアンモニウムの塩、又はモノ-、ジ-及びトリエタノールアミン、アミノエチルプロパンジオール、N-メチルグルカミン、及び塩基性アミノ酸、例えばアルギニン及びリジン、及びそれらの混合物から選択され得る。
− スチレン及びその誘導体、例えば4-ブチルスチレン、アルファ-メチルスチレン及びビニルトルエン、
− 式CH2=CH-OCOCH3の酢酸ビニル;
− 式CH2=CHOR'のビニルエーテルで、R'は飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であり、
− アクリロニトリル、
− 塩化ビニル及び塩化ビニリデン、
− カプロラクトン、
− アルカン類、例えばエチレン、プロピレン、ブチレン及びブタジエン、
− 重合後に、シリコーンメタクリルアミド類、メタクリルオキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シラン、ポリジメチルシロキサン等のシリコーンポリマーに至るシリコーン誘導体、
− 次の式(D):
− R27はH、-CH3、-C2H5又は-C3H7から選択される;
− X4は次のものから選択される:
(i)-OR28型のアルキルオキシド類で、R28が、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であり、ハロゲン原子(ヨウ素、臭素、塩素、フッ素);スルホン基(-SO3 −)、スルファート基(-SO4 −)、ホスファート基(-PO4H2 −);ヒドロキシル基(-OH);エーテル基(-O-);第1級アミン基(-NH2);第2級アミン基(-NHR29)及び/又は第3級アミン基(-NR29R30)、又は第4級アミン基(-N+R29R30R31)で置換されていてもよく、前記基R29、R30及びR31は、互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR28+R39+R30+R31の炭素原子の合計が22を越えることはない。そのようなものとしては、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、n-ブチル(メタ)アクリラート、tert-ブチル(メタ)アクリラート、アクリル酸シクロヘキシル、及びアクリル酸イソボルニル、及び2-エチルヘキシルアクリラートを挙げることができる。またR28は、ペルフルオロアルキル基、好ましくはC1−18であってもよい。そのようなものとしては、例えばペルフルオロオクチルアクリル酸エチル及びトリフルオロメチル(メタ)アクリラートを挙げることができる。
(ii)-NH2、-NHR32及び-NR32R33基で、R32及びR33は互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR32+R33の炭素原子の合計が22を越えることはなく、前記R32及び/又はR33は、ハロゲン原子(ヨウ素、臭素、塩素、フッ素);ヒドロキシル基(-OH);エーテル基(-O-);スルホン基(-SO3 −);スルファート基(-SO4 −);ホスファート基(-PO4H2 −);第1級アミン基(-NH2);第2級アミン基(-NHR34)及び/又は第3級アミン基(-NR34R35)、及び/又は第4級アミン基(-N+R34R35R36)で置換されていてもよく、前記基R34、R35及びR36は、互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR32+R33+R34+R35+R36の炭素原子の合計が22を越えることはない。またR32及びR33は、ペルフルオロアルキル基、好ましくはC1−18であってもよい。]
の疎水性ビニルモノマー。
水溶性モノマー(Ie)及びその塩として、例えば次のものを挙げることができる:
− (メタ)アクリル酸、
− スチレンスルホン酸、
− ビニルスルホン酸及び(メタ)アリルスルホン酸、
− ビニルホスホン酸、
− マレイン酸及び無水物、
− イタコン酸、
− クロトン酸、
− ジメチルジアリルアンモニウムクロリド、
− メチルビニルイミダゾリウムクロリド、
− (メタ)アクリルアミド、
− N-ビニルアセトアミド及びN-メチル-N-ビニルアセトアミド、
− N-ビニルホルムアミド及びN-メチル-N-ビニルホルムアミド、
− N-ビニルカプロラクタム、N-ブチロラクタム、N-ビニルピロリドン等の、4〜9の炭素原子を有する環状アルキル基を有するN-ビニルラクタム類、
− 式CH2=CHOHのビニルアルコール、
− 2-ビニルピリジン及び4-ビニルピリジン、
− 以下の式(E):
− R37はH、-CH3、-C2H5又は-C3H7から選択される;
− X5は次のものから選択される:
(i)-OR38型のアルキルオキシド類で、R38が、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であり、ハロゲン原子(ヨウ素、臭素、塩素、フッ素);スルホン基(-SO3 −);スルファート基(-SO4 −);ホスファート基(-PO4H2 −);ヒドロキシル基(-OH);エーテル基(-O-);第1級アミン基(-NH2);第2級アミン基(-NHR39)及び/又は第3級アミン基(-NR39R40)、又は第4級アンモニウム基(-N+R39R40R41)で置換されていてもよく、前記基R39、R40及びR41は、互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR38+R39+R40+R41の炭素原子の合計が6を越えることはない。そのようなものとしては、第4級化ジメチルアミノエチルメタクリラート(DAMEMA)、(メタ)アクリル酸グリシジル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、及びエチレングリコール、ジエチレングリコール、又はポリアルキレングリコール(メタ)アクリラートを挙げることができる。
(ii)-NH2、-NHR42及び-NR42R43基で、R42及びR43は互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR42+R43の炭素原子の合計が6を越えることはなく、前記R42及び/又はR43は、ハロゲン原子(ヨウ素、臭素、塩素、フッ素);スルホン基(-SO3 −);スルファート基(-SO4 −);ホスファート基(-PO4H2 −);ヒドロキシル基(-OH);エーテル基(-O-);第1級アミン基(-NH2);第2級アミン基(-NHR44)及び/又は第3級アミン基(-NR44R45)、又は第4級アミン基(-N+R44R45R46)で置換されていてもよく、該R44、R45及びR46は、互いに独立して、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状である1〜6の炭素原子を有する炭化水素基であるが、ただしR42+R43+R44+R45+R46の炭素原子の合計が6を越えることはない。そのようなものとしては、N,N-ジメチルアクリルアミド、アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸(AMPS)、(メタ)アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド(APTAC及びMAPTAC)を挙げることができる。]
の水溶性ビニルモノマー。
本発明のジブロックポリマーA-Bにおけるイオン性親水性ブロックAの質量比は、好ましくは60重量%より多く、特に70重量%より多い。
本発明のトリブロックポリマーB-A-Bにおけるイオン性親水性ブロックAの質量比は、好ましくは50重量%より多く、特に60重量%より多い。
完全に水溶性であるイオン性の水溶性ポリマーブロックAと、完全に疎水性であるポリマーブロックBを含有する好ましいジブロック又はトリブロックポリマーは、合成が容易で、低濃度であってもそれ以外ものと等しく良好にゲル化させるといった利点を有する。
− ポリスチレン(2000g/mol)−ポリアクリル酸ナトリウム(11500g/mol)のジブロックポリマーで、イオン性の水溶性ブロック(ポリアクリル酸ナトリウム)が、ジブロックポリマーの全重量に対して85.2%であるもの、
− ポリスチレン(1800g/mol)−ポリアクリル酸ナトリウム(42450g/mol)のジブロックポリマーで、イオン性の水溶性ブロック(ポリアクリル酸ナトリウム)が、ジブロックポリマーの全重量に対して95.9%であるもの、
− ポリスチレン(4300g/mol)−ポリアクリル酸ナトリウム(25460g/mol)のジブロックポリマーで、イオン性の水溶性ブロック(ポリアクリル酸ナトリウム)が、ジブロックコポリマーの全重量に対して85.55%であるもの、
を挙げることができる。
特に好ましいトリブロックポリマーとしては、ポリスチレン/ポリアクリル酸ナトリウム/ポリスチレンのトリブロックポリマー、特に:
− ポリスチレン(2500g/mol)−ポリアクリル酸ナトリウム(29800g/mol)-ポリスチレン(2500g/mol)のトリブロックコポリマーで、水溶性ブロックの量が、トリブロックコポリマーの全重量に対して85.63%であるもの、
を挙げることができる。
組成物のポリマーの質量濃度は、組成物の全重量に対して、好ましくは0.01重量%〜30重量%、より好ましくは0.1重量%〜20重量%で変化する。
− R1及びR2は同一又は異なっており、水素、C1-C20アルキル基;C2-C10アルケニル基;C1-C2アルコキシ基;C3-C10シクロアルキル基;C3-C10シクロアルケニル基;C1-C20アルコキシカルボニル基;C1-C12モノアルキルアミノ基;C1-C12ジアルキルアミノ基;アリール;ヘテロアリール又はカルボキシラート残基、スルホナート残基又はアンモニウム残基から選択される水溶化置換基を示し;
− R3は、基COOR5;COR5;CONR5R6;CN;O=S(-R5)=O;O=S(-OR5)=O;R7O-P-(-OR8)=O;C1-C20アルキル基;C2-C10アルケニル基;C3-C10シクロアルキル基;C7-C10ビシクロアルキル基;C3-C10シクロアルケニル基;C7-C10ビシクロアルケニル基;置換されていてもよいC6-C18アリール;又は置換されていてもよいC3-C7ヘテロアリールを示し;
− R4は、基COOR6;COR6;CONR5R6;CN;O=S(-R6)=O;O=S(-OR6)=O;R7O-P-(-OR8)=O;C1-C20アルキル基;C2-C10アルケニル基;C3-C10シクロアルキル基;C7-C10ビシクロアルキル基;C3-C10シクロアルケニル基;C7-C10ビシクロアルケニル基;置換されていてもよいC6-C18アリール;置換されていてもよいC3-C7ヘテロアリールを示し;
− R5ないしR8は同一又は異なっており、水素;C1-C20アルキル基;C2-C10アルケニル基;C3-C10シクロアルキル基;C7-C10ビシクロアルキル基;C3-C10ビシクロアルケニル基;C7-C10シクロアルケニル基;置換されていてもよいアリール;置換されていてもよいヘテロアリールを示し;
− nは1〜3で変化し;
R3ないしR8基は、それらか結合する炭素原子と共に、縮合していてもよいC5-C6環を形成可能である]
に相当するものから選択される。
C1-C20アルコキシカルボニル基としては、C1-C20アルコール類のエステルを挙げることができる。
C1-C12モノアルキルアミノ又はジアルキルアミノ基としては、アルキル基が、メチル、n-プロピル、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルエチル、ヘキシル、ヘプチル、2-エチルヘキシル、イソプロピル、1-メチルプロピル、n-ペンチル、3-メチルブチル、2,2-ジメチルプロピル、1-メチル-1-エチルプロピル、オクチルから選択されるものを挙げることができる。
一又は複数の二重結合を有するC3-C10シクロアルケニル基としては:シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、1,3-シクロヘキサジエニル、1,4-シクロヘキサジエニル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シクロオクテニル、1,5-シクロオクタジエニル、シクロオクタテトラエニル、シクロノネニル又はシクロデセニルを挙げることができる。
シクロアルキル又はシクロアルケニル基は、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲン;シアノ;ニトロ;アミノ;C1-C4アルキルアミノ;C1-C4ジアルキルアミノ;C1-C4アルキル;C1-C4アルコキシ;ヒドロキシルから選択される一又は複数(好ましくは1〜3)の置換基を有し得る;それらは、1〜3のヘテロ原子、例えば硫黄、酸素又は窒素で、その自由な原子価が水素又はC1-C4アルキル基により飽和されていてもよいものをさらに有してもよい。
アリール基は、好ましくは、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲン;シアノ;ニトロ;アミノ;C1-C4アルキルアミノ;C1-C4ジアルキルアミノ;C1-C4アルキル;C1-C4アルコキシ;又はヒドロキシルから選択される一又は複数(好ましくは1〜3)の置換基を有し得るフェニル又はナフチル環から選択される。特に好ましくは、フェニル、メトキシフェニル、ナフチル及びチエニルである。
ヘテロアリール基は、一般的に、硫黄、酸素又は窒素から選択される一又は複数のヘテロ原子を含有する。
式(II)の化合物の例として、次の化合物:
− n=1又は2;
− R1及びR2は同一又は異なっており、水素、C1-C20アルキル基;C1-C12アルコキシ基;C1-C12モノアルキルアミノ基;C1-C12ジアルキルアミノ基;カルボキシラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択される水溶化置換基を示し;
− R3は、基COOR5;COR5;CONR5R6;C1-C20アルキル基;C3-C10シクロアルキル基;C3-C10シクロアルケニル基;C7-C10ビシクロアルキル基;置換されていてもよいフェニル、ナフチル又はチエニルを示し;
− R4は、基COOR6;COR6;CONR5R6;C1-C20アルキル基;C3-C6シクロアルキル基;C3-C10シクロアルケニル基;C7-C10ビシクロアルキル基;置換されていてもよいフェニル、ナフチル又はチエニルを示し;
− R5及びR6基は同一又は異なっており、水素;C1-C12アルキル基;C3-C10シクロアルキル基;C3-C10シクロアルケニルル基;C7-C10ビシクロアルキル基;C3-C10ビシクロアルケニル基;置換されていてもよいフェニル又はナフチルを示す;
ものである。
− R1及びR2は同一又は異なっており、水素、C1-C20アルキル基;C1-C20アルコキシ基;カルボキシラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択される水溶化置換基を示し;
− R3は、基COOR5;COR5;CONR5R6を示し;
− R4は、基COOR6;COR6;CONR5R6を示し;
− R5及びR6基は同一又は異なっており、水素;C1-C12アルキル基;C3-C6シクロアルキル基;C3-C10シクロアルケニル基;C7-C10ビシクロアルキル基;C3-C10ビシクロアルケニル基;置換されていてもよいフェニル又はナフチルを示す;
ものである。
のものから選択される。
− R1、R2、R3及びnは、上述した式(I)に示した意味を有し;
− Y'は、基-O-又は-NR9-を示し;
− R9は、水素;直鎖状又は分枝状のC1-C20アルキル基;C2-C10アルケニル基;C3-C10シクロアルキル基;C7-C10ビシクロアルキル基;C3-C10シクロアルケニル基;C7-C10ビシクロアルケニル基;アリール;ヘテロアリールを示し;
− X'は、結合価qと、2〜10のヒドロキシル基を有する脂肪族又は脂環式で、直鎖状又は分枝状のポリオール残基を示し;該残基の炭素鎖は一又は複数の硫黄又は酸素原子;一又は複数のイミン基;一又は複数のC1-C4アルキルイミノ基が挿入可能であり;
− qは2〜10の範囲であり、
− X'が2〜10のヒドロキシル基を有するC2-C20のポリオール残基、特に:
に相当するものである。
− R1及びR2は同一又は異なっており、水素、C1-C12アルキル基;C1-C8アルコキシ基;カルボキシラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択される水溶化置換基を示し;
− R3は、基COOR5;CONR5R6;CN;C3-C10シクロアルキル基;C7-C10ビシクロアルキル基を示し;
− R5及びR6は同一又は異なっており、直鎖状又は分枝状のC1-C20アルキル基;C3-C10シクロアルキル基;C7-C10ビシクロアルキル基;置換されていてもよいナフチル又はフェニルを示し;
− X'は、2〜6、特に2〜4のヒドロキシル基を有するC2-C20のポリオール残基を示す;
ものである。
より好ましい式(III)の化合物は:
− X'がエタノール又はペンタエリトリトール残基を示す;
ものである。
上述した式(III)の化合物はそれ自体公知であり、それらの構造及び合成方法は、欧州特許出願公開第1008586号(記載の内容の主要部分を形成)に記載されている。
4,4-ジアリールブタジエン化合物は、組成物の全重量に対して、好ましくは0.1重量%〜20重量%、より好ましくは1重量%〜10重量%の範囲の割合で、組成物に存在する。
本発明の特定の実施態様において、本発明のジブロック又はトリブロックポリマーを用いて調製された水中油型又は油中水型エマルションは、界面活性剤を1重量%未満しか、又は含有さえしてなくてもよいが、保管中安定している。
− 鉱物性油、例えばパラフィン油及び流動パラフィン、
− 動物由来の油、例えばペルヒドロスクワレン、
− 植物由来の油、例えばスイートアルモンド油、アボカド油、ヒマシ油、オリブ油、ホホバ油、ゴマ油、ラッカセイ油、グレープシード油、菜種油、ヤシ油、ヘーゼルナッツ油、シアバター、パーム油、杏仁油、カロフィラム(calophyllum)油、米糠油、トウモロコシ胚芽油、小麦胚芽油、大豆油、ヒマワリ油、月見草油、ヒマワリ油、トケイソウ油及びライムギ油、
− 合成油、例えばエステル、特にプルセリン油、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸イソプロピル、ミリスチン酸セチル、パルミチン酸イソプロピル、アジピン酸イソプロピル、アジピン酸エチルヘキシル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸ヘキシルデシル、ステアリン酸イソプロピル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソセチル、オレイン酸デシル、ラウリン酸ヘキシル、プロピレングリコールジカプリラート及びラノリン酸から誘導されるエステル、例えばラノリン酸イソプロピル、ラノリン酸イソセチル、イソパラフィン類、及びポリ-α-オレフィン類、
を挙げることができる。
もちろん、脂肪相は、一又は複数の従来からの親油性化粧品用アジュバント、例えばロウ、親油性ゲル化剤、界面活性剤、有機又は無機粒子、特に抗日光化粧品用組成物の製造及び生産において既に慣習的に使用されているものをさらに含有していてもよい。
パラ-アミノ安息香酸誘導体:
PABA、
エチルPABA、
エチルジヒドロキシプロピルPABA、
特にISP社から「エスカロール(ESCALOL)507」の名称で販売されているエチルヘキシルジメチルPABA、
グリセリルPABA、
BASF社から「ユビヌル(UVINUL)P25」の名称で販売されているPEG-25-PABA。
ロナ(Rona)/EMインダストリーから「ユーソレックス(Eusolex)HMS」の名称で販売されているホモサラート(homosalate)、
ハーマン・アンド・レイマー社(Haarmann and REIMER)から「ネオ・ヘリオパン(NEO HELIOPAN)OS」の名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
スケル社(SCHER)から「ディプサル(DIPSAL)」の名称で販売されているサリチル酸ジプロピレングリコール、
ハーマン・アンド・レイマー社から「ネオ・ヘリオパンTS」の名称で販売されているサリチル酸TEA。
ジベンゾイルメタン誘導体:
特にホフマン・ラ・ロシュ社(HOFFMANN LAROCHE)から「パルソール(PARSOL)1789」の商品名で販売されているブチルメトキシジベンゾイルメタン、
イソプロピルジベンゾイルメタン。
ケイ皮酸誘導体:
特にホフマン・ラ・ロシュ社から「パルソールMCX」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
メトキシケイ皮酸イソプロピル、
ハーマン・アンド・レイマー社から「ネオ・ヘリオパンE1000」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸イソアミル、
シノキサート、
メトキシケイ皮酸DEA、
メチルケイ皮酸ジイソプロピル、
ジメトキシケイ皮酸グリセリルエチルヘキサノアート。
特にBASF社から「ユビヌルN539」の商品名で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、
特にBASF社から「ユビヌルN35」の商品名で販売されているエトクリレン(Etocrylene)。
ベンゾフェノン誘導体:
BASF社から「ユビヌル400」の商品名で販売されているベンゾフェノン-1、
BASF社から「ユビヌルD50」の商品名で販売されているベンゾフェノン-2、
BASF社から「ユビヌルM40」の商品名で販売されているベンゾフェノン-3又はオキシベンゾン、
BASF社から「ユビヌルMS40」の商品名で販売されているベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
ノルクアイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisorb)11」の商品名で販売されているベンゾフェノン-6、
アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)から「スペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)UV-24」の商品名で販売されているベンゾフェノン-8、
BASF社から「ユビヌルDS-49」の商品名で販売されているベンゾフェノン-9、
ベンゾフェノン-12、
2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸n-ヘキシル。
シメックス社(CHIMEX)から「メギゾリル(MEXORYL)SD」の名称で製造されている3-ベンジリデンショウノウ、
メルク社(MERCK)から「ユーソレックス6300」の名称で販売されている4-メチルベンジリデンショウノウ、
シメックス社から「メギゾリルSL」の名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸、
シメックス社から「メギゾリルSO」の名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム、
シメックス社から「メギゾリルSX」の名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
シメックス社から「メギゾリルSW」の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
フェニルベンゾイミダゾール誘導体:
特にメルク社から「ユーソレックス232」の商品名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンAPの」商品名で販売されているフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
チバ・ガイギー社(CIBA GEIGY)から「チノソーブ(TINOSORB)S」の商品名で販売されているアニソトリアジン、
特にBASF社から「ユビヌルT150」の商品名で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル-4'-アミノベンザルマロナート)-s-トリアジン、
シグマ3V社(SIGMA 3V)から「ユバソーブ(UVASORB)HEB」の商品名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン。
フェニルベンゾトリアゾール誘導体:
ロ−ディア・シミー社(RHODIA CHIMIE)から「シラトリゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロメトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン、
チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社から「チノソーブM」の商品名で水性分散液におけるマイクロ化形態のものとして、もしくはフェアマウント・ケミカル社(FAIRMOUNT CHEMICAL)から「ミキシム(MIXXIM)BB/100」の商品名で固体形態のものとして販売されているメチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール。
アントラニル誘導体:
ハーマン・アンド・レイマー社から「ネオ・ヘリオパンMA」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体:
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート。
ベンザルマロナート誘導体:
ホフマン・ラ・ロシュ社から「パルソールSLX」の商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン類。
ベンゾオキサゾール誘導体:
シグマ3V社から「ユバソーブK2A」の商品名で販売されている2,4-ビス-[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)-イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びそれらの混合物。
サリチル酸エチルヘキシル、
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
オクトクリレン、
フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸n-ヘキシル、
4-メチルベンジリデンショウノウ、
フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
アニソトリアジン、
エチルヘキシルトリアゾン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
メチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン15
2,4-ビス-[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びそれらの混合物、
から選択される。
本発明の付加的な遮蔽剤は、組成物の全重量に対して0.1重量%〜30重量%、好ましくは0.5重量%〜15重量%の範囲の量で、本発明の組成物に一般的に存在する。
自己サンタン剤は、例えばイサチン、アロキサン、ニンヒドリン、グリセルアルデヒド類、メソ酒石酸アルデヒド、グルタルアルデヒド、エリトルロース、仏国特許出願第2466492号及び国際公開第97/35842号に記載されているような4,5-ピラゾリンジオン誘導体、ジヒドロキシアセトン(DHA)、欧州特許出願第903342号に記載されているような4,4-ジヒドロキシピラゾリン-5-オン誘導体等のモノ-又はポリカルボニル化化合物から一般的に選択される。好ましくはDHAが使用される。
DHAは遊離の形態及び/又はカプセル化された形態、例えば特に、国際公開第97/25970号に開示されているリポソーム等の脂質小胞体にカプセル化された形態で使用され得る。
モノカルボニル化又はポリカルボニル化された自己サンタン剤は、組成物の全重量に対して0.1〜10重量%、好ましくは組成物の全重量に対して0.2〜8重量%の範囲の割合で、本発明の組成物に一般的に存在する。
もちろん、当業者であれば、本発明の組成物に固有の有利な特性が、考慮される添加により損なわれないか、又は実質的に損なわれないように留意して、上述した可能な付加的な化合物(類)及び/又はそれらの量を選択するであろう。
増粘剤としては、架橋したアクリルポリマー、例えばノベオン社から提供されているカーボマー(Carbomers)、アメルコール社(Amerchol)からビスコフォーブ(Viscophobe)DB1000の名称で販売されているポリアクリラート-3又はノベオン社から提供されているペミュレン(Pemulen)タイプのアクリラート/アクリル酸C10-C30アルキルの架橋したポリマー;アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸から誘導されるポリマー(クラリアント社(Clariant)から提供されているホスタセリン(Hostacerin)AMPS、セピック社(Seppic))から提供されているセピゲル(Sepigel)305)、合成の中性ポリマー、例えばポリ-N-ビニルピロリドン、多糖類、例えばグアール及びキサンタンガム、変性した又は未変性のセルロース誘導体、例えばヒドロキシプロピルグアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース及びヒドロキシプロピルメチルセルロースを挙げることができる。
本発明の他の主題は、頭皮を含む皮膚、唇及び毛髪の美容処理ための製品、特に皮膚、唇及び/又は毛髪の保護及び/又は手入れ、及び/又は皮膚及び/又は唇のメークアップのための製品を製造するための、上述した本発明の組成物の使用からなる。
本発明の化粧品用組成物は、例えば液体又ないし半液体状のコンシステンシーを有する、顔及び/又は体を手入れ及び/又は日光保護するための製品、例えばミルク、多かれ少なかれ滑らかなクリーム、ゲル、クリーム又はペーストとして使用されてもよい。それらはエアゾールとして包装されてもよく、ムース又はスプレーの形態で提供されてもよい。
本発明において、エアゾールとして包装される組成物は、一般的に従来からの噴霧剤、例えばフッ化水素化化合物ジクロロジフルオロメタン、ジフルオロエタン、ジメチルエーテル、イソブテン、n-ブタン、プロパン、トリクロロフルオロメタンを含有する。それらは、組成物の全重量に対して15〜50重量%の範囲の量で存在する。
実施例1:光保護ミルク(ジブロックコポリマーA-Bで安定化された界面活性剤を含有しないエマルション)
エマルション1は非常に流動的になり、室温で7日後にクリーム化現象を示した。
本発明のエマルション2は、7日後でも安定したままであり、クリーム型の良好なテクスチャーを有していた。
ブロックコポリマーを、60℃の水相に、攪拌しながら2時間溶解させる;得られた溶液は肉眼で均質であった。Moritz型ホモジナイザーを用い、2000rpmの攪拌速度で15分間攪拌することにより、水相に油相をゆっくりと導入して、各エマルションを調製した。
エマルション3は非常に流動的になり、24時間後には、クリーム化現象の出現を伴い、肉眼で不安定になった。
本発明のエマルション4は、24時間後でも安定したままであり、クリーム型の良好なテクスチャーを有していた。
ブロックコポリマーを、60℃の水相に、攪拌しながら2時間溶解させる;得られた溶液は肉眼で均質であった。Moritz型ホモジナイザーを用い、2000rpmの攪拌速度で15分間攪拌することにより、水相に油相をゆっくりと導入して、各エマルションを調製した。
Claims (23)
- Aがイオン性の水溶性ポリマーブロックであり、Bが疎水性ポリマーブロックである、ジブロック構造A-B又はトリブロック構造B-A-Bを有する少なくとも一の水溶性又は水分散性のポリマーをゲル化又は乳化剤として含む少なくとも一の水相、少なくとも一のUV-A遮蔽剤、及び組成物の全重量に対して多くとも1重量%の乳化界面活性剤を含有する水性又は乳化光保護組成物において、
前記UV-A遮蔽剤が次の式(II'):
を有する4,4-ジアリールブタジエン型遮蔽剤から選択され、
前記イオン性の水溶性ポリマーブロックAが(メタ)アクリル酸とその塩から得られ、前記疎水性ポリマーブロックBがスチレンとその誘導体から得られる、ことを特徴とする組成物。 - イオン性の水溶性ブロックAが、無機又は有機塩基で完全に又は部分的に中和されていることを特徴とする、請求項1に記載の組成物。
- 無機又は有機塩基が、ナトリウム、アンモニウム、リチウム、カルシウム又はマグネシウム;1〜15の炭素原子を担持する1〜4のアルキル基で置換されたアンモニウム、又はモノ-、ジ-及びトリエタノールアミン、アミノエチルプロパンジオール、N-メチルグルカミン、及び塩基性アミノ酸、及びそれらの混合物の塩から選択されることを特徴とする、請求項2に記載の組成物。
- ジブロック又はトリブロックポリマーが、1000g/mol〜500000g/molのモル質量を有することを特徴とする、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の組成物。
- イオン性の水溶性ブロックAが、600g/mol〜300000g/molのモル質量を有することを特徴とする、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の組成物。
- 疎水性ブロックBが、400g/mol〜200000g/molのモル質量を有することを特徴とする、請求項1ないし5のいずれか1項に記載の組成物。
- ジブロックポリマーA-Bにおけるイオン性親水性ブロックAの質量比が、60重量%より多いことを特徴とする、請求項1ないし6のいずれか1項に記載の組成物。
- トリブロックポリマーB-A-Bにおけるイオン性親水性ブロックAの質量比が、50重量%より多いことを特徴とする、請求項1ないし6のいずれか1項に記載の組成物。
- ジブロックポリマーが、ポリスチレン/ポリアクリル酸ナトリウムのジブロックポリマーから選択されることを特徴とする、請求項1ないし7のいずれか1項に記載の組成物。
- ジブロックポリマーが:
− ポリスチレン(2000g/mol)−ポリアクリル酸ナトリウム(11500g/mol)のジブロックポリマーで、イオン性の水溶性ブロック(ポリアクリル酸ナトリウム)が、ジブロックポリマーの全重量に対して85.2%であるもの、
− ポリスチレン(1800g/mol)−ポリアクリル酸ナトリウム(42450g/mol)のジブロックポリマーで、イオン性の水溶性ブロック(ポリアクリル酸ナトリウム)が、ジブロックポリマーの全重量に対して95.9%であるもの、
− ポリスチレン(4300g/mol)−ポリアクリル酸ナトリウム(25460g/mol)のジブロックポリマーで、イオン性の水溶性ブロック(ポリアクリル酸ナトリウム)が、ジブロックコポリマーの全重量に対して85.55%であるもの、
から選択されることを特徴とする、請求項9に記載の組成物。 - トリブロックポリマーが、ポリスチレン/ポリアクリル酸ナトリウム/ポリスチレンのトリブロックポリマーから選択されることを特徴とする、請求項1ないし6及び8のいずれか1項に記載の組成物。
- トリブロックポリマーが、ポリスチレン(2500g/mol)−ポリアクリル酸ナトリウム(29800g/mol)-ポリスチレン(2500g/mol)のトリブロックコポリマーで、水溶性ブロックの量が、トリブロックコポリマーの全重量に対して85.63%であるものであることを特徴とする、請求項11に記載の組成物。
- 組成物におけるジブロック又はトリブロックポリマーの質量濃度が、組成物の全重量に対して、0.01重量%〜30重量%で変化することを特徴とする、請求項1ないし12のいずれか1項に記載の組成物。
- 4,4-ジアリールブタジエン化合物が、組成物の全重量に対して0.1重量%〜20重量%の範囲の割合で存在していることを特徴とする、請求項1ないし14のいずれか1項に記載の組成物。
- 水溶性、脂溶性又は一般的に使用されている化粧品用溶媒に不溶であり、UV-A及び/又はUV-Bに活性のある、少なくとも一の付加的な有機又は無機遮蔽剤をさらに含有していることを特徴とする、請求項1ないし15のいずれか1項に記載の組成物。
- 付加的な有機遮蔽剤が、アントラニラート類;ケイ皮酸誘導体;ジベンゾイルメタン誘導体;サリチル酸誘導体;ショウノウ誘導体;トリアジン誘導体;ベンゾフェノン誘導体;β,β-ジフェニルアクリラート誘導体;ベンゾトリアゾール誘導体;ベンザルマロナート誘導体;ベンゾイミダゾール誘導体;イミダゾリン類;ビス-ベンゾアゾリル誘導体;p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体;ベンゾオキサゾール誘導体;メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体;遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類;α-アルキルスチレンから誘導される二量体;及びそれらの混合物から選択される、請求項16に記載の組成物。
- 付加的な有機遮蔽剤が、
サリチル酸エチルヘキシル、
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
オクトクリレン、
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸n-ヘキシル、
4-メチルベンジリデンショウノウ、
フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
2,4,6-トリス(4'-ジイソブチルアミノベンザルマロナート)-S-トリアジン、
アニソトリアジン、
エチルヘキシルトリアゾン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
メチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン15、
2,4-ビス-[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びそれらの混合物、
から選択されることを特徴とする、請求項17に記載の組成物。 - 付加的な無機遮蔽剤が、被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料から選択されることを特徴とする、請求項16に記載の組成物。
- 付加的な無機遮蔽剤が、アモルファス又はルチル及び/又はアナターゼ型の結晶である酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料であることを特徴とする、請求項19に記載の組成物。
- 皮膚を人工的に褐色にする及び/又はサンタン状態にするための少なくとも一の薬剤をさらに含有していることを特徴とする、請求項1ないし20のいずれか1項に記載の組成物。
- 有機溶媒、イオン性及び非イオン性の増粘剤、緩和剤、湿潤剤、活性剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、フィラー、顔料、ポリマー類、噴霧剤、アルカリ性又は酸性化剤、又は化粧品及び/又は皮膚科学の分野において通常使用されている任意の他の成分から選択される少なくとも一の化粧品用アジュバントをさらに含有していることを特徴とする、請求項1ないし21のいずれか1項に記載の組成物。
- 頭皮を含む皮膚、唇及び毛髪を美容処理するためのものである、請求項1ないし22のいずれか1項に記載の組成物。
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