JP4067987B2 - Inspection circuit, semiconductor integrated circuit device, and inspection method thereof - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、検査回路を有する半導体集積回路装置(以下、LSIとする)及び、その検査方法に関し、特に光ビームを用いてウエハ上に作製されたLSIに非接触に電気的な信号を入力し、或いは光ビームを用いてLSIの電気的な信号を非接触に検出し、LSIが設計通りに動作していることを確認する検査回路を備えたLSI及び、その検査方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、ウエハ上に作製されたLSIの検査においては、電気的な信号を入力し、それに対する電気的な出力信号を観測し、期待値と比較することによりLSIの検査を実施してきた。そのため、ウエハ上のLSIに電気的な信号を入力し、或いは電気的な信号を観測するために、ウエハ上に設けられたパッドと呼ばれる領域に、細く針上に形成されたプローブを機械的に押し当てることで電気的な接続を構成し、LSIの外部から電気的な信号をLSIに入力し、電気的な出力信号を観測してきた。
【0003】
ところで、LSIの微細化が進行し、回路規模が大きくなるにつれLSIに設置されるパッドの数が増大し、パッド領域の縮小、パッド密度の増大が引き起こされてきた。そのため、パッドを介してLSIと外部との電気的な接続を行うプローブも、より細く、且つ高密度に構成する必要に迫られてきている。しかし、プローブを細く、高密度に作製し、且つ定められたパッド位置に正確に接触するように構成することは大変難しく、プローブの作製に困難を極めている。更に、プローブを正確にパッドに接触させるには、精密な位置合せが必要であり、操作性が問題となっている。
【0004】
加えて、プローブを用いてLSIと電気的な接続を行うためにはプローブを機械的にLSIに接触させる必要があり、LSIの破損や、プローブの摩耗を引き起こすことが不可避であった。
【0005】
そこで、特許文献1では、LSIの検査において電気的な信号を一旦発光装置を介して光信号に変換し、この光信号をLSIに設けられた光電圧変換素子に伝えることで光信号を電気的な信号に再度変換してLSIに伝えることで、プローブを使用せずにLSIに非接触な状態で電気的な信号を印加している。又、電気的な出力信号を観測するために、電子ビームを照射し、その2次電子を検出することで出力信号を観測することで、同様に非接触な状態で電気的な信号を観測している。
【0006】
又、特許文献2では、LSIの検査において電気的な信号をLSIに入力するために、電気信号を発光ダイオードを用いて一旦光信号に変換し、LSI上に設けた光・電気変換素子(CCD)を用いて再度電気信号に変化させてLSIに入力することで、LSIに非接触に電気信号を印加する方法が示されている。一方、LSIの出力信号はLSI上に設けられたパッドを介してプローブを接触させることで従来と同様に電気信号を観測している。
【0007】
又、特許文献3では、LSIの検査においてLSIにフォトダイオードやフォトトランジスタなどの光電気変換手段を設け、外部からの光信号を電気信号に変換してLSIに伝達したり、又逆にLSIの電気信号を光信号に変換して外部に伝える構造としている。そしてLSIとテスタとの電気信号のやりとりを光を用いることでプローブを介在させず、非接触で行うことで、プローブを用いることに起因する、困難なプローブ作製や、回路の破損、プローブの摩耗等の問題に対処している。
【0008】
【特許文献1】
特開平4−139846号公報(図1−3、p.2)
【特許文献2】
特開平4−5582号公報(図1、p.3)
【特許文献3】
特開昭64−81244号公報(第1図、p.3)
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献1の方法では光信号を電気的な信号に変換するのに光電圧変換素子を用いることのみ示され、その具体的な方法、装置は開示されていない。又電子ビームを用いて電気的な信号を観測するためには観測対象であるLSIを真空中に保持する必要があり、その操作性や、観測に要する時間、観測精度などに問題がある。
【0010】
又、特許文献2の方法では、光信号を電気信号に変換するにおいて、光・電気変換素子(CCD)を用いることが記載されているが、具体的な回路構成が記載されていないため、現実的に電気信号がLSIに入力できるかどうか不明である。更にLSIの出力信号の観測にはパッドとプローブを用いた機械的な接触を使用しており、LSIの微細化、高密度化によるパッドの高密度化によるプローブ作製の困難化や、機械的接触による回路の破損やプローブの摩耗等に対して何等問題を解決していない。
【0011】
更に、特許文献3の方法では、光電気変換手段を設け、光を介して電気信号をLSIに入力したり、電気信号の出力を観測するとの記載があるがその具体的な装置の記載は成されておらず不明である。
【0012】
このように、従来の技術では、信号入力に関しては、光電気変換素子(手段)を用いて光信号を電気信号に変換し、LSIに入力するとされているが、具体的な回路や、方法が明示されておらず、実際に光信号を用いて電気信号をLSIに入力できるかどうか不明である。例えば、どのような装置を用い、どのような方法でLSIに“1”(高レベル),“0”(低レベル),“Z”(ハイインピーダンス)を入力するかは開示されていない。
【0013】
又、出力信号の観測についても、光電気変換素子(手段)を用いてLSIの電気信号を光信号に変換し、光信号を観測することでLSIの電気信号の観測を非接触で行うとされているが、具体的な回路や装置は示されておらず、現実にそれが実現できるかどうかが不明である。例えば、電気信号における“1”,“0”,“Z”をどのように光信号を用いて検出するかは開示されていない。
【0014】
本発明の目的は、LSIの検査において、光信号を用いてLSIに非接触に“0”,“1”,“Z”の電気信号を入力することを可能とする検査回路を提供し、更に、この検査回路を使用してLSIに非接触で、“0”,“1”,“Z”の信号を入力する方法を提供することにある。
【0015】
又、本発明の他の目的は、LSIの検査において、光信号を用いて非接触でLSIの“0”,“1”,“Z”の電気信号を観測することを可能とする検査回路を提供し、更に、この検査回路を使用してLSIに非接触で、“0”,“1”,“Z”の各信号を観測する方法を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
そのため、本発明による第1の検査回路は、予め定められた波長、強度、大きさの第1光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第1受光部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第2光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第2受光部と、
“1”信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”信号を供給する“0”信号供給部と、
前記第1受光部及び前記第2受光部における、個々の光ビームの照射の有無によって、“1”信号供給部、或いは“0”信号供給部からの信号を第1信号として出力する出力制御部とを有し、前記第1信号が前記信号入力用電極に印加されることを特徴とする。
【0017】
或いは、この第1の検査回路は、“1”信号を供給する“1”信号供給部と、“0”信号を供給する“0”信号供給部と、
前記信号入力用電極に接続された第1ノードと前記“1”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第1光ビームが照射されたとき、“1”信号が前記第1ノードに伝達される第1光応答手段と、
前記第1ノードと前記“0”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第2光ビームが照射されたとき、“0”信号が前記第1ノードに伝達される第2光応答手段と、を有する構成とすることもできる。
【0018】
又、本発明の第2の検査回路は、
複数の異なる光ビームの照射の有無の組み合わせにより、当該信号出力用電極の出力された信号値を所定の信号値と比較し比較結果を判定値として出力する機能を有する比較判定部を含むことを特徴とする。
【0019】
又、本発明の第3の検査回路は、
複数の異なる光ビームの照射の有無の組み合わせにより、当該信号出力用電極の出力された信号値を所定の信号値と比較し比較結果を判定値として出力する機能を有する比較判定部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第8光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第8受光部と、
前記第8受光部への光ビームの照射により記憶状態が初期化され、初期化以後の入力信号値を記憶すると共に最終判定値として出力する記憶部と、を有し、
前記判定値が前記記憶部に入力される構成とすることができる。
【0020】
又、本発明の第4の検査回路は、
複数の異なる光ビームの照射の有無の組み合わせにより、当該信号出力用電極の出力された信号値を所定の信号値と比較し比較結果を判定値として出力する機能を有する比較判定部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第8光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第8受光部と、
前記第8受光部への光ビームの照射により記憶状態が初期化され、初期化以後の入力信号値を記憶すると共に最終判定値として出力する記憶部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第9光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第9受光部と、
前記第9受光部への光ビームの照射の有無と前記最終判定値によって電源電流を増加させる機能を有する電流制御部と、を有し、
前記判定値が前記記憶部に入力される構成としてもよい。
【0021】
或いは、第4の検査回路は、
複数の異なる光ビームの照射の有無の組み合わせにより、当該信号出力用電極の出力された信号値を所定の信号値と比較し比較結果を判定値として出力する機能を有する比較判定部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第8光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第8受光部と、
前記第8受光部への光ビームの照射により記憶状態が初期化され、初期化以後の入力信号値を記憶すると共に、最終判定値として第2出力端から出力する記憶部と、
前記第2出力端と所定の電源との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第9光ビームが照射されたときに導通する第9光応答手段を、を有し、
前記判定値が前記記憶部に入力される構成とすることもできる。
【0022】
尚、上記第2の検査回路乃至第4の検査回路において、前記比較判定部は、
予め定められた波長、強度、大きさの第3光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第3受光部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第4光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第4受光部と、
“1”信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”信号を供給する“0”信号供給部と、
前記第3受光部及び前記第4受光部における、個々の光ビームの照射の有無によって、“1”信号供給部、或いは“0”信号供給部からの信号を第2信号として出力する第2出力制御部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第5光ビームを照射され、その照射を検知する第5受光部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第6光ビームを照射され、その照射を検知する第6受光部と、
前記第5受光部及び前記第6受光部に対する個々の光ビームの照射の有無と、前記信号出力用電極の信号値とから定められる信号値を第3信号として出力する制御部と、
前記第2信号と前記第3信号とを入力して前記第2信号の信号値と前記第3信号の信号値とを比較し、その一致、不一致を判定して結果を第4信号として出力する比較部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第7光ビームを照射され、その照射を検知する第7受光部と、
前記第7受光部における前記第7光ビームの照射により、前記第4信号を判定値として出力するゲート部と、を有する構成とすることができる。
【0023】
或いは、前記比較判定部は、
“1”信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”信号を供給する“0”信号供給部と、
所定の第2ノードと前記“1”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第3光ビームが照射されたとき、“1”信号が前記第2ノードに伝達される第3光応答手段と、
前記第2ノードと前記“0”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第4光ビームが照射されたとき、“0”信号が前記第2ノードに伝達される第4光応答手段と、
前記信号出力用電極に接続された第3ノードと前記“1”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第5光ビームが照射されたとき、“1”信号が前記第3ノードに伝達される第5光応答手段と、
前記第3ノードと前記“0”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第6光ビームが照射されたとき、“0”信号が前記第3ノードに伝達される第6光応答手段と、
二つの比較入力端の一方が前記第2ノードに他方が前記第3ノードにそれぞれ接続され、前記第2ノードから入力される第2信号と前記第3ノードから入力される第3信号のそれぞれの信号値を比較し、その一致、不一致を判定して結果を第1出力端から第4信号として出力する比較部と、
前記第1出力端と第4ノードとの間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第7光ビームが照射されたとき、前記第4信号が前記第4ノードに伝達されて判定値として出力される第7光応答手段と、を有する構成としてもよい。
【0024】
本発明のLSI検査方法は、複数の光ビームの照射の有無の組み合わせにより、所望の信号を印加する第1検査回路及び出力された信号と期待値との比較を行う機能を有する第2検査回路を備えたLSIの検査方法であって、
予め定められた波長、強度、大きさの光ビームを前記第2検査回路の予め定められた場所の受光部に照射し初期化を行うステップ(図13のステップ101、ステップ102)と、
予め定められた波長、強度、大きさの光ビームを予め定められたスケジュールで前記第1検査回路の予め定められた場所の受光部に照射して、前記LSIにテスト信号を入力するステップ(図13のステップ103、ステップ104)と、
予め定められた波長、強度、大きさの光ビームを予め定められたスケジュールで前記第2検査回路の予め定められた場所の受光部に照射して、前記LSIの出力信号と期待値とを比較し、比較結果を判定値として出力するステップ(図13のステップ105、ステップ106)と、を含む。
【0025】
又、本発明のLSI検査方法は、予め定められた波長、強度、大きさの光ビームを予め定められたスケジュールで前記第2検査回路の予め定められた場所の受光部に照射して、当該LSIの検査結果を電源電流値の変化として知るステップ(図13のステップ107、ステップ108)を、更に含む構成としてもよい。
【0026】
本発明では、二つの受光部にそれぞれ対応する2本の光ビームの照射の有無により被検査LSIに電気的な信号を印加している。このため、被検査LSIに機械的に接触することなく電気的な信号を印加することが可能である。又、本発明では5つの受光部にそれぞれ対応する5本の光ビームの照射の有無により被検査LSIの信号値の期待値との比較を行っている。このため、被検査LSIに機械的に接触することなく電気的な信号を観測することが可能である。
【0027】
【発明の実施の形態】
次に、本発明について図面を参照して説明する。尚、以下の説明で同じ構成要素には、同じ参照符号を付して、繰り返しての説明は省略する。
図1は、本発明の検査回路及びこの検査回路を内蔵するLSIの第1の実施形態を説明するための図で、(a)はLSIの模式的な概略平面図、(b)はこのLSIに内蔵される第1の検査回路の構成を示すブロック図である。図1を参照すると、本実施形態のLSI100に内蔵される第1の検査回路10は、第1光ビームを受光し、受光の有無を判定する第1受光部1があり出力制御部4に接続されている。同様に第2光ビームを受光し、受光の有無を判定する第2受光部2があり出力制御部4に接続されている。LSI100の信号入力用電極である第1端子6に入力される信号の種別は通常“1”(高レベル),“0”(低レベル),“Z”(ハイインピーダンス)であるが、そのうち“1”信号を供給する“1”信号供給部3、及び“0”信号を供給する“0”信号供給部5は、いずれも出力制御部4に接続されている。出力制御部4は第1受光部1、第2受光部2における受光の有無により“1”,“0”,“Z”の各信号を生成して第1信号として出力し、第1端子6に印加する。第1端子6は、LSI100の内部回路部102の図示されていない所定の素子に接続されている。
【0028】
次に第1の検査回路10の動作を説明する。尚、LSI100の所定の電源端子には、通常のプローブ等(図示せず)により外部から所定の電源が供給されるものとする。第1受光部1に第1光ビームが照射されると第1受光部1はそれを感知し出力制御部4に受光の有無を伝達する。同様に第2受光部2に第2光ビームが照射されると第2受光部2はそれを感知し出力制御部4に受光の有無を伝達する。LSIでは、通常電圧値を以って信号を区別し、電源電圧に等しいか、或いはそれに近い値の場合、信号値を“1”とし、接地電位に等しいか、或いはそれに近い場合信号値を“0”としている。又、電圧値が不定で、電気的に他の端子と極めて高い抵抗値で接続されている、或いは「浮いている」状態のときの信号値を“Z”としている。“1”信号供給部3は、“1”(高レベル)信号を供給する手段であるが、通常は電源(以下、VDDとし、電源端子、電源電圧についても同じくVDDとして特に区別せずに使用する)であり出力制御部4に“1”信号を供給している。“0”信号供給部5は通常は接地(以下、GNDとし、接地端子、接地電位についても同じくGNDとして特に区別せずに使用する)であり、“0”(低レベル)信号を出力制御部4に供給している。出力制御部4では第1受光部1に光ビームが照射されたとき、第1受光部1から光ビームを感知した旨が伝達され、それにより“1”信号供給部3から供給されている“1”信号を第1信号として出力し第1端子6に印加する。一方第2受光部2に光ビームが照射されたときには、第2受光部2から光ビームを感知した旨が伝達され、それにより“0”信号供給部からの“0”信号を第1信号として出力し、第1端子6に印加する。第1受光部1及び第2受光部2のいずれにも光ビームが照射されないときには、出力制御部4は“Z”信号を第1信号として出力し、第1端子6に印加する。従来の手法では、第1端子6に電気的に接続しているパッド(不図示)を設け、或いは第1端子6そのものがパッドであり、このパッドにプローブを機械的に接触させることにより、電気信号をLSI100に入力していた。本実施形態では、プローブの代わりに第1の検査回路10を設け、第1端子6に電気信号(=第1信号)を印加し、LSI100の入力信号としてLSI100の内部回路部102に伝達している。尚、第1受光部1と第2受光部2に同時に光ビームを照射することは禁止されている。
【0029】
又、以下の説明において、各受光部に照射される各光ビームは、各受光部において照射の有無を検知できる強度、波長でなくてはならない。なぜならば、受光部は通常、光ビームの波長に対する感度特性、強度に対する感度特性を有するからである。更に、各光ビームは外部から検査回路に照射するため、LSI上に形成された各受光部の上層の物質を透過して受光部に光ビームを到達させる必要があり、波長、強度を選択して光ビームの照射/無照射が受光部に検知できるようにすると共に、隣接する受光部間の干渉を避けるために光ビームの大きさを十分細くしなくてはならない。
【0030】
図2は、第1の検査回路10によるLSI100への信号入力方法を説明する図である。LSI100の第1端子6に信号“1”を印加したい場合には、第1受光部1に第1光ビームを照射し、第2受光部2に光ビームを照射しない。第1端子6に信号“0”を印加したい場合には、第2受光部2に第2光ビームを照射し、第1受光部1に光ビームを照射しない。第1端子6に“Z”信号を印加したい場合には、第1受光部1と第2受光部2のいずれにも光ビームを照射しない。第1受光部1と第2受光部2の両方に同時に光ビームを照射することは禁止されている。
【0031】
次に第1の検査回路10の具体例について、図面を参照しながら詳細に説明する。図3は第1の検査回路10の具体例を示す回路図である。この例では、第1受光部1が、VDDとGNDとの間に第1抵抗(以下、jを整数としたとき、第j抵抗をRjと表すものとする)と第1フォトダイオード(以下、jを整数としたとき、第jフォトダイオードをPDjと表すものとする)とを備え、VDDとPD1のカソードとの間にR1が接続され、PD1のアノードがGNDに接続され、PD1のカソードとR1の一端との共通接続点が、出力制御部4の一方の入力端に接続されている。又、第2受光部2は、VDDとGNDとの間にR2とPD2とを備え、VDDにPD1のカソードが接続され、PD1のアノードがGNDとの間にR2が接続され、PD2のアノードとR2の一端との共通接続点が、出力制御部4の他方の入力端に接続されている。出力制御部4は、VDDとGNDとの間に第1のpチャネル電界効果トランジスタ(以下、jを整数としたとき、第jのpチャネル電界効果トランジスタをPMjと表すものとする)のソース・ドレイン路と、第1のnチャネル電界効果トランジスタ(以下、jを整数としたとき、第jのnチャネル電界効果トランジスタをNMjと表すものとする)のソース・ドレイン路とがこの順序で直列に接続され、PM1のゲート電極が一方の入力端となり、NM1のゲート電極が他方の入力端となり、PM1のソース・ドレイン路とNM1のソース・ドレイン路との共通接続点であるノードN11が出力制御部4の出力端となって、ノードN11から第1信号が出力される。言い換えると、PD1のカソードとR1の一端との共通接続点がPM1のゲート電極と接続され、PD2のアノードとR2の一端との共通接続点がNM1のゲート電極と接続され、ノードN11が第1端子6と接続され、第1信号が第1端子6に印加される。
【0032】
この構成で、PD1及びPD2のいずれにも光ビームが照射されていないときには、PD1及びPD2はいずれもOFF 状態であり、PM1のゲート電極にはVDDが印加され、NM1のゲート電極にはGNDが印加されるので、PM1及びNM1のいずれも非導通で、ノードN11はフローティング状態となり、第1端子6には“Z”信号が印加される。又、PD1に第1光ビームAが照射されると、PD1はON状態となり、PM1のゲート電極の電位が低下して、PM1が導通する。このとき、PD2には光ビームは照射されないので、NM1は非導通のままであり、ノードN11の電位はほぼVDDと等しくなり、第1端子6には“1”が印加される。逆に、PD2に第2光ビームBが照射されると、PD2はON状態となり、NM1のゲート電極の電位が上昇して、NM1が導通する。このとき、PD1には光ビームは照射されないので、PM1は非導通のままであり、ノードN11の電位はほぼGNDと等しくなり、第1端子6には“0”が印加される。
【0033】
尚、PD1とPD2に、それぞれ第1光ビームAと第2光ビームBが同時に照射されると、PM1とNM1が同時に導通状態となり、VDDとGND間に大きな電流が流れるため、PD1とPD2に同時に光ビームを照射することは禁止される。
【0034】
次に、第1の検査回路10の変形例について説明する。図4は第1の検査回路の変形例を説明するための図で、(a)及び(b)はそれぞれブロック図と、一例の具体的な回路図である。図4を参照すると、変形例の第1の検査回路10aは、“1”信号供給部3と、“0”信号供給部5と、
第1ノードN1と“1”信号供給部3との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第1光ビームが照射されたとき、“1”信号が第1ノードN1に伝達される第1光応答手段7と、
第1ノードN1と“0”信号供給部5との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第2光ビームが照射されたとき、“0”信号が第1ノードN1に伝達される第2光応答手段8と、を備え、第1ノードN1が第1端子6に接続されている。
【0035】
より具体的には、第1光応答手段7であるPD1aと、第2光応答手段8であるPD2aを備え、PD1aのアノードとカソードが、第1ノードN1とVDDにそれぞれ接続され、PD2aのアノードとカソードが、GNDと第1ノードN1にそれぞれ接続され、第ノードN1が第1端子6に接続されている。
【0036】
この変形例の動作について説明する。PD1a及びPD2aのいずれにも光ビームが照射されていないときには、PD1a及びPD2aはいずれもOFF 状態であり、第1ノードN1はフローティング状態となって、第1端子6には“Z”信号が印加される。第1光ビームAのみが照射され、PD1aに第1光ビームAが照射されるとPD1aはON状態となり、PD2aはOFF 状態のままであるため、第1ノードN1の電位はほぼVDDと等しくなり、第1端子6には“1”信号が入力されることとなる。又、第2光ビームBのみが照射され、PD2aに第2光ビームBが照射されるとPD2aはON状態となり、PD1aはOFF 状態のままであるために、第1ノードN1の電位はほぼGNDと等しくなり、第1端子6には“0”信号が印加されることとなる。変形例においても、第1光ビームAと第2光ビームBを同時に照射するとPD1aとPD2aが同時にON状態となり、VDD−GND間に大きな電流が流れるために、第1光ビームAと第2光ビームBを同時に照射することは禁止される。
【0037】
次に本発明の第2の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。図5は、本発明の第2の実施形態を説明するための図で、(a)はLSIの模式的な概略平面図、(b)はこのLSIに内蔵される第2の検査回路の構成を示すブロック図である。図5を参照すると、本実施形態のLSI110に内蔵される第2の検査回路30は比較判定部25のみで構成され、この比較判定部25が“1”信号供給部3と、“0”信号供給部5と、第3受光部12と、出力制御部13と、第4受光部14と、第5受光部16と、制御部17と、第6受光部18と、比較部19と、ゲート部20と、第7受光部21とを備える。第3受光部12は出力制御部13に接続され、光ビームの第3受光部12への照射を感知して受光の有無を出力制御部13に伝える。第4受光部14は出力制御部13に接続され、光ビームの第4受光部14への照射を感知して受光の有無を出力制御部13に伝える。
【0038】
出力制御部13は第3受光部12、第4受光部14における光ビームの照射の有無により“1”,“0”,“Z”の各種信号を生成し、二つの入力端を備えた比較部19の一方の入力端に出力する機能を有する。具体的には、第3受光部12にのみ光ビームが照射されている場合に“1”信号供給部3からの信号“1”を出力し、第4受光部14にのみ光ビームが照射されている場合に“0”信号供給部5からの信号値“0”を出力する。
【0039】
第5受光部16は、制御部17に接続され、第5受光部16への光ビームの照射を感知して照射の有無を制御部17に伝える。第6受光部18は制御部17に接続され、第6受光部18への光ビームの照射を感知して照射の有無を制御部17に伝える。
【0040】
制御部17には、“1”信号供給部3と“0”信号供給部5が接続され、それぞれから信号“1”と信号“0”が供給される。制御部17は、第5受光部16と第6受光部18からの照射の有無の情報により、信号“1”,信号“0”,信号“Z”を出力すると共に、出力端がノードN12に接続され、第5受光部16と第6受光部18に対する光ビームの照射の有無及び信号出力用電極である第2端子11に出力されている信号値によりノードN12の信号値を決定する機能を有する。具体的には、第5受光部16にのみ光ビームが照射され、且つ第2端子11にLSI110の内部回路部112から信号値“0”が出力されている場合は信号値“0”をそのままノードN12の信号値とし、第2端子11に信号値“1”や信号値“Z”が出力されている場合には“1”信号供給部3からの信号値“1”をノードN12の信号値とする機能を有する。又、第6受光部18にのみ光ビームが照射され、且つ第2端子11にLSI110の内部回路部112から信号値“1”が出力されている場合はノードN12の信号値は“1”になり、第2端子11に信号値“0”や信号値“Z”が出力されている場合には“0”信号供給部5からの信号値“0”をノードN12の信号値とする機能を有する。尚、第2端子11は、ノードN12に接続されると共に、LSI110の内部回路部112の所定の素子(図示せず)に接続される。第2端子11は、従来のLSI検査手法であれば、パッド、或いはパッドに接続するLSIの端子に相当する。
【0041】
比較部19の他方の入力端はノードN12と接続され、ノードN12の信号値が伝達されている。比較部19は、出力制御部13から出力された信号値とノードN12からの信号値を比較し、同一であるか、異なるかを判別し、その結果をゲート部17に伝達する。具体的には、出力制御部13から出力された信号値とノードN12からの信号値とを比較し、両者が同じ値(信号値“1”どうし、又は信号値“0”どうし)であれば一致を示す信号値“0”を出力し、両者が異なる値であれば(信号値“0”と信号値“1”)、不一致を示す信号値“1”を出力する。
【0042】
第7受光部21は、ゲート部17に接続され、第7受光部21への光ビームの照射の有無をゲート部17に伝える。ゲート部17は、第7受光部21に光ビームが照射されているときに比較部19からの信号を判定値として出力し、光ビームが第7受光部21に照射されていないときには信号値“0”を判定値として出力する機能を有する。
【0043】
尚、第2の検査回路30においても第3受光部12と第4受光部14に同時に光ビームを照射することは禁止されている。
【0044】
次に第2の検査回路30の動作を説明する。
先ず、LSI110の内部回路部112に接続された第2端子11に信号値“1”が出力されているかどうかを判定する動作について説明する。第3受光部12に光ビームを照射し、第4受光部14には照射しないことで出力制御部13から信号値“1”が出力され、比較部19の一方の入力端に信号値“1”が入力される。第6受光部18に光ビームを照射し、第5受光部16に照射しないことで制御部17の機能により、第2端子11に信号値“1”が出力されていればノードN12の信号値は“1”となり、比較部19の他方の入力端に信号値“1”が入力される。一方、第2端子11に信号値“0”や信号値“Z”が出力されている場合、制御部17の機能によりノードN12の信号値は“0”となり比較部19の他方の入力端に信号値“0”が入力される。
【0045】
その結果、第2端子11の信号値を判定するタイミングで第7受光部21に光ビームを照射することで、第2端子11に信号値“1”が出力されていれば一致を示す信号値“0”が判定値として出力され、そうでない場合には不一致を示す信号値“1”が判定値として出力される。
【0046】
次に、第2端子11に信号値“0”が出力されているかどうかを判定する動作を説明する。第4受光部14に光ビームを照射し、第3受光部12には照射しないことで出力制御部13から信号値“0”が出力され、比較部19の一方の入力端に信号値“0”が入力される。第5受光部16に光ビームを照射し、第6受光部18に照射しないことで制御部17の機能により、内部回路部112から第2端子11に信号値“0”が出力されていればノードN12の信号値は“0”となり比較部19の他方の入力端に信号値“0”が出力される。一方、内部回路部112から第2端子11に信号値“1”や信号値“Z”が出力されている場合、制御部17の機能によりノードN12の信号値は“1”となり、比較部19の他方の入力端に信号値“1”が出力される。
【0047】
その結果、第2端子11の信号値を判定するタイミングで第7受光部21に光ビームを照射することで、第2端子11に信号値“0”がLSI110から出力されていれば信号値“0”が判定値として出力され、そうでない場合には信号値“1”が判定値として出力される。
【0048】
次に、内部回路部112から第2端子11に信号値“Z”が出力されているかどうかを判定する動作を説明する。この動作は判定する動作を2回に分けて実施する。先ず、第3受光部12に光ビームを照射し、第4受光部14には照射しないことで出力制御部13から信号値“1”が出力され、比較部19の一方の入力端に信号値“1”が入力される。第5受光部16に光ビームを照射し、第6受光部18に照射しないことで制御部17の機能により、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“Z”か“1”であればノードN12の信号値は“1”となり、比較部19の他方の入力端に信号値“1”が入力される。一方、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“0”の場合、制御部17の機能により、ノードN12の信号値は“0”となり、比較部19の他方の入力端に信号値“0”が入力される。その結果、第1の判定するタイミングで第7受光部21に光ビームを照射することで、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“1”か“Z”であれば一致を示す信号値“0”が判定値として出力され、そうでない場合には不一致を示す信号値“1”が判定値として出力される。
【0049】
続いて、第4受光部14に光ビームを照射し、第3受光部12には照射しないことで出力制御部13から信号値“0”が出力され、比較部19の一方の入力端に信号値“0”が入力される。第6受光部18に光ビームを照射し、第5受光部16に照射しないことで制御部17の機能により、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“Z”か“0”であれば、ノードN12の信号値は“0”となり、比較部19の他方の入力端に信号値“0”が入力される。一方、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“1”であれば、制御部17の機能によりノードN12の信号値は“1”となり、比較部19の他方の入力端に信号値“1”が入力される。その結果、第2の判定するタイミングで第7受光部21に光ビームを照射することで、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“0”か“Z”であれば一致を示す信号値“0”が判定値として出力され、そうでない場合には不一致を示す信号値“1”が判定値として出力される。
【0050】
上記説明のとおり、第2端子11の信号値を判定するタイミングで、内部回路部112から第2端子11に信号値“Z”が出力されていれば、ゲート部20から出力される判定値は常に一致を示す“0”となる。しかし、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“1”や“0”の場合には、いずれかの判定タイミングにおいて不一致を示す判定値“1”が出力される。
【0051】
尚、第2端子11の信号値が信号値“X”(信号値が“0”か“1”か不定)、或いは判定するタイミングにおいて第2端子11の信号値の判定を要しない場合には、判定するタイミングにおいて第7受光部21に光ビームを照射しないことで、判定値は常に一致を示す“0”となり、出力信号値の不一致検出に影響を及ぼすことは無い。
【0052】
又、第2の検査回路30においても第3受光部12と第4受光部14に同時に光ビームを照射することは禁止されている。
【0053】
次に第2の検査回路30の具体例を図面を参照しながら説明する。
図6は第2の検査回路30の一具体例を説明するための図で、(a)は全体回路図、(b)及び(c)はゲート部20の詳細回路の例である。図6を参照すると、この具体例の第2の検査回路30を構成する比較判定部25は、第3受光部12が、VDDとGNDとの間にR3とPD3とを備え、VDDとPD3のカソードとの間にR3が接続され、PD3のアノードがGNDに接続され、PD3のカソードとR3の一端との共通接続点が、出力制御部13の一方の入力端に接続されている。又、第4受光部14は、VDDとGNDとの間にR4とPD4とを備え、VDDにPD4のカソードが接続され、PD4のアノードとGNDとの間にR4が接続され、PD4のアノードとR4の一端との共通接続点が、出力制御部13の他方の入力端に接続されている。出力制御部13は、VDDとGNDとの間にPM2のソース・ドレイン路と、NM2のソース・ドレイン路とがこの順序で直列に接続され、PM2のゲート電極が一方の入力端となり、NM2のゲート電極が他方の入力端となり、PM2のソース・ドレイン路とNM2のソース・ドレイン路との共通接続点であるノードN13が出力制御部13の出力端となっている。言い換えると、PD3のカソードとR3の一端との共通接続点がPM2のゲート電極と接続され、PD4のアノードとR4の一端との共通接続点がNM2のゲート電極と接続されている。
【0054】
又、第5受光部16が、VDDとGNDとの間にR5とPD5とを備え、VDDとPD5のカソードとの間にR5が接続され、PD5のアノードがGNDに接続され、PD5のカソードとR5の一端との共通接続点が、制御部17の一方の入力端に接続されている。又、第6受光部18は、VDDとGNDとの間にR6とPD6とを備え、VDDにPD6のカソードが接続され、PD6のアノードとGNDとの間にR6が接続され、PD6のアノードとR6の一端との共通接続点が、制御部17の他方の入力端に接続されている。制御部17は、VDDとGNDとの間に、R7,PM3のソース・ドレイン路,NM3のソース・ドレイン路,及びR8が、この順序で直列に接続され、PM3のゲート電極,NM3のゲート電極,及びPM3のソース・ドレイン路とNM3のソース・ドレイン路との共通接続点が、それぞれ制御部17の一方の入力端,他方の入力端,及び出力端となり、この出力端がノードN12と接続されている。より具体的には、VDDとPM3のソース・ドレイン路の一端との間にR7が接続され、PM3のソース・ドレイン路の他端とNM3のソース・ドレイン路の一端とが接続され、NM3のソース・ドレイン路の他端とGNDとの間にR8が接続され、PD5のカソードとR5の一端との共通接続点がPM3のゲート電極と接続され、PD6のアノードとR6の一端との共通接続点がNM3のゲート電極と接続されている。尚、R7の抵抗値は、第2端子11に信号値“0”が出力されているときに、NM3がOFF の状態でPM3がONとなってもノードN12の信号値が“0”を保持できるように設定される。又、R8の抵抗値は、逆に、第2端子11に信号値“1”が出力されているときに、PM3がOFF の状態でNM3がONとなってもノードN12の信号値が“1”を保持できるように設定される。
【0055】
比較部19は排他的論理和回路(以下、XORとする)で構成され、比較部19の一方の入力端となるXORの入力端IN1とノードN13が接続され、比較部19の他方の入力端となるXORの入力端IN2とノードN12が接続され、比較部19のXORの出力端OUT は、ゲート部20の入力端Aと接続される。ゲート部20は、特に限定されないが、例えば図6(b)に示すように2入力論理積回路(以下、ANDとする)で構成できる。具体的には、一方の入力端をゲート部20の入力端A,他方の入力端を制御入力端Cとし、ANDの出力端をゲート部20の出力端Bとすればよい。尚、図6(b)の例は、制御入力端Cに信号値“1”が入力されたとき、入力端Aに入力された信号値がそのまま出力端Bに出力され、制御入力端Cに信号値“0”が入力されたときは入力端Aに入力される信号値に関わらず出力端Bから常に信号値“0”が出力される構成である。第7受光部21は、VDDとGNDとの間にPD7とR9とを備え、VDDにPD7のカソードが接続され、PD7のアノードとGNDとの間にR9が接続され、PD7のアノードとR9の一端との共通接続点が、ゲート部20の制御入力端Cに接続されている。この構成で、XORの出力端OUT が比較部19の第1出力端となり、出力端OUT から第4信号が出力される。尚、第2の検査回路30においてもPD3とPD4に同時に光ビームを照射することは禁止される。
【0056】
次に、第2の検査回路30の具体例の動作を説明する。
先ず、LSI110の内部回路部112に接続された第2端子11に信号値“1”が出力されているかどうかを判定する動作を説明する。PD3に光ビームを照射し、PD4には照射しないことでPM2のみがONするので、ノードN13の信号値は“1”となり、XORの入力端IN1に期待値として信号値“1”が入力される。PD6に光ビームを照射し、PD5に照射しないことでNM3のみがONするが、内部回路部112から第2端子11に信号値“1”が出力されていれば、NM3とGNDの間に上記のように抵抗値を設定されたR8が接続されているためノードN12の信号値は“1”となり、XORの入力端IN2に信号値“1”が入力され、XORの出力端OUT から第4信号として一致を示す信号値“0”が出力される。一方、第2端子11に信号値“0”や信号値“Z”が出力されている場合、NM3がONしていることでノードN12の信号値は“0”となりXORの入力端IN2に信号値“0”が入力され、XORの出力端OUT から第4信号として不一致を示す信号値“1”が出力される。
【0057】
その結果、第2端子11の信号値を判定するタイミングでPD7に光ビームを照射することでゲート部20の制御入力端Cに信号値“1”が印加され、第2端子11に信号値“1”が出力されていれば一致を示す信号値“0”が判定値として出力され、そうでない場合には不一致を示す信号値“1”が判定値として出力される。
【0058】
次に、第2端子11に信号値“0”が出力されているかどうかを判定する動作を説明する。PD4に光ビームを照射し、PD3には照射しないことでNM2のみがONするので、ノードN13の信号値は“0”となり、XORの入力端IN1に期待値として信号値“0”が入力される。PD5に光ビームを照射し、PD6に照射しないことでPM3のみがONするが、内部回路部112から第2端子11に信号値“0”が出力されていれば、VDDとPM3の間に、上記のように抵抗値を設定されたR7が接続されているためノードN12の信号値は“0”となり、XORの入力端IN2に信号値“0”が入力されてXORの出力端OUT から第4信号として一致を示す信号値“0”が出力される。一方、第2端子11に信号値“1”や信号値“Z”が出力されている場合、PM3がONしていることでノードN12の信号値は“1”となりXORの入力端IN2に信号値“1”が入力され、XORの出力端OUT から第4信号として不一致を示す信号値“1”が出力される。
【0059】
その結果、第2端子11の信号値を判定するタイミングでPD7に光ビームを照射することでゲート部20の制御入力端Cに信号値“1”が印加され、第2端子11に信号値“0”が出力されていれば一致を示す信号値“0”が判定値として出力され、そうでない場合には不一致を示す信号値“1”が判定値として出力される。
【0060】
次に、内部回路部112から第2端子11に信号値“Z”が出力されているかどうかを判定する動作を説明する。この動作は判定する動作を2回に分けて実施する。先ず、PD3に光ビームを照射し、PD4には照射しないことでPM2のみがONするので、ノードN13の信号値は“1”となり、XORの入力端IN1に信号値“1”が入力される。又、PD5に光ビームを照射し、PD6に照射しないことでPM3のみがONするので、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“Z”か“1”であればノードN12の信号値は“1”となり、XORの入力端IN2に信号値“1”が入力され、XORの出力端OUT から第4信号として一致を示す信号値“0”が出力される。一方、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“0”の場合、PM3のみがONしているが、VDDとPM3の間にR7が接続されているためノードN12の信号値は“0”となり、XORの入力端IN2に信号値“0”が入力され、XORの出力端OUT から第4信号として不一致を示す信号値“1”が出力される。その結果、第1の判定するタイミングでPD7に光ビームを照射することで、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“1”か“Z”であれば一致を示す信号値“0”が判定値として出力され、そうでない場合には不一致を示す信号値“1”が判定値として出力される。
【0061】
続いて、PD4に光ビームを照射し、PD3には照射しないことでNM2のみがONするので、ノードN13の信号値は“0”となり、XORの入力端IN1に信号値“0”が入力される。又、PD6に光ビームを照射し、PD5に照射しないことでNM3のみがONするので、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“Z”か“0”であれば、ノードN12の信号値は“0”となり、XORの入力端IN2に信号値“0”が入力され、XORの出力端OUT から第4信号として一致を示す信号値“0”が出力される。一方、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“1”の場合、NM3のみがONしているが、NM3とGNDとの間にR8が接続されているためノードN12の信号値は“1”となり、XORの入力端IN2に信号値“1”が入力され、XORの出力端OUT から第4信号として不一致を示す信号値“1”が出力される。その結果、第2の判定するタイミングでPD7に光ビームを照射することで、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“0”か“Z”であれば一致を示す信号値“0”が判定値として出力され、そうでない場合には不一致を示す信号値“1”が判定値として出力される。
【0062】
上記説明のとおり、第2の検査回路30の具体例においても、第2端子11の信号値を判定するタイミングで、内部回路部112から第2端子11に信号値“Z”が出力されていれば、ゲート部20から出力される判定値は常に一致を示す“0”となる。しかし、内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“1”や“0”の場合には、いずれかの判定タイミングにおいて不一致を示す判定値“1”が出力される。
【0063】
尚、第2端子11の信号値が信号値“X”、或いは判定するタイミングにおいて第2端子11の信号値の判定を要しない場合には、判定するタイミングにおいてPD7に光ビームを照射しないことで、判定値は常に“0”となり、出力信号値の不一致検出に影響を及ぼすことは無い。
【0064】
又、PM2及びNM2が同時にONするとVDD−GND間に大きな電流が流れるため、PD3とPD4に同時に光ビームを照射することは禁止される。
【0065】
次に、第2の検査回路30の変形例について説明する。図7は第2の検査回路の変形例を説明するための図で、(a)及び(b)はそれぞれブロック図と、一例の具体的な回路図である。図7を参照すると、変形例の第2の検査回路30aを構成する比較判定部25aは、
“1”信号供給部3と、“0”信号供給部5と、
第2ノードN2と“1”信号供給部3との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第3光ビームが照射されたとき、“1”信号が第2ノードN2に伝達される第3光応答手段31と、
第2ノードN2と“0”信号供給部5との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第4光ビームが照射されたとき、“0”信号が第2ノードN2に伝達される第4光応答手段32と、
第2端子11に接続された第3ノードN3と“1”信号供給部3との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第5光ビームが照射されたとき、“1”信号が第3ノードN3に伝達される第5光応答手段33と、
第3ノードN3と“0”信号供給部5との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第6光ビームが照射されたとき、“0”信号が第3ノードN3に伝達される第6光応答手段34と、
二つの比較入力端の一方である入力端IN1が第2ノードN2に接続され、他方である入力端IN2が第3ノードN3に接続され、第2ノードN2から入力される第2信号と第3ノードN3から入力される第3信号のそれぞれの信号値を比較し、その一致、不一致を判定して結果を第1出力端である出力端OUT から第4信号として出力する比較部35と、
出力端OUT と第4ノードN4との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第7光ビームが照射されたとき、第4信号が第4ノードN4に伝達されて判定値として出力される第7光応答手段36と、を備えている。
【0066】
より具体的には、第2の検査回路30aは、第3光応答手段31であるPD3aと、第4光応答手段32であるPD4aと、第5光応答手段33であるPD5a及びR5aと、第6光応答手段34であるPD6a及びR6aと、比較部35であるXORと、第7光応答手段36であるPD7a及びR9aと、を備えている。
【0067】
そして、PD3aのアノードとカソードが第2ノードN2とVDDにそれぞれ接続され、PD4aのアノードとカソードがGNDと第2ノードN2にそれぞれ接続され、VDDとPD5aのカソードとの間にR5aが接続され、PD5aのアノード及びPD6aのカソードが第3ノードN3に接続され、PD6aのアノードとGNDの間にR6aが接続され、第3ノードN3が第2端子11と接続されている。又、XORの入力端IN1及び入力端IN2が第2ノードN2及び第3ノードN3とそれぞれ接続され、比較部35の第1出力端であるXORの出力端OUT がPD7aのカソードと接続され、PD7aのアノードとGNDの間にR9aが接続され、PD7aのアノードとR9aの一端との共通接続点が判定値の出力端となる第4ノードN4と接続されている。尚、R5aの抵抗値は、第2端子11に信号値“0”が出力されているときに、PD6aには光ビームが照射されずPD5aに光ビームが照射されても、即ちPD6aがOFF の状態でPD5aがONとなっても第3ノードN3の信号値が“0”を保持できるように設定される。又、R6aの抵抗値は、逆に、第2端子11に信号値“1”が出力されているときに、PD5aには光ビームが照射されずPD6aに光ビームが照射されても、即ちPD5aがOFF の状態でPD6aがONとなっても第3ノードN3の信号値が“1”を保持できるように設定される。又、上記接続において、VDDと第3ノードN3との間でPD5aとR5aの接続順序を逆にしてもよく、同様に第3ノードN3とGNDとの間でPD6aとR6aの接続順序を逆にしてもよい。又、第2の検査回路30aにおいても、VDD−GND間に大きな電流を流さないようにするため、PD3aとPD4aに同時に光ビームを照射することは禁止される。
【0068】
次に、この変形例の第2の検査回路30aの動作について説明する。
PD3aに光ビームが照射されPD4aに光ビームが照射されない場合、PD3aがON状態となりPD4aがOFF 状態となるため第2ノードN2の信号値は“1”となり、XORの入力端IN1に信号値“1”が入力される。逆に、PD4aに光ビームが照射され、PD3aに光ビームが照射されない場合には、第2ノードN2の信号値は“0”となり、XORの入力端IN1に信号値“0”が入力される。
【0069】
PD5aに光ビームが照射されPD6aに光ビームが照射されない場合、PD5aがON状態となり、PD6aはOFF 状態となる。このとき内部回路部112から第2端子11に出力される信号値が“0”であった場合、VDDからR5a,PD5a,及び第3ノードN3を通って第2端子11に向かって電流が流れるが、R5aの抵抗値は上記のように設定されているので第3ノードN3の信号値は“0”のままとなる。一方、第2端子11に出力されている信号値が“1”である場合には、R5aを通じて電流は流れず、第3ノードN3の信号値は第2端子11の信号値と同じ“1”となる。又、第2端子11の信号値が“Z”(ハイインピーダンス状態)であった場合、PD5aがON状態であるために、第3ノードN3の信号値は“1”となる。
【0070】
PD6aに光ビームが照射され、PD5aに光ビームが照射されない場合、PD6aがON状態となり、PD5aはOFF 状態となる。このとき内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“1”であった場合、第2端子11から第3ノードN3,PD6a及びR6aを通ってGNDに向かって電流が流れるが、R6aの抵抗値が上記のように設定されているので、第3ノードN3の信号値は“1”のままとなる。一方、第2端子11に出力された信号値が“0”である場合には、R6aを通じて電流は流れず、第3ノードN3の信号値は“0”となる。又、第2端子11に出力された信号値が“Z”であった場合、PD5aがOFF 状態且つPD6aがON状態であるので、第3ノードN3の信号値は“0”となる。
【0071】
次に、第2端子11の信号値の判定方法を説明する。
先ず、判定タイミングにおいて内部回路部112から第2端子11に出力されている信号値が“1”であるかどうかを判定するには、PD3aとPD6aにはビームを照射し、PD4aとPD5aには光ビームを照射しない。そして、判定タイミングにおいてPD7aに光ビームを照射することで、第2端子11の信号値が“1”であれば第4ノードN4に出力される判定値は“0”を示し、第2端子11の信号値が“0”か“Z”であれば第4ノードN4に出力される判定値は“1”となる。即ち、判定値に“1”が出力されれば判定タイミングにおいて第2端子11の信号値が“1”ではないことが分かる。
【0072】
又、判定タイミングにおいて、第2端子11に内部回路部112から出力されている信号値が“0”であるかどうかを判定するには、PD4aとPD5aには光ビームを照射し、PD3aとPD6aには光ビームを照射しない。そして判定タイミングにおいてPD7aに光ビームを照射することで、第2端子11の信号値が“0”であれば第4ノードN4に出力される判定値は“0”を示し、第2端子11の信号値が“1”か“Z”であれば第4ノードN4に出力される判定値は“1”となる。即ち、判定値に“1”が出力されれば判定タイミングにおいて第2端子11の信号値が“0”ではないことが分かる。又、判定タイミングにおいて第2端子11の信号値が“Z”であるかどうかを判定するには、PD3aとPD5aには光ビームを照射し、PD4aとPD6aには光ビームを照射しない。そして判定タイミングにおいてPD7aに光ビームを照射することで、第2端子11の信号値が“Z”か“1”であれば第4ノードN4に出力される判定値は“0”を示し、第2端子11の信号値が“0”であれば第4ノードN4に出力される判定値は“1”となる。続いて、PD4aとPD6aには光ビームを照射し、PD3aとPD5aには光ビームを照射しない。そして判定タイミングにおいてPD7aに光ビームを照射することで、第2端子11の信号値が“Z”か“0”であれば第4ノードN4に出力される判定値は“0”を示し、第2端子11の信号値が“1”であれば第4ノードN4に出力される判定値は“1”となる。即ち、判定値に“1”が出力されれば判定タイミングにおいて第2端子11の信号値が“Z”ではないことが分かる。
【0073】
尚、上記光ビームの波長、強度は各フォトダイオードを適切にON状態にしうる波長、強度でなくてはならず、且つ所定のフォトダイオードのみに照射し、他のフォトダイオードに照射しないように十分に細く絞り込む必要がある。
【0074】
次に本発明の第3の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。図8は、本実施形態の第3の検査回路40を説明するための図で、(a)は全体構成を示すブロック図、(b)は(a)の記憶回路41の構成を示す回路図である。尚、第3の検査回路40は、改めて図示しないが、LSI110で第2の検査回路30の代わりに搭載されたもの、即ちLSI110の第2端子11に接続されたものとして説明する。図8を参照すると、第3の検査回路40は、比較判定部25と、記憶ブロック42を備えた構成となっている。記憶ブロック42は、記憶部43と第8受光部45で構成され、記憶部43は第2の検査回路30から出力された判定値を記憶すると共に最終判定信号として第2出力端から出力し、第8受光部45は光ビームの照射を受けて記憶部43を初期化する。
【0075】
この記憶ブロック42の動作は次のようになる。受光部45に光ビームが照射されると、初期化信号が記憶部43の初期化信号入力端に送られ、記憶部43の記憶情報は初期化される。記憶部43は、比較判定部25から出力されデータ入力端に入力される判定値を遂次記憶する。言い換えると、記憶部43のデータ入力端に入力される判定値は、信号“0”か信号“1”のいずれかであるが、もし信号“1”が入力されたら、この事実を以降記憶しておき最終判定値として第2出力端から出力する。最終判定値は信号“0”か信号“1”のいずれかであり、信号“0”は記憶部43に“1”なる判定値が初期化以降入力されていないことを示し、信号“1”は記憶部43に初期化以降少なくとも1回以上“1”なる判定値が入力されたことを示す。
【0076】
次に、記憶ブロック43の一具体例について説明する。図8(b)を参照すると、この具体例は、記憶部43がRSフリップフロップ(以下、RSF/Fとする)で構成され、第8受光部45がカソードとアノードがVDDとノードN14にそれぞれ接続されたPD8と、両端がノードN14とGNDにそれぞれ接続されたR10で構成される。そして、RSF/Fのセット信号入力端子(以下、S端子とする),初期化信号入力端子(以下、R端子とする)及びQ端子が、それぞれ記憶部43のデータ入力端,初期化信号入力端及び第2出力端となる。そして、比較判定部25から出力された判定値信号及びノードN14から出力される初期化信号がそれぞれS端子及びR端子に入力され、第2出力端であるRSF/FのQ端子から最終判定値が出力される。
【0077】
次に、この具体例の記憶ブロック43の動作について説明する。PD8に光ビームが照射されるとPD8がON状態となり、ノードN14の電位がGNDからほぼVDDに上昇するので、RSF/FのR端子に電源電圧が印加、即ち信号“1”が印加される。これによりRSF/FのQ端子の出力は“0”信号となり、初期化が完了する。PD8に光ビームの照射が無ければ、R端子には信号“0”が印加されている。比較判定部25から出力される判定値として信号“0”か“1”がRSF/FのS端子に印加されるが、1回でも信号“1”が入力されると、RSF/Fの機能によりQ端子に信号“1”が出力される。この出力は以後維持され、RSF/Fが再度初期化されるまで、この値を保持し続ける。このQ端子の出力が最終判定値となる。即ち、記憶部43は初期化後、信号“1”か“0”の判定値を記憶し、信号“1”の入力があった場合、信号“1”を最終判定値として出力し、信号“1”の入力が無い場合には、信号“0”を最終判定値として出力する機能を有する。
【0078】
次に、記憶ブロック42の他の具体例について説明する。図9は他の具体例の記憶ブロック42aの回路図である。記憶ブロック42aは、RSF/Fで構成された記憶部43と、カソードとアノードがノードN15とGNDにそれぞれ接続されたPD8a及び両端がVDDとノードN15にそれぞれ接続されたR10aで構成された第8受光部45aと、入力端がノードN15に接続された反転回路(以下、INVとする)47で構成され、INV47から出力される信号が記憶部43の初期化信号入力端であるRSF/FのR端子に入力される。この第8受光部45aのノードN15aの光ビームの照射の有無に対応する信号値は、図8(b)の第8受光部45のノードN15の光ビームの照射の有無に対応する信号値と逆になっているが、INV47を介してRSF/FのR端子に入力することで、記憶ブロック42aも記憶ブロック42と全く同様の動作をすることが分かる。
【0079】
次に本発明の第4の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。図10は、本実施形態の第4の検査回路60を説明するための図で、(a)は全体構成を示すブロック図、(b)は(a)の電流変調回路50の構成の一具体例を示す回路図である。尚、第4の検査回路60も、改めて図示しないが、LSI110で第2の検査回路30の代わりに搭載されたもの、即ちLSI110の第2端子11に接続されたものとして説明する。図10を参照すると、第4の検査回路60は、第3の検査回路40に電流変調回路50が付加された構成、従って比較判定部25と記憶ブロック42と電流変調回路50を備えた構成となっている。第3の検査回路40を構成する比較判定部25や記憶ブロック42は上記説明のとおりであり、以下、電流変調回路50を中心に説明する。電流変調回路50は、第9受光部51と電流制御部52で構成される。第3の検査回路40の記憶ブロック42から出力された最終判定値は電流制御部52に送られる。電流制御部52はVDDとGNDに接続されている。第9受光部51は電流制御部52に接続され、第9受光部51に対する光ビームの照射の有無に応じた信号を電流制御部52に伝達する。
【0080】
次に、電流変調回路50の動作を説明する。電流制御部52は、受光部51から受光部51における光ビームの照射の有無に応じた信号を受け、光ビームが照射されていた場合に、記憶ブロック42から出力された最終判定値が信号“1”であればVDDからGNDに電流を流し、それ以外のときには電流を流さない機能を有する。この電流を不図示の電流観測装置、例えばLSIテスタ等で観測することにより最終判定値が“1”であるか“0”であるかが分かる。即ち、受光部51への光ビームの照射時と非照射時とで、VDD−GND間に流れる電流に差があれば最終判定値は“1”であり、差が無ければ“0”であると判断できる。
【0081】
次に、電流変調回路50の一具体例を、図10(b)を参照して説明する。図10(b)を参照すると、第9受光部51は、カソードとアノードがVDDとノードN16にそれぞれ接続されたPD9と、両端がノードN16とGNDにそれぞれ接続されたR11で構成されており、ノードN16が第9受光部51の出力端となっている。又、電流制御部52は、NM3,NM4及びR12で構成され、R12の両端がNM4のソース電極とGNDにそれぞれ接続され、NM4のゲート電極がノードN16と接続され、NM4のドレイン電極とVDDの間にNM3のソース・ドレイン路が接続され、NM3のゲート電極が電流制御部52の入力端となって、記憶ブロック42から出力された最終判定値が印加される。
【0082】
次に、この電流変調回路50の動作を説明する。最終判定値が“0”であった場合、その電位は通常GNDレベルでありNM3はOFF 状態となるので、PD9への光ビームの照射の有無に関わらず、電流変調回路50のVDD−GND間に電流は流れない。一方、最終判定値が“1”であった場合、その電位は通常VDDレベルであってNM3がON状態となり、PD9へ光ビームが照射されるとノードN16の電位が上昇してNM4もON状態となり、電流変調回路50のVDD−GND間に電流が流れる。但し、PD9への光ビームの照射が無いときにはノードN16の電位はGNDレベルでNM4はOFF 状態であり、電流変調回路50のVDD−GND間に電流は流れない。この電流は、通常、被検査対象LSI110の電源電流との合計値として観測されるために、不図示の電源電流観測装置を用いて、PD9への光ビームの照射の有無に対応して電源電流の観測結果が増減すれば最終判定値は“1”であることが分かる。逆に光ビームの照射の有無によって電源電流の観測結果が変化しなければ、最終判定値は“0”であることが分かる。
【0083】
次に、電流変調回路50の他の具体例を説明する。図11は、他の具体例の電流変調回路50aの回路図である。図11を参照すると、電流変調回路50aは記憶部43の第2出力端であるRSF/FのQ端子と所定の電源であるGNDとの間に接続された第9光応答手段55で構成され、第9光応答手段55はPD9aとR11aで構成されている。尚、PD9aのカソードがRSF/FのQ端子と接続され、PD9aのアノードとGNDとの間にR11aの両端がそれぞれ接続されている。この電流変調回路50aにおいても、最終判定値が“1”であった場合にのみ、PD9aに光ビームが照射されると、Q端子、PD9a及びR11aの経路でVDD−GND間に流れる電流が被検査対象LSI110の電源電流に加算されるのは、電流変調回路の50と同様であり、詳細な説明は省略する。
【0084】
次に、LSIが信号入力用電極である第1端子、信号出力用電極である第2端子と、信号入力用電極と信号出力用電極を兼ねた第3端子を備えている場合の構成について説明する。図12は、第1端子,第2端子及び第3端子を全て備えたLSI120の模式的なブロック図である。図12に示されるように、LSI120は、第1端子71と、第2端子73と、第3端子75と、内部回路部122と、VDD及びGNDを備え、更に、第1端子71には第1の検査回路10_1が接続され、第2端子73には第4の検査回路60_1が接続され、第3端子75には第1の検査回路10_2及び第4の検査回路60_2が接続されている。即ち、第3端子75は、信号入力用電極である、と同時に信号出力用電極でもあるので、それぞれに対応する検査回路が接続されている。
【0085】
尚、LSI120が実際の装置に搭載されて使用される際は、通常、第1端子71,第2端子73及び第3端子75を含む各端子がワイヤボンディング等の公知の接続技術により外部端子に接続されて使用される。これは、先に説明したLSI100やLSI110の場合も同様である。
【0086】
第1端子71に接続された第1の検査回路10_1は、光ビームの照射により非接触で第1端子71に所望の電気信号を印加し、検査対象であるLSI120に対して電気信号を入力している。同様に、第3端子75に接続された第1の検査回路10_2は、光ビームの照射により非接触で第3端子75に所望の電気信号を印加し、LSI120に対して電気信号を入力している。
【0087】
第2端子73に接続された第4の検査回路60_1は、光ビームの照射により非接触で内部回路部122から第2端子73に出力された信号値が所定の期待値と一致しているか判定し、判定結果に応じてLSI120の電源電流を変調する。同様に、第3端子75に接続された第4の検査回路60_2は、光ビームの照射により非接触で内部回路部122から第3端子75に出力された信号値が所定の期待値と一致しているか判定し、判定結果に応じてLSI120の電源電流を変調する。
【0088】
尚、第3端子75に接続された第1の検査回路10_2及び第4の検査回路60_2が同時に動作させられることは無い。
【0089】
又、第1の検査回路10_1及び第1の検査回路10_2の機能は上述した第1の検査回路10と同じであり、第4の検査回路60_1及び第4の検査回路60_2の機能は第4の検査回路60と同じであるので詳細な説明は省略する。
【0090】
次に、LSI120の検査方法について図面を参照して説明する。図13は、LSI120の検査方法の一例を説明するフローチャートである。LSIの検査においては、予め定められた入力信号をLSIに入力したときに、予め定められた期待値信号と一致した出力信号が出力されれば、LSIは良品と判断され、一致しなければ不良品と判断される。
【0091】
本発明のLSIの検査方法は、複数の光ビームの照射の有無の組み合わせにより、所望の信号を印加する第1検査回路及び出力された信号と期待値との比較を行う機能を有する第2検査回路を備えたLSIの検査方法であって、
予め定められた波長、強度、大きさの光ビームを第2検査回路の予め定められた場所の受光部に照射し初期化を行うステップ(図13のステップ101とステップ102)と、
予め定められた波長、強度、大きさの光ビームを予め定められたスケジュールで第1検査回路の予め定められた場所の受光部に照射して、当該LSIにテスト信号を入力するステップ(図13のステップ103とステップ104)と、
予め定められた波長、強度、大きさの光ビームを予め定められたスケジュールで第2検査回路の予め定められた場所の受光部に照射して、当該LSIの出力信号と期待値とを比較し、比較結果を判定値として出力するステップ(図13のステップ105とステップ106)と、
予め定められた波長、強度、大きさの光ビームを第2検査回路の予め定められた場所の受光部に照射し、当該LSIの電源電流の増加の有無でLSIの検査結果を知るステップ(図13のステップ107とステップ108)を、含み構成される。
【0092】
尚、LSI120では、第1の検査回路10_1及び第1の検査回路10_2が上記LSIの検査方法における第1検査回路に該当し、第4の検査回路60_1及び第4の検査回路60_2が第2検査回路に該当する。以下、具体的に説明する。
【0093】
LSI120の検査を実施するには、予め定められた入力信号を生成するために、第1の検査回路10_1や第1の検査回路10_2に対し、それぞれ2本の光ビームを適当なタイミングで照射/無照射を行い、予め定められた入力信号を生成する。生成された入力信号は第1端子71や第3端子75を介してLSI120に入力される(図13のステップ103、ステップ104)。
【0094】
LSI120の出力は第2端子73や第3端子75に表われる。これらの信号が予め定められた期待値信号と一致するか否かを判断するため、第4の検査回路60_1に含まれる比較判定部25_1や第4の検査回路60_2に含まれる比較判定部25_2に5本の光ビームをそれぞれ適当なタイミングで照射/無照射を行う。期待値信号と出力信号との比較は複数の時刻で行われるのが普通である、各時刻において期待値信号と出力信号との比較が実施され、その度に、一致、不一致の判定値が比較判定部25_1や比較判定部25_2から出力される(図13のステップ105、ステップ106)。
【0095】
検査開始前に第4の検査回路60_1含まれる記憶ブロック42_1及び第4の検査回路60_2に含まれる記憶ブロック42_2に光ビームを照射することで、これらの記憶状態は初期化されている(図13のステップ101、ステップ102)。検査開始によって、各時刻における期待値信号と出力信号との一致、不一致の判定値が記憶ブロック42_1や記憶ブロック42_2に送られてくる。記憶ブロック42_1や記憶ブロック42_2では判定値として不一致が送られてきたかどうかを記憶し、最終的に光ビームの照射によって不一致が送られてきたか否かを最終判定値(不一致の有無)としてそれぞれ出力する。この出力を観測することでLSI120の検査結果が判明する。又、記憶ブロック42_1や記憶ブロック42_2の最終判定値の出力を不図示の論理和回路(或いは論理積回路)で圧縮して1つの圧縮出力とすることで、この圧縮出力のみを観測することでLSI120の検査結果を知ることが可能となる。
【0096】
第4の検査回路60_1に含まれる電流変調回路50_1や第4の検査回路60_2に含まれる電流変調回路50_2では、光ビームの照射/無照射と最終判定値によってLSI120の電源電流に反映させる(図13のステップ107、ステップ108)。即ち、不一致があれば光ビームの照射により電源電流値を増加させ、光ビームの無照射時、又は不一致が無い場合には電源電流を増加させない。
【0097】
最終的にLSIテスタ等の電源電流観測装置(図示せず)によって電源電流を観測し、電流変調回路50_1や電流変調回路50_2に光ビームが照射されたとき電源電流が増加すればLSI120は不良品と判定され、電源電流が不変であればLSI120は良品と判定される。
【0098】
次に具体的なテスト信号を用いたLSIの検査手法を説明する。
図14は、図12に示したLSI120を検査するためのテスト信号(入力信号、出力期待値信号)の一例をタイミングチャート風に表した図である。図14に示した例を用いてLSI120の検査方法を具体的に説明する。
【0099】
第1の検査回路10_1は光ビームA1と光ビームA2の照射の有無により信号“0”,“1”,“Z”を生成し、第1端子71に印加する。第1の検査回路10_1は光ビームA1のみが照射されたときに信号“1”を生成し、光ビームA2のみが照射されたときに信号“0”を生成する。いずれの光ビームも照射されないときには信号“Z”を生成する。
【0100】
第1の検査回路10_2は光ビームB1と光ビームB2の照射の有無により信号“0”,“1”,“Z”を生成し、第3端子75に印加する。第1の検査回路10_2は光ビームB1のみが照射されたときに信号“1”を生成し、光ビームB2のみが照射されたときに信号“0”を生成する。光ビームB1,B2のいずれも照射されないときには信号“Z”を生成する。更に、比較判定部25_2は光ビームC1〜C5の5本の光ビームの照射/無照射により、第3端子75の信号値を観測し、特定の時刻において期待信号値との比較を行い、両者の一致、不一致を判定し、判定値を記憶ブロック42_2に伝達する。第3端子75の信号値が“1”であるかの判定には(即ち、出力期待信号値は“1”)、光ビームC1と光ビームC4を照射し、光ビームC2と光ビームC3は照射しない。このような状態において、信号値を判定する時刻において光ビームC5を照射すると、この時点で第3端子75の信号値が“1”であれば一致なる判定値を出力し、信号値が“1”以外の場合には不一致なる判定値を出力する。同様に第3端子75の信号値が“0”であるかの判定には(即ち、出力期待信号値は“0”)、光ビームC2と光ビームC3を照射し、光ビームC1と光ビームC4は照射しない。このような状態において、信号値を判定する時刻において光ビームC5を照射すると、この時点で第3端子75の信号値が“0”であれば一致なる判定値を出力し、信号値が“0”以外の場合には不一致なる判定値を出力する。更に、第3端子75の信号値が“Z”であるかの判定には(即ち、出力期待信号値は“Z”)、光ビームC1と光ビームC3を照射し、光ビームC2と光ビームC4は照射しない。このような状態において、信号値を判定する第1の時刻において光ビームC5を照射する、続いて、光ビームC2と光ビームC4を照射し、光ビームC1と光ビームC3は照射しない。このような状態において、信号値を判定する第2の時刻において光ビームC5を照射する。信号値を判定する第1の時刻、及び第2の時刻において入出力端子の値が常に“Z”であれば一致なる判定値を出力し、そうでなければ不一致なる判定値を出力する。
【0101】
記憶ブロック42_2は光ビームC6の照射によって記憶が初期化される。電流変調回路50_2は光ビームC7の照射によって記憶ブロック42_2に不一致が記憶されていれば電源電流値を増大させ、一致しか記憶されていなければ電源電流値に影響を与えない。
【0102】
比較判定部25_1は、5本の光ビームD1〜D5の照射/無照射によって、第2端子73の信号値と期待値との比較を行い、判定値を出力する。第2端子73の値が“1”であるかの判定には、光ビームD1と光ビームD4を照射し、光ビームD2と光ビームD3は照射しない、判定時刻において光ビームD5を照射することで、この時刻で第2端子73の信号値が“1”であれば一致なる判定値を出力し、そうでなければ不一致なる判定値を出力する。又、第2端子73の値が“0”であるかの判定には、光ビームD2と光ビームD3を照射し、光ビームD1と光ビームD4は照射しない、判定時刻において光ビームD5を照射することで、この時刻で第2端子73の信号値が“0”であれば一致なる判定値を出力し、そうでなければ不一致なる判定値を出力する。更に、第2端子73の値が“Z”であるかの判定には、光ビームD1と光ビームD3を照射し、光ビームD2と光ビームD4は照射しない、そして第1の判定時刻において光ビームD5を照射する。次に、光ビームD2と光ビームD4を照射し、光ビームD1と光ビームD3は照射しない、そして第2の判定時刻において光ビームD5を照射する。いずれの判定時刻においても第2端子73の信号値が“Z”であれば一致なる判定値を出力し、そうでなければ不一致なる判定値を出力する。記憶ブロック42_1は光ビームD6の照射により記憶状態が初期化され、以降比較判定部25_1から送られてくる一致、不一致の判定値を記憶する。電流変調回路50_1は記憶ブロック42_1に不一致の記憶があれば、光ビームD7の照射により電源電流を増加させる。
【0103】
第1端子71に印加されるテスト信号は図14に示すように時刻T1〜T6において“0”,“1”,“1”,“0”,“1”,“0”である。これらのテスト信号を第1端子71に印加するために、光ビームA1と光ビームA2を図14に示したようなスケジュールで照射する。ここで斜線で塗りつぶされている区間が各光ビームを照射している期間である(図14中の他の光ビームも同じ意味)。即ち、光ビームA1の照射によって信号“1”を、光ビームA2の照射によって信号“0”を第1端子71に印加している。
【0104】
第3端子75は信号入出力兼用端子であり、信号の入力と出力に用いられる。図14に示した例では、時刻T1、T2において信号“1”,“0”を印加し、時刻T3,T4においては出力信号が表われ、その期待信号値はいずれも“1”である(“H”は出力期待値が“1”であることを示す)。続く時刻T5では信号“0”が印加され、時刻T6では再度出力信号が表われ、その期待値は“0”となる(“L”は出力期待値が“0”であることを示す)。これらの信号を印加、観測するために図14に示すようなスケジュールで光ビームB1,B2、光ビームC1〜C5が照射される。即ち、時刻T1で信号“1”を印加するために光ビームB1が照射され、時刻T2及び時刻T5で信号“0”を印加するために光ビームB2が照射される。時刻T3,T4での期待値信号値“1”との判定においては、光ビームC1,C4を照射し、光ビームC2,C3を無照射としている。そして判定タイミングにおいて光ビームC5を照射し、第3端子75における信号値と期待値“1”との一致を判定している。又時刻T6での期待値信号値“0”に対する判定では光ビームC2,C3を照射すると共に、光ビームC1,C4を無照射としている。そして判定タイミングにおいて光ビームC5を照射し、第3端子75における出力信号値と期待値“0”との一致を判定している。尚、これに先立ち、記憶ブロック42_2を初期化するために時刻T0に光ビームC6を照射している。
【0105】
第2端子73は出力端子であり、出力信号のみが表われる。“H”と“L”の意味は第3端子75の場合と同じであり、それぞれ期待信号値が“1”、“0”であることを示す。更に、“X”は期待信号値が不定、或いは判定の必要が無いことを意味し、“Z”は期待信号値が“Z”であることを意味する。時刻T1,T2では第2端子73の信号値の判定の必要が無いために光ビームD1〜D5は照射されない。時刻T3,T6においては期待信号値が“1”であるために光ビームD1とD4が照射され、光ビームD2とD3は無照射である。そして、判定タイミングにおいて光ビームD5が照射されて第2端子73における出力信号値と期待信号値“1”との比較が行われ、一致が判定される。時刻T4では期待信号値が“0”であるため、光ビームD2とD3が照射され、光ビームD1とD4は照射されない。そして、判定タイミングにおいて光ビームD5が照射されて第2端子73における出力信号値と期待信号値“0”との比較が行われ、一致が判定される。時刻T5では第2端子73の出力信号値が“Z”であるか否かを判定している。そのために先ず光ビームD1とD3を照射し、光ビームD2とD4とを無照射としている。そして第1の判定タイミングにおいて光ビームD5を照射している。更に、光ビームD1とD3の照射を停止すると共に、光ビームD2とD4の照射を開始している。そして第2の判定タイミングにおいて光ビームD5を照射している。これにより第2端子73の出力信号値がそれぞれの判定タイミングで“Z”であれは判定値として一致が得られる。尚、これらに先立ち記憶ブロック42_1の初期化のために光ビームD6を時刻T0において照射している。最終的にLSI120の出力信号値が期待信号値と一致したか否かを判断するために時刻T7以降に光ビームC7及びD7を照射している。もし、不一致が存在した場合、光ビームC7及びD7の照射時にのみ電源電流値が上昇することが観察されるために、不図示の電源電流観測装置によって、その増加を検知することでLSI120の出力信号値と期待信号値との比較結果が判明し、即ち、LSI120の検査結果が得られることとなる。
【0106】
尚、本発明は上記実施形態の説明に限定されるものでなく、その要旨の範囲内において種々変更が可能である。例えば、上記実施形態は各検査回路がLSIの各端子に接続された例で説明したが、必要に応じて内部回路部の特定のノードに接続するようにしてもよい。特に、LSIの開発時の各種評価等に際して、予めこのような検査回路が組み込まれていれば、内部回路の詳細な評価が可能になるという効果がある。又、必ずしも全ての信号端子に検査回路接続する必要は無く、各信号端子で入力或いは出力される信号の特性に応じて選択的に接続してもよい。
【0107】
【発明の効果】
以上説明したとおり、本発明によれば、ウエハ状態のLSIの電気的特性を、信号用電極に非接触で検査することができる。このため、電源供給用のプローブさえ準備すればよく、プローブの作成が容易になると共に、プローブの機械的接触によるLSIの破壊の虞も低減できる、という効果が得られる。
【0108】
又、検査における信号の印加や観測にプローブとして光ビームを用いることで、プローブサイズの微細化やプローブ位置精度の高精度化が可能となり、より高密度なLSIの検査が実施できる、という効果も得られる。
【0109】
更に、光ビームを用いて電気信号を印加、観測するので、インダクタンス等の影響を受けず高速に電気信号の印加、観測が可能となり、より高い周波数を用いたLSIの検査を容易に実施できる、という効果も得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の検査回路及びこの検査回路を内蔵するLSIの第1の実施形態を説明するための図で、(a)はLSIの模式的な概略平面図、(b)はこのLSIに内蔵される第1の検査回路の構成を示すブロック図である。
【図2】第1の検査回路によるLSIへの信号入力方法を説明する図である。
【図3】第1の検査回路の具体例を示す回路図である。
【図4】第1の検査回路の変形例を説明するための図で、(a)及び(b)はそれぞれブロック図と、一例の具体的な回路図である。
【図5】本発明の第2の実施形態を説明するための図で、(a)はLSIの模式的な概略平面図、(b)はこのLSIに内蔵される第2の検査回路の構成を示すブロック図である。
【図6】第2の検査回路の一具体例を説明するための図で、(a)は全体回路図、(b)及び(c)はゲート部の詳細回路の例である。
【図7】第2の検査回路の変形例を説明するための図で、(a)及び(b)はそれぞれブロック図と、一例の具体的な回路図である。
【図8】本発明の第3の実施形態の第3の検査回路説明するための図で、(a)は全体構成を示すブロック図、(b)は(a)の記憶回路の構成を示す回路図である。
【図9】他の具体例の記憶ブロックの回路図である。
【図10】本発明の第4の実施形態の第4の検査回路を説明するための図で、(a)は全体構成を示すブロック図、(b)は(a)の電流変調回路の構成の一具体例を示す回路図である。
【図11】他の具体例の電流変調回路の回路図である。
【図12】第1端子,第2端子,並びに信号入力用電極及び信号出力用電極を兼ねた第3端子を全て備えたLSIの模式的なブロック図である。
【図13】図12のLSIの検査方法の一例を説明するフローチャートである。
【図14】図12に示したLSIを検査するためのテスト信号(入力信号、出力期待値信号)の一例をタイミングチャート風に表した図である。
【符号の説明】
1 第1受光部
2 第2受光部
3 “1”信号供給部
4,13 出力制御部
5 “0”信号供給部
6,71 第1端子
7 第1光応答手段
8 第2光応答手段
10 第1の検査回路
11,73 第2端子
12 第3受光部
14 第4受光部
16 第5受光部
17 制御部
18 第6受光部
19,35 比較部
20 ゲート部
21 第7受光部
25 比較判定部
30 第2の検査回路
31 第3光応答手段
32 第4光応答手段
33 第5光応答手段
34 第6光応答手段
36 第7光応答手段
40 第3の検査回路
42 記憶ブロック
43 記憶部
45 第8受光部
47 INV
50 電流変調回路
51 第9受光部
52 電流制御部
55 第9光応答手段
60 第4の検査回路
75 第3端子
100,110,120 LSI
102,112,122 内部回路部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device (hereinafter referred to as an LSI) having an inspection circuit and an inspection method thereof, and more particularly, to input an electrical signal in a non-contact manner to an LSI fabricated on a wafer using a light beam. The present invention also relates to an LSI including an inspection circuit that detects an electrical signal of an LSI using a light beam in a non-contact manner and confirms that the LSI is operating as designed, and an inspection method thereof.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, in an inspection of an LSI manufactured on a wafer, an LSI is inspected by inputting an electrical signal, observing an electrical output signal corresponding to the input, and comparing it with an expected value. Therefore, in order to input an electrical signal to the LSI on the wafer or to observe the electrical signal, a probe formed on the needle is mechanically placed in a region called a pad provided on the wafer. An electrical connection is configured by pressing, an electrical signal is input to the LSI from the outside of the LSI, and an electrical output signal has been observed.
[0003]
By the way, as the miniaturization of LSI progresses and the circuit scale increases, the number of pads installed on the LSI increases, and the pad area is reduced and the pad density is increased. For this reason, there is an urgent need for a probe that electrically connects an LSI to the outside via a pad to be thinner and denser. However, it is very difficult to fabricate the probe to be thin and dense, and to accurately contact a predetermined pad position, which makes it difficult to manufacture the probe. Furthermore, in order to bring the probe into contact with the pad accurately, precise alignment is necessary, and operability is a problem.
[0004]
In addition, in order to make electrical connection with the LSI using the probe, it is necessary to bring the probe into mechanical contact with the LSI, which inevitably causes damage to the LSI and wear of the probe.
[0005]
Therefore, in
[0006]
In
[0007]
In
[0008]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 4-139846 (FIGS. 1-3, p. 2)
[Patent Document 2]
JP-A-4-5582 (FIG. 1, p. 3)
[Patent Document 3]
JP-A 64-81244 (FIG. 1, p. 3)
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, the method of
[0010]
Further, in the method of
[0011]
Furthermore, in the method of
[0012]
As described above, in the prior art, regarding signal input, an optical signal is converted into an electrical signal using a photoelectric conversion element (means) and input to an LSI. However, there are specific circuits and methods. It is not specified, and it is unclear whether an electric signal can actually be input to an LSI using an optical signal. For example, it is not disclosed which device is used and in which method “1” (high level), “0” (low level), and “Z” (high impedance) are input to the LSI.
[0013]
Also, regarding the observation of the output signal, it is said that the LSI electrical signal is converted into an optical signal by using a photoelectric conversion element (means), and the optical signal is observed to perform the non-contact observation of the LSI electrical signal. However, specific circuits and devices are not shown, and it is unclear whether this can be realized in practice. For example, it is not disclosed how to detect “1”, “0”, “Z” in an electrical signal using an optical signal.
[0014]
An object of the present invention is to provide an inspection circuit capable of inputting electrical signals of “0”, “1”, and “Z” to an LSI in a non-contact manner using an optical signal in the inspection of the LSI. Another object of the present invention is to provide a method for inputting “0”, “1”, and “Z” signals in a non-contact manner to an LSI using this inspection circuit.
[0015]
Another object of the present invention is to provide an inspection circuit capable of observing an electrical signal of “0”, “1”, “Z” of an LSI in a non-contact manner using an optical signal in the inspection of the LSI. Furthermore, another object of the present invention is to provide a method for observing each signal of “0”, “1”, and “Z” in a non-contact manner with the LSI using this inspection circuit.
[0016]
[Means for Solving the Problems]
Therefore, the first inspection circuit according to the present invention is irradiated with the first light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, and detects the presence or absence of the irradiation,
A second light receiving unit that is irradiated with a second light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the presence or absence of the irradiation;
A “1” signal supply unit for supplying a “1” signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” signal;
An output control unit that outputs a signal from a “1” signal supply unit or a “0” signal supply unit as a first signal depending on whether or not each light beam is irradiated in the first light receiving unit and the second light receiving unit. The first signal is applied to the signal input electrode.
[0017]
Alternatively, the first inspection circuit includes a “1” signal supply unit that supplies a “1” signal, a “0” signal supply unit that supplies a “0” signal,
Connected between the first node connected to the signal input electrode and the “1” signal supply unit, and when a first light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated, “1” A first optical response means for transmitting a signal to the first node;
Connected between the first node and the “0” signal supply unit, and when a second light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated, a “0” signal is transmitted to the first node. It is also possible to adopt a configuration having second optical response means to be transmitted.
[0018]
The second inspection circuit of the present invention is
A comparison / determination unit having a function of comparing a signal value output from the signal output electrode with a predetermined signal value and outputting a comparison result as a determination value according to a combination of presence / absence of irradiation with a plurality of different light beams; Features.
[0019]
The third inspection circuit of the present invention is
A comparison / determination unit having a function of comparing a signal value output from the signal output electrode with a predetermined signal value and outputting a comparison result as a determination value by a combination of the presence or absence of irradiation with a plurality of different light beams;
An eighth light receiving unit that is irradiated with an eighth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the presence or absence of the irradiation;
A storage unit that is initialized by irradiation of the light beam to the eighth light receiving unit, stores an input signal value after initialization, and outputs it as a final determination value;
The determination value may be input to the storage unit.
[0020]
The fourth inspection circuit of the present invention is
A comparison / determination unit having a function of comparing a signal value output from the signal output electrode with a predetermined signal value and outputting a comparison result as a determination value by a combination of the presence or absence of irradiation with a plurality of different light beams;
An eighth light receiving unit that is irradiated with an eighth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the presence or absence of the irradiation;
A storage state is initialized by irradiation of the light beam to the eighth light receiving unit, an input signal value after initialization is stored and output as a final determination value;
A ninth light receiving unit that is irradiated with a ninth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the presence or absence of the irradiation;
A current control unit having a function of increasing a power supply current by the presence or absence of irradiation of the light beam to the ninth light receiving unit and the final determination value;
The determination value may be input to the storage unit.
[0021]
Alternatively, the fourth inspection circuit is
A comparison / determination unit having a function of comparing a signal value output from the signal output electrode with a predetermined signal value and outputting a comparison result as a determination value by a combination of the presence or absence of irradiation with a plurality of different light beams;
An eighth light receiving unit that is irradiated with an eighth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the presence or absence of the irradiation;
A storage state is initialized by irradiation of the light beam to the eighth light receiving unit, an input signal value after initialization is stored, and a storage unit that outputs from the second output terminal as a final determination value;
A ninth optical response means connected between the second output terminal and a predetermined power source and conducting when a ninth light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated;
The determination value may be input to the storage unit.
[0022]
In the second to fourth inspection circuits, the comparison / determination unit includes:
A third light receiving unit that is irradiated with a third light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the presence or absence of the irradiation;
A fourth light receiving unit that is irradiated with a fourth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the presence or absence of the irradiation;
A “1” signal supply unit for supplying a “1” signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” signal;
A second output that outputs a signal from the “1” signal supply unit or the “0” signal supply unit as a second signal depending on whether or not each light beam is irradiated in the third light receiving unit and the fourth light receiving unit. A control unit;
A fifth light receiving unit that is irradiated with a fifth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the irradiation;
A sixth light receiving unit that is irradiated with a sixth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the irradiation;
A control unit that outputs, as a third signal, a signal value determined from whether or not each light beam is irradiated to the fifth light receiving unit and the sixth light receiving unit, and a signal value of the signal output electrode;
The second signal and the third signal are inputted, the signal value of the second signal is compared with the signal value of the third signal, the coincidence or mismatch is judged, and the result is outputted as the fourth signal A comparison unit;
A seventh light receiving unit that is irradiated with a seventh light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the irradiation;
And a gate portion that outputs the fourth signal as a determination value by irradiation of the seventh light beam in the seventh light receiving portion.
[0023]
Alternatively, the comparison determination unit
A “1” signal supply unit for supplying a “1” signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” signal;
Connected between a predetermined second node and the “1” signal supply unit, and when a third light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated, a “1” signal is transmitted to the second node. A third optical response means transmitted to
Connected between the second node and the “0” signal supply unit, and when a fourth light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated, a “0” signal is transmitted to the second node. A fourth optical response means to be transmitted;
When a fifth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size is irradiated between the third node connected to the signal output electrode and the “1” signal supply unit, “1” A fifth optical response means for transmitting a signal to the third node;
Connected between the third node and the “0” signal supply unit, and when a sixth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size is irradiated, a “0” signal is transmitted to the third node. Transmitted sixth optical response means;
One of the two comparison input terminals is connected to the second node and the other is connected to the third node, respectively. The second signal input from the second node and the third signal input from the third node A comparator that compares the signal values, determines the match and mismatch, and outputs the result as a fourth signal from the first output end;
The fourth signal is transmitted to the fourth node when a seventh light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size is irradiated between the first output terminal and the fourth node. It is good also as a structure which has a 7th optical response means output as a determination value.
[0024]
The LSI inspection method of the present invention includes a first inspection circuit that applies a desired signal and a second inspection circuit that has a function of comparing an output signal with an expected value based on a combination of the presence or absence of irradiation of a plurality of light beams. An LSI inspection method comprising:
Irradiating a light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size to a light receiving unit at a predetermined location of the second inspection circuit to perform initialization (
A step of irradiating a light receiving unit at a predetermined location of the first inspection circuit with a light beam having a predetermined wavelength, intensity and size according to a predetermined schedule and inputting a test signal to the LSI (FIG. 13
A light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size is irradiated on a light receiving unit at a predetermined location of the second inspection circuit according to a predetermined schedule, and the output signal of the LSI is compared with an expected value. And a step of outputting the comparison result as a determination value (
[0025]
In addition, the LSI inspection method of the present invention irradiates a light receiving unit at a predetermined location of the second inspection circuit with a predetermined schedule, a light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size. It may be configured to further include a step (
[0026]
In the present invention, an electrical signal is applied to the LSI to be inspected according to the presence or absence of irradiation of two light beams respectively corresponding to the two light receiving portions. For this reason, it is possible to apply an electrical signal without mechanically contacting the LSI to be inspected. In the present invention, the signal value of the LSI to be inspected is compared with the expected value depending on whether or not the five light beams respectively corresponding to the five light receiving portions are irradiated. For this reason, it is possible to observe an electrical signal without mechanically contacting the LSI to be inspected.
[0027]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the same components are denoted by the same reference numerals, and repeated description is omitted.
1A and 1B are diagrams for explaining a first embodiment of an inspection circuit of the present invention and an LSI incorporating the inspection circuit. FIG. 1A is a schematic schematic plan view of the LSI, and FIG. It is a block diagram which shows the structure of the 1st test | inspection circuit built in. Referring to FIG. 1, the
[0028]
Next, the operation of the
[0029]
Further, in the following description, each light beam applied to each light receiving unit must have an intensity and a wavelength that can detect the presence or absence of irradiation in each light receiving unit. This is because the light receiving section usually has sensitivity characteristics with respect to the wavelength of the light beam and sensitivity characteristics with respect to intensity. Furthermore, since each light beam irradiates the inspection circuit from the outside, it is necessary to transmit the substance on the upper layer of each light receiving part formed on the LSI to reach the light receiving part, and select the wavelength and intensity. Therefore, it is necessary to make the size of the light beam sufficiently thin so that irradiation / non-irradiation of the light beam can be detected by the light receiving portion and interference between adjacent light receiving portions is avoided.
[0030]
FIG. 2 is a diagram for explaining a signal input method to the
[0031]
Next, a specific example of the
[0032]
In this configuration, when neither PD1 nor PD2 is irradiated with a light beam, both PD1 and PD2 are in the OFF state, VDD is applied to the gate electrode of PM1, and GND is applied to the gate electrode of NM1. Therefore, both PM1 and NM1 are non-conductive, the node N11 is in a floating state, and the “Z” signal is applied to the
[0033]
When PD1 and PD2 are simultaneously irradiated with the first light beam A and the second light beam B, respectively, PM1 and NM1 become conductive at the same time, and a large current flows between VDD and GND. Simultaneous irradiation with a light beam is prohibited.
[0034]
Next, a modified example of the
Connected between the first node N1 and the “1”
Connected between the first node N1 and the “0”
[0035]
More specifically, PD1a as the first light response means 7 and PD2a as the second light response means 8 are provided, and the anode and cathode of PD1a are connected to the first node N1 and VDD, respectively, and the anode of PD2a And the cathode are respectively connected to the GND and the first node N1, and the first node N1 is connected to the
[0036]
The operation of this modification will be described. When neither PD1a nor PD2a is irradiated with a light beam, both PD1a and PD2a are in the OFF state, the first node N1 is in a floating state, and the “Z” signal is applied to the
[0037]
Next, a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. 5A and 5B are diagrams for explaining a second embodiment of the present invention. FIG. 5A is a schematic schematic plan view of an LSI, and FIG. 5B is a configuration of a second inspection circuit built in the LSI. FIG. Referring to FIG. 5, the
[0038]
The
[0039]
The fifth
[0040]
A “1”
[0041]
The other input terminal of the
[0042]
The seventh
[0043]
In the
[0044]
Next, the operation of the
First, an operation for determining whether or not the signal value “1” is output to the
[0045]
As a result, when the signal value “1” is output to the
[0046]
Next, an operation for determining whether or not the signal value “0” is output to the
[0047]
As a result, if the signal value “0” is output from the
[0048]
Next, an operation for determining whether or not the signal value “Z” is output from the
[0049]
Subsequently, by irradiating the fourth
[0050]
As described above, if the signal value “Z” is output from the
[0051]
When the signal value of the
[0052]
In the
[0053]
Next, a specific example of the
6A and 6B are diagrams for explaining a specific example of the
[0054]
The fifth
[0055]
The
[0056]
Next, the operation of a specific example of the
First, an operation for determining whether or not the signal value “1” is output to the
[0057]
As a result, the signal value “1” is applied to the control input terminal C of the
[0058]
Next, an operation for determining whether or not the signal value “0” is output to the
[0059]
As a result, the signal value “1” is applied to the control input terminal C of the
[0060]
Next, an operation for determining whether or not the signal value “Z” is output from the
[0061]
Subsequently, only the NM2 is turned on by irradiating the PD4 with the light beam and not the PD3, so that the signal value of the node N13 becomes “0”, and the signal value “0” is input to the input terminal IN1 of the XOR. The Further, only the NM3 is turned on by irradiating the
[0062]
As described above, also in the specific example of the
[0063]
When the signal value of the
[0064]
Further, when PM2 and NM2 are simultaneously turned on, a large current flows between VDD and GND, so that it is prohibited to irradiate PD3 and PD4 with a light beam at the same time.
[0065]
Next, a modification of the
“1”
Connected between the second node N2 and the “1”
Connected between the second node N2 and the “0”
Connected between the third node N3 connected to the
Connected between the third node N3 and the “0”
One of the two comparison input terminals, the input terminal IN1 is connected to the second node N2, and the other input terminal IN2 is connected to the third node N3. The second signal input from the second node N2 and the third signal
The fourth signal is transmitted to the fourth node N4 when the seventh light beam is connected between the output terminal OUT and the fourth node N4 and is irradiated with a predetermined wavelength, intensity, and size. The seventh optical response means 36 that is output as
[0066]
More specifically, the
[0067]
The anode and cathode of PD3a are connected to the second node N2 and VDD, respectively, the anode and cathode of PD4a are connected to GND and the second node N2, respectively, and R5a is connected between VDD and the cathode of PD5a, The anode of PD5a and the cathode of PD6a are connected to the third node N3, R6a is connected between the anode of PD6a and GND, and the third node N3 is connected to the
[0068]
Next, the operation of the
When PD3a is irradiated with a light beam and PD4a is not irradiated with a light beam, PD3a is turned on and PD4a is turned off, so that the signal value of the second node N2 is “1”, and the signal value “is” at the input terminal IN1 of XOR. 1 "is input. Conversely, when the PD4a is irradiated with the light beam and the PD3a is not irradiated with the light beam, the signal value of the second node N2 is “0”, and the signal value “0” is input to the input terminal IN1 of the XOR. .
[0069]
When the PD5a is irradiated with the light beam and the PD6a is not irradiated with the light beam, the PD5a is turned on and the PD6a is turned off. At this time, when the signal value output from the
[0070]
When the PD6a is irradiated with the light beam and the PD5a is not irradiated with the light beam, the PD6a is turned on and the PD5a is turned off. At this time, when the signal value output from the
[0071]
Next, a method for determining the signal value of the
First, in order to determine whether the signal value output from the
[0072]
In order to determine whether or not the signal value output from the
[0073]
Note that the wavelength and intensity of the light beam must be such that each photodiode can be appropriately turned on, and is sufficient to irradiate only a predetermined photodiode and not to other photodiodes. It is necessary to narrow down to details.
[0074]
Next, a third embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIGS. 8A and 8B are diagrams for explaining the
[0075]
The operation of the
[0076]
Next, a specific example of the
[0077]
Next, the operation of the
[0078]
Next, another specific example of the
[0079]
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. 10A and 10B are diagrams for explaining a
[0080]
Next, the operation of the
[0081]
Next, a specific example of the
[0082]
Next, the operation of the
[0083]
Next, another specific example of the
[0084]
Next, a description will be given of a configuration when the LSI includes a first terminal that is a signal input electrode, a second terminal that is a signal output electrode, and a third terminal that serves both as a signal input electrode and a signal output electrode. To do. FIG. 12 is a schematic block diagram of the
[0085]
When the
[0086]
The first inspection circuit 10_1 connected to the first terminal 71 applies a desired electric signal to the first terminal 71 in a non-contact manner by irradiation with a light beam, and inputs the electric signal to the
[0087]
The fourth inspection circuit 60_1 connected to the
[0088]
Note that the first inspection circuit 10_2 and the fourth inspection circuit 60_2 connected to the
[0089]
The functions of the first inspection circuit 10_1 and the first inspection circuit 10_2 are the same as those of the
[0090]
Next, an inspection method for the
[0091]
The LSI inspection method of the present invention includes a first inspection circuit that applies a desired signal and a second inspection function that compares an output signal with an expected value based on a combination of the presence or absence of irradiation of a plurality of light beams. A method for inspecting an LSI having a circuit,
Irradiating a light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size to a light receiving unit at a predetermined location of the second inspection circuit to perform initialization (
A step of irradiating a light receiving unit at a predetermined location of the first inspection circuit with a light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size according to a predetermined schedule and inputting a test signal to the LSI (FIG. 13). Step 103 and step 104) of FIG.
A light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size is irradiated onto a light receiving unit at a predetermined location of the second inspection circuit according to a predetermined schedule, and the output signal of the LSI is compared with an expected value. , Outputting the comparison result as a determination value (
A step of irradiating a light receiving unit at a predetermined location of the second inspection circuit with a light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, and knowing the result of the LSI inspection based on whether or not the power supply current of the LSI increases. 13
[0092]
In the
[0093]
In order to inspect the
[0094]
The output of the
[0095]
By irradiating the storage block 42_1 included in the fourth inspection circuit 60_1 and the storage block 42_2 included in the fourth inspection circuit 60_2 before the start of inspection, these storage states are initialized (FIG. 13).
[0096]
In the current modulation circuit 50_1 included in the fourth inspection circuit 60_1 and the current modulation circuit 50_2 included in the fourth inspection circuit 60_2, the light source irradiation / non-irradiation and the final determination value are reflected in the power supply current of the LSI 120 (FIG. 13
[0097]
Finally, the power supply current is observed by a power supply current observation device (not shown) such as an LSI tester, and if the power supply current increases when the current modulation circuit 50_1 or the current modulation circuit 50_2 is irradiated with the light beam, the
[0098]
Next, an LSI inspection method using a specific test signal will be described.
FIG. 14 is a timing chart-like example of a test signal (input signal, output expected value signal) for inspecting the
[0099]
The first inspection circuit 10_1 generates signals “0”, “1”, and “Z” depending on whether or not the light beams A1 and A2 are irradiated, and applies them to the first terminal 71. The first inspection circuit 10_1 generates a signal “1” when only the light beam A1 is irradiated, and generates a signal “0” when only the light beam A2 is irradiated. When no light beam is irradiated, a signal “Z” is generated.
[0100]
The first inspection circuit 10_2 generates signals “0”, “1”, and “Z” depending on whether or not the light beam B1 and the light beam B2 are irradiated, and applies them to the
[0101]
The storage of the storage block 42_2 is initialized by irradiation with the light beam C6. The current modulation circuit 50_2 increases the power supply current value if the mismatch is stored in the storage block 42_2 by the irradiation of the light beam C7, and does not affect the power supply current value if only the match is stored.
[0102]
The comparison / determination unit 25_1 compares the signal value of the
[0103]
As shown in FIG. 14, the test signals applied to the first terminal 71 are “0”, “1”, “1”, “0”, “1”, “0” at times T1 to T6. In order to apply these test signals to the first terminal 71, the light beam A1 and the light beam A2 are irradiated according to a schedule as shown in FIG. Here, the section filled with diagonal lines is the period during which each light beam is irradiated (the other light beams in FIG. 14 have the same meaning). That is, the signal “1” is applied to the first terminal 71 by the irradiation of the light beam A1, and the signal “0” is applied to the first terminal 71 by the irradiation of the light beam A2.
[0104]
The
[0105]
The
[0106]
In addition, this invention is not limited to description of the said embodiment, A various change is possible within the range of the summary. For example, although the above embodiment has been described with an example in which each inspection circuit is connected to each terminal of the LSI, it may be connected to a specific node of the internal circuit unit as necessary. Particularly, when such an inspection circuit is incorporated in advance in various evaluations at the time of LSI development, there is an effect that detailed evaluation of the internal circuit becomes possible. Further, it is not always necessary to connect the inspection circuit to all the signal terminals, and they may be selectively connected according to the characteristics of signals input or output at each signal terminal.
[0107]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the electrical characteristics of the LSI in the wafer state can be inspected without contact with the signal electrode. For this reason, it is only necessary to prepare a probe for supplying power, which makes it easy to create the probe and reduces the possibility of LSI destruction due to mechanical contact of the probe.
[0108]
In addition, by using a light beam as a probe for signal application and observation in inspection, the probe size can be miniaturized and the probe position accuracy can be increased, so that higher density LSI inspection can be performed. can get.
[0109]
Furthermore, since an electric signal is applied and observed using a light beam, the electric signal can be applied and observed at high speed without being affected by inductance, etc., and LSI inspection using a higher frequency can be easily performed. The effect is also obtained.
[Brief description of the drawings]
1A and 1B are diagrams for explaining a first embodiment of an inspection circuit of the present invention and an LSI incorporating the inspection circuit, wherein FIG. 1A is a schematic schematic plan view of the LSI, and FIG. It is a block diagram which shows the structure of the 1st test | inspection circuit built in.
FIG. 2 is a diagram for explaining a signal input method to an LSI by a first inspection circuit.
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific example of a first inspection circuit.
FIGS. 4A and 4B are diagrams for explaining a modified example of the first inspection circuit. FIGS. 4A and 4B are a block diagram and a specific circuit diagram of an example, respectively.
5A and 5B are diagrams for explaining a second embodiment of the present invention, in which FIG. 5A is a schematic schematic plan view of an LSI, and FIG. 5B is a configuration of a second inspection circuit incorporated in the LSI; FIG.
6A and 6B are diagrams for explaining a specific example of a second inspection circuit, where FIG. 6A is an overall circuit diagram, and FIGS. 6B and 6C are examples of detailed circuits of a gate portion.
FIGS. 7A and 7B are diagrams for explaining a modification of the second inspection circuit, in which FIGS. 7A and 7B are a block diagram and a specific circuit diagram, respectively, of an example; FIGS.
8A and 8B are diagrams for explaining a third test circuit according to the third embodiment of the present invention, in which FIG. 8A is a block diagram showing an overall configuration, and FIG. 8B is a configuration of a memory circuit of FIG. It is a circuit diagram.
FIG. 9 is a circuit diagram of a storage block according to another specific example;
FIGS. 10A and 10B are diagrams for explaining a fourth inspection circuit according to a fourth embodiment of the present invention, where FIG. 10A is a block diagram showing an overall configuration, and FIG. 10B is a configuration of a current modulation circuit of FIG. It is a circuit diagram which shows one specific example.
FIG. 11 is a circuit diagram of another specific example of a current modulation circuit.
FIG. 12 is a schematic block diagram of an LSI including all of a first terminal, a second terminal, and a third terminal serving as both a signal input electrode and a signal output electrode.
13 is a flowchart for explaining an example of an inspection method for the LSI shown in FIG. 12;
14 is a timing chart-like example of a test signal (input signal, output expected value signal) for inspecting the LSI shown in FIG. 12. FIG.
[Explanation of symbols]
1 1st light-receiving part
2 Second light receiving part
3 “1” signal supply section
4,13 Output controller
5 “0” signal supply section
6,71 1st terminal
7 First optical response means
8 Second optical response means
10 First inspection circuit
11, 73 2nd terminal
12 3rd light-receiving part
14 4th light-receiving part
16 5th light-receiving part
17 Control unit
18 6th light-receiving part
19, 35 comparison part
20 Gate part
21 7th light-receiving part
25 Comparison judgment part
30 Second inspection circuit
31 Third optical response means
32 Fourth optical response means
33 fifth optical response means
34 Sixth optical response means
36 7th optical response means
40 Third inspection circuit
42 storage blocks
43 Memory
45 8th light receiving part
47 INV
50 Current modulation circuit
51 9th light-receiving part
52 Current controller
55 Ninth optical response means
60 Fourth inspection circuit
75 3rd terminal
100, 110, 120 LSI
102, 112, 122 Internal circuit section
Claims (15)
予め定められた波長、強度、大きさの第1光ビームを照射され、その照射の有無を検知するとともに、照射の有無に応じた第1の電位を出力する第1受光部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第2光ビームを照射され、その照射の有無を検知するとともに、照射の有無に応じた第2の電位を出力する第2受光部と、
“1”(高レベル)信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”(低レベル)信号を供給する“0”信号供給部と、
前記第1受光部から前記第1の電位を供給され、前記第2受光部から前記第2の電位を供給され、前記“1”信号供給部から前記“1”信号を供給され、前記“0”信号供給部からの前記”0”信号を供給され、前記第1の電位と前記第2の電位に応答して、第1信号として、前記“1”信号、前記“0”信号、”Z”(ハイインピーダンス)信号のいずれかを出力する出力制御部と
を有し、
前記第1光ビームは、前記第1受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第2光ビームは、前記第2受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第1信号が前記信号入力用電極に印加されることを特徴とする検査回路。An inspection circuit connected to a signal input electrode of a semiconductor integrated circuit device,
A first light-receiving unit that is irradiated with a first light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the presence or absence of the irradiation, and outputs a first potential according to the presence or absence of irradiation ;
A second light receiving unit that is irradiated with a second light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the presence or absence of the irradiation, and outputs a second potential according to the presence or absence of the irradiation ;
A “1” signal supply unit for supplying a “1” (high level) signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” (low level) signal;
The first potential is supplied from the first light receiving unit , the second potential is supplied from the second light receiving unit , the “1” signal is supplied from the “1” signal supply unit , and the “0” is supplied. The “0” signal from the “signal supply unit” is supplied, and in response to the first potential and the second potential, the “1” signal, the “0” signal, “Z” An output control unit that outputs any of the “high impedance” signals ,
The first light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the first light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units,
The second light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the second light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units,
The inspection circuit, wherein the first signal is applied to the signal input electrode.
前記第2受光部は、前記“1”信号供給部から前記“1”信号を供給され、前記“0”信号供給部から前記“0”信号を供給され、照射の有無に応じて、前記“1”信号または前記“0”信号のいずれかを出力し、The second light receiving unit is supplied with the “1” signal from the “1” signal supply unit, and is supplied with the “0” signal from the “0” signal supply unit. Output either 1 ”signal or“ 0 ”signal,
前記出力制御部はさらに、第1のトランジスタと、第2のトランジスタとを有し、The output control unit further includes a first transistor and a second transistor,
前記第1受光部から供給される前記第1の電位は、前記第1のトランジスタのゲートに入力され、前記第2受光部から供給される前記第2の電位は、前記第2のトランジスタのゲートに入力されることを特徴とする請求項1に記載の検査回路。The first potential supplied from the first light receiving portion is input to the gate of the first transistor, and the second potential supplied from the second light receiving portion is the gate of the second transistor. The inspection circuit according to claim 1, wherein the inspection circuit is input to the inspection circuit.
複数の異なる光ビームの照射の有無の組み合わせにより、当該信号出力用電極の出力された信号値を所定の信号値と比較し比較結果を判定値として出力する機能を有する比較判定部を含み、
且つこの比較判定部が、
予め定められた波長、強度、大きさの第3光ビームを照射され、その照射の有無を検知するとともに、照射の有無に応じた第3の電位を出力する第3受光部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第4光ビームを照射され、その照射の有無を検知するとともに、照射の有無に応じた第4の電位を出力する第4受光部と、
“1”(高レベル)信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”(低レベル)信号を供給する“0”信号供給部と、
前記第3受光部から前記第3の電位を供給され、前記第4受光部から前記第4の電位を供給され、前記“1”信号供給部から前記“1”信号を供給され、前記“0”信号供給部から前記“1”信号を供給され、前記第1の電位と前記第2の電位に応答して、第2信号として、前記“1”信号、前記“0”信号、”Z”(ハイインピーダンス)信号のいずれかを出力する出力制御部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第5光ビームを照射され、その照射を検知するとともに、照射の有無に応じた第5の電位を供給する第5受光部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第6光ビームを照射され、その照射を検知するとともに、照射の有無に応じた第5の電位を供給する第6受光部と、
前記第5受光部から前記第5の電位を供給され、前記第6受光部から前記第6の電位を 供給され、前記信号出力用電極の信号値を供給され、前記第5の電位と前記第6の電位と前記信号出力用電極の信号値とに応答して、第3信号として、前記“1”信号、前記“0”信号のいずれかを出力する制御部と、
前記第2信号と前記第3信号とを入力して前記第2信号の信号値と前記第3信号の信号値とを比較し、その一致、不一致を判定して結果を第4信号として出力する比較部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第7光ビームを照射され、その照射を検知する、第7受光部と、
前記第7受光部にける前記第7光ビームの照射により、前記第4信号を判定値として出力するゲート部と、
を有し、
前記第3光ビームは、前記第3受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第4光ビームは、前記第4受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第5光ビームは、前記第5受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第6光ビームは、前記第6受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第7光ビームは、前記第7受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御されることを特徴とする検査回路。An inspection circuit connected to a signal output electrode of a semiconductor integrated circuit device,
A comparison / determination unit having a function of outputting a comparison result as a determination value by comparing a signal value output from the signal output electrode with a predetermined signal value by a combination of presence / absence of irradiation with a plurality of different light beams,
And this comparison judgment part is
A third light receiving unit that is irradiated with a third light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the presence or absence of the irradiation, and outputs a third potential according to the presence or absence of the irradiation ;
A fourth light receiving unit that is irradiated with a fourth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the presence or absence of the irradiation, and outputs a fourth potential according to the presence or absence of irradiation ;
A “1” signal supply unit for supplying a “1” (high level) signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” (low level) signal;
The third light receiving unit is supplied with the third potential, the fourth light receiving unit is supplied with the fourth potential, the “1” signal supplying unit is supplied with the “1” signal, and the “0” is supplied. "The signal " 1 "is supplied from the signal supply unit , and in response to the first potential and the second potential, as the second signal, the " 1 "signal, the" 0 "signal," Z " An output controller that outputs one of the (high impedance) signals ;
A fifth light receiving section that is irradiated with a fifth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the irradiation, and supplies a fifth potential according to the presence or absence of irradiation ;
A sixth light receiving unit that is irradiated with a sixth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the irradiation, and supplies a fifth potential according to the presence or absence of irradiation ;
The fifth light receiving portion is supplied with the fifth potential, the sixth light receiving portion is supplied with the sixth potential, the signal value of the signal output electrode is supplied, and the fifth potential and the fifth potential are supplied. In response to the potential of 6 and the signal value of the signal output electrode, a control unit that outputs either the “1” signal or the “0” signal as a third signal;
The second signal and the third signal are inputted, the signal value of the second signal is compared with the signal value of the third signal, the coincidence or mismatch is judged, and the result is outputted as the fourth signal A comparison unit;
A seventh light receiving unit that is irradiated with a seventh light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the irradiation;
A gate unit that outputs the fourth signal as a determination value by irradiation of the seventh light beam in the seventh light receiving unit;
I have a,
The third light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the third light receiving unit, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light receiving units is avoided,
The fourth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the fourth light receiving unit, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light receiving units is avoided,
The fifth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the fifth light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units,
The sixth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the sixth light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units,
The seventh light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the seventh light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units. Inspection circuit.
複数の異なる光ビームの照射の有無の組み合わせにより、当該信号出力用電極の出力された信号値を所定の信号値と比較し比較結果を判定値として出力する機能を有する比較判定部を含み、
且つこの比較判定部が、
“1”(高レベル)信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”(低レベル)信号を供給する“0”信号供給部と、
所定の第2ノードと前記“1”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第3光ビームが照射されたとき、“1”信号が前記第2ノードに伝達される第3光応答手段と、
前記第2ノードと前記“0”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、
大きさの第4光ビームが照射されたとき、“0”信号が前記第2ノードに伝達される第4光応答手段と、
前記信号出力用電極に接続された第3ノードと前記“1”信号供給部との間に接続され、
予め定められた波長、強度、大きさの第5光ビームが照射されたとき、“1”信号が前記
第3ノードに伝達される第5光応答手段と、
前記第3ノードと前記“0”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第6光ビームが照射されたとき、“0”信号が前記第3ノードに伝達される第6光応答手段と、
二つの比較入力端の一方が前記第2ノードに他方が前記第3ノードにそれぞれ接続され、
前記第2ノードから入力される第2信号と前記第3ノードから入力される第3信号のそれぞれの信号値を比較し、その一致、不一致を判定して結果を第1出力端から第4信号として出力する比較部と、
前記第1出力端と第4ノードとの間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第7光ビームが照射されたとき、前記第4信号が前記第4ノードに伝達されて判定値として出力される第7光応答手段と、
を有し、
前記第3光ビームは、前記第3光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第4光ビームは、前記第4光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第5光ビームは、前記第5光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第6光ビームは、前記第6光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第7光ビームは、前記第7光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御されることを特徴とする検査回路。 An inspection circuit connected to a signal output electrode of a semiconductor integrated circuit device,
A comparison / determination unit having a function of outputting a comparison result as a determination value by comparing a signal value output from the signal output electrode with a predetermined signal value by a combination of presence / absence of irradiation with a plurality of different light beams,
And this comparison judgment part is
A “1” signal supply unit for supplying a “1” (high level) signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” (low level) signal;
Connected between a predetermined second node and the “1” signal supply unit, and when a third light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated, a “1” signal is transmitted to the second node. A third optical response means transmitted to
Connected between the second node and the “0” signal supply unit, a predetermined wavelength, intensity,
A fourth optical response means for transmitting a “0” signal to the second node when a fourth light beam of a size is irradiated;
A third node connected to the signal output electrode and the “1” signal supply unit;
A fifth optical response means for transmitting a "1" signal to the third node when a fifth light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated;
Connected between the third node and the “0” signal supply unit, and when a sixth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size is irradiated, a “0” signal is transmitted to the third node. Transmitted sixth optical response means;
One of the two comparison input terminals is connected to the second node and the other is connected to the third node,
The signal values of the second signal input from the second node and the third signal input from the third node are compared, their coincidence and mismatch are determined, and the result is output from the first output terminal to the fourth signal. A comparison unit that outputs as
The fourth signal is transmitted to the fourth node when a seventh light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size is irradiated between the first output terminal and the fourth node. A seventh optical response means output as a judgment value;
Have
The third light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the third light response means, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light response means,
The fourth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the fourth light response means, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light response means is avoided,
The fifth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the fifth light response means, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light response means,
The sixth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the sixth light response means, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light response means is avoided,
The seventh light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the seventh light response means, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light response means. inspection circuit to be.
前記第8受光部への光ビームの照射により記憶状態が初期化され、初期化以後の入力信号値を記憶すると共に最終判定値として第2出力端から出力する記憶部を、
更に備え、
前記第8光ビームは、前記第8受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記判定値が前記記憶部に入力されることを特徴とする請求項3又は4に記載の検査回路。An eighth light receiving unit that irradiates an eighth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size as necessary, and detects the presence or absence of the irradiation;
A storage state is initialized by irradiation of the light beam to the eighth light receiving unit, an input signal value after initialization is stored, and a storage unit that outputs from the second output terminal as a final determination value,
In addition,
The eighth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the eighth light receiving unit, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light receiving units is avoided,
The inspection circuit according to claim 3, wherein the determination value is input to the storage unit.
前記第9受光部への光ビームの照射の有無と前記最終判定値によって電源電流を増加させる機能を有する電流制御部と、
を更に有し、
前記第9光ビームは、前記第9受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御されることを特徴とする請求項5記載の検査回路。A ninth light receiving unit that irradiates a ninth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size as necessary, and detects the presence or absence of the irradiation;
A current control unit having a function of increasing a power supply current according to presence / absence of irradiation of the light beam to the ninth light receiving unit and the final determination value;
Was further Yes,
The ninth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the ninth light receiving unit, and is controlled to have a size that can avoid interference between adjacent light receiving units. The inspection circuit according to claim 5.
前記第9光ビームは、前記第9光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御されることを特徴とする請求項5記載の検査回路。Which is connected between the second output terminal and a predetermined power, a predetermined wavelength, intensity, a ninth light responsive means conductive when the ninth light beam size is irradiated, and further organic,
The ninth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the ninth light response means, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light response means. The inspection circuit according to claim 5.
前記信号入力用電極が第1の検査回路を備え、且つこの第1の検査回路が、
予め定められた波長、強度、大きさの第1光ビームを照射され、その照射の有無を検知するとともに、照射の有無に応じた第1の電位を出力する第1受光部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第2光ビームを照射され、その照射の有無を検知するとともに、照射の有無に応じた第2の電位を出力する第2受光部と、
“1”(高レベル)信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”(低レベル)信号を供給する“0”信号供給部と、
前記第1受光部から前記第1の電位を供給され、前記第2受光部から前記第2の電位を供給され、前記“1”信号供給部から前記“1”信号を供給され、前記“0”信号供給部からの前記”0”信号を供給され、前記第1の電位と前記第2の電位に応答して、第1信号として、前記“1”信号、前記“0”(低レベル)信号、”Z”(ハイインピーダンス )信号のいずれか出力する出力制御部とを有し、
前記第1信号が前記信号入力用電極に印加され、
前記信号出力用電極が第3の検査回路を備え、
且つこの第3の検査回路が、
複数の異なる光ビームの照射の有無の組み合わせにより、当該信号出力用電極の出力された信号値を所定の信号値と比較し比較結果を判定値として出力する機能を有する比較判定部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第8光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第8受光部と、
前記第8受光部への光ビームの照射により記憶状態が初期化され、初期化以後の入力信号値を記憶すると共に最終判定値として出力する記憶部と、
を有し、
前記判定値が前記記憶部に入力され、
前記第1光ビームは、前記第1受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第2光ビームは、前記第2受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第8光ビームは、前記第8受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御されることを特徴とする半導体集積回路装置。A semiconductor integrated circuit device having a signal input electrode and a signal output electrode,
The signal input electrode includes a first inspection circuit, and the first inspection circuit includes:
A first light-receiving unit that is irradiated with a first light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the presence or absence of the irradiation, and outputs a first potential according to the presence or absence of irradiation ;
A second light receiving unit that is irradiated with a second light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the presence or absence of the irradiation, and outputs a second potential according to the presence or absence of the irradiation ;
A “1” signal supply unit for supplying a “1” (high level) signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” (low level) signal;
The first potential is supplied from the first light receiving unit , the second potential is supplied from the second light receiving unit , the “1” signal is supplied from the “1” signal supply unit , and the “0” is supplied. The “0” signal from the “signal supply unit” is supplied, and in response to the first potential and the second potential, as the first signal , the “1” signal, the “0” (low level) An output control unit that outputs either a signal or a “Z” (high impedance ) signal ,
The first signal is applied to the signal input electrode ;
The signal output electrode includes a third inspection circuit;
And this third inspection circuit is
A comparison / determination unit having a function of comparing a signal value output from the signal output electrode with a predetermined signal value and outputting a comparison result as a determination value by a combination of the presence or absence of irradiation with a plurality of different light beams;
An eighth light receiving unit that is irradiated with an eighth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the presence or absence of the irradiation;
A storage state is initialized by irradiation of the light beam to the eighth light receiving unit, an input signal value after initialization is stored and output as a final determination value;
Have
The determination value is input to the storage unit,
The first light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the first light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units,
The second light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the second light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units,
The eighth light beam, which has a wavelength, intensity, such as can be detected by the eighth light receiving portion is controlled so as to have an interference is sized such avoided between the light receiving portion adjacent to said Rukoto Semiconductor integrated circuit device.
前記信号入力用電極が第1の検査回路を備え、且つこの第1の検査回路が、
“1”(高レベル)信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”(低レベル)信号を供給する“0”信号供給部と、
前記信号入力用電極に接続された第1ノードと前記“1”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第1光ビームが照射されたとき、“1”信号が前記
第1ノードに伝達される第1光応答手段と、
前記第1ノードと前記“0”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、
大きさの第2光ビームが照射されたとき、“0”信号が前記第1ノードに伝達される第2光応答手段と、
を有し、
前記信号出力用電極が第3の検査回路を備え、且つこの第3の検査回路が、
複数の異なる光ビームの照射の有無の組み合わせにより、当該信号出力用電極の出力された信号値を所定の信号値と比較し比較結果を判定値として出力する機能を有する比較判定部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第8光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第8受光部と、
前記第8受光部への光ビームの照射により記憶状態が初期化され、初期化以後の入力信号値を記憶すると共に最終判定値として出力する記憶部と、
を有し、
前記判定値が前記記憶部に入力され、
前記第1光ビームは、前記第1光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第2光ビームは、前記第2光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第8光ビームは、前記第8受光部によって検知できるような波長、強度を有するとと もに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御されることを特徴とする半導体集積回路装置。A semiconductor integrated circuit device having a signal input electrode and a signal output electrode,
The signal input electrode includes a first inspection circuit, and the first inspection circuit includes:
A “1” signal supply unit for supplying a “1” (high level) signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” (low level) signal;
Connected between the first node connected to the signal input electrode and the “1” signal supply unit, and when a first light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated, “1” A first optical response means for transmitting a signal to the first node;
Connected between the first node and the “0” signal supply unit, a predetermined wavelength, intensity,
Second optical response means for transmitting a “0” signal to the first node when a second light beam of a size is irradiated;
I have a,
The signal output electrode includes a third inspection circuit, and the third inspection circuit includes:
A comparison / determination unit having a function of comparing a signal value output from the signal output electrode with a predetermined signal value and outputting a comparison result as a determination value by a combination of the presence or absence of irradiation with a plurality of different light beams;
An eighth light receiving unit that is irradiated with an eighth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the presence or absence of the irradiation;
A storage state is initialized by irradiation of the light beam to the eighth light receiving unit, an input signal value after initialization is stored and output as a final determination value;
Have
The determination value is input to the storage unit,
The first light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the first light response means, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light response means is avoided,
The second light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the second light response means, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light response means,
The eighth light beam, the eighth wavelength, such as can be detected by the light receiving unit, and a monitor having a strength, a Rukoto is controlled so as to have an interference is sized such avoided between adjacent light receiving portions A semiconductor integrated circuit device.
前記信号入力用電極が第1の検査回路を備え、且つこの第1の検査回路が、
予め定められた波長、強度、大きさの第1光ビームを照射され、その照射の有無を検知するとともに、照射の有無に応じた第1の電位を出力する第1受光部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第2光ビームを照射され、その照射の有無を検知するとともに、照射の有無に応じた第2の電位を出力する第2受光部と、
“1”(高レベル)信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”(低レベル)信号を供給する“0”信号供給部と、
前記第1受光部から前記第1の電位を供給され、前記第2受光部から前記第2の電位を供給され、前記“1”信号供給部から前記“1”信号を供給され、前記“0”信号供給部からの前記”0”信号を供給され、前記第1の電位と前記第2の電位に応答して、第1信号として、前記“1”信号、前記“0”信号、”Z”(ハイインピーダンス)信号のいずれか出力する出力制御部と
を有し、
前記第1信号が前記信号入力用電極に印加され、
前記信号出力用電極が第4の検査回路を備え、且つこの第4の検査回路が、
複数の異なる光ビームの照射の有無の組み合わせにより、当該信号出力用電極の出力された信号値を所定の信号値と比較し比較結果を判定値として出力する機能を有する比較判定部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第8光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第8受光部と、
前記第8受光部への光ビームの照射により記憶状態が初期化され、初期化以後の入力信号値を記憶すると共に最終判定値として出力する記憶部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第9光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第9受光部と、
前記第9受光部への光ビームの照射の有無と前記最終判定値によって電源電流を増加させる機能を有する電流制御部と、
を有し、
前記判定値が前記記憶部に入力され、
前記第1光ビームは、前記第1受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第2光ビームは、前記第2受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第8光ビームは、前記第8受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第9光ビームは、前記第9受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御されることを特徴とする半導体集積回路装置。 A semiconductor integrated circuit device having a signal input electrode and a signal output electrode,
The signal input electrode includes a first inspection circuit, and the first inspection circuit includes:
A first light receiving unit that is irradiated with a first light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the presence or absence of the irradiation, and outputs a first potential according to the presence or absence of irradiation;
A second light receiving unit that is irradiated with a second light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the presence or absence of the irradiation, and outputs a second potential according to the presence or absence of the irradiation;
A “1” signal supply unit for supplying a “1” (high level) signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” (low level) signal;
The first potential is supplied from the first light receiving unit, the second potential is supplied from the second light receiving unit, the “1” signal is supplied from the “1” signal supply unit, and the “0” is supplied. The “0” signal from the “signal supply unit” is supplied, and in response to the first potential and the second potential, the “1” signal, the “0” signal, “Z” ”(High impedance) output controller that outputs one of the signals
Have
The first signal is applied to the signal input electrode;
The signal output electrode includes a fourth inspection circuit, and the fourth inspection circuit includes:
A comparison / determination unit having a function of comparing a signal value output from the signal output electrode with a predetermined signal value and outputting a comparison result as a determination value by a combination of the presence or absence of irradiation with a plurality of different light beams;
Wavelength stipulated Me pre intensity is irradiated with the eighth light beam size, and the eighth light-receiving unit for detecting the presence or absence of irradiation,
A storage state is initialized by irradiation of the light beam to the eighth light receiving unit, an input signal value after initialization is stored and output as a final determination value;
A ninth light receiving unit that is irradiated with a ninth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, and detects the presence or absence of the irradiation;
A current control unit having a function of increasing a power supply current according to presence / absence of light beam irradiation to the ninth light receiving unit and the final determination value;
Have
The determination value is input to the storage unit,
The first light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the first light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units,
The second light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the second light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units,
The eighth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the eighth light receiving unit, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light receiving units is avoided,
The ninth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the ninth light receiving unit, and is controlled to have a size that can avoid interference between adjacent light receiving units. Semiconductor integrated circuit device.
前記信号入力用電極が第1の検査回路を備え、且つこの第1の検査回路が、
“1”(高レベル)信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”(低レベル)信号を供給する“0”信号供給部と、
前記信号入力用電極に接続された第1ノードと前記“1”信号供給部との間に接続され、
予め定められた波長、強度、大きさの第1光ビームが照射されたとき、“1”信号が前記第1ノードに伝達される第1光応答手段と、
前記第1ノードと前記“0”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、
大きさの第2光ビームが照射されたとき、“0”信号が前記第1ノードに伝達される第2光応答手段と、
を有し、
前記信号出力用電極が第4の検査回路を備え、且つこの第4の検査回路が、
複数の異なる光ビームの照射の有無の組み合わせにより、当該信号出力用電極の出力された信号値を所定の信号値と比較し比較結果を判定値として出力する機能を有する比較判定部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第8光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第8受光部と、
前記第8受光部への光ビームの照射により記憶状態が初期化され、初期化以後の入力信号値を記憶すると共に最終判定値として出力する記憶部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第9光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第9受光部と、
前記第9受光部への光ビームの照射の有無と前記最終判定値によって電源電流を増加させる機能を有する電流制御部と、を有し、
前記判定値が前記記憶部に入力され、
前記第1光ビームは、前記第1光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第2光ビームは、前記第2光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第8光ビームは、前記第8受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第9光ビームは、前記第9受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御されることを特徴とする半導体集積回路装置。 A semiconductor integrated circuit device having a signal input electrode and a signal output electrode,
The signal input electrode includes a first inspection circuit, and the first inspection circuit includes:
A “1” signal supply unit for supplying a “1” (high level) signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” (low level) signal;
A first node connected to the signal input electrode and the “1” signal supply unit;
First optical response means for transmitting a "1" signal to the first node when a first light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated;
Connected between the first node and the “0” signal supply unit, a predetermined wavelength, intensity,
Second optical response means for transmitting a “0” signal to the first node when a second light beam of a size is irradiated;
Have
The signal output electrode includes a fourth inspection circuit, and the fourth inspection circuit includes:
A comparison / determination unit having a function of comparing a signal value output from the signal output electrode with a predetermined signal value and outputting a comparison result as a determination value by a combination of the presence or absence of irradiation with a plurality of different light beams;
An eighth light receiving unit that is irradiated with an eighth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the presence or absence of the irradiation;
A storage state is initialized by irradiation of the light beam to the eighth light receiving unit, an input signal value after initialization is stored and output as a final determination value;
A ninth light receiving unit that is irradiated with a ninth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, and detects the presence or absence of the irradiation;
A current control unit having a function of increasing a power supply current by the presence / absence of irradiation of the light beam to the ninth light receiving unit and the final determination value;
The determination value is input to the storage unit,
The first light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the first light response means, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light response means is avoided,
The second light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the second light response means, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light response means,
The eighth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the eighth light receiving unit, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light receiving units is avoided,
The ninth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the ninth light receiving unit, and is controlled to have a size that can avoid interference between adjacent light receiving units. Semiconductor integrated circuit device.
予め定められた波長、強度、大きさの第1光ビームを照射され、その照射の有無を検知するとともに、照射の有無に応じた第1の電位を出力する第1受光部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第2光ビームを照射され、その照射の有無を検知するとともに、照射の有無に応じた第2の電位を出力する第2受光部と、
“1”(高レベル)信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”(低レベル)信号を供給する“0”信号供給部と、
前記第1受光部から前記第1の電位を供給され、前記第2受光部から前記第2の電位を供給され、前記“1”信号供給部から前記“1”信号を供給され、前記“0”信号供給部からの前記”0”信号を供給され、前記第1の電位と前記第2の電位に応答して、第1信号として、前記“1”信号、前記“0”信号、”Z”(ハイインピーダンス)信号のいずれか出力する出力制御部と
を有し、
前記第1信号が前記信号入力用電極に印加され、
前記信号出力用電極が第4の検査回路を備え、且つこの第4の検査回路が、
複数の異なる光ビームの照射の有無の組み合わせにより、当該信号出力用電極の出力された信号値を所定の信号値と比較し比較結果を判定値として出力する機能を有する比較判定部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第8光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第8受光部と、
前記第8受光部への光ビームの照射により記憶状態が初期化され、初期化以後の入力信号値を記憶すると共に、最終判定値として第2出力端から出力する記憶部と、
前記第2出力端と所定の電源との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第9光ビームが照射されたときに導通する第9光応答手段を、を有し、
前記判定値が前記記憶部に入力され、
前記第1光ビームは、前記第1受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第2光ビームは、前記第2受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第8光ビームは、前記第8受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第9光ビームは、前記第9光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御されることを特徴とする半導体集積回路装置。 A semiconductor integrated circuit device having a signal input electrode and a signal output electrode, wherein the signal input electrode includes a first inspection circuit, and the first inspection circuit includes:
A first light receiving unit that is irradiated with a first light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the presence or absence of the irradiation, and outputs a first potential according to the presence or absence of irradiation;
A second light receiving unit that is irradiated with a second light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the presence or absence of the irradiation, and outputs a second potential according to the presence or absence of the irradiation;
A “1” signal supply unit for supplying a “1” (high level) signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” (low level) signal;
The first potential is supplied from the first light receiving unit, the second potential is supplied from the second light receiving unit, the “1” signal is supplied from the “1” signal supply unit, and the “0” is supplied. The “0” signal from the “signal supply unit” is supplied, and in response to the first potential and the second potential, the “1” signal, the “0” signal, “Z” ”(High impedance) output controller that outputs one of the signals
Have
The first signal is applied to the signal input electrode;
The signal output electrode includes a fourth inspection circuit, and the fourth inspection circuit includes:
A comparison / determination unit having a function of comparing a signal value output from the signal output electrode with a predetermined signal value and outputting a comparison result as a determination value by a combination of the presence or absence of irradiation with a plurality of different light beams;
An eighth light receiving unit that is irradiated with an eighth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the presence or absence of the irradiation;
A storage state is initialized by irradiation of the light beam to the eighth light receiving unit, an input signal value after initialization is stored, and a storage unit that outputs from the second output terminal as a final determination value;
A ninth optical response means connected between the second output terminal and a predetermined power source and conducting when a ninth light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated;
The determination value is input to the storage unit,
The first light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the first light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units,
The second light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the second light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units,
The eighth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the eighth light receiving unit, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light receiving units is avoided,
The ninth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the ninth light response means, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light response means. A semiconductor integrated circuit device.
“1”(高レベル)信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”(低レベル)信号を供給する“0”信号供給部と、
前記信号入力用電極に接続された第1ノードと前記“1”信号供給部との間に接続され、
予め定められた波長、強度、大きさの第1光ビームが照射されたとき、“1”信号が前記第1ノードに伝達される第1光応答手段と、
前記第1ノードと前記“0”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、
大きさの第2光ビームが照射されたとき、“0”信号が前記第1ノードに伝達される第2光応答手段と、
を有し、
前記信号出力用電極が第4の検査回路を備え、且つこの第4の検査回路が、
複数の異なる光ビームの照射の有無の組み合わせにより、当該信号出力用電極の出力された信号値を所定の信号値と比較し比較結果を判定値として出力する機能を有する比較判定部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第8光ビームを照射され、その照射の有無を検知する第8受光部と、
前記第8受光部への光ビームの照射により記憶状態が初期化され、初期化以後の入力信号値を記憶すると共に、最終判定値として第2出力端から出力する記憶部と、
前記第2出力端と所定の電源との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第9光ビームが照射されたときに導通する第9光応答手段を、を有し、
前記判定値が前記記憶部に入力され、
前記第1光ビームは、前記第1光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第2光ビームは、前記第2光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第8光ビームは、前記第8受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第9光ビームは、前記第9光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御されることを特徴とする半導体集積回路装置。 A semiconductor integrated circuit device having a signal input electrode and a signal output electrode, wherein the signal input electrode includes a first inspection circuit, and the first inspection circuit includes:
A “1” signal supply unit for supplying a “1” (high level) signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” (low level) signal;
A first node connected to the signal input electrode and the “1” signal supply unit;
First optical response means for transmitting a "1" signal to the first node when a first light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated;
Connected between the first node and the “0” signal supply unit, a predetermined wavelength, intensity,
Second optical response means for transmitting a “0” signal to the first node when a second light beam of a size is irradiated;
Have
The signal output electrode includes a fourth inspection circuit, and the fourth inspection circuit includes:
A comparison / determination unit having a function of comparing a signal value output from the signal output electrode with a predetermined signal value and outputting a comparison result as a determination value by a combination of the presence or absence of irradiation with a plurality of different light beams;
An eighth light receiving unit that is irradiated with an eighth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the presence or absence of the irradiation;
A storage state is initialized by irradiation of the light beam to the eighth light receiving unit, an input signal value after initialization is stored, and a storage unit that outputs from the second output terminal as a final determination value;
A ninth optical response means connected between the second output terminal and a predetermined power source and conducting when a ninth light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated;
The determination value is input to the storage unit ,
The first light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the first light response means, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light response means is avoided,
The second light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the second light response means, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light response means,
The eighth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the eighth light receiving unit, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light receiving units is avoided,
The ninth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the ninth light response means, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light response means. A semiconductor integrated circuit device.
予め定められた波長、強度、大きさの第3光ビームを照射され、その照射の有無を検知するとともに、照射の有無に応じた第3の電位を出力する第3受光部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第4光ビームを照射され、その照射の有無を検知するとともに、照射の有無に応じた第4の電位を出力する第4受光部と、
“1”(高レベル)信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”(低レベル)信号を供給する“0”信号供給部と、
前記第3受光部から前記第3の電位を供給され、前記第4受光部から前記第4の電位を供給され、前記“1”信号供給部から前記“1”信号を供給され、前記“0”信号供給部からの前記”0”信号を供給され、前記第3の電位と前記第4の電位に応答して、第1信号として、前記“1”信号、前記“0”信号、”Z”(ハイインピーダンス)信号のいずれかを出力する第2出力制御部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第5光ビームを照射され、その照射を検知するとともに、照射の有無に応じた第5の電位を供給する第5受光部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第6光ビームを照射され、その照射を検知するとともに、照射の有無に応じた第6の電位を供給する第6受光部と、
前記第5受光部から前記第5の電位を供給され、前記第6受光部から前記第6の電位を供給され、前記信号出力用電極の信号値を供給され、前記第5の電位と前記第6の電位と前記信号出力用電極の信号値とに応答して、第3信号として、前記“1”信号、前記“0”信号のいずれかを出力する制御部と、
前記第2信号と前記第3信号とを入力して前記第2信号の信号値と前記第3信号の信号値とを比較し、その一致、不一致を判定して結果を第4信号として出力する比較部と、
予め定められた波長、強度、大きさの第7光ビームを照射され、その照射を検知する第7受光部と、
前記第7受光部における前記第7光ビームの照射により、前記第4信号を判定値として出力するゲート部と、
を有し、
前記第3光ビームは、前記第3受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第4光ビームは、前記第4受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第5光ビームは、前記第5受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第6光ビームは、前記第6受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第7光ビームは、前記第7受光部によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する受光部間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御されることを特徴とする請求項8乃至13いずれか1項に記載の半導体集積回路装置。The comparison determination unit
A third light receiving unit that is irradiated with a third light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the presence or absence of the irradiation, and outputs a third potential according to the presence or absence of the irradiation ;
A fourth light receiving unit that is irradiated with a fourth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the presence or absence of the irradiation, and outputs a fourth potential according to the presence or absence of irradiation ;
A “1” signal supply unit for supplying a “1” (high level) signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” (low level) signal;
The third light receiving portion is supplied with the third potential, the fourth light receiving portion is supplied with the fourth potential, the “1” signal supplying portion is supplied with the “1” signal, and the “0” is supplied. The “0” signal from the “signal supply unit” is supplied, and in response to the third potential and the fourth potential, the “1” signal, the “0” signal, “Z” A second output controller that outputs any of the “high impedance” signals ;
A fifth light receiving section that is irradiated with a fifth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the irradiation, and supplies a fifth potential according to the presence or absence of irradiation ;
A sixth light receiving unit that is irradiated with a sixth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size, detects the irradiation, and supplies a sixth potential according to the presence or absence of irradiation ;
The fifth light receiving portion is supplied with the fifth potential, the sixth light receiving portion is supplied with the sixth potential, the signal value of the signal output electrode is supplied, and the fifth potential and the fifth potential are supplied. A control unit that outputs one of the “1” signal and the “0” signal as a third signal in response to the potential of 6 and the signal value of the signal output electrode ;
The second signal and the third signal are inputted, the signal value of the second signal is compared with the signal value of the third signal, the coincidence or mismatch is judged, and the result is outputted as the fourth signal A comparison unit;
A seventh light receiving unit that is irradiated with a seventh light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size and detects the irradiation;
A gate unit that outputs the fourth signal as a determination value by irradiation of the seventh light beam in the seventh light receiving unit;
I have a,
The third light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the third light receiving unit, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light receiving units is avoided,
The fourth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the fourth light receiving unit, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light receiving units is avoided,
The fifth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the fifth light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units,
The sixth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the sixth light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units,
The seventh light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the seventh light receiving unit, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light receiving units. The semiconductor integrated circuit device according to claim 8 .
“1”(高レベル)信号を供給する“1”信号供給部と、
“0”(低レベル)信号を供給する“0”信号供給部と、
所定の第2ノードと前記“1”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第3光ビームが照射されたとき、“1”信号が前記第2ノードに伝達される第3光応答手段と、
前記第2ノードと前記“0”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第4光ビームが照射されたとき、“0”信号が前記第2ノードに伝達される第4光応答手段と、
前記信号出力用電極に接続された第3ノードと前記“1”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第5光ビームが照射されたとき、“1”信号が前記第3ノードに伝達される第5光応答手段と、
前記第3ノードと前記“0”信号供給部との間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第6光ビームが照射されたとき、“0”信号が前記第3ノードに伝達される第6光応答手段と、
二つの比較入力端の一方が前記第2ノードに他方が前記第3ノードにそれぞれ接続され、前記第2ノードから入力される第2信号と前記第3ノードから入力される第3信号のそれぞれの信号値を比較し、その一致、不一致を判定して結果を第1出力端から第4信号として出力する比較部と、
前記第1出力端と第4ノードとの間に接続され、予め定められた波長、強度、大きさの第7光ビームが照射されたとき、前記第4信号が前記第4ノードに伝達されて判定値として出力される第7光応答手段と、
を有し、
前記第3光ビームは、前記第3光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第4光ビームは、前記第4光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第5光ビームは、前記第5光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第6光ビームは、前記第6光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御され、
前記第7光ビームは、前記第7光応答手段によって検知できるような波長、強度を有するとともに、隣接する光応答手段間の干渉が避けられるような大きさを有するように制御されることを特徴とする請求項8乃至13いずれか1項に記載の半導体集積回路装置。The comparison determination unit
A “1” signal supply unit for supplying a “1” (high level) signal;
A “0” signal supply unit for supplying a “0” (low level) signal;
Connected between a predetermined second node and the “1” signal supply unit, and when a third light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated, a “1” signal is transmitted to the second node. A third optical response means transmitted to
Connected between the second node and the “0” signal supply unit, and when a fourth light beam having a predetermined wavelength, intensity and size is irradiated, a “0” signal is transmitted to the second node. A fourth optical response means to be transmitted;
When a fifth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size is irradiated between the third node connected to the signal output electrode and the “1” signal supply unit, “1” A fifth optical response means for transmitting a signal to the third node;
Connected between the third node and the “0” signal supply unit, and when a sixth light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size is irradiated, a “0” signal is transmitted to the third node. Transmitted sixth optical response means;
One of the two comparison input terminals is connected to the second node and the other is connected to the third node, respectively. The second signal input from the second node and the third signal input from the third node A comparator that compares the signal values, determines the match and mismatch, and outputs the result as a fourth signal from the first output end;
The fourth signal is transmitted to the fourth node when a seventh light beam having a predetermined wavelength, intensity, and size is irradiated between the first output terminal and the fourth node. A seventh optical response means output as a judgment value;
I have a,
The third light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the third light response means, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light response means,
The fourth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the fourth light response means, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light response means is avoided,
The fifth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the fifth light response means, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light response means,
The sixth light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the sixth light response means, and is controlled to have a size such that interference between adjacent light response means is avoided,
The seventh light beam has a wavelength and intensity that can be detected by the seventh light response means, and is controlled to have a size that avoids interference between adjacent light response means. the semiconductor integrated circuit device according to any one of claims 8 to 13,.
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