JP4059844B2 - Substrate processing equipment - Google Patents
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Description
基板に所定の処理を行う基板処理装置に関する。 The present invention relates to a substrate processing apparatus that performs predetermined processing on a substrate.
半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板の処理工程では、一連の処理を行う複数の処理ユニットを備えた基板処理装置が用いられている。 In the processing process of a substrate such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a plasma display panel, a substrate for an optical disk, etc., a substrate processing apparatus provided with a plurality of processing units for performing a series of processing It is used.
この基板処理装置では、基板処理装置の外部から基板収納容器に収納された未処理の基板が搬入される。そして、基板処理装置において、基板収納容器内から未処理の基板が取り出され、複数の処理ユニットに未処理の基板を搬入することにより所定の処理が行われる。 In this substrate processing apparatus, an unprocessed substrate stored in a substrate storage container is carried from the outside of the substrate processing apparatus. In the substrate processing apparatus, an unprocessed substrate is taken out from the substrate storage container, and a predetermined process is performed by carrying the unprocessed substrate into a plurality of processing units.
ここで、基板収納容器には、容器の一部が外部雰囲気に開放されたOC(open cassette)タイプの基板収納容器と、容器内部が密閉されたFOUP(front opening unified pod)タイプの基板収納容器とがある。 Here, the substrate storage container includes an OC (open cassette) type substrate storage container in which a part of the container is opened to the outside atmosphere, and a FOUP (front opening unified pod) type substrate storage container in which the inside of the container is sealed. There is.
一般に、FOUPタイプの基板収納容器を用いて基板を搬送した場合には、周囲の雰囲気に塵埃等のパーティクル等が存在していても基板が密閉された状態で搬送されるため、基板の清浄度が維持できる。
しかしながら、上記のFOUPタイプの基板収納容器を用いて基板を搬送しても、従来の基板処理装置を用いて未処理の基板に所定の処理を施す場合、インデクサ部でインデクサロボットが基板収納容器から基板を取り出す。その周囲の雰囲気により基板の清浄度が変化する。 However, even if a substrate is transported using the above-mentioned FOUP type substrate storage container, when an unprocessed substrate is subjected to a predetermined process using a conventional substrate processing apparatus, the indexer robot moves from the substrate storage container at the indexer unit. Remove the substrate. The cleanliness of the substrate changes depending on the surrounding atmosphere.
続いて、インデクサロボットは、基板処理装置の中央に配置されたセンターロボットに基板を渡す。センターロボットは、受け取った基板を所定の処理ユニットに搬入する。処理ユニットにより基板に所定の処理が行われた後、再び、センターロボットは基板を搬出し、インデクサロボットに渡す。そして、インデクサロボットは、処理後の基板をFOUPタイプの基板収納容器に収納する。 Subsequently, the indexer robot passes the substrate to a center robot disposed in the center of the substrate processing apparatus. The center robot carries the received substrate into a predetermined processing unit. After predetermined processing is performed on the substrate by the processing unit, the center robot again carries out the substrate and passes it to the indexer robot. Then, the indexer robot stores the processed substrate in a FOUP type substrate storage container.
また、基板収納容器に搬入する基板の向きまたは姿勢を修正するために、インデクサロボットは、基板を基板収納容器から取り出してノッチ(切欠き)の方向を合わせて再び基板収納容器に収納する場合もある。 In addition, in order to correct the orientation or orientation of the substrate to be loaded into the substrate storage container, the indexer robot may take out the substrate from the substrate storage container, align the direction of the notch (notch), and store it again in the substrate storage container. is there.
このように、従来の基板処理装置では、FOUPタイプの基板収納容器から基板を取り出し、所定の処理ユニットまで基板を搬送する必要があるので、基板収納容器から取り出した基板を搬送する距離および時間と、基板をインデクサロボットおよびセンターロボット間で受け渡す回数との増加により基板表面の汚染機会が多くなる。 Thus, in the conventional substrate processing apparatus, it is necessary to take out the substrate from the FOUP type substrate storage container and transport the substrate to a predetermined processing unit. Therefore, the distance and time for transporting the substrate taken out from the substrate storage container The increase in the number of times the substrate is transferred between the indexer robot and the center robot increases the chance of contamination of the substrate surface.
本発明の目的は、基板の汚染機会を削減することができる基板処理装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of reducing the chance of substrate contamination.
第1の発明に係る基板処理装置は、開閉自在な蓋を有する密閉型の基板収納容器により搬送される基板に処理を行う基板処理装置であって、上下方向の異なる高さに設けられ、基板に所定の処理を行う複数の基板処理部と、水平方向に並ぶように設けられ、基板収納容器がそれぞれ載置される複数の載置部と、複数の載置部と複数の基板処理部との間で基板収納容器を搬送する搬送手段と、複数の基板処理部ごとに設けられ、基板収納容器に収納された基板を取り出すために蓋を開閉する蓋開閉機構とを備え、搬送手段は、複数の載置部に対応して所定の高さで並ぶように配置され、それぞれ水平方向に延びるように設けられる複数の第1の搬送レールと、複数の基板処理部に対応して複数の高さに配置され、それぞれ水平方向に延びるように設けられる複数の第2の搬送レールと、複数の第1の搬送レールのいずれかと選択的に連結可能でかつ複数の第2の搬送レールのいずれかと選択的に連結可能であるように移動可能に設けられる第3の搬送レールと、複数の第1の搬送レール、第3の搬送レールおよび複数の第2の搬送レールに沿って移動可能に設けられ、複数の載置部のいずれかと複数の基板処理部のいずれかとの間で基板収納容器を搬送する搬送装置とを含むものである。 A substrate processing apparatus according to a first aspect of the present invention is a substrate processing apparatus for processing a substrate conveyed by a sealed substrate storage container having an openable / closable lid, and is provided at different heights in the vertical direction. A plurality of substrate processing units that perform predetermined processing, a plurality of mounting units that are arranged in a horizontal direction and on which the substrate storage containers are respectively mounted, a plurality of mounting units, and a plurality of substrate processing units, A transporting means for transporting the substrate storage container, and a lid opening / closing mechanism that is provided for each of the plurality of substrate processing units and opens and closes the lid to take out the substrate stored in the substrate storage container . A plurality of first transfer rails arranged so as to be aligned at a predetermined height corresponding to the plurality of placement units and extending in the horizontal direction, and a plurality of heights corresponding to the plurality of substrate processing units. Arranged to extend horizontally A plurality of second transport rails provided, and movable so as to be selectively connectable to any of the plurality of first transport rails and selectively connectable to any of the plurality of second transport rails A third transport rail provided, a plurality of first transport rails, a third transport rail, and a plurality of second transport rails are provided so as to be movable along any one of the plurality of placement units and the plurality of substrates. And a transfer device that transfers the substrate storage container to or from any of the processing units .
本発明に係る基板処理装置においては、複数の基板処理部は、上下方向の異なる高さに設けられ、複数の載置部は、水平方向に並ぶように設けられる。開閉自在な蓋を有する密閉型の基板収納容器に基板が収納される。その基板収納容器が載置部にそれぞれ載置される。基板収納容器が搬送手段により複数の載置部と複数の基板処理部との間で搬送される。複数の基板処理部ごとに設けられた蓋開閉機構により基板収納容器の蓋が開閉され、基板収納容器に収納された基板が取り出し可能となる。そして、複数の基板処理部により基板に所定の処理が行われる。 In the substrate processing apparatus according to the present invention, the plurality of substrate processing units are provided at different heights in the vertical direction, and the plurality of placement units are provided so as to be arranged in the horizontal direction. The substrate is stored in a sealed substrate storage container having an openable / closable lid. The substrate storage containers are respectively placed on the placement portions. The substrate storage container is transported between the plurality of placement units and the plurality of substrate processing units by the transport means. The lid of the substrate storage container is opened and closed by the lid opening / closing mechanism provided for each of the plurality of substrate processing units, and the substrate stored in the substrate storage container can be taken out. Then, predetermined processing is performed on the substrate by the plurality of substrate processing units.
搬送手段の複数の第1の搬送レールは、複数の載置部に対応して所定の高さで並ぶように配置され、それぞれ水平方向に延びるように設けられる。複数の第2の搬送レールは、複数の基板処理部に対応して複数の高さに配置され、それぞれ水平方向に延びるように設けられる。第3の搬送レールは、複数の第1の搬送レールのいずれかと選択的に連結可能でかつ複数の第2の搬送レールのいずれかと選択的に連結可能であるように移動可能に設けられる。搬送装置は、複数の第1の搬送レール、第3の搬送レールおよび複数の第2の搬送レールに沿って移動可能に設けられ、複数の載置部のいずれかと複数の基板処理部のいずれかとの間で基板収納容器を搬送する。
この場合、基板が開閉自在な蓋を有する密閉型の基板収納容器に収納された状態で搬送手段により複数の載置部のいずれかと複数の基板処理部のいずれかとの間で搬送されるので、搬送時に外気の影響を受けることが防止されるとともに基板の受け渡し回数を減らすことができる。その結果、基板の汚染機会を削減することができる。
The plurality of first transport rails of the transport means are arranged so as to line up at a predetermined height corresponding to the plurality of placement units, and are provided so as to extend in the horizontal direction. The plurality of second transport rails are disposed at a plurality of heights corresponding to the plurality of substrate processing units, and are provided so as to extend in the horizontal direction. The third transport rail is movably provided so as to be selectively connectable with any of the plurality of first transport rails and selectively connectable with any of the plurality of second transport rails. The transfer apparatus is provided so as to be movable along the plurality of first transfer rails, the third transfer rails, and the plurality of second transfer rails, and includes any one of the plurality of placement units and any of the plurality of substrate processing units. The substrate storage container is conveyed between the two.
In this case, it is conveyed between the one substrate of a plurality of substrate processing unit and any of a plurality of mounting portion by conveying means in a state of being stored in the substrate storage container sealed with a closable lid closing Therefore, it is possible to prevent the influence of the outside air during the transportation and to reduce the number of times of delivery of the substrate. As a result, the chance of substrate contamination can be reduced.
複数の基板処理部ごとに設けられ、基板収納容器に収納された基板を取り出して基板処理部に搬入し、基板処理部から基板を搬出して基板収納容器に収納する基板搬入出手段をさらに備えてもよい。 A substrate loading / unloading unit is provided for each of the plurality of substrate processing units, takes out the substrate stored in the substrate storage container, loads the substrate into the substrate processing unit, and unloads the substrate from the substrate processing unit and stores it in the substrate storage container. May be.
この場合、基板搬入出手段により基板収納容器に収納された基板が基板処理部に搬入され、基板搬入出手段により基板処理部から基板が搬出され基板収納容器に収納される。その結果、基板処理部において基板に所定の処理を行うことができる。また、基板搬入出手段により基板が基板収納容器から直接基板処理部に搬入されるので、基板の受け渡し回数を減らすことができ、基板の汚染回数を削減することができる。 In this case, the substrate stored in the substrate storage container by the substrate loading / unloading means is loaded into the substrate processing unit, and the substrate is unloaded from the substrate processing unit by the substrate loading / unloading means and stored in the substrate storage container. As a result, predetermined processing can be performed on the substrate in the substrate processing unit. In addition, since the substrate is directly carried into the substrate processing unit from the substrate storage container by the substrate carry-in / out means, the number of substrate transfers can be reduced, and the number of substrate contaminations can be reduced.
複数の基板処理部は、搬送手段により搬送された基板収納容器を支持する支持部を有してもよい。 The plurality of substrate processing units may include a support unit that supports the substrate storage container transported by the transport unit.
この場合、搬送手段により基板処理部に搬送された基板収納容器が支持部により支持される。それにより、安定した状態で基板を複数の基板処理部に搬入することができる。さらに、搬送手段が基板処理部への搬送後に基板収納容器を保持する必要がなくなるので、搬送手段が他の基板収納容器の搬送を行うことができる。その結果、基板処理装置全体のスループットを向上することができる。 In this case, the substrate storage container transported to the substrate processing unit by the transport unit is supported by the support unit. Thereby, the substrate can be carried into a plurality of substrate processing units in a stable state. Furthermore, since it is not necessary for the transfer means to hold the substrate storage container after transfer to the substrate processing unit, the transfer means can transfer another substrate storage container. As a result, the overall throughput of the substrate processing apparatus can be improved.
搬送装置は複数設けられ、複数の搬送装置の各々は、複数の載置部のいずれかと複数の基板処理部のいずれかとの間で基板収納容器を搬送してもよい。 A plurality of transfer devices may be provided , and each of the plurality of transfer devices may transfer the substrate storage container between any of the plurality of placement units and any of the plurality of substrate processing units.
この場合、複数の搬送装置の各々により、複数の載置部のいずれかと複数の基板処理部のいずれかとの間で基板収納容器を搬送することができるので、複数の搬送装置により効率的に複数の基板収納容器を搬送することが可能となる。その結果、基板処理装置全体のスループットを向上することができる。 In this case, each of the plurality of transfer devices can transfer the substrate storage container between any of the plurality of placement units and any of the plurality of substrate processing units. A plurality of substrate storage containers can be transported. As a result, the overall throughput of the substrate processing apparatus can be improved.
複数の搬送装置は、複数の基板処理部と同数設けられてもよい。 The plurality of transfer apparatuses may be provided in the same number as the plurality of substrate processing units.
この場合、複数の基板処理部と同数の搬送装置が設けられので、同数の搬送装置によりさらに効率的に複数の基板収納容器を搬送することが可能となる。その結果、基板処理装置全体のスループットをさらに向上することができる。 In this case, since the same number of transfer devices as the plurality of substrate processing units are provided, the plurality of substrate storage containers can be more efficiently transferred by the same number of transfer devices. As a result, the overall throughput of the substrate processing apparatus can be further improved.
本発明によれば、基板の搬送時に外気の影響を受けることが防止されるとともに基板の受け渡し回数を減らすことができる。その結果、基板の汚染機会を削減することができる。 According to the present invention, it is possible to prevent the influence of the outside air during the transportation of the substrate and to reduce the number of times of substrate delivery. As a result, the chance of substrate contamination can be reduced.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
以下の説明において、基板とは、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、PDP(プラズマディスプレイパネル)用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等をいう。 In the following description, a substrate means a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a PDP (plasma display panel), a glass substrate for a photomask, a substrate for an optical disk, and the like.
図1は本発明の実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。 FIG. 1 is a plan view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
図1に示すように、基板処理装置100は、処理領域A,Bを有し、処理領域A,B間に搬送領域C1を有し、搬送領域C1の一端部側に搬送領域C2を有する。
As shown in FIG. 1, the
処理領域Aには、制御部4、流体ボックス部2a,2b、洗浄処理部MPC1,MPC2が配置されている。処理領域Bには、流体ボックス部2c,2d、洗浄処理部MPC3,MPC4が配置されている。
In the processing region A, a control unit 4,
洗浄処理部MPC1〜MPC4では、主に薬液による洗浄処理(以下、薬液処理と呼ぶ)および主にリンス液による洗浄処理(以下、リンス処理と呼ぶ)が行われる。この薬液としては、フッ酸、アンモニア−過酸化水素混合液(APM)または塩酸−過酸化水素水等が用いられる。また、洗浄処理部MPC1〜MPC4には、二流体ノズルが設けられる。また、リンス液としては、主に純水、純水にオゾン(O3)を加えたオゾン水または希フッ酸(DHF)が用いられる。この洗浄処理部MPC1〜MPC4それぞれにおいて、基板は薬液処理された後、基板上に残留する薬液が純水により洗い流され、リンス処理される。以下、洗浄処理部MPC1〜MPC4を処理ユニットと総称する。 In the cleaning processing units MPC <b> 1 to MPC <b> 4, a cleaning process using a chemical solution (hereinafter referred to as a chemical process) and a cleaning process using a rinse solution (hereinafter referred to as a rinse process) are mainly performed. As this chemical solution, hydrofluoric acid, ammonia-hydrogen peroxide mixed solution (APM), hydrochloric acid-hydrogen peroxide solution, or the like is used. In addition, a two-fluid nozzle is provided in the cleaning processing units MPC1 to MPC4. As the rinse liquid, pure water, ozone water obtained by adding ozone (O 3 ) to pure water, or dilute hydrofluoric acid (DHF) are mainly used. In each of the cleaning units MPC1 to MPC4, the substrate is subjected to a chemical solution treatment, and then the chemical solution remaining on the substrate is washed away with pure water and rinsed. Hereinafter, the cleaning processing units MPC1 to MPC4 are collectively referred to as processing units.
図1の流体ボックス部2a,2b,2c,2dは、それぞれ処理ユニットへの薬液または純水の供給ならびに処理ユニットからの排液等に関する配管、継ぎ手、バルブ、流量計、レギュレータ、ポンプ、温度調節器、処理液貯留タンク等の流体関連機器を収納する。
The
一方、搬送領域C1,C2には、複数の搬送レールR1〜R3,R11〜R14,R21〜R23,RM1,RM2が設けられる。ここで、搬送領域C1の長手方向をX方向と呼び、水平面内でX方向に垂直な方向をY方向と呼び、上下方向をZ方向と呼ぶ。 On the other hand, a plurality of transport rails R1 to R3, R11 to R14, R21 to R23, RM1 and RM2 are provided in the transport areas C1 and C2. Here, the longitudinal direction of the transport area C1 is referred to as the X direction, the direction perpendicular to the X direction in the horizontal plane is referred to as the Y direction, and the vertical direction is referred to as the Z direction.
また、搬送領域C1,C2には、その搬送レールR1〜R3,R11〜R14,R21〜R23,RM1,RM2に懸吊されつつ移動可能な4台の基板搬送ロボットHCR1,HCR2,HCR3,HCR4が設けられる。この基板搬送ロボットHCR1〜HCR4の詳細については後述する。 In the transfer areas C1 and C2, four substrate transfer robots HCR1, HCR2, HCR3 and HCR4 which are movable while being suspended by the transfer rails R1 to R3, R11 to R14, R21 to R23, RM1 and RM2 are provided. Provided. Details of the substrate transfer robots HCR1 to HCR4 will be described later.
また、搬送領域Aの洗浄処理部MPC1と搬送領域C1との間には、基板搬入出ロボットMR1が設けられる。基板搬入出ロボットMR1と洗浄処理部MPC1との間には隔壁WL1が設けられ、基板搬入出ロボットMR1と搬送領域C1との間には隔壁WL2が設けられる。同様に、洗浄処理部MPC2,MPC3,MPC4と搬送領域C1との間には、基板搬入出ロボットMR2,MR3,MR4がそれぞれ設けられ、洗浄処理部MPC2〜MPC4と基板搬入出ロボットMR2〜MR4との間には隔壁WL1が設けられ、基板搬入出ロボットMR2〜MR4と搬送領域C1との間には隔壁WL2が設けられる。隔壁WL1,WL2の詳細については後述する。また、搬送領域C1には、各処理ユニットに対向して隔壁WL2に面する位置に支持台30が設けられる。
A substrate carry-in / out robot MR1 is provided between the cleaning processing unit MPC1 in the transfer area A and the transfer area C1. A partition wall WL1 is provided between the substrate carry-in / out robot MR1 and the cleaning processing unit MPC1, and a partition wall WL2 is provided between the substrate carry-in / out robot MR1 and the transfer region C1. Similarly, substrate loading / unloading robots MR2, MR3, MR4 are respectively provided between the cleaning processing units MPC2, MPC3, MPC4 and the transfer area C1, and the cleaning processing units MPC2-MPC4 and the substrate loading / unloading robots MR2-MR4 A partition wall WL1 is provided between the substrate loading / unloading robots MR2 to MR4 and the transfer region C1. Details of the partition walls WL1 and WL2 will be described later. Further, a
搬送領域C2の一側部側には、基板Wの搬入および搬出を行うためのロードポートLPが配置されている。ロードポートLPには、基板Wを収納する基板収納容器1が載置台40に載置される。ここで、本実施の形態で用いられる基板収納容器1は、基板Wを密閉した状態で収納可能なFOUP(Front Opening Unified Pod)タイプの基板収納容器である。 A load port LP for loading and unloading the substrate W is disposed on one side of the transfer area C2. In the load port LP, the substrate storage container 1 for storing the substrate W is mounted on the mounting table 40. Here, the substrate storage container 1 used in the present embodiment is a FOUP (Front Opening Unified Pod) type substrate storage container that can store the substrate W in a sealed state.
制御部4は、CPU(中央演算処理装置)を含むコンピュータ等からなり、処理領域A,Bの各処理ユニットの動作、搬送領域C1,C2の基板搬送ロボットHCR1〜HCR4の動作を制御する。 The control unit 4 includes a computer including a CPU (Central Processing Unit) and controls operations of the processing units in the processing areas A and B and operations of the substrate transfer robots HCR1 to HCR4 in the transfer areas C1 and C2.
図2は図1の基板処理装置100の搬送領域C1,C2の一部の斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view of a part of the transfer areas C1 and C2 of the
図2に示すように、搬送レールR12(点線で示す),R13が下段に設けられ、搬送レールR1〜R3,R21,R22,R23(点線で示す)が中段に設けられ、搬送レールR11(点線で示す),R14が上段に設けられる。また、搬送レールRM1(点線で示す),RM2は、それぞれ矢印αの方向に下段と上段との間を移動しつつ矢印βの方向に回転移動することが可能である。 As shown in FIG. 2, the transport rails R12 (shown by dotted lines) and R13 are provided in the lower stage, the transport rails R1 to R3, R21, R22, and R23 (shown by dotted lines) are provided in the middle stage, and the transport rail R11 (shown by dotted lines). R14 is provided in the upper stage. Further, the transport rails RM1 (indicated by dotted lines) and RM2 can rotate in the direction of arrow β while moving between the lower stage and the upper stage in the direction of arrow α.
図2に示すように、搬送領域C2からロードポートLPの載置台40の上方には、搬送レールR1,R2,R3がX方向に沿って導かれている。 As shown in FIG. 2, the transport rails R <b> 1, R <b> 2, R <b> 3 are guided along the X direction from the transport region C <b> 2 above the mounting table 40 of the load port LP.
搬送領域C2には、搬送レールR21〜R23,RM1,RM2がY方向に沿って搬送レールR1〜R3の一端と連結可能に設けられる。 In the transport region C2, transport rails R21 to R23, RM1, and RM2 are provided so as to be connectable to one end of the transport rails R1 to R3 along the Y direction.
一方、処理領域Bに面した搬送領域C1には、X方向に沿って搬送レールR13,R14が設けられる。搬送レールR13は、洗浄処理部MPC3の近傍まで延びており、搬送レールR14は、洗浄処理部MPC4の近傍まで延びている。 On the other hand, in the transport area C1 facing the processing area B, transport rails R13 and R14 are provided along the X direction. The transport rail R13 extends to the vicinity of the cleaning processing unit MPC3, and the transport rail R14 extends to the vicinity of the cleaning processing unit MPC4.
この搬送レールR13は、搬送レールRM2が、矢印βの方向に回転移動しつつ、下降した場合に、搬送レールRM2と連結する位置に設けられ、搬送レールR14は、搬送レールRM2が矢印βの方向に回転移動しつつ、上昇した場合に搬送レールRM2と連結する位置に設けられる。 The transport rail R13 is provided at a position where it is connected to the transport rail RM2 when the transport rail RM2 moves downward in the direction of the arrow β and descends, and the transport rail R14 has the transport rail RM2 in the direction of the arrow β. It is provided at a position where it is connected to the transport rail RM2 when it is raised while rotating.
また、処理領域Aに面した搬送領域C1には、X方向に沿って搬送レールR11,R12が設けられる。搬送レールR11は、洗浄処理部MPC1の近傍まで延びており、搬送レールR12は、洗浄処理部MPC2の近傍まで延びている。 Further, in the transport area C1 facing the processing area A, transport rails R11 and R12 are provided along the X direction. The transport rail R11 extends to the vicinity of the cleaning processing unit MPC1, and the transport rail R12 extends to the vicinity of the cleaning processing unit MPC2.
この搬送レールR11は、搬送レールRM1が、矢印βの方向に回転移動しつつ、上昇した場合に搬送レールRM1と連結する位置に設けられ、搬送レールR12は、搬送レールRM1が矢印βの方向に回転移動しつつ、下降した場合に搬送レールRM1と連結する位置に設けられる。 The transport rail R11 is provided at a position where the transport rail RM1 is rotated and moved in the direction of the arrow β and is connected to the transport rail RM1 when the transport rail RRM is lifted, and the transport rail R12 is configured so that the transport rail RM1 is in the direction of the arrow β. It is provided at a position to be connected to the transport rail RM1 when it is lowered while rotating.
図2の基板搬送ロボットHCR3は、搬送レールR1〜R3,R11〜R14,R21〜R23,RM1,RM2に懸吊されつつ移動可能な懸吊駆動部CRおよび基板収納容器1の上端部を挟持する一対の挟持部HANDを有する。また、他の基板搬送ロボットHCR1,HCR2,HCR4の構成は、基板搬送ロボットHCR3の構成と同様である。 The substrate transfer robot HCR3 of FIG. 2 holds the suspension drive unit CR that is movable while being suspended by transfer rails R1 to R3, R11 to R14, R21 to R23, RM1 and RM2, and the upper end portion of the substrate storage container 1. It has a pair of clamping parts HAND. The configurations of the other substrate transfer robots HCR1, HCR2, and HCR4 are the same as the configurations of the substrate transfer robot HCR3.
したがって、4台の基板搬送ロボットHCR1〜HCR4は、それぞれ基板収納容器1の上端部を挟持し、搬送レールR1〜R3,R11〜R14,R21〜R23,RM1,RM2に懸吊されつつ移動することが可能である。 Therefore, the four substrate transfer robots HCR1 to HCR4 each hold the upper end portion of the substrate storage container 1 and move while being suspended by the transfer rails R1 to R3, R11 to R14, R21 to R23, RM1 and RM2. Is possible.
ここで、基板搬送ロボットHCR3が洗浄処理部MPC3に基板収納容器1を搬送し、同時に基板搬送ロボットHCR4が洗浄処理部MPC4に基板収納容器1を搬送する場合について説明する。 Here, a case will be described in which the substrate transport robot HCR3 transports the substrate storage container 1 to the cleaning processing unit MPC3 and at the same time the substrate transport robot HCR4 transports the substrate storage container 1 to the cleaning processing unit MPC4.
まず、図2に示すように、基板搬送ロボットHCR3は、搬送レールR3に懸吊されている。基板搬送ロボットHCR3は、ロードポートLPの載置台40に載置された基板収納容器1の上方に移動し、載置台40に載置された基板収納容器1の上端部を一対の挟持部HANDで挟持する。基板搬送ロボットHCR3は、基板収納容器1の上端部を挟持したまま基板収納容器1全体を上方に引き上げる。 First, as shown in FIG. 2, the substrate transfer robot HCR3 is suspended from the transfer rail R3. The substrate transfer robot HCR3 moves above the substrate storage container 1 placed on the placement table 40 of the load port LP, and the upper end portion of the substrate storage container 1 placed on the placement table 40 is moved by a pair of clamping parts HAND. Hold it. The substrate transfer robot HCR3 pulls up the entire substrate storage container 1 while holding the upper end portion of the substrate storage container 1.
続いて、基板搬送ロボットHCR3は、搬送レールR3,R22に沿って移動し、搬送レールRM2上で停止する。 Subsequently, the substrate transfer robot HCR3 moves along the transfer rails R3 and R22 and stops on the transfer rail RM2.
搬送レールRM2は、基板搬送ロボットHCR3を懸吊した状態で矢印βの方向に回転しつつ搬送レールR13と連結する位置まで下降する。 The transport rail RM2 descends to a position where it is connected to the transport rail R13 while rotating in the direction of arrow β with the substrate transport robot HCR3 suspended.
搬送レールRM2が搬送レールR13と連結する位置まで下降すると、基板搬送ロボットHCR3は、基板収納容器1の上端部を挟持したまま、洗浄処理部MPC3の前方の支持台30の上方まで移動する。基板搬送ロボットHCR3は、基板収納容器1の上端部を挟持したまま基板収納容器1全体を下方に降下させ、支持台30上に基板収納容器1を載せる。そして、基板搬送ロボットHCR3は、一対の挟持部HANDを開放して基板収納容器1の上端部を離す。 When the transport rail RM2 is lowered to a position where the transport rail RM2 is connected to the transport rail R13, the substrate transport robot HCR3 moves above the support table 30 in front of the cleaning processing unit MPC3 while holding the upper end portion of the substrate storage container 1. The substrate transfer robot HCR 3 lowers the entire substrate storage container 1 while holding the upper end of the substrate storage container 1, and places the substrate storage container 1 on the support table 30. Then, the substrate transfer robot HCR3 opens the pair of holding portions HAND and releases the upper end portion of the substrate storage container 1.
一方、基板搬送ロボットHCR4は、基板搬送ロボットHCR3と同様に他の基板収納容器1の上端部を挟持して移動する。基板搬送ロボットHCR4は、搬送レールR2,R21に沿って移動し、搬送レールRM2上で停止する。 On the other hand, the substrate transfer robot HCR4 moves while holding the upper end of another substrate storage container 1 in the same manner as the substrate transfer robot HCR3. The substrate transfer robot HCR4 moves along the transfer rails R2 and R21 and stops on the transfer rail RM2.
搬送レールRM2は、基板搬送ロボットHCR4を懸吊した状態で矢印βの方向に回転しつつ搬送レールR14と連結する位置まで上昇する。 The transport rail RM2 rises to a position where it is connected to the transport rail R14 while rotating in the direction of arrow β with the substrate transport robot HCR4 suspended.
搬送レールRM2が搬送レールR14と連結する位置まで上昇すると、基板搬送ロボットHCR4は、基板収納容器1の上端部を挟持したまま、洗浄処理部MPC4の前方の支持台30の上方まで移動する。基板搬送ロボットHCR4は、基板収納容器1の上端部を挟持したまま基板収納容器1全体を下方に降下させ、支持台30上に基板収納容器1を載せる。そして、基板搬送ロボットHCR4は、一対の挟持部HANDを開放して基板収納容器1の上端部を離す。
When the transport rail RM2 rises to a position where the transport rail RM2 is connected to the transport rail R14, the substrate transport robot HCR4 moves to above the
次に、図3は図1の基板処理装置100のD−D断面を示す図であり、図4は図1の基板処理装置100のE−E断面を示す図である。
3 is a diagram showing a DD section of the
図3に示すように、洗浄処理部MPC1の前方に基板収納容器1の上端部を挟持した基板搬送ロボットHCR1が位置し、洗浄処理部MPC3の前方に基板収納容器1の上端部を挟持した基板搬送ロボットHCR3が位置する。 As shown in FIG. 3, the substrate transfer robot HCR1 that sandwiches the upper end portion of the substrate storage container 1 is positioned in front of the cleaning processing unit MPC1, and the substrate that sandwiches the upper end portion of the substrate storage container 1 in front of the cleaning processing unit MPC3. The transfer robot HCR3 is located.
また、図4に示すように、洗浄処理部MPC2の前方に基板収納容器1の上端部を挟持した基板搬送ロボットHCR2が位置し、洗浄処理部MPC4の前方に基板収納容器1の上端部を挟持した基板搬送ロボットHCR4が位置する。 Further, as shown in FIG. 4, the substrate transfer robot HCR2 that holds the upper end portion of the substrate storage container 1 is positioned in front of the cleaning processing unit MPC2, and the upper end portion of the substrate storage container 1 is held in front of the cleaning processing unit MPC4. The substrate transfer robot HCR4 is positioned.
図3の洗浄処理部MPC1と基板搬入出ロボットMR1との間の隔壁WL1には、開口部が設けられ、その開口部にはシャッタSHが開閉自在に設けられる。基板搬入出ロボットMR1と搬送領域C1との間の隔壁WL2には開口部が設けられ、その開口部の下方には基板収納容器1の蓋を開閉可能する蓋開閉機構(オープナー)OPが設けられる。 An opening is provided in the partition wall WL1 between the cleaning processing unit MPC1 and the substrate carry-in / out robot MR1 in FIG. 3, and a shutter SH is provided in the opening so as to be freely opened and closed. An opening is provided in the partition wall WL2 between the substrate loading / unloading robot MR1 and the transfer area C1, and a lid opening / closing mechanism (opener) OP that can open and close the lid of the substrate storage container 1 is provided below the opening. .
同様に、図3および図4の洗浄処理部MPC2〜MPC4と基板搬入出ロボットMR2〜MR4との間のそれぞれの隔壁WL1には、開口部およびシャッタSHが設けられる。また、基板搬入出ロボットMR2〜MR4と搬送領域C1との間のそれぞれの隔壁WL2には開口部が設けられ、その開口部の下方には蓋開閉機構(オープナー)OPが設けられる。 Similarly, each partition wall WL1 between the cleaning processing units MPC2 to MPC4 and the substrate carry-in / out robots MR2 to MR4 in FIGS. 3 and 4 is provided with an opening and a shutter SH. Each partition WL2 between the substrate loading / unloading robots MR2 to MR4 and the transfer area C1 is provided with an opening, and a lid opening / closing mechanism (opener) OP is provided below the opening.
また、図3に示すように、搬送レールR11〜R14のそれぞれの間隔は、基板搬送ロボットHCR1〜HCR4がそれぞれ基板収納容器1の上端部を挟持して搬送した場合でも、互いに衝突(干渉)しないように配置される。 Further, as shown in FIG. 3, the intervals between the transfer rails R <b> 11 to R <b> 14 do not collide (interfer) with each other even when the substrate transfer robots HCR <b> 1 to HCR <b> 4 hold and transfer the upper end portion of the substrate storage container 1. Are arranged as follows.
洗浄処理装置MPC1は、基板処理装置100に対して相対的に上方に設けられ、洗浄処理装置MPC2は、基板処理装置100に対して相対的に下方に設けられ、洗浄処理装置MPC3は、基板処理装置100に対して相対的に下方に設けられ、洗浄処理装置MPC4は、基板処理装置100に対して相対的に上方に設けられる。
The cleaning processing apparatus MPC1 is provided relatively above the
以上のことにより、基板搬送ロボットHCR1〜HCR4は、いずれも互いに他の基板搬送ロボットと衝突(干渉)しないで基板収納容器1の搬送が可能となる。 As described above, the substrate transport robots HCR1 to HCR4 can transport the substrate storage container 1 without colliding (interfering) with other substrate transport robots.
次に、基板搬送ロボットHCR3により支持台30に搬送された基板収納容器1から未処理の基板Wを取り出して洗浄処理部MPC3に搬入する場合について説明する。 Next, a case where an unprocessed substrate W is taken out from the substrate storage container 1 transported to the support table 30 by the substrate transport robot HCR3 and loaded into the cleaning processing unit MPC3 will be described.
図5は、基板収納容器1から未処理の基板Wを取り出して洗浄処理部MPC3に搬入する状態を示す斜視図である。 FIG. 5 is a perspective view showing a state in which an unprocessed substrate W is taken out from the substrate storage container 1 and carried into the cleaning processing unit MPC3.
図5に示す基板搬入出ロボットMR3は、複数の腕から構成された多関節型ロボットである。また、基板搬入出ロボットMR3は、基板収納容器1内の上段から下段までの範囲を上下移動することが可能である。さらに、洗浄処理部MPC3に対向する搬送領域C1に面した隔壁WL2には、基板収納容器1の蓋を開閉する蓋開閉装置OPが備えられている。 A substrate carry-in / out robot MR3 shown in FIG. 5 is an articulated robot composed of a plurality of arms. Further, the substrate carry-in / out robot MR3 can move up and down in the range from the upper stage to the lower stage in the substrate storage container 1. Further, the partition wall WL2 facing the transfer area C1 facing the cleaning processing unit MPC3 is provided with a lid opening / closing device OP for opening and closing the lid of the substrate storage container 1.
まず、基板搬送ロボットHCR3により洗浄処理部MPC3の前方の隔壁WL2の支持台30上に基板収納容器1を載せる。そして、蓋開閉装置OPにより基板収納容器1の蓋が開放される。
First, the substrate storage container 1 is placed on the
次に、多関節型ロボットである基板搬入出ロボットMR3は、蓋が開放された基板収納容器1内に収納された未処理の基板Wを受け取る。ほぼ同時に、隔壁WL1のシャッタSHが下方へ移動する。それにより、基板搬入出ロボットMR3は、基板収納容器1内から取り出した未処理の基板Wを洗浄処理部MPC3内に搬入する。未処理の基板Wを洗浄処理部MPC3に搬入した後、基板搬入出ロボットMR3は、洗浄処理部MPC3から退出する。続いて、隔壁WL1のシャッタSHが上方へ移動し、洗浄処理部MPC3内が密閉される。洗浄処理部MPC3は、基板Wに所定の処理を施す。その後、隔壁WL1のシャッタSHが下方へ移動する。それにより、基板搬入出ロボットMR3は、処理済の基板Wを受け取り、基板収納容器1内に収納することができる。基板搬入出ロボットMR3は、基板収納容器1内に収納された未処理の基板Wに対して同様の動作を繰り返し、基板収納容器1内の基板Wを全て処理する。 Next, the substrate loading / unloading robot MR3, which is an articulated robot, receives an unprocessed substrate W stored in the substrate storage container 1 with the lid open. At substantially the same time, the shutter SH of the partition wall WL1 moves downward. Accordingly, the substrate carry-in / out robot MR3 carries the unprocessed substrate W taken out from the substrate storage container 1 into the cleaning processing unit MPC3. After the unprocessed substrate W is carried into the cleaning processing unit MPC3, the substrate carry-in / out robot MR3 leaves the cleaning processing unit MPC3. Subsequently, the shutter SH of the partition wall WL1 moves upward, and the inside of the cleaning processing unit MPC3 is sealed. The cleaning processing unit MPC3 performs a predetermined process on the substrate W. Thereafter, the shutter SH of the partition wall WL1 moves downward. Accordingly, the substrate carry-in / out robot MR3 can receive the processed substrate W and store it in the substrate storage container 1. The substrate carry-in / out robot MR3 repeats the same operation for the unprocessed substrates W stored in the substrate storage container 1, and processes all the substrates W in the substrate storage container 1.
以上のことにより、本実施の形態に係る基板処理装置は、基板Wが開閉自在な蓋を有する密閉型の基板収納容器1に収納された状態で載置部40と所定の洗浄処理部MPC1〜MPC4との間で搬送されるので、外気の影響を受けことが防止されるとともに基板Wの受け渡し回数を減らすことができる。その結果、基板Wの汚染機会を削減することができる。 As described above, the substrate processing apparatus according to the present embodiment is configured such that the substrate W and the predetermined cleaning processing units MPC1 to MPC1 are stored in the sealed substrate storage container 1 having the lid that can be freely opened and closed. Since it is transported to and from the MPC 4, it is possible to prevent the influence of the outside air and to reduce the number of times the substrate W is delivered. As a result, the chance of contamination of the substrate W can be reduced.
また、基板搬入出ロボットMR1〜MR4により基板収納容器1に収納された基板Wが洗浄処理部MPC1〜MPC4に搬入され、基板搬入出ロボットMR1〜MR4により洗浄処理部MPC1〜MPC4から基板Wが搬出され基板収納容器1に収納される。その結果、洗浄処理部MPC1〜MPC4において基板Wに所定の処理を行うことができる。また、基板搬入出ロボットMR1〜MR4により基板Wが基板収納容器1から直接洗浄処理部MPC1〜MPC4に搬入されるので、基板Wの受け渡し回数を減らすことができ、基板Wの汚染回数を削減することができる。 In addition, the substrate W stored in the substrate storage container 1 by the substrate loading / unloading robots MR1 to MR4 is loaded into the cleaning processing units MPC1 to MPC4, and the substrate W is unloaded from the cleaning processing units MPC1 to MPC4 by the substrate loading / unloading robots MR1 to MR4. And stored in the substrate storage container 1. As a result, predetermined processing can be performed on the substrate W in the cleaning processing units MPC1 to MPC4. Moreover, since the substrate W is directly carried into the cleaning processing units MPC1 to MPC4 from the substrate storage container 1 by the substrate carry-in / out robots MR1 to MR4, the number of times of delivery of the substrate W can be reduced and the number of times of contamination of the substrate W is reduced. be able to.
さらに、基板搬送ロボットHCR1〜HCR4により洗浄処理部MPC1〜MPC4に搬送された基板収納容器1が各支持台30により支持されるので、安定した状態で基板Wを複数の洗浄処理部MPC1〜MPC4に搬入することができる。 Further, since the substrate storage container 1 transported to the cleaning processing units MPC1 to MPC4 by the substrate transport robots HCR1 to HCR4 is supported by the respective support bases 30, the substrate W is transferred to the plurality of cleaning processing units MPC1 to MPC4 in a stable state. Can be brought in.
この場合、基板搬送ロボットHCR1〜HCR4が洗浄処理部MPC1〜MPC4への搬送後に基板収納容器1を保持する必要がなくなるので、基板搬送ロボットHCR1〜HCR4が他の基板収納容器1の搬送を行うことができる。 In this case, since the substrate transfer robots HCR1 to HCR4 do not need to hold the substrate storage container 1 after transfer to the cleaning processing units MPC1 to MPC4, the substrate transfer robots HCR1 to HCR4 transfer other substrate storage containers 1. Can do.
また、複数の基板搬送ロボットHCR1〜HCR4により効率的に複数の基板収納容器1を搬送することが可能となる。その結果、基板処理装置100全体のスループットをさらに向上することができる。
Further, the plurality of substrate storage containers 1 can be efficiently transferred by the plurality of substrate transfer robots HCR1 to HCR4. As a result, the overall throughput of the
本実施の形態においては、基板搬送ロボットHCR1〜HCR4が搬送手段に相当し、支持台30が支持部に相当し、基板搬入出装置MR1〜MR4が基板搬入出手段に相当する。
In the present embodiment, the substrate transfer robots HCR1 to HCR4 correspond to transfer means, the
なお、本実施の形態においては、洗浄処理部MPC1〜MPC4を設けているが、任意の台数の洗浄処理部を設けてもよい。また、洗浄処理部MPC1〜MPC4は同じ処理を基板に施しているが、異なる処理をそれぞれ行うようにしてもよい。また、基板搬送ロボットHCR1〜HCR4を設けているが、1台または複数の基板搬送ロボットを設けてもよい。 In the present embodiment, cleaning processing units MPC1 to MPC4 are provided, but an arbitrary number of cleaning processing units may be provided. In addition, although the cleaning processing units MPC1 to MPC4 perform the same processing on the substrate, different processing may be performed. Further, although the substrate transfer robots HCR1 to HCR4 are provided, one or more substrate transfer robots may be provided.
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板、光ディスク用基板等の種々の基板を処理するため等に利用することができる。 The present invention can be used for processing various substrates such as semiconductor wafers, glass substrates for photomasks, glass substrates for liquid crystal display devices, glass substrates for plasma display panels, and substrates for optical disks.
1 FOUP
30 支持台
HCR1〜HCR4 基板搬送ロボット
MR1〜MR4 基板搬入出装置
1 FOUP
30 Support base HCR1 to HCR4 Substrate transfer robot MR1 to MR4 Substrate carry-in / out device
Claims (5)
上下方向の異なる高さに設けられ、前記基板に所定の処理を行う複数の基板処理部と、
水平方向に並ぶように設けられ、前記基板収納容器がそれぞれ載置される複数の載置部と、
前記複数の載置部と前記複数の基板処理部との間で前記基板収納容器を搬送する搬送手段と、
前記複数の基板処理部ごとに設けられ、前記基板収納容器に収納された基板を取り出すために前記蓋を開閉する蓋開閉機構とを備え、
前記搬送手段は、
前記複数の載置部に対応して所定の高さで並ぶように配置され、それぞれ水平方向に延びるように設けられる複数の第1の搬送レールと、
前記複数の基板処理部に対応して複数の高さに配置され、それぞれ水平方向に延びるように設けられる複数の第2の搬送レールと、
前記複数の第1の搬送レールのいずれかと選択的に連結可能でかつ前記複数の第2の搬送レールのいずれかと選択的に連結可能であるように移動可能に設けられる第3の搬送レールと、
前記複数の第1の搬送レール、前記第3の搬送レールおよび前記複数の第2の搬送レールに沿って移動可能に設けられ、前記複数の載置部のいずれかと前記複数の基板処理部のいずれかとの間で前記基板収納容器を搬送する搬送装置とを含むことを特徴とする基板処理装置。 A substrate processing apparatus for processing a substrate conveyed by a sealed substrate storage container having an openable / closable lid,
A plurality of substrate processing units that are provided at different heights in the vertical direction and perform predetermined processing on the substrate;
A plurality of placement units provided to be arranged in a horizontal direction, each of which is mounted with the substrate storage container;
Conveying means for conveying the substrate storage container between the plurality of placement units and the plurality of substrate processing units;
A lid opening / closing mechanism that is provided for each of the plurality of substrate processing units and opens and closes the lid to take out the substrate stored in the substrate storage container ;
The conveying means is
A plurality of first transport rails arranged so as to line up at a predetermined height corresponding to the plurality of placement portions, and extending in the horizontal direction, respectively.
A plurality of second transport rails disposed at a plurality of heights corresponding to the plurality of substrate processing units and extending in the horizontal direction, respectively.
A third transport rail that is movably provided so as to be selectively connectable with any of the plurality of first transport rails and selectively connectable with any of the plurality of second transport rails;
The plurality of first transport rails, the third transport rails, and the plurality of second transport rails are provided so as to be movable along any one of the plurality of placement units and the plurality of substrate processing units. A substrate processing apparatus comprising: a transfer device that transfers the substrate storage container between the heels .
前記搬送手段により搬送された前記基板収納容器を支持する支持部を有することを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。 The plurality of substrate processing units include:
The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising a support portion that supports the substrate storage container transported by the transport unit.
前記複数の搬送装置の各々は、前記複数の載置部のいずれかと前記複数の基板処理部のいずれかとの間で前記基板収納容器を搬送することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板処理装置。 A plurality of the conveying devices are provided ,
Each of the plurality of transport devices, any of the preceding claims, characterized in that for transporting the substrate storage container with one of said plurality of substrate processing unit and the one of the plurality of mounting portion A substrate processing apparatus according to claim 1.
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