JP4057820B2 - カラー液晶表示装置及びカラー液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

カラー液晶表示装置及びカラー液晶表示装置の製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー液晶表示装置及びその製造方法に係り、特にスペーサ群をカラーフィルタ用の着色層材料を順次積層して形成した積層型スペーサと、単一材によって形成した単層型スペーサとの混合体から構成することによって、スペーサ群の高さを略均一にすることが可能なカラー液晶表示装置及びカラー液晶表示装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
現在のカラー液晶表示装置としては、隣接画素間でのクロストークがなく、良好な表示画像の実現が可能なことから、アクティブマトリクス型カラー液晶表示装置が主流となっている。このアクティブマトリクス型カラー液晶表示装置は、図5に示すように、透明なガラス材からなる基板51上にマトリクス状にスイッチング素子、例えばアモルファスシリコンを半導体層とした薄膜トランジスタ(TFT)52を設け、このTFT52を覆うように絶縁層53が形成されている。この絶縁層53に夫々スルーホール部54を形成してTFT52と接続される複数の透明な画素電極55を絶縁層53上に配置し、更にこの画素電極55面上にポリイミド等から構成される配向膜56を形成したアレイ基板57を有している。
【0003】
このアレイ基板57と対向して配置される対向基板58は、同様に透明なガラス材にて形成された基板59を有し、この基板59のアレイ基板57と対向する対向面上には、アクリル材等から構成される青、緑、赤の3色カラーフィルタ60を形成する複数の着色層60B,60G,60Rが設けられ、この着色層60B,60G,60Rの面上には、ITO等から構成される透明な対向電極61が設けられている。そしてこの対向電極61上には、ポリイミド等から構成される配向膜62が設けられ、更に、表示領域の外周部分には、黒色の遮光膜によって形成された額縁部63が設けられ、この額縁部63によって非表示領域を覆い隠すようにしている。
【0004】
更に、このアレイ基板57上から対向基板58へ電圧を印加する電極転移材として、銀ペースト(図示せず)等が画面周辺部に配置され、この電極転移材によってアレイ基板57と対向基板58間を電気的に接続するようになされている。
【0005】
このアレイ基板57と対向基板58間は、両基板57,58間に介在されるスペーサ64によってそのギャップが規定されており、両基板57,58は所定の間隙を持って対向配置されるとともに、その周辺部を熱または紫外線硬化型のアクリル系あるいはエポキシ系の接着剤から構成されるシール材65を介して貼合わされており、この間隙部分には液晶部材66が封止されて液晶パネル67が構成されている。
【0006】
このスペーサ64は、カラーフィルタ60を構成する着色層60B,60G,60Rと同じ材料を使用して積層形成することが可能なので、着色層60B,60G,60Rの形成時にスペーサ64を同時に同じ材料を使用してフォトリソグラフィ法によって作り込むことで工程の削減を図っている。
【0007】
更に、この液晶パネル67の両外表面には、偏光板68が接着剤によって貼付され、アレイ基板57側の偏光板68の外方には、必要に応じてバックライトもしくは反射板(図示せず)等が配置されてカラー液晶表示装置を構成している。
【0008】
このように構成されたカラー液晶表示装置は、例えば光源となるバックライトを点灯し、TFT52を駆動することによって画素電極55をスイッチング制御して、画素電極55電圧と対向する対向電極61に供給される電圧との電位差により、各々の画素電極55上の液晶部材66を制御して光シャッターの役目を行わせることにより、所定のカラー画像を表示している。
【0009】
このカラー液晶表示装置を構成している積層型のスペーサ64は、カラーフィルタ60のパターン形成時に併せて形成されるが、2色目と3色目の着色材を塗布するときには、基板59上に既に形成されている着色層、例えば赤用の着色層60Rによって塗布面が凹凸状になっているために、各スペーサ64を形成する設置場所毎に着色層60G,60Bを塗布したときのレベリング性が異なり、最上層もしくは中間層の厚さが設置場所に応じて変動してしまうために、図6に示すように、形成されたスペーサ64の高さが設置場所毎に変動してしまい、スペーサ64の高さにバラツキを発生している。
【0010】
即ち、スペーサ64の1層目は、基板59上に1色目の着色材を塗布してパターニングし着色層60Rを形成するが、2色目の着色材を1色目の着色層60Rの上から塗布し、パターニングして1層目の着色層60R上に、スペーサ64を構成する2層目となる突部69を形成し、次いで3色目の着色材を塗布した後にパターニングして、突部69上に更に突部70を形成することで、積層型のスペーサ64を形成している。この際、突部69もしくは70の両側の底面の高さは、スペーサ64を形成する場所によって、即ち、隣接する部分が2色目もしくは3色目の着色層60G,60Bとなるかによって段差が大きくなっている箇所があり、このために塗布された着色材は、段差の大きい方向に大きく引っ張られ、2色目あるいは3色目をパターニングして順次突部69,70を積層していっても、段差が小さな箇所に形成されるスペーサ64よりも必然的に高さが低く形成されることになる。
【0011】
このスペーサ64の高さにバラツキが生じる要因としては、上記のようなスペーサ64の中間層や最上層を塗布する時のレベリング性の問題の他にも、積層パターンの大きさや積層する下層パターンの厚さ等が考えられる。
【0012】
このように、積層型スペーサ64で表示パネル67のギャップを規定した場合には、表示パネル67のギャップが4.9±0.5μmとなって均一性が低く、このギャップムラに起因する表示不良が発生している。
【0013】
また、液晶表示装置に使用されるスペーサ64の形態としては、このような積層型のスペーサ64の他に単層型のスペーサも知られている。この単層型のスペーサは、図7に示すように、対向基板58の対向電極61面上に、例えば額縁部63を形成する際に、同時にこの額縁材を使用して形成することも行われている。なお、図5と同じ構成部分については同じ符号を付して、その詳細な説明は省略する。
【0014】
このような単層型のスペーサ71では、例えば額縁材をスピンナーを用いて塗布する際の膜厚のバラツキが、そのままスペーサ71の高さのバラツキとして発生してしまうことになる。即ち、スピン塗布時の回転によって遠心力が発生し、基板59中央部分の膜厚が厚く周辺部分の膜厚が薄くなるために、図8に示すように、スペーサ71としては、基板59中央部分の高さが高く、周辺部分で低くなる傾向を呈する。従って、この単層型のスペーサ71の場合でも、スペーサ71の高さにバラツキが生じている。実際にこの単層型スペーサ71を使用した液晶パネル67のギャップを実測したところ、5.1±0.45μmとなって均一性が低く、特に基板59中央部分でのギャップは5.5μmとより悪化していた。このギャップの不均一性によって、ギャップムラによる表示不良が発生していた。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】
このように、表示領域のようなカラーフィルタ60パターンを有する領域に、カラーフィルタ60を形成する各着色層60R,60G,60Bの材料を使用して積層させた構造の積層型スペーサ64を作り込むと、各スペーサ64の高さが、夫々のスペーサ64を形成する場所に依存して決定されてしまうために不揃いとなり、アレイ基板57と対向基板58との間隔の均一性を損なうおそれがある。このような現象はレベリング性の高いカラーフィルタ60材料を使用した場合に特に顕著に現れるものである。
【0016】
また、単層型のスペーサ71でもスピン塗布によって形成されるために遠心力が発生し、基板59中央部分の方が周辺部分よりも高さが高くなり、同様にスペーサ71の高さがばらついてしまい、均一な高さ分布を呈するスペーサ71を得ることができないでいた。
【0017】
これらスペーサ64,71は、液晶部材66の厚さを規定しているものなので、各スペーサ64もしくは71の高さが変動することによって、液晶部材66の厚さムラという致命的な欠陥を引起こす要因となっている。
【0018】
本発明は、このような課題に対処してなされたものであり、積層型スペーサと単層型スペーサのように高さのバラツキの発生要因が異なるスペーサを混在して使用することにより、スペーサ群としてのバラツキを抑制し、表示品位の良好なカラー液晶表示装置及びカラー液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板の一平面上に配置されたスイッチング素子と、このスイッチング素子に接続される画素電極とを有するアレイ基板と、このアレイ基板と対向して配置され、その対向する面に対向電極を備えた対向基板と、この対向基板とアレイ基板間のいずれかの対向面に形成され青、緑、赤の3色の着色層からなるカラーフィルタと、アレイ基板と対向基板間のギャップを規定する複数のスペーサと、アレイ基板と対向基板間に挟持された液晶部材とを備えたカラー液晶表示装置において、スペーサを着色層材を積層して形成した積層型スペーサと、単一材によって形成した単層型スペーサとを交互に配置させたスペーサ群によって構成するようにした。
【0020】
また、基板の一平面上に配置されたスイッチング素子と、このスイッチング素子に接続される画素電極とを有するアレイ基板と、このアレイ基板と対向して配置されその対向する面に対向電極を備えた対向基板と、この対向基板とアレイ基板間のいずれかの対向面に形成され青、緑、赤の3色の着色層からなるカラーフィルタと、アレイ基板と対向基板間のギャップを規定する複数のスペーサと、アレイ基板と対向基板間に挟持された液晶部材とを備えたカラー液晶表示装置の製造方法において、スペーサを着色層材を積層して形成した積層型スペーサと、単一材によって形成した単層型スペーサとを交互に配置したスペーサ群として形成し、この積層型スペーサと単層型スペーサとを夫々別々の工程にて形成するようにした。
【0021】
このように、積層型スペーサと単層型スペーサとを混在させたスペーサ群とすることで、スペーサ群全体としての高さの均一性を確保し、表示品位の良好なカラー液晶表示装置及びその製造方法とすることができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。本発明に係るカラー液晶表示装置は、図1に示すように、透明なガラス材から構成される基板11の主面上には、成膜、パターニング等の微細技術を駆使して電極配線とスイッチング素子、例えばTFT12が設けられる。このTFT12及び電極配線は、例えば次のようにして構成される。
【0023】
即ち、基板11の主面上にスパッタリング法を用いてモリブデン・タングステン(MoW)膜を堆積させた後にパターニングして、TFT12を構成するゲート電極並びに走査信号を供給する走査線を配置する。このゲート電極や走査線を覆うようにして、基板11上に酸化シリコン、窒化シリコンからなるゲート絶縁膜を設け、このゲート絶縁膜上のゲート電極が配置された面上に、CVD法を用いてアモルファス・シリコン膜を堆積させた後にパターニングして、TFT12を構成する半導体層を配置する。更にこの半導体層には、モリブデン(Mo)/アルミニウム(Al)/モリブデン(Mo)を順次堆積させてパターニングすることで、3層構造としたTFT12を構成するソース電極、ドレイン電極、及び映像信号を供給する信号線を形成するようにして構成されている。
【0024】
このTFT12上及び周囲には絶縁膜13が形成され、更にこの絶縁膜13上には、ITO等を1500Åの厚さにスパッタリング法によって成膜し、フォトリソグラフィ法によってパターニングすることにより透明な画素電極14を形成している。この画素電極14の一端は、TFT12のソース・ドレイン通路と各スルーホール部15を介して接続されている。なお、TFT12は、マトリクス状に配置された信号線及び走査線の交差部分毎に配置されているものである。この画素電極15上には、ポリイミド等からなる600Åの膜厚の配向膜16を設けてXGA形アレイ基板17を構成している。
【0025】
一方、このアレイ基板17に対向して対向基板18が配置される。この対向基板18は、同じく透明なガラス材から構成される基板19の対向面上に、赤(R)、青(B)、緑(G)に夫々色分けされたカラーフィルタ20の役目を担うRGB着色層20R,20G,20Bが夫々の色毎にストライプ状に設けられる。この着色層20R,20G,20Bは、例えば第1色を赤で構成する場合には、まず赤色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストをスピンナーにて基板19の全面に均一になるように塗布し、次いで赤を着色したい部分に光が照射されるようなフォトマスクパターンを介して、365nmの波長で100mJ/cmの強度の紫外線を照射して露光する。このフォトマスクパターンには、1色目に対応するストライプ形状のパターン部分と、積層型スペーサ用の四角形状のパターン部分とを有している。
【0026】
その後、KOHの1%水溶液で20秒間現像し、当該パターン部分に膜厚3.2μmの赤の着色層20Rを形成する。引続き緑の着色層20G及び青の着色層20Bを同様にして夫々形成する。このカラーフィルタ20材料をパターニングする際に、カラーフィルタ20を構成する着色層20R,20G,20B材を順次積層させて形成した積層型スペーサ21を、選択された各色の画素パターン間に配置するように、夫々着色層20R,20G,20Bの形成と同時に形成する。そのスペーサ21の大きさは、例えば1層目となる赤の着色層20R部分が30×30μm、2層目となる緑の着色層20G部分が26×26μmに、そして3層目の青の着色層20B部分が22×22μmで、スペーサ21全体の高さが5μmとなるように設定されている。
【0027】
この積層型スペーサ21を形成した後に、カラーフィルタ20面上にITO膜を1500Åの厚さにスパッタリング法を用いて成膜して対向電極22を形成するとともに、感光性アクリル性透明樹脂をスピンナー塗布し、90℃で10分間乾燥させた後に、単層型スペーサ用のパターンを有するフォトマスクを介して365nmの波長で100mJ/cmの強度の紫外線を照射して露光する。その後にpH11.5のアルカリ水溶液にて現像し、200℃で60分間焼成させて積層型スペーサ21の隣接する画素ストライプ上に30×30μmの大きさの単層型スペーサ23を形成している。この積層型スペーサ21と単層型スペーサ23とは、表示領域以外の画素パターン間に交互に配設してスペーサ群24を構成している。
【0028】
また、カラーフィルタ20の外周囲部分、即ち、表示領域の外周部分には、黒色の遮光膜からなる額縁部25をフォトリソグラフィ法によって設けている。更に、対向電極22上には、ポリイミド等を600Åの厚さに塗布して形成した配向膜26を配置して、対向基板18を構成している。
【0029】
この対向基板18とアレイ基板17とは、積層型スペーサ21と単層型スペーサ23を混在させたスペーサ群24によって所定の間隙を保ちながら、例えば注入口を除いて熱硬化型エポキシ系接着剤からなるシール材27によって周辺部を加熱接着して固定している。またアレイ基板17から対向基板18に電圧を印加するための電極転移材を、シール材27の周辺の電極転移電極(図示せず)上に形成している。この間隙部分には、例えばフッ素系液晶化合物からなる液晶部材28が注入口を介して注入され、その後にこの注入口を紫外線硬化樹脂によって封止して液晶パネル29を形成している。更に、この液晶パネル29のアレイ基板17及び対向基板18の外表面には、夫々偏光板30が接着固定されるとともに、アレイ基板17側の偏光板30の外側には、必要に応じてバックライトや反射板(図示せず)等が配置されて、カラー液晶表示装置が構成されている。
【0030】
こうして形成したアクティブマトリクス型カラー液晶表示装置においては、積層型スペーサ21を形成した後に単層型スペーサ23を形成し、これら積層型スペーサ21と単層型スペーサ23とが隣接する画素上に交互に配置してスペーサ群24を構成することにより、積層型スペーサ21と単層型スペーサ23とを交互に配置し、使用個数を略均等となるようにバランスさせ、且つ両スペーサ21,23の大きさを略同じ大きさに形成することで、積層型スペーサ21単独及び単層型スペーサ23単独使用の場合の不具合点を補完し合って、図2に示すように、スペーサ群24としては、個々の高さのバラツキを相殺して、全体としての高さの均一性を向上させている。即ち、液晶パネル29のギャップは、4.90±0.19μmとすることができ、非常に均一性が高くなるばかりでなく、表示領域と額縁部25近傍のギャップムラも見られず、液晶部材28の厚さムラに起因する表示不良をなくすことが可能となった。
【0031】
なお、上記説明では、カラーフィルタ20及びスペーサ群24を対向基板18側に形成した場合について説明しているが、このカラーフィルタ20とスペーサ群24とをアレイ基板17側に形成するように構成することも可能である。
【0032】
即ち、上記実施の形態で説明したと同じ部分には同じ符号を付して、その詳細な説明は省略するが、図3に示すように、透明なガラス材から構成される基板11の主面上には、成膜、パターニング等の微細技術を駆使して電極配線とTFT12が設けられる。このTFT12の周囲には、少なくともその一部を覆うように赤、緑、青に夫々色分けされたカラーフィルタ20の役目を担う着色層20R,20G,20Bが夫々の色毎にストライプ状に設けられる。この着色層20R,20G,20Rは、例えば第1色を赤で構成する場合には、まず赤色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストをスピンナーにて基板11の全面に均一になるように塗布し、次いで赤を着色したい部分に光が照射されるようなフォトマスクパターンを介して、365nmの波長で100mJ/cmの強度の紫外線を照射して露光する。このフォトマスクパターンには、1色目に対応するストライプ状のパターン部分と、画素電極14とTFT12との接続のためのスルーホール部15のパターン部分と、積層型スペーサ21用の四角形状のパターン部分とを有している。
【0033】
その後、KOHの1%水溶液で20秒間現像し、当該パターン部分に膜厚3.2μmの赤の着色層20Rとスルーホール部15を形成する。引続き緑の着色層20G、及び青の着色層20B並びに各スルーホール部15を同様にして夫々形成する。このカラーフィルタ20材料をパターニングする際に、カラーフィルタ20を構成する着色層20R,20G,20B材を順次積層させた積層型スペーサ21を画素パターン間に配置するように、夫々の着色層20R,20G,20Bの形成と同時に形成する。
【0034】
更に、このカラーフィルタ20上には、ITO等を1500Åの厚さにスパッタリング法によって成膜し、フォトリソグラフィ法によってパターニングすることにより、透明な画素電極14を形成し、この画素電極14の一端はTFT12のソース・ドレイン通路と各スルーホール部15を介して接続されている。このTFT12は、マトリクス状に配置された信号線と走査線との交差部分毎に配置されている。更に、画素電極14上には、感光性アクリル性透明樹脂をスピンナー塗布して90℃で10分間乾燥させた後に、単層型スペーサ23用のパターンを有するフォトマスクを介して、365nmの波長で100mJ/cmの強度の紫外線を照射して露光する。その後にpH11.5のアルカリ水溶液にて現像し、200℃で60分間の焼成を行って、積層型スペーサ21に隣接する画素ストライプ上に、高さ5.0μmの単層型スペーサ23を形成する。次いで、ポリイミド等を600Åの厚さに塗布して形成した配向膜16を配置してアレイ基板17を構成している。
【0035】
一方、このアレイ基板17に対向して対向基板18を配置する。この対向基板18は、同じく透明なガラス材から構成される基板19の対向面上に、ITO等からなる透明な対向電極22と、この対向電極22上にポリイミド等からなる600Åの膜厚の配向膜26を順次積層して構成されている。
【0036】
このようにして形成されたカラー液晶表示装置では、液晶パネル29のギャップが4.8±0.18μmとなって非常に均一性が高く、優れた表示品位を得ることができるばかりでなく、アレイ基板17上にカラーフィルタ20を形成しているので、カラーフィルタ20を対向基板18側に設けた図1に示す実施の形態の場合に比較して、開口率を約5%向上させることができた。また、積層型スペーサ21と単層型スペーサ23の大きさを30×30μmに統一することで、更に均一性の高い4.8±0.15μmという値を得ることができた。
【0037】
また、上記説明では、単層型スペーサ23を別の材料を使用して個別に形成した場合について説明しているが、この単層型スペーサ23を、図4に示すように、額縁材を用いて額縁部25を形成する際に同時に形成させることも可能である。
【0038】
即ち、上記実施の形態で説明したと同じ部分には同じ符号を付して、その詳細な説明は省略するが、カラーフィルタ20の外周部分、即ち、画素電極14の集合によって形成されている表示領域の外周部分に遮光膜となる額縁部25をフォトリソグラフィ法によって形成する際に、単層型スペーサ23も併せて作り込むことによって、額縁材をそのまま利用することが可能となり、製造工程の削減を図ることができる。
【0039】
このように形成されたカラー液晶表示装置では、液晶パネル29のギャップが4.9±0.21μmと均一性に優れ、また製造工程の簡略化が図れるものとして形成され、しかも表示領域と額縁部25近傍のギャップムラも見られず、表示不良も発生していない。
【0040】
また、積層型スペーサ21の高さ分布を、基板11の中央部分が低くなるようにするために、例えば14インチから15インチ程度で使用される300×200mmの基板11の中央部分100mmの直径の範囲内に存在する積層型スペーサ21を、1層目の大きさを25×25μmに、2層目の大きさを20×20μmに、3層目の大きさを17×17μmと、周辺部分に形成される積層型スペーサ21の大きさ、即ち1層目を30×30μm、2層目を26×26μm、3層目を22×22μmに設定した場合よりも小さく形成することによって、積層型スペーサ21の高さ分布を、単層型スペーサ23の高さ分布と略逆の分布傾向となるように、周辺部分と中央部分との高さを意識的に不揃いに形成することで、液晶パネル29のギャップを4.9±0.12μmと非常に高い均一性を得ることができる。
【0041】
これらの本発明に係るカラー液晶表示装置と従来のカラー液晶表示装置の比較を纏めて表1に示す。
【表1】
Figure 0004057820
この表1からも解るように、本発明に係るカラー液晶表示装置及びその製造方法によれば、従来のカラー液晶表示装置に比して各段に優れたギャップの均一性を得ることができ、液晶パネル29のギャップムラに起因する表示不良を改善することができるものである。
【0042】
なお、本発明は、上述した各実施の形態にとらわれることなく種々の変形が可能であり、例えば積層型スペーサと単層型スペーサとを同一基板側に設ける代わりに、積層型スペーサをカラーフィルタが形成される一方の基板側に設け、単層型スペーサを他方の基板側に形成して、これらスペーサを夫々別々に形成した基板同士を合体させて製造することも可能で、この場合には、各スペーサの形成作業が両基板側で分業できるので、製造効率を向上させることが可能となるばかりでなく、スペーサ形成時に先に形成した積層型スペーサが支障となるようなこともなくなる等の製造上の利点も有している。また、TFTやその他の構成及び大きさ等は、自由に設計し得ることは言うまでもない。
【0043】
【発明の効果】
以上述べてきたように本発明によれば、スペーサを積層型スペーサと単層型スペーサとの混在によるスペーサ群として形成することにより、スペーサ群全体としての高さを均一化することが可能となり、これに伴って確実にギャップムラを抑制することができ、表示不良の発生を改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るカラー液晶表示装置を示す断面図。
【図2】本発明に係るカラー液晶表示装置のスペーサ群の配置状況を説明するための説明図。
【図3】同じく本発明に係るカラー液晶表示装置の他の構成を示す断面図。
【図4】同じく本発明に係るカラー液晶表示装置の別の構成を示す断面図。
【図5】従来のカラー液晶表示装置を示す断面図。
【図6】従来のカラー液晶表示装置を構成するスペーサの配置状況を説明するための説明図。
【図7】従来のカラー液晶表示装置の他の構成例を示す断面図。
【図8】従来のカラー液晶表示装置を構成するスペーサの配置状況を説明するための説明図。
【符号の説明】
11,19:基板
12:薄膜トランジスタ(スイッチング素子)
14:画素電極
17:アレイ基板
18:対向基板
20:カラーフィルタ
20R,20G,20B:着色層
21:積層型スペーサ
22:対向電極
23:単層型スペーサ
24:スペーサ群
28:液晶部材

Claims (6)

  1. 基板の一平面上に配置されたスイッチング素子と、このスイッチング素子に接続される画素電極とを有するアレイ基板と、
    このアレイ基板と対向して配置され、その対向する面に対向電極を備えた対向基板と、
    この対向基板と前記アレイ基板間のいずれかの対向面に形成され青、緑、赤の3色の着色層からなるカラーフィルタと、
    前記アレイ基板と対向基板間のギャップを規定する複数のスペーサと、
    前記アレイ基板と対向基板間に挟持された液晶部材とを備えたカラー液晶表示装置において、
    前記スペーサは、前記着色層材を積層して形成された積層型スペーサと単一材によって形成された単層型スペーサとを交互に配置させたスペーサ群によって構成されていることを特徴とするカラー液晶表示装置。
  2. 前記積層型スペーサはその高さが前記基板の周辺部側で高くなるように形成され、前記単層型スペーサはその高さが前記基板の中央部側で高くなるように形成されていることを特徴とする請求項1記載のカラー液晶表示装置。
  3. 前記スペーサ群の前記単層型スペーサと積層型スペーサの割合を略等しく設定したことを特徴とする請求項1記載のカラー液晶表示装置。
  4. 基板の一平面上に配置されたスイッチング素子と、このスイッチング素子に接続される画素電極とを有するアレイ基板と、
    このアレイ基板と対向して配置されその対向する面に対向電極を備えた対向基板と、
    この対向基板と前記アレイ基板間のいずれかの対向面に形成され青、緑、赤の3色の着色層からなるカラーフィルタと、
    前記アレイ基板と対向基板間のギャップを規定する複数のスペーサと、
    前記アレイ基板と対向基板間に挟持された液晶部材とを備えたカラー液晶表示装置の製造方法において、
    前記スペーサを、前記着色層材を積層して形成された積層型スペーサと、単一材によって形成された単層型スペーサとを交互に配置されたスペーサ群として構成し、この積層型スペーサと単層型スペーサとを夫々別々の工程にて形成することを特徴とするカラー液晶表示装置の製造方法。
  5. 前記積層型スペーサを前記いずれか一方の基板上に形成した後に、引き続いて単層型スペーサを形成することを特徴とする請求項4記載のカラー液晶表示装置の製造方法。
  6. 前記カラーフィルタが形成されたいずれか一方の基板上に積層型スペーサを形成するとともに他方の基板上に単層型スペーサを形成し、これらスペーサを形成した後に両基板を合体させることを特徴とする請求項4記載のカラー液晶表示装置の製造方法。
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