JP4039566B2 - 有機エレクトロルミネセンスディスプレイ素子 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は有機エレクトロルミネセンス（以後、「エレクトロルミネセンス」を「ＥＬ」と略記する。）ディスプレイ素子に係り、特に開口率の向上、又は解像度の向上を図った有機ＥＬディスプレイ素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬディスプレイ素子は、例えば、ガラス基板上に透光性の正孔注入電極を形成し、陰極である電子注入電極と陽極である正孔注入電極の間に一層又は複数層の有機化合物層（有機ＥＬ層）が挟まれた構造で構成されている。
従来の有機ＥＬディスプレイ素子の構造について、図面を参照しつつ説明する。
【０００３】
図６は、従来の有機ＥＬディスプレイ素子を示す図である。図６には、ストライプ状の陽極５２上に、有機層から構成される絵素５４がマトリクス状に配置されている従来の有機ＥＬディスプレイ素子５０が示されている。
【０００４】
図７は、図６における従来の有機ＥＬディスプレイ素子５０のＢ−Ｂ’断面図である。図７において、５２はＩＴＯ陽極、５５はＡｌ陰極、５６は有機層、５７は絶縁体、５８はガラス基板である。ガラス基板５８上には図６で示したようにＩＴＯ陽極５２がストライプ状に形成されている。ガラス基板５８は透明な材料からなる。また、ＩＴＯ陽極５２には透明電極材料であるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）が用いられる。
【０００５】
このストライプ上のＩＴＯ陽極５２の隙間を絶縁体５７で埋めて短絡を防ぐ。そして絶縁体５７の間に有機層５６を形成し、さらに有機層５６に電子を注入するためのＡｌ陰極５５を形成する。
【０００６】
このように構成された有機ＥＬディスプレイ素子５０は、Ａｌ陰極５５とＩＴＯ陽極５２の各電極からそれぞれ電子と正孔を注入し、発光中心となる有機層５６で再結合させて有機分子を励起状態にし、有機分子が励起状態から基底状態に戻るときに蛍光を発光することを利用するものである。かかる有機ＥＬディスプレイ素子５０は発光効率が高く、低い電圧による駆動が可能であり、多種の色の表示が可能であるなど、優れた特徴を有している。
【０００７】
しかし、一方で、ディスプレイ装置として用いるときには、図７の「Ｃ」と表記して示した部分、すなわち、有機層５６の面部分しか発光ができず、図７の「Ｄ」の部分は発光しない。つまり、絶縁体５７上のスペースは何も使われていない無駄なスペースである。このため、開口率のさらなる向上が望まれている。
【０００８】
この点、開口率の向上やコントラストの向上を図るために、ＩＴＯ陽極５２側ではなくＡｌ陰極５５側に対して発光させる有機ＥＬディスプレイ素子や（例えば、特許文献１参照。）、ディスプレイの開口率の向上と狭ピッチ化を図るために、電極が蒸着される領域がマスクよりも広くできる有機ＥＬディスプレイ素子がある（例えば、特許文献２参照。）。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００２−２９９０４４号公報
【特許文献２】
特開２００１−３１３１６９号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
開口率を向上させるための技術は種々存在するものの、従来の有機ＥＬディスプレイ素子は、有機層、すなわち、発光部に対して無視できない大きさの非発光部が存在するため、素子の面積に占める発光部の割合、すなわち、ディスプレイの開口率を大きくすることが難しく、ディスプレイの輝度も暗くなりがちであった。
【００１１】
このため、輝度に関しては抜本的な改良が望まれていた。また、有機ＥＬディスプレイ素子の発光部の配置に関しては、狭ピッチ化にも限りがあることから解像度の向上にも限りがあり、解像度のさらなる向上も望まれていた。
【００１２】
【課題を解するための手段】
本発明に係る第一の有機ＥＬディスプレイ素子は、基板上に形成された第一陽極と、第一陽極を相互に絶縁するための、基板上に形成された透光性の絶縁体と、絶縁体上に第一陽極と非接触になるように形成された第二陽極と、第一陽極と対応する位置に形成された第一有機層と、第二陽極と対応する位置に形成された第二有機層と、第一有機層上及び第二有機層上に、第二陽極と非接触になるように形成された、第一有機層及び第二有機層に電子を注入するための陰極と、を含む。
【００１３】
本発明に係る第二の有機ＥＬディスプレイ素子は、基板上に形成された第一陽極と、第一陽極を相互に絶縁するための、基板上に形成された透光性の絶縁体と、絶縁体上に第一陽極と非接触となるように形成された第二陽極と、第一陽極及び第二陽極上に形成され、第一陽極及び第二陽極から注入された正孔を輸送する正孔輸送層と、正孔輸送層上の第一陽極と対応する位置に形成された第一有機層と、正孔輸送層上の第二陽極と対応する位置に形成された第二有機層と、第一有機層上及び第二有機層上に形成された、第一有機層及び第二有機層に電子を注入するための陰極と、を含む。
【００１４】
本発明に係る第三の有機ＥＬディスプレイ素子は、隣接する1組の前記第一有機層と前記第二有機層とで同一色を発光させるための絵素を構成することを特徴とする。
【００１５】
本発明に係る第四の有機ＥＬディスプレイ素子は、第一の有機ＥＬディスプレイ素子又は第二の有機ＥＬディスプレイ素子に、さらに、隣接する前記第一有機層と前記第二有機層とで異なる絵素を構成することを特徴とする。
【００１６】
本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子の第一の製造方法は、基板上に第一陽極を形成する工程と、第一陽極を相互に絶縁する、透光性の絶縁体を基板上に形成する工程と、絶縁体上に第一陽極と非接触になるように第二陽極を形成する工程と、第一陽極及び第二陽極のそれぞれに対応する位置に有機層を形成する工程と、有機層に電子を注入するための陰極を第二陽極と非接触になるように形成する工程と、を含む。
【００１７】
本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子の第二の製造方法は、基板上に第一陽極を形成する工程と、第一陽極を相互に絶縁する、透光性の絶縁体を該基板上に形成する工程と、絶縁体上に第一陽極と非接触になるように第二陽極を形成する工程と、第一陽極及び第二陽極から注入された正孔を輸送する正孔輸送層を第一陽極及び第二陽極上に形成する工程と、正孔輸送層上の、第一陽極及び第二陽極のそれぞれに対応する位置に有機層を形成する工程と、有機層に電子を注入するための陰極を形成する工程と、を含む。
【００１８】
【発明の実施の形態】
（実施の形態１）
図１は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ素子を示す図である。図１において、１０は本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子、１２は第一陽極としてのＩＴＯ陽極、１４は第一発光部、１６は第二陽極としてのＩＴＯ陽極、１８は第二発光部である。
【００１９】
図１において、有機ＥＬディスプレイ素子１０は、ストライプ状のＩＴＯ陽極１２上に有機層から構成される第一発光部１４が配置され、さらに、ストライプ状のＩＴＯ陽極１６上に有機層から構成される第二発光部１８が配置されている。第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２と第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６は、ずれた位置に配置されており、従って、第一発光部１４と第二発光部１８が隣接するように配置される。第一発光部１４及び第二発光部１８が全体としてマトリクス状に配置されている。
【００２０】
図２は、図１の有機ＥＬディスプレイ素子１０のＡ−Ａ’断面図であり、本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子１０の構造が示されている。１２は第一陽極としてのＩＴＯ陽極、１６は第二陽極としてのＩＴＯ陽極、２２は陰極としてのＡｌ陰極、２４は第二有機層、２６は正孔輸送層、２８は第一有機層、３２は絶縁体、３６は基板である。
【００２１】
図２で図示した有機ＥＬディスプレイ素子１０は、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２の上に第一有機層２８を配置し、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２同士の間に設けている絶縁体３２の上に、さらに、第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６及び第二有機層２４を設けている。第一有機層２８を第一発光部、第二有機層２４を第二発光部とすることにより、非発光部を減らして開口率を大きくするようにしたものである。
【００２２】
具体的には、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ素子１０は、基板３６上に形成された第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２と、基板３６上に形成され第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２を相互に絶縁するための、透光性の絶縁体３２と、絶縁体３２に第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２に対して非接触になるように形成された第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６と、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２に対応する位置に形成された第一有機層２８と、第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６に対応する位置に形成された第二有機層２４と、第一有機層２８上及び第二有機層２４上に第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６に対して非接触になるように形成された、第一有機層２８及び第二有機層２４に電子を注入するためのＡｌ陰極２２と、を含んでいる。
【００２３】
さらに、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２と第一有機層２８との間及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６と第二有機層２４との間に正孔輸送層２６を形成してもよい。
【００２４】
第二陽極１６は、絶縁体３２の上に形成される。第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２と第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６とが接触しないように形成されるが、使用による劣化等により短絡してしまうことを防ぐため、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二の陽極であるＩＴＯ陽極１６と、第一の有機層２８及び第二の有機層２４との間に、正孔輸送層２６を形成することもできる。
【００２５】
そして、絶縁体３２の間に第一有機層２８が形成され、第二陽極であるＩＴＯ陽極１６の上部に第二有機層２４が形成されている。さらに第一有機層２８及び第二有機層２４に電子を注入するためのＡｌ陰極２２が、第一有機層２８及び第二有機層２４に接触して形成されている。
【００２６】
基板３６には、ガラス基板、フレキシブル基板、カラーフィルタや色変換膜あるいは誘電体反射膜が形成された基板を含む。透明基板は、ガラスや、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、非晶質ポリオレフィン等を材料とすることができる。カラーフィルタはその特性を調整し、効率や色純度を最適化できる。色変換膜は、ＥＬ発光の光を吸収し、蛍光変換膜の蛍光体から光を放出させることで、発光色の色変換を行わせる。誘電体多層膜はカラーフィルタの代わりに、所定の波長の光を透過させる。
【００２７】
また、第一陽極や第二陽極には高仕事関数で正孔注入の容易な材料が適するため、透明化の容易な材料が使用できる。透明化の容易な材料には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）、ＳｎＯ２（酸化スズ）、Ｉｎ２Ｏ３（酸化インジウム）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）等の酸化物、ＡｕやＮｉ等の金属がある。
【００２８】
絶縁体３２は、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２同士が短絡されないようにするために形成される。ここでは例えばＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４等の無機膜や、ポリイミド等の有機膜のような透明な材料が用いられる。
【００２９】
陰極として使用する金属電極には、低仕事関数で電子注入の容易な金属が適する。陰極電極材料には、Ａｌ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ａｕ、Ａｇ又はこれらの合金を用いることができる。また、ＩＴＯ等の透明な酸化物とＡｌやＬｉ等の低仕事関数で電子注入の容易な金属薄膜との積層構造とすることによって、陰極側からも光を取り出すことができる。
【００３０】
図１、図２から分かるように、第二発光部で発光した光が第一発光部の隙間から有機ＥＬディスプレイ素子の外部に、又は第一発光部で発光した光が第二発光部の隙間から有機ＥＬディスプレイ素子の外部に出射することになる。
【００３１】
このように本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ素子１０によれば、発光部を構成する有機層を２階建ての構成としているので、開口率の向上、又は解像度の向上を図ることができた。
【００３２】
（実施の形態２）
図３は、本発明の他の実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイ素子を示した図である。図３において、１０は本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子、１２は第一陽極としてのＩＴＯ陽極、１４は第一発光部、１６は第二陽極としてのＩＴＯ陽極、１８は第二発光部である。
【００３３】
本実施の形態では、第一陽極と対応する位置に第一有機層が形成され、第二陽極と対応する位置に第二有機層が形成されている。図３では、第一有機層が第一発光部１４に、第二有機層が第二発光部１８に対応する。図３において、隣接する1組の第一発光部１４と第二発光部１８とで同一色を発光させるための絵素を構成するように、第一発光部と第二発光部とを配置している。
【００３４】
すなわち、図３には、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の組み合わせでフルカラー化を行うに際しての絵素の配置が示されており、２つの発光部で絵素を構成し、さらに、３つの絵素で画素を構成し、画素をマトリクス上に配置した有機ＥＬディスプレイ素子の例が示されている。ここで、フルカラー化のための手法に関しては、三色発光法、白色発光法、色変換法のいずれであるかについては問わず、いずれを用いてもよいことはもちろんである。また、図３では、同色の絵素を縦方向に並べているが、斜め方向に並べても、デルタ配列としてもよい。
【００３５】
上記の例では、有機ＥＬディスプレイ素子１０の単位面積あたりの発光部を増やすことができるので、隣接する発光部１４と発光部１８とで同一色を発光させるための絵素として、輝度を向上させた。図３においては、絵素として、それぞれＲ、Ｇ、Ｂの記号を付した。
【００３６】
このマトリクス状に表示する場合の有機ＥＬディスプレイ素子の駆動方式には、パッシブマトリクス方式とアクティブマトリクス方式とがある。
【００３７】
本発明においては駆動方式を問わず、例えば、パッシブマトリクス方式とは、Ｘ方向とＹ方向のストライプ透明電極と発光層をガラス基板上に単純に配置したものであるところ、この方式で、行、列電極に信号が付加されるとその交点の画素が発光するようにしてもよい。
【００３８】
また、アクティブマトリクス方式とは、パッシブマトリクス方式で生じる走査電極間のクロストークを排除するために、非選択時に関係のない信号を完全にカットする要にスイッチを各画素に設ける方式をいうところ、代表的な方法であるＴＦＴ方式を用いて、発光交点での薄膜トランジスタのゲート、ソース、ドレインの各電極をそれぞれ走査線、信号線、発光素子の一側に接続するようにして駆動してもよい。
【００３９】
１組の発光部を絵素とした場合、ＲＧＢを規則正しく配置することでフルカラー化に際して、従来のフルカラー有機ＥＬディスプレイ素子よりも輝度を向上させることができた。
【００４０】
（実施の形態３）
図４は本発明の他の実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイ素子１０を示した図である。図４において、１０は本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子、１２は第一陽極としてのＩＴＯ陽極、１４は第一発光部、１６は第二陽極としてのＩＴＯ陽極、１８は第二発光部である。
【００４１】
本実施の形態では、第一陽極と対応する位置に第一有機層が形成され、第二陽極と対応する位置に第二有機層が形成されている。図４では、第一有機層が第一発光部１４に、第二有機層が第二発光部１８に対応する。図４において、隣接する第一発光部１４と第二発光部１８とで異なる色を発光させるための絵素を構成するように、第一発光部と第二発光部とを配置している。
【００４２】
すなわち、図４には、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の組み合わせでフルカラー化を行うに際しての絵素の配置が示されており、３つの絵素で画素を構成し、画素をマトリクス上に配置した有機ＥＬディスプレイ素子の例が示されている。ここでも、フルカラー化のための手法に関しては、三色発光法、白色発光法、色変換法のいずれであるかについては問わず、いずれを用いてもよいことはもちろんである。また、図４では、同色の絵素を縦方向に並べているが、斜め方向に並べても、デルタ配列としてもよい。
【００４３】
上記のとおり、本実施の形態で説明した有機ＥＬディスプレイ素子１０によれば、画素数を増やすことができる。具体的には、本実施の形態によれば、従来の１画素分の領域に２画素以上の画素を構成できるようになるため、高精細化につながる。
【００４４】
よって、発光部１４と発光部１６とで異なる色にして絵素を構成し、画素をマトリクス上に配置することで、従来のフルカラー有機ＥＬディスプレイ素子よりも高精細化が図ることが可能となり、解像度を向上させることができた。
【００４５】
なお、実施の形態２及び実施の形態３で述べている、マトリクス状に画素を配置する形式の有機ＥＬディスプレイ素子は、決まった文字や数字しか表示できないセグメント型の表示とは異なり、任意の画像が表現できるような行列配置により画面を構成できる。
【００４６】
（実施の形態４）
図５は、本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子の製造方法を示す図である。図５において、１２は第一陽極としてのＩＴＯ陽極、１６は第二陽極としてのＩＴＯ陽極、２２は陰極としてのＡｌ陰極、２４は第二有機層、２６は正孔輸送層、２８は第一有機層、３２は絶縁体、３６は基板である。また、（１）から（４）は製造工程の順番を表す。
【００４７】
図５には、基板３６上に第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２を形成する工程と、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２を相互に絶縁する、透光性の絶縁体３２を基板３６上に形成する工程（図５（１））と、絶縁体３２上に第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２に対して非接触になるように第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６を形成する工程（図５（２））と、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６上に正孔輸送層２６を形成する工程（図５（３））と、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６のそれぞれに対応する位置に第一有機層２８、第二有機層２４を形成し、さらに、第一有機層２８、第二有機層２４に電子を注入するための陰極２２を形成する工程（図５（４））とが示されている。
【００４８】
なお、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６のそれぞれに対応する位置に第一有機層２８、第二有機層２４を形成する工程は、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６から注入された正孔を輸送する正孔輸送層２６を第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６上に形成する工程と、正孔輸送層２６上の、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６のそれぞれに対応する位置に第一有機層２８、第二有機層２４を形成する工程とを含む工程であってもよい。
【００４９】
図５（１）には、基板３６上に第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２と絶縁体３２が形成されるまでの工程が示されている。まず、透明なガラス基板で例示される基板３６に第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２として機能するＩＴＯの膜を一面に形成し、ＩＴＯの膜をストライプ状に形成するようにエッチングして透明電極たる第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２を形成する。一般に、パターンニングと呼ばれる手法を用いることができる。
【００５０】
次に、絶縁体３２が形成される。このとき、絶縁体には着色されているものではなく、例えばＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４等の無機膜や、ポリイミド等の有機膜のような透明な材料を用いるようにする。これにより、絶縁体上に形成する第二有機層２４で発光した光を基板３６の側から外部に取り出すことができる。
【００５１】
また、図５（１）で示される絶縁体３２の幅Ｘについては、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２の縁を被う程度まで比較的大きくすることが好ましい。絶縁体３２上にも画素を構成する第二の有機層２４を形成することになるからである。また、幅Ｘを比較的大きくすることができれば、第一の有機層２８と第二の有機層２４との大きさを均等にすることもできるからである。
【００５２】
図５（２）には、絶縁体３２上に第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２と非接触になるように第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６を形成する工程が示されている。具体的には、マスクを用いてＥＢ蒸着若しくはスパッタ等で絶縁体上にＩＴＯからなる第二の陽極１６を成膜する。このとき、もともとパターニングされていた第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２を構成するＩＴＯとの短絡を防ぐため、マスクアラインメントを精度よく行うことが好ましい。
【００５３】
図５（３）は、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６から注入された正孔を輸送する正孔輸送層２６を第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６上に形成する工程が示されている。具体的には、素子全体に正孔輸送層２６が成膜されている。この工程は、後に行う陰極２２の成膜時に第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６と陰極２２がショートするのを防ぐため、第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６を完全に正孔輸送層２６で覆ったものである。
【００５４】
なお、図５（３）では正孔輸送層２６が素子全体を覆う構造が開示されている。図５（４）に示す工程の第一有機層２８や第二有機層２４の形成に際して正孔輸送層２６の表面が平らな方が望ましいため、正孔輸送層２６はＰＶＫ等のポリマーをスピンコートにより成膜することにより行うことが好ましい。
【００５５】
高分子材料ＰＶＫ（ポリＮ−ビニルカルバゾール）は、高分子のためＴＰＤのような低分子系材料よりも耐久性が高く，有機ＥＬ素子の寿命を改善する目的で使用されることが多い。ＰＶＫは高分子であるため、ＰＶＫによれば平坦化できて便宜であるが、本発明がこの材料に限定されるものではないのはもちろんである。
【００５６】
ここで、スピンコート法とは、有機化合物を揮発性の溶媒に溶かし、回転する基板の上に塗布し溶媒を蒸発させて薄膜を得る方法をいう。スピンコートなどのウエットプロセスを用いれば，可溶な高分子ＥＬ材料を常温常圧で簡便に成膜することができるので便宜である。
【００５７】
なお、正孔輸送層２６を形成しない場合であっても、第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６と陰極としてのＡｌ陰極２２とが接触しないような構成を採用することもできる。例えば、第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６と第二有機層２４とが接触することになる部分以外の部分を絶縁体で覆うなどすればよい。
【００５８】
図５（４）は、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６のそれぞれに対応する位置に第一有機層２８、第二有機層２４を形成する工程、及び、第一有機層２８、第二有機層２４に電子を注入するためのＡｌ陰極２２を形成する工程が示されている。
【００５９】
この工程においては、表面に第一有機層２８、第二有機層２４を全面蒸着またはマスク蒸着により形成する。このときも混色を防ぐため、第一有機層２８、第二有機層２４の真空蒸着時にはマスクアラインメントを精度よく行うことが好ましい。この第一有機層２８、第二有機層２４は、例えばトリフェニルアミン誘導体（ＴＰＤ）等からなる正孔輸送層用の材料を設け、その上に発光材料である例えばアルミキレート錯体（Ａｌｑ3）等の電子輸送材料を積層したものや、これらの混合層からなる。もちろん、上記したような正孔輸送層２６を別途設ける場合にはこれに限定されず、種々の公知の材料を用いることができる。
【００６０】
次に、第一有機層２８、第二有機層２４の表面に、Ａｌ陰極２２を、上記第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６のパターンと直交する方向にストライプ状にマスク蒸着等で付着して形成する。陰極の材料としては、Ａｌ以外にもＬｉ、Ａｇ、Ｍｇ、Ｉｎ、Ａｕ、Ａｇ又はこれらの合金等を適用することができる。また、ＩＴＯ等の透明な酸化物とＡｌやＬｉ等の低仕事関数で電子注入の容易な金属薄膜との積層構造とすることもできる。
【００６１】
このような製造方法によって製造された有機ＥＬディスプレイ素子は、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６と陰極２２を構成するＡｌ陰極との間に所定の電流が流れて発光するに際して、開口率の向上、又は解像度の向上を図ることができた。
【００６２】
【発明の効果】
本発明によれば、非発光部に対して発光部の面積を増加させることになるので開口率の向上が可能となり、輝度の向上又は解像度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子を示す図である。
【図２】 図１の有機ＥＬディスプレイ素子のＡ−Ａ’断面図である。
【図３】 本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子を示す図である。
【図４】 本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子を示す図である。
【図５】 本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子の製造方法を示す図である。
【図６】 従来の有機ＥＬディスプレイ素子を示す図である。
【図７】 図６におけるＢ−Ｂ’断面図である。
【符号の説明】
１０：有機ＥＬディスプレイ素子
１２：ＩＴＯ陽極
１４：第一発光部
１６：ＩＴＯ陽極
１８：第二発光部
２２：Ａｌ陰極
２４：有機層
２６：正孔輸送層
２８：有機層
３２：絶縁体
３６：ガラス基板
５０：従来の有機ＥＬディスプレイ素子
５２：ＩＴＯ陽極
５５：Ａｌ陰極
５６：有機層
５７：絶縁体
５８：ガラス基板
【発明の属する技術分野】
本発明は有機エレクトロルミネセンス（以後、「エレクトロルミネセンス」を「ＥＬ」と略記する。）ディスプレイ素子に係り、特に開口率の向上、又は解像度の向上を図った有機ＥＬディスプレイ素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬディスプレイ素子は、例えば、ガラス基板上に透光性の正孔注入電極を形成し、陰極である電子注入電極と陽極である正孔注入電極の間に一層又は複数層の有機化合物層（有機ＥＬ層）が挟まれた構造で構成されている。
従来の有機ＥＬディスプレイ素子の構造について、図面を参照しつつ説明する。
【０００３】
図６は、従来の有機ＥＬディスプレイ素子を示す図である。図６には、ストライプ状の陽極５２上に、有機層から構成される絵素５４がマトリクス状に配置されている従来の有機ＥＬディスプレイ素子５０が示されている。
【０００４】
図７は、図６における従来の有機ＥＬディスプレイ素子５０のＢ−Ｂ’断面図である。図７において、５２はＩＴＯ陽極、５５はＡｌ陰極、５６は有機層、５７は絶縁体、５８はガラス基板である。ガラス基板５８上には図６で示したようにＩＴＯ陽極５２がストライプ状に形成されている。ガラス基板５８は透明な材料からなる。また、ＩＴＯ陽極５２には透明電極材料であるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）が用いられる。
【０００５】
このストライプ上のＩＴＯ陽極５２の隙間を絶縁体５７で埋めて短絡を防ぐ。そして絶縁体５７の間に有機層５６を形成し、さらに有機層５６に電子を注入するためのＡｌ陰極５５を形成する。
【０００６】
このように構成された有機ＥＬディスプレイ素子５０は、Ａｌ陰極５５とＩＴＯ陽極５２の各電極からそれぞれ電子と正孔を注入し、発光中心となる有機層５６で再結合させて有機分子を励起状態にし、有機分子が励起状態から基底状態に戻るときに蛍光を発光することを利用するものである。かかる有機ＥＬディスプレイ素子５０は発光効率が高く、低い電圧による駆動が可能であり、多種の色の表示が可能であるなど、優れた特徴を有している。
【０００７】
しかし、一方で、ディスプレイ装置として用いるときには、図７の「Ｃ」と表記して示した部分、すなわち、有機層５６の面部分しか発光ができず、図７の「Ｄ」の部分は発光しない。つまり、絶縁体５７上のスペースは何も使われていない無駄なスペースである。このため、開口率のさらなる向上が望まれている。
【０００８】
この点、開口率の向上やコントラストの向上を図るために、ＩＴＯ陽極５２側ではなくＡｌ陰極５５側に対して発光させる有機ＥＬディスプレイ素子や（例えば、特許文献１参照。）、ディスプレイの開口率の向上と狭ピッチ化を図るために、電極が蒸着される領域がマスクよりも広くできる有機ＥＬディスプレイ素子がある（例えば、特許文献２参照。）。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００２−２９９０４４号公報
【特許文献２】
特開２００１−３１３１６９号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
開口率を向上させるための技術は種々存在するものの、従来の有機ＥＬディスプレイ素子は、有機層、すなわち、発光部に対して無視できない大きさの非発光部が存在するため、素子の面積に占める発光部の割合、すなわち、ディスプレイの開口率を大きくすることが難しく、ディスプレイの輝度も暗くなりがちであった。
【００１１】
このため、輝度に関しては抜本的な改良が望まれていた。また、有機ＥＬディスプレイ素子の発光部の配置に関しては、狭ピッチ化にも限りがあることから解像度の向上にも限りがあり、解像度のさらなる向上も望まれていた。
【００１２】
【課題を解するための手段】
本発明に係る第一の有機ＥＬディスプレイ素子は、基板上に形成された第一陽極と、第一陽極を相互に絶縁するための、基板上に形成された透光性の絶縁体と、絶縁体上に第一陽極と非接触になるように形成された第二陽極と、第一陽極と対応する位置に形成された第一有機層と、第二陽極と対応する位置に形成された第二有機層と、第一有機層上及び第二有機層上に、第二陽極と非接触になるように形成された、第一有機層及び第二有機層に電子を注入するための陰極と、を含む。
【００１３】
本発明に係る第二の有機ＥＬディスプレイ素子は、基板上に形成された第一陽極と、第一陽極を相互に絶縁するための、基板上に形成された透光性の絶縁体と、絶縁体上に第一陽極と非接触となるように形成された第二陽極と、第一陽極及び第二陽極上に形成され、第一陽極及び第二陽極から注入された正孔を輸送する正孔輸送層と、正孔輸送層上の第一陽極と対応する位置に形成された第一有機層と、正孔輸送層上の第二陽極と対応する位置に形成された第二有機層と、第一有機層上及び第二有機層上に形成された、第一有機層及び第二有機層に電子を注入するための陰極と、を含む。
【００１４】
本発明に係る第三の有機ＥＬディスプレイ素子は、隣接する1組の前記第一有機層と前記第二有機層とで同一色を発光させるための絵素を構成することを特徴とする。
【００１５】
本発明に係る第四の有機ＥＬディスプレイ素子は、第一の有機ＥＬディスプレイ素子又は第二の有機ＥＬディスプレイ素子に、さらに、隣接する前記第一有機層と前記第二有機層とで異なる絵素を構成することを特徴とする。
【００１６】
本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子の第一の製造方法は、基板上に第一陽極を形成する工程と、第一陽極を相互に絶縁する、透光性の絶縁体を基板上に形成する工程と、絶縁体上に第一陽極と非接触になるように第二陽極を形成する工程と、第一陽極及び第二陽極のそれぞれに対応する位置に有機層を形成する工程と、有機層に電子を注入するための陰極を第二陽極と非接触になるように形成する工程と、を含む。
【００１７】
本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子の第二の製造方法は、基板上に第一陽極を形成する工程と、第一陽極を相互に絶縁する、透光性の絶縁体を該基板上に形成する工程と、絶縁体上に第一陽極と非接触になるように第二陽極を形成する工程と、第一陽極及び第二陽極から注入された正孔を輸送する正孔輸送層を第一陽極及び第二陽極上に形成する工程と、正孔輸送層上の、第一陽極及び第二陽極のそれぞれに対応する位置に有機層を形成する工程と、有機層に電子を注入するための陰極を形成する工程と、を含む。
【００１８】
【発明の実施の形態】
（実施の形態１）
図１は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ素子を示す図である。図１において、１０は本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子、１２は第一陽極としてのＩＴＯ陽極、１４は第一発光部、１６は第二陽極としてのＩＴＯ陽極、１８は第二発光部である。
【００１９】
図１において、有機ＥＬディスプレイ素子１０は、ストライプ状のＩＴＯ陽極１２上に有機層から構成される第一発光部１４が配置され、さらに、ストライプ状のＩＴＯ陽極１６上に有機層から構成される第二発光部１８が配置されている。第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２と第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６は、ずれた位置に配置されており、従って、第一発光部１４と第二発光部１８が隣接するように配置される。第一発光部１４及び第二発光部１８が全体としてマトリクス状に配置されている。
【００２０】
図２は、図１の有機ＥＬディスプレイ素子１０のＡ−Ａ’断面図であり、本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子１０の構造が示されている。１２は第一陽極としてのＩＴＯ陽極、１６は第二陽極としてのＩＴＯ陽極、２２は陰極としてのＡｌ陰極、２４は第二有機層、２６は正孔輸送層、２８は第一有機層、３２は絶縁体、３６は基板である。
【００２１】
図２で図示した有機ＥＬディスプレイ素子１０は、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２の上に第一有機層２８を配置し、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２同士の間に設けている絶縁体３２の上に、さらに、第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６及び第二有機層２４を設けている。第一有機層２８を第一発光部、第二有機層２４を第二発光部とすることにより、非発光部を減らして開口率を大きくするようにしたものである。
【００２２】
具体的には、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ素子１０は、基板３６上に形成された第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２と、基板３６上に形成され第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２を相互に絶縁するための、透光性の絶縁体３２と、絶縁体３２に第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２に対して非接触になるように形成された第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６と、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２に対応する位置に形成された第一有機層２８と、第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６に対応する位置に形成された第二有機層２４と、第一有機層２８上及び第二有機層２４上に第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６に対して非接触になるように形成された、第一有機層２８及び第二有機層２４に電子を注入するためのＡｌ陰極２２と、を含んでいる。
【００２３】
さらに、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２と第一有機層２８との間及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６と第二有機層２４との間に正孔輸送層２６を形成してもよい。
【００２４】
第二陽極１６は、絶縁体３２の上に形成される。第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２と第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６とが接触しないように形成されるが、使用による劣化等により短絡してしまうことを防ぐため、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二の陽極であるＩＴＯ陽極１６と、第一の有機層２８及び第二の有機層２４との間に、正孔輸送層２６を形成することもできる。
【００２５】
そして、絶縁体３２の間に第一有機層２８が形成され、第二陽極であるＩＴＯ陽極１６の上部に第二有機層２４が形成されている。さらに第一有機層２８及び第二有機層２４に電子を注入するためのＡｌ陰極２２が、第一有機層２８及び第二有機層２４に接触して形成されている。
【００２６】
基板３６には、ガラス基板、フレキシブル基板、カラーフィルタや色変換膜あるいは誘電体反射膜が形成された基板を含む。透明基板は、ガラスや、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、非晶質ポリオレフィン等を材料とすることができる。カラーフィルタはその特性を調整し、効率や色純度を最適化できる。色変換膜は、ＥＬ発光の光を吸収し、蛍光変換膜の蛍光体から光を放出させることで、発光色の色変換を行わせる。誘電体多層膜はカラーフィルタの代わりに、所定の波長の光を透過させる。
【００２７】
また、第一陽極や第二陽極には高仕事関数で正孔注入の容易な材料が適するため、透明化の容易な材料が使用できる。透明化の容易な材料には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）、ＳｎＯ２（酸化スズ）、Ｉｎ２Ｏ３（酸化インジウム）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）等の酸化物、ＡｕやＮｉ等の金属がある。
【００２８】
絶縁体３２は、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２同士が短絡されないようにするために形成される。ここでは例えばＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４等の無機膜や、ポリイミド等の有機膜のような透明な材料が用いられる。
【００２９】
陰極として使用する金属電極には、低仕事関数で電子注入の容易な金属が適する。陰極電極材料には、Ａｌ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ａｕ、Ａｇ又はこれらの合金を用いることができる。また、ＩＴＯ等の透明な酸化物とＡｌやＬｉ等の低仕事関数で電子注入の容易な金属薄膜との積層構造とすることによって、陰極側からも光を取り出すことができる。
【００３０】
図１、図２から分かるように、第二発光部で発光した光が第一発光部の隙間から有機ＥＬディスプレイ素子の外部に、又は第一発光部で発光した光が第二発光部の隙間から有機ＥＬディスプレイ素子の外部に出射することになる。
【００３１】
このように本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ素子１０によれば、発光部を構成する有機層を２階建ての構成としているので、開口率の向上、又は解像度の向上を図ることができた。
【００３２】
（実施の形態２）
図３は、本発明の他の実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイ素子を示した図である。図３において、１０は本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子、１２は第一陽極としてのＩＴＯ陽極、１４は第一発光部、１６は第二陽極としてのＩＴＯ陽極、１８は第二発光部である。
【００３３】
本実施の形態では、第一陽極と対応する位置に第一有機層が形成され、第二陽極と対応する位置に第二有機層が形成されている。図３では、第一有機層が第一発光部１４に、第二有機層が第二発光部１８に対応する。図３において、隣接する1組の第一発光部１４と第二発光部１８とで同一色を発光させるための絵素を構成するように、第一発光部と第二発光部とを配置している。
【００３４】
すなわち、図３には、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の組み合わせでフルカラー化を行うに際しての絵素の配置が示されており、２つの発光部で絵素を構成し、さらに、３つの絵素で画素を構成し、画素をマトリクス上に配置した有機ＥＬディスプレイ素子の例が示されている。ここで、フルカラー化のための手法に関しては、三色発光法、白色発光法、色変換法のいずれであるかについては問わず、いずれを用いてもよいことはもちろんである。また、図３では、同色の絵素を縦方向に並べているが、斜め方向に並べても、デルタ配列としてもよい。
【００３５】
上記の例では、有機ＥＬディスプレイ素子１０の単位面積あたりの発光部を増やすことができるので、隣接する発光部１４と発光部１８とで同一色を発光させるための絵素として、輝度を向上させた。図３においては、絵素として、それぞれＲ、Ｇ、Ｂの記号を付した。
【００３６】
このマトリクス状に表示する場合の有機ＥＬディスプレイ素子の駆動方式には、パッシブマトリクス方式とアクティブマトリクス方式とがある。
【００３７】
本発明においては駆動方式を問わず、例えば、パッシブマトリクス方式とは、Ｘ方向とＹ方向のストライプ透明電極と発光層をガラス基板上に単純に配置したものであるところ、この方式で、行、列電極に信号が付加されるとその交点の画素が発光するようにしてもよい。
【００３８】
また、アクティブマトリクス方式とは、パッシブマトリクス方式で生じる走査電極間のクロストークを排除するために、非選択時に関係のない信号を完全にカットする要にスイッチを各画素に設ける方式をいうところ、代表的な方法であるＴＦＴ方式を用いて、発光交点での薄膜トランジスタのゲート、ソース、ドレインの各電極をそれぞれ走査線、信号線、発光素子の一側に接続するようにして駆動してもよい。
【００３９】
１組の発光部を絵素とした場合、ＲＧＢを規則正しく配置することでフルカラー化に際して、従来のフルカラー有機ＥＬディスプレイ素子よりも輝度を向上させることができた。
【００４０】
（実施の形態３）
図４は本発明の他の実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイ素子１０を示した図である。図４において、１０は本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子、１２は第一陽極としてのＩＴＯ陽極、１４は第一発光部、１６は第二陽極としてのＩＴＯ陽極、１８は第二発光部である。
【００４１】
本実施の形態では、第一陽極と対応する位置に第一有機層が形成され、第二陽極と対応する位置に第二有機層が形成されている。図４では、第一有機層が第一発光部１４に、第二有機層が第二発光部１８に対応する。図４において、隣接する第一発光部１４と第二発光部１８とで異なる色を発光させるための絵素を構成するように、第一発光部と第二発光部とを配置している。
【００４２】
すなわち、図４には、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の組み合わせでフルカラー化を行うに際しての絵素の配置が示されており、３つの絵素で画素を構成し、画素をマトリクス上に配置した有機ＥＬディスプレイ素子の例が示されている。ここでも、フルカラー化のための手法に関しては、三色発光法、白色発光法、色変換法のいずれであるかについては問わず、いずれを用いてもよいことはもちろんである。また、図４では、同色の絵素を縦方向に並べているが、斜め方向に並べても、デルタ配列としてもよい。
【００４３】
上記のとおり、本実施の形態で説明した有機ＥＬディスプレイ素子１０によれば、画素数を増やすことができる。具体的には、本実施の形態によれば、従来の１画素分の領域に２画素以上の画素を構成できるようになるため、高精細化につながる。
【００４４】
よって、発光部１４と発光部１６とで異なる色にして絵素を構成し、画素をマトリクス上に配置することで、従来のフルカラー有機ＥＬディスプレイ素子よりも高精細化が図ることが可能となり、解像度を向上させることができた。
【００４５】
なお、実施の形態２及び実施の形態３で述べている、マトリクス状に画素を配置する形式の有機ＥＬディスプレイ素子は、決まった文字や数字しか表示できないセグメント型の表示とは異なり、任意の画像が表現できるような行列配置により画面を構成できる。
【００４６】
（実施の形態４）
図５は、本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子の製造方法を示す図である。図５において、１２は第一陽極としてのＩＴＯ陽極、１６は第二陽極としてのＩＴＯ陽極、２２は陰極としてのＡｌ陰極、２４は第二有機層、２６は正孔輸送層、２８は第一有機層、３２は絶縁体、３６は基板である。また、（１）から（４）は製造工程の順番を表す。
【００４７】
図５には、基板３６上に第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２を形成する工程と、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２を相互に絶縁する、透光性の絶縁体３２を基板３６上に形成する工程（図５（１））と、絶縁体３２上に第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２に対して非接触になるように第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６を形成する工程（図５（２））と、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６上に正孔輸送層２６を形成する工程（図５（３））と、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６のそれぞれに対応する位置に第一有機層２８、第二有機層２４を形成し、さらに、第一有機層２８、第二有機層２４に電子を注入するための陰極２２を形成する工程（図５（４））とが示されている。
【００４８】
なお、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６のそれぞれに対応する位置に第一有機層２８、第二有機層２４を形成する工程は、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６から注入された正孔を輸送する正孔輸送層２６を第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６上に形成する工程と、正孔輸送層２６上の、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６のそれぞれに対応する位置に第一有機層２８、第二有機層２４を形成する工程とを含む工程であってもよい。
【００４９】
図５（１）には、基板３６上に第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２と絶縁体３２が形成されるまでの工程が示されている。まず、透明なガラス基板で例示される基板３６に第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２として機能するＩＴＯの膜を一面に形成し、ＩＴＯの膜をストライプ状に形成するようにエッチングして透明電極たる第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２を形成する。一般に、パターンニングと呼ばれる手法を用いることができる。
【００５０】
次に、絶縁体３２が形成される。このとき、絶縁体には着色されているものではなく、例えばＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４等の無機膜や、ポリイミド等の有機膜のような透明な材料を用いるようにする。これにより、絶縁体上に形成する第二有機層２４で発光した光を基板３６の側から外部に取り出すことができる。
【００５１】
また、図５（１）で示される絶縁体３２の幅Ｘについては、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２の縁を被う程度まで比較的大きくすることが好ましい。絶縁体３２上にも画素を構成する第二の有機層２４を形成することになるからである。また、幅Ｘを比較的大きくすることができれば、第一の有機層２８と第二の有機層２４との大きさを均等にすることもできるからである。
【００５２】
図５（２）には、絶縁体３２上に第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２と非接触になるように第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６を形成する工程が示されている。具体的には、マスクを用いてＥＢ蒸着若しくはスパッタ等で絶縁体上にＩＴＯからなる第二の陽極１６を成膜する。このとき、もともとパターニングされていた第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２を構成するＩＴＯとの短絡を防ぐため、マスクアラインメントを精度よく行うことが好ましい。
【００５３】
図５（３）は、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６から注入された正孔を輸送する正孔輸送層２６を第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６上に形成する工程が示されている。具体的には、素子全体に正孔輸送層２６が成膜されている。この工程は、後に行う陰極２２の成膜時に第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６と陰極２２がショートするのを防ぐため、第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６を完全に正孔輸送層２６で覆ったものである。
【００５４】
なお、図５（３）では正孔輸送層２６が素子全体を覆う構造が開示されている。図５（４）に示す工程の第一有機層２８や第二有機層２４の形成に際して正孔輸送層２６の表面が平らな方が望ましいため、正孔輸送層２６はＰＶＫ等のポリマーをスピンコートにより成膜することにより行うことが好ましい。
【００５５】
高分子材料ＰＶＫ（ポリＮ−ビニルカルバゾール）は、高分子のためＴＰＤのような低分子系材料よりも耐久性が高く，有機ＥＬ素子の寿命を改善する目的で使用されることが多い。ＰＶＫは高分子であるため、ＰＶＫによれば平坦化できて便宜であるが、本発明がこの材料に限定されるものではないのはもちろんである。
【００５６】
ここで、スピンコート法とは、有機化合物を揮発性の溶媒に溶かし、回転する基板の上に塗布し溶媒を蒸発させて薄膜を得る方法をいう。スピンコートなどのウエットプロセスを用いれば，可溶な高分子ＥＬ材料を常温常圧で簡便に成膜することができるので便宜である。
【００５７】
なお、正孔輸送層２６を形成しない場合であっても、第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６と陰極としてのＡｌ陰極２２とが接触しないような構成を採用することもできる。例えば、第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６と第二有機層２４とが接触することになる部分以外の部分を絶縁体で覆うなどすればよい。
【００５８】
図５（４）は、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６のそれぞれに対応する位置に第一有機層２８、第二有機層２４を形成する工程、及び、第一有機層２８、第二有機層２４に電子を注入するためのＡｌ陰極２２を形成する工程が示されている。
【００５９】
この工程においては、表面に第一有機層２８、第二有機層２４を全面蒸着またはマスク蒸着により形成する。このときも混色を防ぐため、第一有機層２８、第二有機層２４の真空蒸着時にはマスクアラインメントを精度よく行うことが好ましい。この第一有機層２８、第二有機層２４は、例えばトリフェニルアミン誘導体（ＴＰＤ）等からなる正孔輸送層用の材料を設け、その上に発光材料である例えばアルミキレート錯体（Ａｌｑ3）等の電子輸送材料を積層したものや、これらの混合層からなる。もちろん、上記したような正孔輸送層２６を別途設ける場合にはこれに限定されず、種々の公知の材料を用いることができる。
【００６０】
次に、第一有機層２８、第二有機層２４の表面に、Ａｌ陰極２２を、上記第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６のパターンと直交する方向にストライプ状にマスク蒸着等で付着して形成する。陰極の材料としては、Ａｌ以外にもＬｉ、Ａｇ、Ｍｇ、Ｉｎ、Ａｕ、Ａｇ又はこれらの合金等を適用することができる。また、ＩＴＯ等の透明な酸化物とＡｌやＬｉ等の低仕事関数で電子注入の容易な金属薄膜との積層構造とすることもできる。
【００６１】
このような製造方法によって製造された有機ＥＬディスプレイ素子は、第一陽極としてのＩＴＯ陽極１２及び第二陽極としてのＩＴＯ陽極１６と陰極２２を構成するＡｌ陰極との間に所定の電流が流れて発光するに際して、開口率の向上、又は解像度の向上を図ることができた。
【００６２】
【発明の効果】
本発明によれば、非発光部に対して発光部の面積を増加させることになるので開口率の向上が可能となり、輝度の向上又は解像度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子を示す図である。
【図２】 図１の有機ＥＬディスプレイ素子のＡ−Ａ’断面図である。
【図３】 本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子を示す図である。
【図４】 本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子を示す図である。
【図５】 本発明に係る有機ＥＬディスプレイ素子の製造方法を示す図である。
【図６】 従来の有機ＥＬディスプレイ素子を示す図である。
【図７】 図６におけるＢ−Ｂ’断面図である。
【符号の説明】
１０：有機ＥＬディスプレイ素子
１２：ＩＴＯ陽極
１４：第一発光部
１６：ＩＴＯ陽極
１８：第二発光部
２２：Ａｌ陰極
２４：有機層
２６：正孔輸送層
２８：有機層
３２：絶縁体
３６：ガラス基板
５０：従来の有機ＥＬディスプレイ素子
５２：ＩＴＯ陽極
５５：Ａｌ陰極
５６：有機層
５７：絶縁体
５８：ガラス基板
Claims (6)
- 基板上に形成された第一陽極と、
該第一陽極を相互に絶縁するための、該基板上に形成された透光性の絶縁体と、該絶縁体上に該第一陽極と非接触になるように形成された第二陽極と、
該第一陽極と対応する位置に形成された第一有機層と、
該第二陽極と対応する位置に形成された第二有機層と、
該第一有機層上及び該第二有機層上に、該第二陽極と非接触になるように形成された、該第一有機層及び該第二有機層に電子を注入するための陰極と、を含む有機エレクトロルミネセンスディスプレイ素子。 - 基板上に形成された第一陽極と、
該第一陽極を相互に絶縁するための、該基板上に形成された透光性の絶縁体と、該絶縁体上に該第一陽極と非接触となるように形成された第二陽極と、
該第一陽極及び該第二陽極上に形成され、該第一陽極及び該第二陽極から注入された正孔を輸送する正孔輸送層と、
該正孔輸送層上の該第一陽極と対応する位置に形成された第一有機層と、
該正孔輸送層上の該第二陽極と対応する位置に形成された第二有機層と、
該第一有機層上及び該第二有機層上に形成された、該第一有機層及び該第二有機層に電子を注入するための陰極と、を含む有機エレクトロルミネセンスディスプレイ素子。 - 隣接する1組の前記第一有機層と前記第二有機層とで同一色を発光させるための絵素を構成することを特徴とする請求項1又は請求項２に記載の有機エレクトロルミネセンスディスプレイ素子。
- 隣接する前記第一有機層と前記第二有機層とで異なる絵素を構成することを特徴とする請求項1又は請求項２に記載の有機エレクトロルミネセンスディスプレイ素子。
- 基板上に第一陽極を形成する工程と、
該第一陽極を相互に絶縁する、透光性の絶縁体を該基板上に形成する工程と、
該絶縁体上に該第一陽極と非接触になるように第二陽極を形成する工程と、
該第一陽極及び該第二陽極のそれぞれに対応する位置に有機層を形成する工程と、
該有機層に電子を注入するための陰極を該第二陽極と非接触になるように形成する工程と、を含む有機エレクトロルミネセンスディスプレイ素子の製造方法。 - 基板上に第一陽極を形成する工程と、
該第一陽極を相互に絶縁する、透光性の絶縁体を該基板上に形成する工程と、
該絶縁体上に該第一陽極と非接触になるように第二陽極を形成する工程と、
該第一陽極及び該第二陽極から注入された正孔を輸送する正孔輸送層を該第一陽極及び該第二陽極上に形成する工程と、
該正孔輸送層上の、該第一陽極及び該第二陽極のそれぞれに対応する位置に有機層を形成する工程と、
該有機層に電子を注入するための陰極を形成する工程と、を含む有機エレクトロルミネセンスディスプレイ素子の製造方法。
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