JP4026246B2 - ポジ型感光性樹脂組成物の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物の製造方法に関し、詳しくは、アルカリ現像液で現像可能であり、さらに熱処理によって半導体素子等の電子部品の表面保護膜、層間絶縁膜として適用可能なポリイミド系耐熱樹脂となる感光性樹脂組成物およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ポリイミドは容易に膜形成が可能であり、耐熱性、機械特性に優れていることから、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜として広く利用されている。ポリイミドを表面保護膜、層間絶縁膜として使用する場合には、スルーホールの形成などの目的でポリイミド膜をパターン加工する必要がある。例えば、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸の溶液を基板に塗布し、熱処理によってポリイミドに変換した後、そのポリイミド膜上にポジ型のフォトレジストのレリーフパターンを形成し、ヒドラジン系エッチング剤によってポリイミド膜を選択的にエッチングする方法によってパターン加工される。しかし、上記のポリイミドのパターン加工では、フォトレジストの塗布や剥離などの工程が含まれるためにプロセスが複雑である。また、フォトレジストを介してポリイミド膜にレリーフパターンを転写するために寸法精度の低下が起こりやすい。これらの理由から、耐熱性樹脂、または熱処理などによって耐熱樹脂に変換可能な前駆体であって、さらにそれ自身がパターン加工可能な感光性樹脂組成物が検討されてきた。
【0003】
感光性ポリイミド組成物に関しては、エステル結合によって感光基を導入したポリイミド前駆体組成物(特公昭52−30307号公報)、ポリアミド酸に化学線によって二量化または重合可能な炭素−炭素二重結合を含むアミン化合物を添加したポリイミド前駆体組成物(特公昭59−52822号公報)が知られている。感光性ポリイミド組成物の使用に際しては、通常、溶液状態で基板に塗布乾燥し、マスクを介して活性光線を照射する。上記のポリイミド前駆体組成物は未露光部が溶解するネガ型であり、現像には有機溶剤が使用される。従来のポジ型フォトレジストを使用した非感光性ポリイミドのパターン加工プロセスからネガ型感光性ポリイミド組成物を使用するプロセスに切り替える場合には、露光装置のマスクの変更や現像設備の変更などが必要となることが問題であった。また、環境汚染防止や作業環境改善の観点から、有機系現像液に代わり水系現像液で現像できる感光性材料が望まれていた。これらの理由からアルカリ現像可能なポジ型感光性ポリイミドが検討されている。
【0004】
o−ニトロベンジル基をエステル結合によって導入したポリイミド前駆体(特開昭60−37550号公報)、ポリアミド酸エステルにo−キノンジアジド化合物を混合したもの(特開平2−181149号公報)、フェノール性水酸基を有するポリアミド酸あるいはポリアミド酸エステルにo−キノンジアジド化合物を混合したもの(特開平3−115461号公報)、フェノール性水酸基を有するポリイミドにo−キノンジアジド化合物を混合したもの(特開平3−177455号公報)、ポリヒドロキシアミドにo−キノンジアジド化合物を混合したもの(特公昭1−46862号公報)が知られていた。
【0005】
しかし、o−ニトロベンジル基をエステル結合によって導入したポリイミド前駆体は、感光する波長が主に300nm以下であるため、感度が低い点に問題があった。ポリアミド酸エステルにo−キノンジアジド化合物を混合したものは、アルカリ現像液に対する溶解速度が小さいために現像時間が長い点、感度が低い点に問題があった。フェノール性水酸基を有するポリアミド酸にo−キノンジアジド化合物を混合したものは、アルカリ現像液に対する溶解性が大きすぎるために、希薄なアルカリ現像液にしか適用できない点、未露光部が現像液によって膨潤するために微細なパターン加工が困難である点に問題があった。フェノール性水酸基を有するポリアミド酸エステル、フェノール性水酸基を有するポリイミド、あるいはポリヒドロキシアミドにo−キノンジアジド化合物を混合したものは、アルカリ現像液に対する溶解性はある程度改良されたが、溶解性を調節することは容易ではなく、このためにはポリマー組成等の変更が必要である点に問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、アルカリ現像液に対する溶解性を容易に調節することが可能なポジ型感光性樹脂組成物の製造方法を提供することにあり、加えて、アルカリ現像液に対する溶解速度が実用上望ましい速度に調節されたポジ型感光性樹脂組成物を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、アルカリ可溶性ポリマーとo−キノンジアジド化合物からなるポジ型感光性樹脂組成物の製造方法において、一般式(1)で表されるアルカリ可溶性ポリマーを一般式(2)または一般式(3)のいずれかで表される、少なくとも一種類以上の化合物で部分エステル化処理することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物の製造方法である。
【0008】
【化4】
(一般式(1)中、R1は炭素数2以上の3または4価の有機基を示し、R2は炭素数2以上の2価の有機基を示し、R3は水素原子または炭素数1以上の1価の有機基を示す。mは1または2の整数を示し、nは3から1000の整数を示す。)
【化5】
(一般式(2)中、R4は水素原子または炭素数1以上の1価の有機基を示し、R5は水素原子または炭素数1以上の1価の有機基、含窒素有機基、含酸素有機基のいずれかを示し、R6は炭素数1以上の1価の有機基を示す。)
【化6】
(一般式(3)中、R7は炭素数1以上の2価の有機基、含窒素有機基、含酸素有機基のいずれかを示し、R8は炭素数1以上の1価の有機基を示す。)
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明において、一般式(1)はポリアミドの構造単位を示す。一般式(1)中のR1は炭素数2以上の3または4価の有機基であり、R2は炭素数2以上の2価の有機基であり、R3は水素原子または炭素数1以上の有機基であることが好ましい。
【0010】
一般式(1)で表されるポリマーは、一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物と一般式(5)で表されるジアミン化合物とを反応させて得られる。
【0011】
【化7】
(一般式(4)中、R1は一般式(1)と同じである。)
【化8】
(一般式(5)中、R2は一般式(1)と同じである。)
前記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6,−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5,6−ピリジンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンテトラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸二無水物が単独または2種以上を組み合わせて使用される。
【0012】
一般式(5)で表されるジアミン化合物としては、例えば、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、1,4−フェニレンジアミン、1,3−フェニレンジアミン、1,5−ナフタレンジアミン、2,6−ナフタレンジアミン、ビス(4−アミノフェノキシフェニル)スルホン、ビス(3−アミノフェノキシフェニル)スルホン、ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン等のジアミン化合物、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、3,3’−ジヒドロキシベンジジン、2,4−ジアミノ−6−ヒドロキシピリミジン、4,5−ジアミノ−6−ヒドロキシピリミジン、2,3−ジアミノフェノール、2,4−ジアミノフェノール等のフェノール性水酸基を有するジアミン化合物、2,5−ジアミノ安息香酸、3,4−ジアミノ安息香酸、3,5−ジアミノ安息香酸、2,5−ジアミノテレフタル酸、ビス(4−アミノ−3−カルボキシフェニル)メチレン、ビス(4−アミノ−3−カルボキシフェニル)エーテル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジカルボキシビフェニル、4,4’−ジアミノ−5,5’−ジカルボキシ−2,2’−ジメチルビフェニル等のカルボキシル基を有するジアミン化合物が挙げられる。これらのジアミン化合物は、単独または2種以上を組み合わせて使用される。
【0013】
基板との接着性を向上させる目的で、耐熱性を低下させない範囲でシロキサン構造を有するジアミン化合物を使用することもできる。シロキサン構造を有するジアミン化合物としては、例えば、ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、ビス(3−アミノプロピル)テトラフェニルジシロキサン等が使用される。
【0014】
一般式(1)で表されるポリマーは、一般式(5)で表されるジアミン化合物と一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物を公知の方法で反応することによって合成される。すなわち、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホロアミド、γ−ブチロラクトン、クレゾール等を主成分とする有機溶剤中で反応することによって合成される。
【0015】
一般式(2)の化合物は、アセタールまたはケタール化合物である。R4は水素原子または炭素数1以上の1価の有機基を示し、R5は水素原子または炭素数1以上の1価の有機基、含窒素有機基、含酸素有機基のいずれかを示し、R6は炭素数1以上の1価の有機基を示す。具体的には、N,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジプロピルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジブチルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジベンジルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドビス[2−(トリメチルシリル)エチル]アセタール、N,N−ジメチルアセトアミドジエチルアセタール、オルトギ酸トリメチル、オルトギ酸トリエチル、オルト酢酸トリメチル、オルト酢酸トリエチル、オルト酪酸トリメチル、オルト酪酸トリエチル、オルト安息香酸トリメチル、オルト安息香酸トリエチル等が挙げられ、好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジプロピルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジブチルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジベンジルアセタールである。
【0016】
一般式(3)で表される化合物は、環状カルボニル化合物のアセタールまたはケタール化合物である。R7は炭素数1以上の2価の有機基、含窒素有機基、含酸素有機基のいずれかを示し、R8は炭素数1以上の1価の有機基を示す。具体的には、N−メチル−2−ピロリドンジアルキルアセタール、1,3−ジメチルイミダゾリジノンジアルキルアセタール、炭酸エチレンジアルキルアセタール、炭酸プロピレンジアルキルアセタール、γ−ブチロラクトンジアルキルアセタール、シクロヘキサノンジアルキルアセタールが挙げられ、好ましくはN−メチル−2−ピロリドンジメチルアセタール、N−メチル−2−ピロリドンジエチルアセタール、γ−ブチロラクトンジメチルアセタール、γ−ブチロラクトンジエチルアセタールである。
【0017】
一般式(1)で表されるポリマーを溶剤に溶解し、この溶液に一般式(2)または一般式(3)のいずれか一種類以上の化合物をそのまま、あるいはその溶液を混合攪拌することによって、部分エステル化処理することができる。一般式(1)で表されるポリマーを重合した後の溶液に一般式(2)または一般式(3)のいずれか一種類以上の化合物をそのまま、あるいはその溶液を混合攪拌して、部分エステル化処理することもできる。一般式(2)または一般式(3)のいずれか一種類以上の化合物によって処理することによって、一般式(1)で表されるポリマー中のカルボキシル基を部分エステル化することができる。この処理の際、副反応のイミド化反応も進行するが、エステル化反応に対するイミド化反応の割合は、反応条件の選択、すなわち、反応溶剤や反応温度等を選択することによって抑えることが可能である。反応溶剤としては、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホロアミド、γ−ブチロラクトン等の非プロトン性極性溶剤が好ましく、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドがより好ましい。反応温度は0℃から200℃の範囲であり、好ましくは20℃から100℃であり、より好ましくは30℃から80℃である。反応温度が0℃よりも低いと、反応が完結するまでの時間が長くなり実用的でなくなる。また反応温度が200℃を超えるとイミド化反応の割合が高くなり、ポリマーの透明性が低下したり、ゲル成分が生成するなど問題が生じやすい。
【0018】
一般式(2)または一般式(3)のいずれか一種類以上の化合物は、反応を促進する目的で、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、りん酸等の酸を一般式(2)または一般式(3)のいずれか一種類以上の化合物の総量に対して0.01から10モル%の範囲で併せて使用することもできる。
【0019】
一般式(1)で表されるポリマーに対する一般式(2)または一般式(3)のいずれか一種類以上の化合物の割合は、前者ポリマー中のカルボキシル基/後者化合物の総量(モル比)が100/1から100/1000である。好ましくは、100/10から100/500であり、より好ましくは、100/20から100/200である。最適な割合は、一般式(1)で表されるポリマーの構造および適用されるべきパターン加工のプロセス条件を考慮することによって決定される。処理後のポリマー中の残存カルボキシル基量は、0.001から5モル/kgであることが好ましく、さらに2モル/kg以下であることがより好ましい。
【0020】
本発明に使用される感光剤であるo−キノンジアジド化合物は、1,2−ベンゾキノン−2−アジド−4−スルホン酸エステルまたはスルホン酸アミド、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸エステルまたはスルホン酸アミド、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸エステルまたはスルホン酸アミド等がある。これらは、例えば、1,2−ベンゾキノン−2−アジド−4−スルホニルクロリド、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロリド、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホニルクロリド等のo−キノンジアジドスルホニルクロリド類とポリヒドロキシ化合物またはポリアミン化合物を脱塩酸触媒の存在下で縮合反応することによって得ることができる。
【0021】
ポリヒドロキシ化合物としては、ヒドロキノン、レソルシノール、カテコール、ピロガロール、ヒドロキシヒドロキノン、ビスフェノールA、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1−[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン、1−ナフトール、2−ナフトール、没食子酸メチル、没食子酸エチル等が挙げられる。
【0022】
ポリアミノ化合物としては、1,4−フェニレンジアミン、1,3−フェニレンジアミン、4,4−ジアミノジフェニルエーテル、3,4−ジアミノジフェニルエーテル、4,4−ジアミノジフェニルメタン、3,4−ジアミノジフェニルメタン、4,4−ジアミノジフェニルスルホン、3,4−ジアミノジフェニルスルホン、4,4−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4−ジアミノジフェニルスルフィド等が挙げられる。
【0023】
また、ポリヒドロキシポリアミノ化合物としては、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、3,3’−ジヒドロキシベンジジン等が挙げられる。
【0024】
o−キノンジアジド化合物は、アルカリ可溶性ポリマー100重量部に対して好ましくは1から100重量部、より好ましくは5から40重量部の範囲で配合される。配合量が1重量部未満では十分な感度が得られず、また、100重量部を超えると樹脂組成物の耐熱性が低下する可能性がある。
【0025】
本発明の感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性ポリマーと、o−キノンジアジドを溶剤に溶解して、溶液状態で使用することが好ましい。溶剤としては、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホロアミド、γ−ブチロラクトン、テトラメチルウレア等の非プロトン性極性溶剤が単独または2種以上併用して使用される。塗布膜の均一性を改良する目的で、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエーテル類あるいはエステル類の溶剤を混合して使用しても良い。
【0026】
本発明の感光性樹脂組成物は、接着助剤として、有機シラン化合物やアルミキレート化合物を含むことができる。有機シラン化合物としては、例えば、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。アルミキレート化合物としては、例えば、トリス(アセチルアセテート)アルミニウム、アセチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート等が挙げられる。接着助剤は、アルカリ可溶性ポリマー100重量部に対して、0.1から20重量部、好ましくは1から10重量部の範囲で使用される。
【0027】
本発明の感光性樹脂組成物からは、以下のようにしてレリーフパターンを得ることができる。すなわち、ガラス基板、半導体、金属酸化物絶縁体(例えば、TiO2、SiO2等)、窒化ケイ素等の支持基板上に、この感光性樹脂組成物をスピナー等によって回転塗布し、その後ホットプレート、オーブン等を用いて乾燥する。次いで、支持基板上で被膜となった樹脂組成物に、マスクを介して活性光線を照射する。活性光線としては、紫外線、可視光線、放射線等が使用できるが、200〜500nmの波長のものが好ましく、さらに好ましくは水銀灯のi線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)である。露光部を現像液で除去することによってレリーフパターンが得られる。現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の水溶液が挙げられるがこれらに限定されない。これらの水溶液の濃度は、0.1から10重量%とされることが好ましい。さらに、現像液にアルコール類や界面活性剤を添加して使用することもできる。これらはそれぞれ、現像液に対して好ましくは0.01から10重量部、より好ましくは0.1から5重量部の範囲で配合する。次いで、得られたレリーフパターンを150から450℃の加熱処理をすることによって、イミド環や他の環状基をもつ耐熱性重合体のレリーフパターンになる。
【0028】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【0029】
実施例1
窒素雰囲気下で2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン17.58g(48mmol)とビス(3−アミノプロピル)ヘキサメチルジシロキサン0.50g(2mmol)を乾燥したN−メチル−2−ピロリドン79gに溶解した溶液に、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物15.17g(49mmol)を混合攪拌し、50℃で5時間反応した。さらに、N,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール14.72g(100mmol)を加え、50℃で5時間攪拌し、部分エステル化したポリアミド酸の溶液(A)を得た。
【0030】
得られたポリアミド酸溶液(A)に、o−キノンジアジド化合物4NT−300(東洋合成工業製:2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン1モルに対して、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロリド3モルを反応させて得られたエステル)6.77gを溶解した後、0.5μmのメンブレンフィルターで濾過し、感光性組成物を調製した。
【0031】
6インチのシリコンウエハー上に前記感光性組成物をスピナーによって回転塗布し、120℃のホットプレート上で3分間加熱して、厚さ9.0μmの感光性組成物層を形成した。この塗膜にg線ステッパー露光機(ニコン製、NSR−1505G6)によりレチクルを通して、50mJ/cm2間隔で50mJ/cm2から1000mJ/cm2まで露光を行った。レチクルには5、10、15、20、30、40、50μmの評価用パターンを配したものを使用した。次に、NMD−3(東京応化工業製、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド2.38%水溶液)に90秒間浸漬し、さらに20秒間水洗した。
【0032】
その結果、露光量400mJ/cm2を照射した部分から、パターンが形成されていることが確認できた(感度400mJ/cm2)。このときの未露光部の膜厚は7.2μmであり、現像による膜減りは1.8μmと少なく良好であった。さらに、電子顕微鏡によってパターン断面を観察したところ、パターン形成したなかで最小の5μmのパターンが良好に解像されていた(解像度5μm)。
【0033】
実施例2
実施例1におけるN,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタールの添加量を17.67g(120mmol)に変更して、ポリマー溶液(B)を得た。
【0034】
実施例1と同様に感光性組成物を調製し、評価を行った。この結果を表1に示した。実用的な光照射量、現像時間において、膜減りが少なく、かつ良好なパターン形成ができた。
【0035】
実施例3
実施例1におけるN,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタールの添加量を11.78g(80mmol)に変更して、ポリマー溶液(C)を得た。
【0036】
実施例1と同様に感光性組成物を調製し、評価を行った。この結果を表1に示した。実用的な光照射量、現像時間において、膜減りが少なく、かつ良好なパターン形成ができた。
【0037】
実施例4
実施例1におけるN,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタールをN,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールに変更して、ポリマー溶液(D)を得た。
【0038】
実施例1と同様に感光性組成物を調製し、評価を行った。この結果を表1に示した。実用的な光照射量、現像時間において、膜減りが少なく、かつ良好なパターン形成ができた。
【0039】
実施例5
窒素雰囲気下で4,4’−ジアミノジフェニルエーテル9.61g(48mmol)とビス(3−アミノプロピル)ヘキサメチルジシロキサン0.5g(2mmol)を乾燥したN−メチル−2−ピロリドン59gに溶解し、この溶液に3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物15.20g(49mmol)を混合攪拌し、50℃で5時間反応させた。さらに、N,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール11.78g(80mmol)を加え、50℃で5時間攪拌し、部分エステル化したポリアミド酸の溶液(E)を得た。
【0040】
実施例1と同様に感光性組成物を調製し、評価を行った。この結果を表1に示した。実用的な光照射量、現像時間において、膜減りが少なく、かつ良好なパターン形成ができた。
【0041】
実施例6
窒素雰囲気下で2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン18.31g(50mmol)を乾燥したN−メチル−2−ピロリドン59gに溶解し、この溶液に3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物15.20g(49mmol)を混合攪拌し、50℃で5時間反応させた。さらに、N,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール22.08g(150mmol)を加え、50℃で5時間攪拌した。反応溶液を室温に戻した後、水1リットル/メタノール0.1リットルの混合液中に投入し、ポリマーを析出させた。ポリマーを濾取した後、80℃の真空乾燥機で24時間乾燥して、部分エステル化ポリアミド酸を得た。
【0042】
この部分エステル化ポリアミド酸14gをN−メチル−2−ピロリドン26gに溶解しポリマー溶液(F)を得た。このポリマー溶液(F)に、o−キノンジアジド化合物MG−300(東洋合成工業株式会社製:没食子酸メチル1モルに対して、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロリド3モルを反応させて得られたエステル)2.8gと接着改良剤(3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物とビス(3−アミノプロピル)ヘキサメチルジシロキサンから調製したポリアミド酸)1.4gを混合溶解した後、0.5μmのメンブレンフィルターで濾過し、感光性組成物を調製した。
【0043】
実施例1と同様に評価を行った結果を表1に示した。実用的な光照射量、現像時間において、膜減りが少なく、かつ良好なパターン形成ができた。
【0044】
比較例1
窒素雰囲気下で2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン17.58g(48mmol)とビス(3−アミノプロピル)ヘキサメチルジシロキサン0.50g(2mmol)を乾燥したN−メチル−2−ピロリドン79g溶解した溶液に、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物15.17g(49mmol)を混合攪拌し、50℃で5時間反応することによって、ポリアミド酸の溶液(F)を得た。
【0045】
実施例1と同様に、得られたポリアミド酸溶液(G)に、実施例1で用いたo−キノンジアジド化合物(4NT−300)6.77gを溶解した後、0.5μmのメンブレンフィルターで濾過し、感光性組成物を調製した。
【0046】
次いで、4インチのシリコンウエハー上に前記感光性組成物をスピナーによって回転塗布し、120℃のホットプレート上で3分間加熱して、厚さ9.0μmの感光性組成物層を形成した。実施例1と同様に露光、現像したところ、20秒間ですべての膜が溶解し、パターンを得ることができなかった。
【0047】
比較例2
窒素雰囲気下で2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン17.58g(48mmol)とビス(3−アミノプロピル)ヘキサメチルジシロキサン0.50g(2mmol)を乾燥したN−メチル−2−ピロリドン79gに溶解した溶液に、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物15.17g(49mmol)を混合攪拌し、50℃で5時間反応することによって、ポリアミド酸の溶液を得た。さらに、水分定量器付き還流コンデンサーを取り付け、トルエン50gと2−エチル−4−メチルイミダゾール2gを加え、120℃で3時間攪拌し還流した。反応溶液を室温に戻した後、水1リットル/メタノール0.1リットルの混合液中に投入し、ポリマーを析出させた。ポリマーを濾取した後、80℃の真空乾燥機で24時間乾燥して、赤褐色のポリイミドを得た。
【0048】
このポリイミド14gをN−メチル−2−ピロリドン26gに溶解しポリマー溶液(H)を得た。このポリマー溶液(H)に、実施例1で用いたo−キノンジアジド化合物(4NT−300)2.8gを混合溶解した後、0.5μmのメンブレンフィルターで濾過し、感光性組成物を調製した。
【0049】
実施例1と同様に評価を行った結果を表1に示した。現像によっても、実用的な光照射量(1000mJ/cm2以下)では、露光部の溶解に時間がかかり、10分間の現像によっても7μmの膜が露光部に残り、パターン形成ができなかった。
【0050】
比較例3
ピロメリット酸二無水物50gとエタノール300mlを500mlのフラスコに入れ、ピリジン0.2mlを加えて窒素雰囲気下30℃で10時間攪拌した。過剰のエタノールを減圧下で留去し、残留物を真空乾燥することによってピロメリット酸ジエチルエステルを得た。
【0051】
得られたピロメリット酸ジエチルエステル31.4g(100mmol)、塩化チオニル100mlをフラスコに入れ室温で1時間攪拌した後、3時間還流した。アスピレーターによって過剰の塩化チオニルを除去し、塩化物を得た。
【0052】
得られた塩化物をγ−ブチロラクトン60gに溶解し、0℃に保持した2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン36.62g(100mmol)とピリジン50mlをN−メチル−2−ピロリドン200mlに溶解した溶液に滴下した。0℃で3時間攪拌を続けた後、さらに30℃で3時間攪拌した。不溶物を濾過した後、濾液を5リットルの水に投入し、ポリマーを析出させた。
【0053】
得られたポリアミド酸ジエチルエステル14gをN−メチル−2−ピロリドン26gに溶解し、ポリアミド酸エステルの溶液(I)を得た。このポリマー溶液(I)に、実施例1で用いたo−キノンジアジド化合物(4NT−300)2.8gを混合溶解した後、0.5μmのメンブレンフィルターで濾過し、感光性組成物を調製した。
【0054】
実施例1と同様に評価を行った結果を表1に示した。現像によっても、実用的な光照射量(1000mJ/cm2以下)では、露光部の溶解に時間がかかり、10分間の現像によっても5μmの膜が露光部に残り、パターン形成ができなかった。
【0055】
比較例4
窒素雰囲気下で4,4’−ジアミノジフェニルエーテル9.61g(48mmol)とビス(3−アミノプロピル)ヘキサメチルジシロキサン0.5g(2mmol)を乾燥したN−メチル−2−ピロリドン59gに溶解し、この溶液に3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物15.20g(49mmol)を混合攪拌し、50℃で5時間反応させることによって、ポリアミド酸の溶液(J)を得た。
【0056】
実施例1と同様に感光性組成物を調製し、評価を行ったが、20秒間の現像ですべての膜が溶解し、パターンを得ることができなかった。
【0058】
【表1】
【0059】
【発明の効果】
本発明によるポジ型感光性樹脂組成物の製造方法は、簡便にポリマーのアルカリ現像液に対する溶解速度を任意に調節することができ、この製造方法によって製造されるポジ型感光性樹脂組成物は、感度が高く、現像時間が短く、形成されたパターンの耐熱性が高く、半導体素子等の表面保護膜、層間絶縁膜等に使用することができる。
Claims (3)
- アルカリ可溶性ポリマーとo−キノンジアジド化合物からなるポジ型感光性樹脂組成物の製造方法であって、下記一般式(1)で表されるアルカリ可溶性ポリマーを下記一般式(2)または一般式(3)のいずれかで表される、少なくとも一種類以上の化合物で部分エステル化処理することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物の製造方法。
- 一般式(1)で表されるアルカリ可溶性ポリマーをN,N−ジメチルホルムアミドジアルキルアセタールで部分エステル化処理することを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性樹脂組成物の製造方法。
- ポリマー中の残存カルボキシル基量が0.001〜5モル/kgとなるよう部分エステル化処理することを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性樹脂組成物の製造方法。
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