JP3987503B2 - Manufacturing method of mother die for forming inner surface diffuse reflector and inner surface diffuse reflector - Google Patents
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Description
本発明は、液晶表示装置のガラス基板間に配置される内面拡散反射体を形成するための母型及び内面拡散反射体に関する。 The present invention relates to a matrix and an inner surface diffuse reflector for forming an inner surface diffuse reflector disposed between glass substrates of a liquid crystal display device.
従来、反射体の製造方法としては、特許文献１に開示されるように、基板の一方の面に感光樹脂を塗布し、フォトマスクを使用してパターニングすることにより、同一形状の多数の微細な凸部を形成し、前記凸部を形成された基板上に反射膜を形成して製造するようにしていた。
しかしながら、この方法により得られた反射体を備える液晶表示装置は、その視野角範囲において、均一な明るさは得られなかった。また、フォトマスクを作製する工程で、大面積をランダムにパターニングすることが困難であった。
Conventionally, as disclosed in Patent Document 1, as a manufacturing method of a reflector, a photosensitive resin is applied to one surface of a substrate and patterned using a photomask, thereby making a large number of fine shapes of the same shape. Protrusions are formed, and a reflective film is formed on the substrate on which the protrusions are formed.
However, the liquid crystal display device provided with the reflector obtained by this method cannot obtain uniform brightness in the viewing angle range. In addition, it is difficult to randomly pattern a large area in the process of manufacturing a photomask.
上記技術に比べて、視野角範囲において均一な明るさを得ることが可能な反射体の製造方法が、例えば、特許文献２に開示されている。この特許文献２に開示される製造方法では、まず、金属基板上に球状のダイヤモンド圧子を押圧して凹面が形成された母型とする。次に、前記母型の凹面にシリコンゴム等を押圧して転写型を作製する。そして、感光性透明アクリル系樹脂が塗布されたガラス基板に、前記転写型を押圧して反射体を製造するようにしていた。
しかしながら、前記母型の加工は、塑性加工によるため、１点１点を押圧するのに非常に時間がかかっていた。従って、大画面用の反射体用母型を作製するのには不向きであった。
For example, Patent Document 2 discloses a method for manufacturing a reflector capable of obtaining uniform brightness in a viewing angle range as compared with the above technique. In the manufacturing method disclosed in Patent Document 2, first, a mother die having a concave surface is formed by pressing a spherical diamond indenter on a metal substrate. Next, a transfer mold is produced by pressing silicon rubber or the like against the concave surface of the mother mold. Then, the reflector is manufactured by pressing the transfer mold on the glass substrate coated with the photosensitive transparent acrylic resin.
However, since the processing of the matrix is based on plastic processing, it takes a very long time to press each point. Therefore, it is not suitable for producing a reflector matrix for a large screen.
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、内面拡散反射体を形成するための母型を極めて短時間で製造することが可能な母型の製造方法及びこの製造方法により得られた母型から製造される内面拡散反射体を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and a mother mold manufacturing method capable of manufacturing a mother mold for forming an inner surface diffuse reflector in an extremely short time and a mother obtained by this manufacturing method. An object is to provide an internal diffuse reflector manufactured from a mold.
上記課題を解決するために、本発明者等は鋭意検討の結果、内面拡散反射体を形成するための母型の略球面状の凹面を切削加工により形成することで、上記課題を解決すること見出した。
即ち、本発明の内面拡散反射体を形成するための母型の製造方法は、請求項１に記載の通り、略半球状の回転軌跡を有する切れ刃と逃げ面とを有する工具を、前記工具の回転軸を母型となる基材加工面の法線に対して傾斜させ、前記回転軸を中心に回転させながら、前記基材を送り、前記切れ刃による切削と前記逃げ面における非切削を繰り返して前記基材加工面に略半球状の凹面を連接して形成し、更に、所定の量でピックフィードを繰り返すことにより前記略半球状の凹面を前記ピックフィード方向にも連接して形成することを特徴とする。
また、請求項２に記載の本発明は、請求項１に記載の製造方法において、前記工具の送り量及び／又はピックフィード量を前記工具の径以下の範囲内でランダムに変化させるようにしたことを特徴とする。
また、請求項３に記載の本発明は、請求項１又は２に記載の製造方法において、前記基材に対して、前記工具の送り方向及び／又は前記ピックフィード方向に圧電素子により振動を加えるようにしたことを特徴とする。
また、請求項４に記載の本発明は、請求項２又は３に記載の製造方法において、前記基材加工面の法線方向に圧電素子により振動を加えるようにしたことを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied to solve the above-mentioned problems by forming a substantially spherical concave surface of the mother mold for forming the inner surface diffuse reflector by cutting. I found it.
That is, the manufacturing method of the mother die for forming the inner surface diffusive reflector of the present invention includes a tool having a cutting edge having a substantially hemispherical rotation locus and a flank as defined in claim 1. The rotating shaft is inclined with respect to the normal line of the base material processing surface as a matrix, and the base material is fed while rotating about the rotating shaft, and cutting with the cutting edge and non-cutting on the flank surface are performed. Repeatedly, a substantially hemispherical concave surface is connected to the processed surface of the base material, and further, the substantially hemispherical concave surface is connected to the pickfeed direction by repeating pick feed by a predetermined amount. It is characterized by that.
Further, according to the present invention of claim 2, in the manufacturing method of claim 1, the feed amount and / or the pick feed amount of the tool are randomly changed within a range of the diameter of the tool or less. It is characterized by that.
According to a third aspect of the present invention, in the manufacturing method according to the first or second aspect, vibration is applied to the base material by a piezoelectric element in the feed direction of the tool and / or the pick feed direction. It is characterized by doing so.
According to a fourth aspect of the present invention, in the manufacturing method according to the second or third aspect, a vibration is applied by a piezoelectric element in a normal direction of the substrate processed surface.
本発明によれば、内面拡散反射体を製造するための母型を略半球状の回転軌跡を有する工具を回転して切削することにより製造できるようにしたために、形成される略半球状の凹面の深さ方向への工具の制御回数が（極めて）少なくなる。更に、極めて短時間で大画面液晶用の内面拡散反射体の母型を得ることが可能となる。
また、工具の送り量及び／又はピックフィード量を所定の範囲内で変化させることにより、隣接する略半球状の凹面の間隔がランダム性を備えることになる。更に、工具の送り方向及び／又はピックフィード方向に振動を加えることにより、前記ランダム性をより増加させることができる。また、更に、基材加工面の法線方向に対して振動を加えることにより、略半球状の凹面の深さ方向においてもランダム性を備えることになる。そして、これらのランダム性により、母型から形成される内面拡散反射体は、干渉縞や紅色が生じにくくなり、視認特性が向上する。
また、本発明の内面拡散反射体によれば、視野角範囲で均一な明るさを得ることが可能となる。また、内面拡散反射体に形成された略半球状の凹面は、隣接する方向及び／又は深さ方向においてランダム性を備えたものとなり、縞模様や紅色等の発生を抑えることができる。
According to the present invention, since the mother die for manufacturing the inner surface diffuse reflector can be manufactured by rotating and cutting a tool having a substantially hemispherical rotation locus, the substantially hemispherical concave surface formed. The number of times the tool is controlled in the depth direction is (extremely) reduced. Furthermore, it is possible to obtain a matrix of an inner surface diffuse reflector for a large screen liquid crystal in an extremely short time.
Further, by changing the feed amount and / or pick feed amount of the tool within a predetermined range, the interval between the adjacent substantially hemispherical concave surfaces has randomness. Furthermore, the randomness can be further increased by applying vibrations in the feed direction and / or pick feed direction of the tool. Furthermore, randomness is provided also in the depth direction of the substantially hemispherical concave surface by applying vibration to the normal direction of the substrate processed surface. Due to the randomness, the inner surface diffuse reflector formed from the matrix is less likely to generate interference fringes and red, and the visual characteristics are improved.
Moreover, according to the inner surface diffuse reflector of the present invention, uniform brightness can be obtained in the viewing angle range. Moreover, the substantially hemispherical concave surface formed in the inner surface diffuse reflector has randomness in the adjacent direction and / or depth direction, and can suppress the occurrence of striped patterns, red, and the like.
上記の通り、本発明は略半球状の回転軌跡を有する切れ刃と逃げ面とを有する工具を、前記工具の回転軸を母型となる基材加工面の法線に対して傾斜させ、前記回転軸を中心に回転させながら、前記回転軸を中心に回転させながら、前記基材を送り、ピックフィードを繰り返して前記基材加工面に略半球状の凹面を連接して形成するものである。
このように、本発明では、工具を回転させながら基材を工具に対して相対的に移動させることにより、基材に対する切れ刃の切削と逃げ面における非切削とが繰り返され、略半球状の凹面を形成するものである。
本発明に使用される工具は、前記の通り、略半球状の回転軌跡を有する切れ刃と逃げ面とを有するものであれば特に制限されるものではない。尚、本発明における工具の逃げ面とは、切削仕上げ面との不必要な接触を避けるために逃がした面をいう。
本発明において使用する切削工具としてはボールエンドミルが好ましい。このため、以下の説明においては必要に応じてボールエンドミルを使用した場合の例を挙げることにする。
また、使用できる基材としては、平板形状のものであれば、その材質については、特に制限はないが、例えば、アルミニウム合金、黄銅、ニッケル等を使用することができる。
As described above, the present invention tilts a tool having a cutting edge having a substantially hemispherical rotation trajectory and a flank with respect to the normal line of the base material processing surface serving as a matrix, While rotating about the rotation axis, the substrate is fed while rotating about the rotation axis, and pick feed is repeated to form a substantially hemispherical concave surface connected to the substrate processing surface. .
Thus, in the present invention, by rotating the tool relative to the tool while rotating the tool, cutting of the cutting edge with respect to the base material and non-cutting at the flank are repeated, and the substantially hemispherical shape is obtained. A concave surface is formed.
As described above, the tool used in the present invention is not particularly limited as long as it has a cutting edge having a substantially hemispherical rotation locus and a flank. In addition, the flank of the tool in this invention means the surface which escaped in order to avoid unnecessary contact with a cutting finish surface.
A ball end mill is preferable as the cutting tool used in the present invention. For this reason, in the following description, the example at the time of using a ball end mill will be given as needed.
Moreover, as a base material which can be used, if it is a plate-shaped thing, there will be no restriction | limiting in particular about the material, For example, aluminum alloy, brass, nickel etc. can be used.
前記工具２は、例えば、図１に側面拡大図を示すように、工具径２Ｒの切れ刃２ａが、回転軸２ｃからαの角度の範囲において形成される。また、回転軸２ｃを挟んで、この切れ刃２ａとは反対側に逃げ面２ｂが形成される。
前記切れ刃２ａのボール半径Ｒは、内面拡散反射体に必要とされる略半球状の凹面に応じて適宜決定される。このボール半径Ｒと後述する工具２の送り速度により、基材表面に形成される凹面のおおよその形状を決定することができる。
また、工具２を基材加工面の法線に対して傾斜させた状態で切削する場合の前記角度αは、基材に凹面を形成できる角度であれば特に制限はないが、例えば、角度６０〜９０°の範囲とすることができる。
In the tool 2, for example, as shown in the enlarged side view in FIG. 1, a cutting edge 2a having a tool diameter 2R is formed in a range of an angle α from the rotating shaft 2c. Further, a flank 2b is formed on the opposite side of the cutting edge 2a with the rotating shaft 2c interposed therebetween.
The ball radius R of the cutting edge 2a is appropriately determined according to the substantially hemispherical concave surface required for the inner surface diffuse reflector. The approximate shape of the concave surface formed on the substrate surface can be determined by the ball radius R and the feed speed of the tool 2 described later.
In addition, the angle α when the tool 2 is cut in a state where the tool 2 is inclined with respect to the normal line of the base material processing surface is not particularly limited as long as the angle α can form a concave surface on the base material. It can be in the range of ~ 90 °.
工具２による切削は、例えば、１回転等の少ない回数により滑らかな凹面を形成することができれば、短時間で多くの凹面を形成することができる。従って、加工された切れ刃２ａの切れ刃形状と形成される凹面の理想的な断面形状との形状誤差は±１％以下とすることが好ましい。このため、前記工具は、ダイヤモンド等の単結晶材料や超硬合金焼結材により構成することが好ましい。 If the cutting with the tool 2 can form a smooth concave surface by a small number of times such as one rotation, a large number of concave surfaces can be formed in a short time. Therefore, it is preferable that the shape error between the cutting edge shape of the processed cutting edge 2a and the ideal cross-sectional shape of the concave surface to be formed is ± 1% or less. For this reason, it is preferable that the tool is composed of a single crystal material such as diamond or a cemented carbide sintered material.
工具２は、工具２の回転中心付近の切れ刃２ａで基材表面を切削しないようにするため、その回転軸２ｃを基材加工面の法線に対して相対的に傾斜させるようにする。この傾斜角度は、特に制限されるものではないが、例えば、３０〜４５°の範囲内で設定することができる。 In order to prevent the tool 2 from cutting the substrate surface with the cutting edge 2a near the rotation center of the tool 2, the tool 2 is inclined relative to the normal line of the substrate processing surface. The inclination angle is not particularly limited, but can be set within a range of 30 to 45 °, for example.
工具２の送り量又はピックフィード量は、任意に設定できるが、所定の値の範囲内で変化させるようにすることが好ましい。基材加工面に形成される略半球状の凹面のピッチがランダムとなり、母型から形成される内面拡散反射体が干渉縞や虹色等が生じにくくなるからである。また、前記所定の値は、工具径（２Ｒ）以下の値とすることが好ましい。これにより、略半球状の凹面を基材に連接して形成することができ、母型から得られる内面拡散反射体の光学特性が向上させることができる。
尚、工具２の送り速度は、隣接する凹面の中心間の距離（工具２の１回転当たりの送り量：ピッチ）に、工具２の単位時間当たりの回転数を掛けることにより求めることができる。
Although the feed amount or pick feed amount of the tool 2 can be set arbitrarily, it is preferable to change the feed amount or pick feed amount within a predetermined value range. This is because the pitch of the substantially hemispherical concave surface formed on the processed surface of the base material is random, and the inner surface diffuse reflector formed from the mother die is less likely to generate interference fringes and rainbow colors. The predetermined value is preferably set to a value equal to or less than the tool diameter (2R). Thereby, a substantially hemispherical concave surface can be formed in connection with the substrate, and the optical characteristics of the inner surface diffuse reflector obtained from the matrix can be improved.
The feed speed of the tool 2 can be obtained by multiplying the distance between the centers of adjacent concave surfaces (feed amount per revolution of the tool 2: pitch) by the number of revolutions of the tool 2 per unit time.
上記構成により、基材を工具２に対して相対的に所定の送り速度で送りつつ、工具２を回転軸２ｃの周りに回転させることにより、切れ刃２ａと逃げ面２ｂとが切削と空転を繰り返すことにより、１列の略半球状の凹面を形成する。そして、所定のピックフィード量でピックフィードしてから２列目を形成し、これらの動作を繰り返すことにより内面拡散反射体を形成するための母型を形成することができる。 With the above configuration , the cutting edge 2a and the flank 2b perform cutting and idling by rotating the tool 2 around the rotating shaft 2c while feeding the base material at a predetermined feed speed relative to the tool 2. By repeating, one row of substantially hemispherical concave surfaces is formed. Then, after pick-feeding with a predetermined pick-feed amount, the second row is formed, and by repeating these operations, a mother die for forming the inner surface diffuse reflector can be formed.
また、本発明においては、工具２の回転軸２ｃ方向に意図的に制御を加えるものではないが、加工時の振動や切削の抵抗により振動が生じる。この振動により、形成される略半球状の凹面の形状がランダムとなる。従って、形成される内面拡散反射板から生じる縞模様や虹色の発生が抑えられ、視認特性を向上させることができる。 In the present invention, but are not added intentionally control the rotational axis 2c direction of the tool 2, the vibration Ri by the vibration and cutting resistance during machining occurs. Due to this vibration , the shape of the substantially hemispherical concave surface formed is random. Therefore, the generation of striped patterns and rainbow colors generated from the formed inner surface diffuse reflector can be suppressed, and the visual recognition characteristics can be improved.
更に、前記視認特性を向上させるために、工具２の送り方向及び／又はピックフィード方向に振動を加えることが好ましい。或いは、送り方向及び／又はピックフィード方向の振動に加えて、基材加工面の法線方向に振動を加えることが好ましい。このような振動を加える方法としては、例えば、圧電素子（ピエゾ素子）等を使用することができる。振動の種類としては、ランダムなもの、或いは、正弦波等任意に選択することができる。 Furthermore, in order to improve the visual recognition characteristics, it is preferable to apply vibration in the feed direction and / or pick feed direction of the tool 2. Alternatively, it is preferable to apply vibration in the normal direction of the substrate processing surface in addition to vibration in the feed direction and / or pick feed direction. As a method for applying such vibration, for example, a piezoelectric element (piezo element) or the like can be used. The type of vibration can be arbitrarily selected, such as a random one or a sine wave.
尚、本発明において略半球状とは、半円又は半横円を回転させることにより形成される形状はもとより、回転放物面、或いは、これらの近似形状を含むものとする。 In the present invention, the substantially hemispherical shape includes not only a shape formed by rotating a semicircle or a semicircular circle, but also a rotating paraboloid or an approximate shape thereof.
次に、本発明の内面拡散反射体を製造する方法について次に説明する。
上記説明した凹面が形成された母型の外周を枠で囲み、この枠内に、例えば、シリコンゴムやＰＢＴＰ等のプラスチック樹脂を注液して、凹凸形状を反対にした型面を備えるプラスチック樹脂製転写型を形成する。尚、前記転写型を形成する材料としては、プラスチック樹脂を使用することが好ましい。転写型の強度及び耐久性の向上を図り、長時間に亘る内面拡散反射体を製造することができるからである。
Next, a method for producing the inner surface diffuse reflector of the present invention will be described.
A plastic resin provided with a mold surface in which the outer surface of the mother die having the concave surface described above is surrounded by a frame, and a plastic resin such as silicon rubber or PBTP is injected into the frame so that the uneven shape is reversed. A transfer mold is formed. Note that a plastic resin is preferably used as a material for forming the transfer mold. This is because the strength and durability of the transfer mold can be improved, and an internal diffuse reflector over a long time can be manufactured.
一方で、内面拡散反射体を構成することとなるガラス基板の上面に、アクリル系レジスト、ポリスチレン系レジスト、アジドゴム系レジスト、イミド系レジスト等の感光性樹脂液をスピンコート法、スクリーン印刷法、吹き付け法等の塗布方法により塗布する。その後、加熱炉又はホットプレート等の加熱装置を用いて感光性樹脂から形成される樹脂材をガラス基板上に積層するとともにプリベークする。 On the other hand, a photosensitive resin liquid such as an acrylic resist, polystyrene resist, azide rubber resist, imide resist, etc. is applied onto the upper surface of the glass substrate that constitutes the inner diffuse reflector by spin coating, screen printing, or spraying. Apply by the application method such as the method. Thereafter, using a heating device such as a heating furnace or a hot plate, a resin material formed from a photosensitive resin is laminated on the glass substrate and prebaked.
このガラス基板上の樹脂材に前記樹脂製転写型を一定時間押圧してから外し、樹脂材表面に凹面を形成する。尚、押圧時の圧力は、樹脂材の種類に応じて適宜選択することができ、例えば、３０〜５０ｋｇ／ｃｍ2程度とすることができる。また、押圧時間についても、同様に樹脂材の種類に応じて適宜選択することができ、例えば、３０秒〜１０分程度とすることができる。 The resin transfer mold is pressed against the resin material on the glass substrate for a predetermined time and then removed to form a concave surface on the resin material surface. In addition, the pressure at the time of a press can be suitably selected according to the kind of resin material, for example, can be about 30-50 kg / cm < 2 >. Similarly, the pressing time can be appropriately selected according to the type of the resin material, and can be, for example, about 30 seconds to 10 minutes.
その後、ガラス基板の表面側（感光性樹脂膜面側）から、不要な部分を除く等の目的で必要に応じてフォトマスクを介して、樹脂材を硬化させるための紫外線等の照射線を照射して未硬化の樹脂材を硬化させる。ここで照射する紫外線等の照射線は、上記樹脂材の種類に応じて適宜選択することができる。そして、加熱炉やホットプレート等の加熱装置を用いてガラス基板上の樹脂材を加熱してポストベークする。
最後に、スパッタリング法等によって成膜して、凹面に沿って反射膜を形成し内面拡散反射体を得ることができる。
After that, from the surface side (photosensitive resin film side) of the glass substrate, irradiation with ultraviolet rays or the like for curing the resin material is performed through a photomask as necessary for the purpose of removing unnecessary portions. Then, the uncured resin material is cured. Irradiation rays, such as an ultraviolet-ray irradiated here, can be suitably selected according to the kind of the said resin material. Then, the resin material on the glass substrate is heated and post-baked using a heating device such as a heating furnace or a hot plate.
Finally, a film is formed by sputtering or the like, and a reflection film is formed along the concave surface to obtain an inner surface diffuse reflector.
また、上記内面拡散反射体の製造方法において、前記転写型をロールプレスの表面に設けて、ガラス基板に転写を行うようにすれば、短時間で多くの転写を行うことができる。 In the method for manufacturing the inner surface diffuse reflector, if the transfer mold is provided on the surface of the roll press and the transfer is performed on the glass substrate, a large amount of transfer can be performed in a short time.
以下に本発明の一実施例を図面を参照して説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
図２は、本発明の内面拡散反射体を形成するための母型の製造方法を説明するためのもので、図中１で示されるものはＮＣフライス盤である。ＮＣフライス盤１は、工具２、主軸３、チャック部４、加工テーブル５、並びに、図示しないがモータ制御部及び加工テーブル制御部を備えている。
次に、図１を参照して工具２について説明する。同図に示されるように工具２の先端部は、単結晶材料であるダイヤモンドから構成され、回転軸２ｃからウィンドーアングル７０°（α）の範囲でボール半径０．０５ｍｍ（Ｒ）の切れ刃２ａが形成され、回転軌跡が略半球状のものとなるように形成される。
尚、本実施例では、切れ刃２ａの上記実施の形態で説明した形状誤差は、±５００ｎｍとなっている。
また、加工テーブル５は、基材７を載置して移動させるためのもので、工具２の送り方向（ｙ軸）とピックフィード方向（ｘ軸）に所定のピッチで移動可能なものを使用した。
また、上記加工テーブル５上には、その上面に基材７を４５°（θ）の角度で傾斜して載置することができる台座８を設けるようにした。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings, but the present invention is not limited to this embodiment.
FIG. 2 is a view for explaining a method of manufacturing a master for forming the inner surface diffuse reflector of the present invention. In FIG. 2, the reference numeral 1 denotes an NC milling machine. The NC milling machine 1 includes a tool 2, a spindle 3, a chuck unit 4, a machining table 5, and a motor control unit and a machining table control unit (not shown).
Next, the tool 2 will be described with reference to FIG. As shown in the figure, the tip of the tool 2 is made of diamond, which is a single crystal material, and has a cutting edge with a ball radius of 0.05 mm (R) in the range of a window angle of 70 ° (α) from the rotating shaft 2c. 2a is formed, and the rotation trajectory is substantially hemispherical.
In this example, the shape error of the cutting edge 2a described in the above embodiment is ± 500 nm.
The processing table 5 is used for placing and moving the base material 7 and is capable of moving at a predetermined pitch in the feed direction (y axis) and pick feed direction (x axis) of the tool 2. did.
Moreover, on the said process table 5, the base 8 which can incline and mount the base material 7 at an angle of 45 degrees ((theta)) on the upper surface was provided.
次に、上記構成により加工を行う方法について図３を参照して説明する。
まず、台座８上に、タテ４０ｍｍ×ヨコ５０ｍｍ角、厚さ１０ｍｍのアルミニウム（Ａ５０５２アルミニウム合金）基材７を前記４５°の角度で載置する。
そして、工具２を回転速度２万回転／分で回転させて、アルミニウム基材７に対して、切り込み深さ５μｍとして、４８０ｍｍ／分の速度で工具２の送り方向（ｙ軸方向）に対して、加工テーブル５を移動させることによりアルミニウム基材７を移動させ、アルミニウム基材７に対して１列分の略半球状の凹面９を連接して形成する。そして、アルミニウム基材７を、切れ刃２ａの送り方向に対して加工面内で垂直方向に２１μｍピックフィードして、前記１列目と同様に略半球状の凹面９を連接して形成する。
Next, a method of processing with the above configuration will be described with reference to FIG.
First, an aluminum (A5052 aluminum alloy) substrate 7 having a length of 40 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 10 mm is placed on the pedestal 8 at the angle of 45 °.
Then, the tool 2 is rotated at a rotational speed of 20,000 revolutions / minute, the cutting depth is 5 μm with respect to the aluminum base material 7, and the feed direction of the tool 2 (y-axis direction) at a speed of 480 mm / minute. Then, the aluminum base 7 is moved by moving the processing table 5, and a substantially hemispherical concave surface 9 for one row is connected to and formed on the aluminum base 7. Then, the aluminum base material 7 is pick-feeded in a direction perpendicular to the feed direction of the cutting edge 2a within the processing surface by 21 μm, and a substantially hemispherical concave surface 9 is connected and formed as in the first row.
上記動作を繰り返すことにより、アルミニウム基材７上に１分間で２万個の凹面９を形成することができた。尚、上記切削の過程において、切れ刃２ａの送り量及びピックフィード量は、その値に、その値の±１０％の範囲内で乱数を加えたものとした。
このようにして形成された内面拡散反射体を形成するための母型１０の略半球状の凹面１０は、図４に平面図を示すように、略半球状の凹面は、切れ刃２ａの送り方向（ｙ軸方向）に対して、ピッチｘt＝２４μｍ±２．４μｍの範囲でランダムに連接しており、ピックフィード方向に対して、ピッチｙt＝２１μｍ±２．１μｍの範囲でランダムに連接していた。尚、ここでいう凹面のピッチｘt，ｙtとは、母型１０を平面視したときに円形となる凹面９の中心間の距離をいう。
By repeating the above operation, 20,000 concave surfaces 9 could be formed on the aluminum substrate 7 in one minute. In the above-described cutting process, the feed amount and pick feed amount of the cutting edge 2a are obtained by adding a random number within the range of ± 10% of the value.
Substantially hemispherical concave 10 of the matrix 10 for forming this way the inner surface diffuse reflectors formed, as shown in the plan view of FIG. 4, a substantially hemispherical concave sends the cutting edge 2a Randomly connected in the range of pitch x t = 24 μm ± 2.4 μm with respect to the direction (y-axis direction), and randomly in the range of pitch y t = 21 μm ± 2.1 μm with respect to the pick feed direction I was connected. Here, the term concave pitch x t, and y t, refers to the distance between the centers of the concave 9 as a circular in a plan view of the mold 10.
次に、図５を参照して、前記母型１０から本発明の内面拡散反射体を製造する方法について説明する。
箱型容器１１の底に、母型１０を配置し、成形樹脂１２を流し込み、常温にて放置、硬化させ、この硬化した樹脂製品を箱型容器１１から取り出して不要な部分を削除することにより、前記母型１０の凹凸形状を反対にした型面を備える転写型１３を得た。
Next, with reference to FIG. 5, a method for manufacturing the inner surface diffuse reflector of the present invention from the matrix 10 will be described.
By placing the mother mold 10 on the bottom of the box-shaped container 11, pouring the molding resin 12, allowing it to stand and cure at room temperature, removing the cured resin product from the box-shaped container 11 and deleting unnecessary portions As a result, a transfer mold 13 having a mold surface in which the uneven shape of the mother mold 10 was reversed was obtained.
また、ガラス基板１５の上面にアクリル系の感光性樹脂液をスピンコート法により塗布する。そして、加熱炉を用いてガラス基板１５上の感光性樹脂液を１００℃で１分以上プリベークして感光性樹脂層１６を形成する。
この後、前記転写型１３を、図６に示すように、金属ロール１４の外周面に設けて、前記ガラス基板１５上の感光性樹脂層１６に５ｍｍ／ｓｅｃ程度の速度及び０．５ＭＰａ〜１．２ＭＰａの圧力でローリング転写する。それから、転写型１３を感光性樹脂層１６から外し、感光性樹脂層１６上に略半球状の凹面を形成する。そして、ガラス基板１５の感光性樹脂層１６の上方側から紫外線を照射し、未硬化の感光性樹脂層１６を硬化させ、加熱炉で２４０℃の温度で６０分程度ポストベークして感光性樹脂層１６を硬化させる。
最後に、感光性樹脂層１６の表面にアルミニウムをスパッタリングによって成膜して内面拡散反射体を得た。
上記のようにして得られた内面拡散反射体は、視野角範囲で均一な明るさが得られ、しかも、反射板に生じる縞模様や紅色等を生じなかった。
Further, an acrylic photosensitive resin liquid is applied to the upper surface of the glass substrate 15 by a spin coating method. And the photosensitive resin liquid on the glass substrate 15 is prebaked at 100 degreeC for 1 minute or more using a heating furnace, and the photosensitive resin layer 16 is formed.
Thereafter, as shown in FIG. 6, the transfer mold 13 is provided on the outer peripheral surface of the metal roll 14, and the photosensitive resin layer 16 on the glass substrate 15 has a speed of about 5 mm / sec and 0.5 MPa to 1 MPa. Rolling transfer is performed at a pressure of 2 MPa. Then, the transfer mold 13 is removed from the photosensitive resin layer 16, and a substantially hemispherical concave surface is formed on the photosensitive resin layer 16. Then, ultraviolet rays are irradiated from above the photosensitive resin layer 16 of the glass substrate 15 to cure the uncured photosensitive resin layer 16 and post-baked at a temperature of 240 ° C. for about 60 minutes in a heating furnace. Layer 16 is cured.
Finally, aluminum was formed on the surface of the photosensitive resin layer 16 by sputtering to obtain an internal diffuse reflector.
The inner surface diffuse reflector obtained as described above was able to obtain uniform brightness in the viewing angle range, and did not cause striped pattern or red color or the like generated on the reflector.
１ ＮＣフライス盤工具
２ 工具
２ａ 切れ刃
２ｂ 逃げ面
２ｃ 軸心
３ 主軸
４ チャック部
５ 加工テーブル
７ 基材
８ 台座
９ 略半球状の凹面
１０ 母型
１１ 箱型容器
１２ 成形樹脂
１３ 転写型
１４ 金属ロール
１５ ガラス基板
１６ 感光性樹脂層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 NC milling machine tool 2 Tool 2a Cutting edge 2b Flank 2c Axis center 3 Main shaft 4 Chuck part 5 Processing table 7 Base material 8 Base 9 Substantially hemispherical concave surface 10 Master mold 11 Box type container 12 Molding resin 13 Transfer mold 14 Metal roll 15 Glass substrate 16 Photosensitive resin layer
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004069339A JP3987503B2 (en) | 2004-03-11 | 2004-03-11 | Manufacturing method of mother die for forming inner surface diffuse reflector and inner surface diffuse reflector |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004069339A JP3987503B2 (en) | 2004-03-11 | 2004-03-11 | Manufacturing method of mother die for forming inner surface diffuse reflector and inner surface diffuse reflector |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005254608A JP2005254608A (en) | 2005-09-22 |
| JP3987503B2 true JP3987503B2 (en) | 2007-10-10 |
Family
ID=35080808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004069339A Expired - Fee Related JP3987503B2 (en) | 2004-03-11 | 2004-03-11 | Manufacturing method of mother die for forming inner surface diffuse reflector and inner surface diffuse reflector |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3987503B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4516347B2 (en) * | 2004-04-16 | 2010-08-04 | 株式会社三井ハイテック | Grinding method |
| JP2008213348A (en) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Ricoh Co Ltd | Method and device for producing fine shaped form, and die and optical element |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3621226B2 (en) * | 1997-05-12 | 2005-02-16 | アルプス電気株式会社 | REFLECTOR, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND REFLECTIVE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME |
| JPH11242105A (en) * | 1998-02-24 | 1999-09-07 | Alps Electric Co Ltd | Matrix for forming reflector and its production and reflector and its production as well as reflection type liquid crystal display device |
| US6476971B1 (en) * | 2000-10-31 | 2002-11-05 | Eastman Kodak Company | Method of manufacturing a microlens array mold and a microlens array |
| US6402996B1 (en) * | 2000-10-31 | 2002-06-11 | Eastman Kodak Company | Method of manufacturing a microlens and a microlens array |
| JP2004344994A (en) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | Step forming method, lens molding die, and lens |
-
2004
- 2004-03-11 JP JP2004069339A patent/JP3987503B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2005254608A (en) | 2005-09-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060313 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060502 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060629 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070403 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070604 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070626 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070712 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100720 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100720 Year of fee payment: 3 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100720 Year of fee payment: 3 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100720 Year of fee payment: 3 |
|
| R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100720 Year of fee payment: 3 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100720 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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